JP2702987B2 - イオンビーム加工装置 - Google Patents

イオンビーム加工装置

Info

Publication number
JP2702987B2
JP2702987B2 JP63244123A JP24412388A JP2702987B2 JP 2702987 B2 JP2702987 B2 JP 2702987B2 JP 63244123 A JP63244123 A JP 63244123A JP 24412388 A JP24412388 A JP 24412388A JP 2702987 B2 JP2702987 B2 JP 2702987B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
neutralizer
current
ion beam
wire
power supply
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP63244123A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0294241A (ja
Inventor
英志 門岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP63244123A priority Critical patent/JP2702987B2/ja
Publication of JPH0294241A publication Critical patent/JPH0294241A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2702987B2 publication Critical patent/JP2702987B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はイオンビーム加工装置に係り、特に、イオン
源より試料に照射されるイオンビームを中和するための
ニュートラライザを備えたイオンビーム加工装置に関す
る。
〔従来の技術〕
従来、絶縁物や孤立パターンをもつ試料に、イオンビ
ームを照射して加工する場合には、イオンビーム照射に
よるチヤージアツプ防止のため、実開昭61−199860号公
報に記載のように、ニユートラライザ線、ニユートララ
イザ電源を取付け、ニユートラライザ線に、ニユートラ
ライザ電源より電流を流して加熱し、熱電子を放出させ
中和する工夫がされていた。
また、ニユートラライザよりの熱電子の調整は色々の
方法がとられてきた。例えば、イオン源と、試料の間に
シヤツタを設け、シヤツタ電流を監視しながら、シヤツ
タ電流が零となるようにニユートラライザ電源の出力電
流を調整することなどであつた。
〔発明が解決しようとする課題〕
上記従来技術では、調整を手動でおこなつていたた
め、自動化にするのに問題があつた。
本発明の目的は、ニユートラライザの調整を自動化
し、手動調整が不要なイオンビーム加工装置を提供する
ことにある。
〔課題を解決するための手段〕
上記目的は、イオン源と、該イオン源より試料に照射
されるイオンビームを中和するための熱電子を放出する
ニュートラライザ線と、該ニュートラライザ線に電流を
流すニュートラライザ電源と、前記イオン源の加速電流
を検出する加速電流検出器と、前記ニュートラライザ線
の熱電子放出電流を検出する熱電子電流検出器と、該熱
電子電流検出器により検出された熱電子放出電流が前記
加速電流検出器により検出された加速電流の一定関数に
なるように前記ニュートラライザ電源にフィードバック
する自動調整器とを備えたイオンビーム加工装置とする
ことにより達成される。
〔作用〕
加速電流値は、イオンビーム量とほぼ比例関係にあ
り、かつ、ニユートラライザ線よりの熱電子のうち、加
速電流の中和に使用される量は、真空チヤンバの大きさ
や、ニユートラライザの取付位置で決まる装置固有の値
であるため、ニユートラライザ線よりのエミツシヨン電
流を、加速電流の関数値となるようにフイードバツクす
ることにより、常に、最適値となり、手動調整が不要と
なる。
〔実施例〕
以下、本発明の一実施例を第1図により説明する。
フイラメント線1a、フイラメント電源1b、アーク電源
1c、加速電源1d、減速電源1e等よりなるイオン源1よ
り、イオンビーム2を照射し、試料3を加工する。この
とき、試料3が孤立パターンを備えたり絶縁物であると
き、ニユートラライザ線4に、ニユートラライザ電源5
より、電流を流して加熱し、熱電子6を放出してイオン
ビーム2を中和させる。ここで、ニユートラライザ電源
5の出力は、熱電子電流検出器8により検出された熱電
子放出電流が、加熱電流検出器7により検出された加速
電流のある一定関数になるよう、自動調整器9によりフ
イードバツクされる。
なお、上述の一定関数とは、たとえば、以下の式で表
現される。
ISET=(IACC+a)xb ここで、ISET:ニユートラライザ出力値 IACC:加速電流 a,b :定数 a,bは、チヤンバの大きさ、及び、ニユートラライザ
線で決まる固有の値であり、装置により決まり毎回調整
する必要はない。なお、関数は、上記式に限るものでは
なく、二次式、非線形式等装置により式がかわる。
本実施例によれば、加速電流出力設定値が変化した
り、ニユートラライザの線径が変化しても、自動的に最
適値に調整され、手動の調整が不要となる。
〔発明の効果〕
以上説明した本発明のイオンビーム加工装置によれ
ば、イオン源と、該イオン源より試料に照射されるイオ
ンビームを中和するための熱電子を放出するニュートラ
ライザ線と、該ニュートラライザ線に電流を流すニュー
トラライザ電源と、前記イオン源の加速電流を検出する
加速電流検出器と、前記ニュートラライザ線の熱電子放
出電流を検出する熱電子電流検出器と、該熱電子電流検
出器により検出された熱電子放出電流が前記加速電流検
出器により検出された加速電流の一定関数になるように
前記ニュートラライザ電源にフィードバックする自動調
整器とを備えたものであるから、 ニュートラライザの調整が自動化され手動調整が不要
になるので、この種イオンビーム加工装置には有効であ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の系統図である。 1……イオン源、2……イオンビーム、3……試料、4
……ニユートラライザ線、5……熱電子、6……加速電
流検出器、8……熱電子電流検出器、9……自動調整
器。

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】イオン源と、該イオン源より試料に照射さ
    れるイオンビームを中和するための熱電子を放出するニ
    ュートラライザ線と、該ニュートラライザ線に電流を流
    すニュートラライザ電源と、前記イオン源の加速電流を
    検出する加速電流検出器と、前記ニュートラライザ線の
    熱電子放出電流を検出する熱電子電流検出器と、該熱電
    子電流検出器により検出された熱電子放出電流が前記加
    速電流検出器により検出された加速電流の一定関数にな
    るように前記ニュートラライザ電源にフィードバックす
    る自動調整器とを備えたことを特徴とするイオンビーム
    加工装置。
JP63244123A 1988-09-30 1988-09-30 イオンビーム加工装置 Expired - Fee Related JP2702987B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63244123A JP2702987B2 (ja) 1988-09-30 1988-09-30 イオンビーム加工装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63244123A JP2702987B2 (ja) 1988-09-30 1988-09-30 イオンビーム加工装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0294241A JPH0294241A (ja) 1990-04-05
JP2702987B2 true JP2702987B2 (ja) 1998-01-26

Family

ID=17114104

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63244123A Expired - Fee Related JP2702987B2 (ja) 1988-09-30 1988-09-30 イオンビーム加工装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2702987B2 (ja)

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63199880A (ja) * 1987-02-16 1988-08-18 Sumitomo Electric Ind Ltd イオンミリング装置

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0294241A (ja) 1990-04-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
GB1500849A (en) Method and apparatus for examining a body by a beam of x-rays or other penetrating radiation
US4803716A (en) X-ray diagnostics installation for radiographs
KR970067590A (ko) 하전빔 노광 시스템 및 하전빔 노광 방법
US3825839A (en) Constant current field emission electron gun
EP0200272A3 (en) X-ray examination system and method of controlling an exposure
JP2702987B2 (ja) イオンビーム加工装置
US6094473A (en) Digital automatic X-ray exposure control system
EP0160479A2 (en) Method and apparatus for forming a thin film
US4686466A (en) Method for automatically setting the voltage resolution in particle beam measuring devices and apparatus for implementation thereof
JPH11233300A (ja) 粒子加速器
JPS60198726A (ja) X線露光装置の露光量調整方法と装置
JPH07169433A (ja) イオン注入装置
JP3081965B2 (ja) イオンビーム発生装置
JP2762298B2 (ja) イオン注入装置の帯電抑制装置
JPS6335399Y2 (ja)
JP2750465B2 (ja) イオン発生装置
JP2621369B2 (ja) 電子ビーム加工装置
JPH0636721A (ja) イオンビーム分析装置における対物スリット板のスリット間隙幅自動調整方法
JPS63109438U (ja)
GB2038544A (en) The minimisation of surface originating contamination in electron microscopes
JP2954141B2 (ja) イオン注入装置のイオンビームの中和方法
JPH04357657A (ja) イオン処理装置
JPS6014462B2 (ja) 電子ビ−ム装置
JPH0545500A (ja) 電子線照射装置
JPH04337232A (ja) イオン電流経時変化検出方法

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees