JP2711048B2 - 磁性材料を含む磁気浮上系の制御方法 - Google Patents

磁性材料を含む磁気浮上系の制御方法

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JP2711048B2
JP2711048B2 JP4177832A JP17783292A JP2711048B2 JP 2711048 B2 JP2711048 B2 JP 2711048B2 JP 4177832 A JP4177832 A JP 4177832A JP 17783292 A JP17783292 A JP 17783292A JP 2711048 B2 JP2711048 B2 JP 2711048B2
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magnetic
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば鋼板のような磁
性材料の磁気浮上搬送技術における制御系の設計に好適
に適用し得る磁性材料を含む磁気浮上系の制御方法に関
するものである。
【0002】
【従来の技術】図1の模式図に示したような電磁石1に
よって鋼板2を吸引して搬送することを想定した三次系
1点支持モデルの吸引形磁気浮上系は、次式で表わされ
る。 J・d2/dt2・θ=mgl0+ΔN−fm0 e=R・i+d/dt・(L(x)・i) fm=α(i/x) L=La+Lb/x 但し、 J : 支点まわりの慣性モーメント(=me0
2) θ : 支点まわりの角変位 mg : 鋼板に作用する重力 l0 : 支点と吸引点との距離 ΔN : 外乱モーメント fm : 鋼板に作用する吸引力 e : コイル端子電圧 R : コイルの直流電気抵抗 i : 励磁電流 L(x) : 系のインダクタンス x : ギャップ寸法 α=μ021/2 La : 漏れインダクタンス Lb=μ021/2 μ0 : 真空の透磁率 n : コイルの巻数 S1 : 鉄心の断面積 である。
【0003】上式は非線形な方程式なので、平衡点から
の微小な変位Δx、Δiを導入して線形化すると次式が
成立する。 me・d2/dt2・Δx=Δfex−Δfm Δe=RΔi+ d/dt{L0Δi−(L0 − La)γΔx} Δfm=β(Δi−γΔx) Δe=−Ku 但し、 me : 慣性等価質量 L0 : x=x0 のときの系のインダクタンス γ=i0/x0 β=2αγ/x00 : x=x0 のときの電流 u : 制御系の入力 K : 制御系のゲイン である。
【0004】上式に於て、状態変数を[Δx、Δx’、
Δi]に選ぶと、次の状態方程式が得られる。
【0005】
【数1】
【0006】但し、ξ=β/me であり、Δx’は、Δxの時間に関する一階微分を表
す。
【0007】この状態方程式に、例えば現代制御理論に
於ける安定化手法である最適レギュレータを適用してフ
ィードバックゲインkを決定することにより、状態変数
が平衡点に漸近するように制御することができる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
方法に於ては、コイルの励磁電流、吸引される磁性材料
の厚さ、あるいはコイルと磁性材料間のギャップ寸法の
如何によらず、磁性材料の比透磁率が一定であると仮定
している。そのため、例えばコイルの励磁電流の変化に
よって磁気飽和現象が起こって磁性材料の比透磁率が変
化した場合には、上述の方法で決定された入力uは、状
態変数を平衡点に漸近させるものとはならず、安定な磁
気浮上系を実現することができなかった。
【0009】このような従来の不都合に鑑み、本発明の
目的は、磁性材料の磁気飽和現象が磁気浮上系に及ぼす
影響を考慮した、安定な磁気浮上系を実現することので
きる磁性材料を含む磁気浮上系の制御方法を提供するこ
とにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】このような目的は、電磁
石の鉄心および吸引する鋼板のそれぞれについて磁界−
比透磁率曲線式を作成し、この磁界−比透磁率曲線式お
よび磁気浮上系を表す方程式を用いて平衡点に於ける吸
引力、インダクタンス、および吸引力とインダクタンス
の変化率を求め、それらを用いて状態方程式を作成し、
これに現代制御理論に於ける最適レギュレータを適用す
ることによって達成される。
【0011】
【作用】本発明によれば、磁性材料の磁気飽和特性を考
慮した制御が行われる。従って、従来の制御法では安定
に浮上させることができなかった磁気飽和現象が起きた
場合の磁気浮上系を、安定に制御することができる。
【0012】
【実施例】以下に添付の図面に示された実施例を参照し
て本発明について詳細に説明する。
【0013】図1に於て、電源回路5から電磁石1に印
加するコイル端子電圧eは、制御回路6に与えた板厚
値、ギャップ、および電流の設定値を、ギャップセンサ
7からの実ギャップおよび電流センサ8からの実電流と
比較することによってフィードバック制御される。
【0014】磁気飽和を考慮した場合の磁気浮上系を表
す方程式は、次式で表す。 J・d2/dt2・θ=mgl0+ΔN−fm0 e=R・i+d/dt(L(x,i,d)・i) fm=(n・i)2/μ0x・(1/Rm 2)・Rl 2/(Rx+Rm1+Rl2 L=(n2/μ0)・(1/Rm 2)・{l1/μr11 +(l3/S3)・(Rx+Rm22/(Rx+Rm1+Rl2 +(2x/Sx)・Rl 2/(Rx+Rm1+Rl2 +(l2/μr22)・Rl 2/(Rx+Rm1+Rl2} 但し、 μr1 : 鉄心の比透磁率 μr2 : 鋼板の比透磁率 Rm1 : 鉄心の磁気抵抗(=l1/(μr1μ
01)) Rm2 : 鋼板の磁気抵抗(=l2/(μr2μ
02)) Rx : 空隙の磁気抵抗(=2x/(μ
0x)) Rl : 漏れ磁束に対する磁気抵抗(=l3
(μ03)) Rm : 磁路の合成抵抗(=Rm1+Rl(Rx
m2)/(Rx+Rm2+Rl)) S1 : 鉄心の断面積 S2 : 鋼板の断面積 Sx : 空隙の等価断面積 S3 : 漏れ磁束に対する等価断面積 である。
【0015】磁気飽和現象を考慮した場合の磁性材料の
磁界−比透磁率曲線は、次式で表す。 μr=(aH+b)/(cH2+d)+e 但し、 μr : 比透磁率 H : 磁界(A/m) a、b、c、d、e : 材質で決まる実係数(実験か
ら求める) である。
【0016】なお、磁性材料の磁界−比透磁率曲線を表
す方程式は、式の項数が少ないと、曲線を制御設計上、
十分な精度で表すことができず、また式の項数を増やし
た場合には、曲線の精度を高めることはできるが材質で
決まる実係数の個数が増えるため、曲線式を求める手順
が煩雑になる。これらの点に鑑み、上式は実用上最適な
ものである。
【0017】磁界−比透磁率曲線を表す方程式を磁気浮
上系の方程式に導入するために、鉄心の比透磁率
(μr1)と鋼板の比透磁率(μr2)とを、次の磁気浮上
系の磁気回路における連立方程式を解いて予め求めてお
く。 n・i=Rm1μr1(H1)μ011 +Rl{μr1(H1)μ011−μr2(H2)μ022} n・i=Rm1μr1(H1)μ011+(Rx+Rm2)μr2(H2)μ022 但し、 H1 : 鉄心における磁界(A/m) H2 : 鋼板における磁界(A/m) である。更に、次に掲げる平衡点x0 における微係数を
用いて線形化された方程式を導出する。
【0018】
【数2】
【0019】すると、次式が得られる。
【0020】
【数3】
【0021】上式に於て、状態変数を[Δx、Δx’、
Δi]に選ぶと、次の状態方程式が得られる。
【0022】
【数4】
【0023】但し、 L0 : 平衡点に於けるインダクタンス である。
【0024】次に図1に示す実施例に於て、各条件を以
下のように定め、実際にシミュレーションして見る。な
お、図1に於て符号3はコイルを、符号4は鉄心を示
す。 鉄心4の磁路長 : l1=130mm 鋼板2の磁路長 : l2=56mm コイル3の幅 : l3=40mm コイル3の高さ : T=30mm 鉄心4の長さ : lz=300mm 鉄心4の幅 : w=15mm 鋼板2の重量 : m=2kg重 鋼板2の厚さ : d0=1mm 鋼板2の平衡点 : x0=5mm 励磁電流の平衡点 : i0=6A コイル3の巻数 : n=300
【0025】また磁性体として普通鋼(C=0.16
%)を想定した場合の磁界−比透磁率曲線は、次式で与
えられる。 μr={180/(1.508×10-42 + 12.57)}+1
【0026】上式で表された磁界−比透磁率曲線上に実
測値をプロットしたグラフを図2に示すが、両者の差は
極めて小さく、実験値が理論値と良く一致していること
が分かる。
【0027】次に、この磁界−比透磁率曲線および磁気
浮上系を表す方程式から、磁気飽和を考慮した制御系を
設計する。制御系の設計手法としては、古典制御理論に
よる方法、極配置法、ファジィ理論による方法、現代制
御理論による方法などが考えられるが、このうち古典制
御理論による方法並びに極配置法は、設計手順が確立さ
れていない。またファジィ理論による方法は、設計手順
が煩雑でかつ明確でないという欠点があり、磁気浮上系
のような制御すべき対象のモデルが曖昧さを持たない場
合には適していない。そこで制御系の設計手順が確立さ
れており、かつ安定性が保証されている現代制御理論を
用いて設計を行う。
【0028】磁界−比透磁率曲線および磁気浮上系を表
す方程式を用いて、磁気飽和を考慮した状態方程式を
(1)式から導出すると、次式が求められる。
【0029】
【数5】
【0030】但し、制御系のゲインK=1としてある。
【0031】次にこの(2)式に対して現代制御理論を
適用して次式によって定義される最適フィードバックゲ
インk=[k1、k2、k3]を計算する。
【0032】
【数6】
【0033】その際、評価関数Jをどのように選ぶかが
問題となるが、ここでは、
【0034】
【数7】
【0035】について、
【0036】
【数8】
【0037】と選んで、最適フィードバックゲイン[k
1、k2、k3]を求めた。
【0038】その結果、 k1=7.0002、k2=5.3786、k3=−0.
5235が得られた。
【0039】これらのフィードバックゲインの値を上記
(3)式に代入し、(2)式に対してフィードバックを
かけた場合の時間応答をシミュレーションした。その結
果を、図3に示す。横軸は時間t、縦軸は平衡点からの
変位Δxである。ここでΔxの初期値を1mmとすると、
5秒でほぼ整定することが分かる。
【0040】次に磁気飽和を考慮しない従来方法の場合
をシミュレーションして見る。磁気飽和を考慮しない従
来の方法で導出された方程式は、次式で与えられる。
【0041】
【数9】
【0042】ここで評価関数Jを上記した(4)式〜
(6)式と同様に選んだ場合、(7)式から得られるフ
ィードバックゲイン[k1’、k2’、k3’]は、 k1’=5.8365、k2’=1.5471、k3’=
−1.1338となる。
【0043】この磁気飽和を考慮しないで設定されたフ
ィードバックゲイン[k1’、k2’、k3’]を上記
(3)式に代入し、(2)式に対して閉ループ系を構成
し、シミュレーションした結果を図4に示す。これは、
磁気飽和のないモデルから導出されたフィードバックゲ
インを磁気飽和があるモデルに適用したことに相当す
る。
【0044】図3と比較して、整定までの時間が長く挙
動も振動的となっており、図3のシミュレーション結果
の方が優れた結果となっている。
【0045】本発明のプロセスをまとめると、図5に示
すように、鉄心および鋼板のそれぞれについて、磁界お
よび比透磁率の実測値を用いて磁界−比透磁率曲線の実
係数を例えば最小二乗法を用いて決定し、磁界−比透磁
率曲線式を作成する(ステップ1)。
【0046】次に磁気浮上系の平衡点の変位xを入力す
る(ステップ2)。
【0047】次に磁界−比透磁率曲線式および磁気浮上
系を表す方程式を用いて、平衡点に於ける吸引力および
インダクタンスを求める(ステップ3)。
【0048】次に平衡点からの変位量Δxを入力する
(ステップ4)。
【0049】次に磁界−比透磁率曲線式および磁気浮上
系を表す方程式を用い、平衡点から変位したときの吸引
力とインダクタンスを求める(ステップ5)。
【0050】平衡点に於ける吸引力とインダクタンスお
よび平衡点から変位したときの吸引力とインダクタンス
とを用いて状態方程式を作成し、それに現代制御理論に
於ける最適レギュレータを適用することにより、フィー
ドバックゲインkを決定する(ステップ6)。
【0051】これにより、変位量Δxの値を安定にしか
も早く0に整定することができる。
【0052】
【発明の効果】このように本発明によれば、従来の制御
法では安定に浮上させることのできなかった、磁気飽和
現象が起きた場合の磁気浮上系を、安定に浮上させる制
御系を設計することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】磁気浮上系のモデル図。
【図2】磁界−比透磁率曲線の近似式と実測値との比較
グラフ。
【図3】磁気飽和を考慮して導出されたフィードバック
ゲインを用いたシミュレーション結果。
【図4】磁気飽和を考慮しないで導出されたフィードバ
ックゲインを用いたシミュレーション結果。
【図5】本発明による制御方法のフローチャート。
【符号の説明】
1 電磁石 2 鋼板 3 コイル 4 鉄心 5 電源回路 6 制御回路 7 ギャップセンサ 8 電流センサ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 梅津 健司 富津市新富20−1 新日本製鐵株式会社 技術開発本部内 (72)発明者 佐伯 秀雄 大分市大字西ノ洲1番地 新日本製鐵株 式会社 大分製鐵所内 (72)発明者 乙部 洋 大分市大字西ノ洲1番地 新日本製鐵株 式会社 大分製鐵所内 (56)参考文献 特開 平3−213716(JP,A) 特開 昭61−248916(JP,A)

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 磁性材料からなる浮上対象物を励磁コイ
    ルが発生する電磁吸引力をもって一定位置に保つべく、
    前記浮上対象物の運動方程式と、前記励磁コイルの端子
    電圧、前記浮上対象物に作用する電磁吸引力、および前
    記励磁コイルのインダクタンスを求める式とを用いて表
    される磁気浮上系の制御方法であって、 前記磁性材料の比透磁率が磁界の強度によって変化する
    ことを表す磁界−比透磁率曲線前記磁気浮上系を表す
    方程式に導入することにより、前記磁性材料の磁気飽和
    特性を考慮した制御を可能とすることを特徴とする磁性
    材料を含む磁気浮上系の制御方法。
  2. 【請求項2】 現代制御理論による最適レギュレータを
    適用して、フィードバックゲインを決定する過程を含む
    ことを特徴とする請求項1に記載の磁性材料を含む磁気
    浮上系の制御方法。
  3. 【請求項3】 前記浮上対象物は、片持ち支持された鋼
    板であることを特徴とする請求項1又は2に記載の磁性
    材料を含む磁気浮上系の制御方法。
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