JP2701790B2 - Nonvolatile semiconductor memory device - Google Patents

Nonvolatile semiconductor memory device

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JP2701790B2
JP2701790B2 JP13194095A JP13194095A JP2701790B2 JP 2701790 B2 JP2701790 B2 JP 2701790B2 JP 13194095 A JP13194095 A JP 13194095A JP 13194095 A JP13194095 A JP 13194095A JP 2701790 B2 JP2701790 B2 JP 2701790B2
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nonvolatile memory
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、不揮発性半導体装置に
関し、特に、プログラムの暴走などによる二度書きを防
止する不揮発性半導体装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a non-volatile semiconductor device, and more particularly to a non-volatile semiconductor device for preventing a program from being rewritten twice.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、ソフトウェアの暴走等による
不揮発性のメモリICに対する二度書きを防止する対策
として、メモリICにプロテクト用の端子を設けて高電
圧を印加することにより、メモリICに対する書き込み
を不可能にするという方法がとられている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a countermeasure to prevent writing to a non-volatile memory IC twice due to runaway of software or the like, writing to a memory IC is performed by providing a protection terminal to the memory IC and applying a high voltage. Is made impossible.

【0003】しかし、上述した方法においては、メモリ
ICに対して高電圧を印加するための制御がソフトウェ
アにより行われているので、ソフトウェアがガードを解
いた後にソフトウェアの暴走等が発生した場合、上述し
た対策は無効となってしまい、チップの素子破壊等が発
生してしまう虞れがある。
However, in the above-mentioned method, since control for applying a high voltage to the memory IC is performed by software, if the software runs out of control after the software releases the guard, the above-described method is performed. The countermeasure taken is invalidated, and there is a possibility that chip element destruction or the like may occur.

【0004】また、高電圧を印加するため、メモリIC
を使用するボード上に通常時電圧と高電圧という2つの
電源系が設けられることになり、ボードの信頼性を著し
く下げることにもつながってしまう。
Further, since a high voltage is applied, a memory IC
In this case, two power supply systems, i.e., a normal voltage and a high voltage, are provided on a board that uses the power supply, thereby significantly reducing the reliability of the board.

【0005】そこで、上述した点に改良を加えたメモリ
ICとして、特開平5−67758号公報に開示されて
いるものがある。
[0005] Therefore, there is a memory IC disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-67758 as a memory IC in which the above points are improved.

【0006】図3は、特開平5−67758号公報に開
示されているメモリICのブロック図である。
FIG. 3 is a block diagram of a memory IC disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-67758.

【0007】図3に示すメモリICは、4つのブロック
110〜113に分割されたメモリセルアレイ11を有
するフラッシュEEPROMであり、ソース線SLが各
ブロックのそれぞれに設けられていて、それによりブロ
ック単位でのデータ消去が可能となっている。さらに、
各ブロック内には、データがすでに書き込まれている
か、あるいはブロック内からデータが消去されているか
を示す1ビットのデータを記憶している状態記憶回路2
00、210、220及び230が、ブロック110〜
113のそれぞれに対応して設けられている。
The memory IC shown in FIG. 3 is a flash EEPROM having a memory cell array 11 divided into four blocks 110 to 113. A source line SL is provided in each of the blocks. Data can be erased. further,
In each block, a state storage circuit 2 storing 1-bit data indicating whether data has already been written or data has been erased from the block.
00, 210, 220 and 230 are blocks 110 to 110
113 are provided for each of them.

【0008】上述した構成の本従来例では、任意のブロ
ックに対するデータ書き換え及びデータ消去に先立っ
て、該ブロック内の電位レベルを検出することが行わ
れ、これにより、該ブロック内にすでにデータが書き込
まれているか、あるいは該ブロック内からすでにデータ
が消去されているかを短時間で確認することができ、誤
ったデータ書き込みやデータ消去を防止することができ
る。
In this conventional example having the above-described configuration, the potential level in a block is detected prior to data rewriting and data erasing for an arbitrary block, whereby data has already been written in the block. It can be checked in a short time whether the data has been erased or the data has already been erased from within the block, and erroneous data writing or data erasing can be prevented.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】不揮発性メモリICに
おいては、書き込まれているデータの消去を行わない状
態での新たな書き込み、すなわちデータの二度書きが行
われた場合、素子内におけるデータの重複が発生し、一
時的な不安定状態、あるいは最悪の場合は素子破壊を起
こす虞れがある。
In a nonvolatile memory IC, when new writing is performed without erasing written data, that is, when data is written twice, the data in the element is not written. Overlap may occur, causing a temporary unstable state or, in the worst case, destruction of the element.

【0010】上述した従来例においては、メモリセルに
対してデータが書き込まれているか、あるいは消去され
ているかの状態を確認することができる状態記憶部が設
けられている。
In the above-mentioned conventional example, there is provided a state storage unit for confirming whether data is written or erased in the memory cell.

【0011】しかしながら、状態記憶部が不揮発性メモ
リ部と同じ素子を用いて構成されているため、状態記憶
部そのものがデータの二度書きによって不安定な状態に
陥る虞れがある。また、ブロック内の電位レベルを検出
することにより書き込み状態が判断されているため、検
出レベルがスレッショルドレベル付近で消去状態と判断
された場合、データが書き込まれた状態に近い場合であ
っても書き込みが行われてしまい、メモリICの不安定
状態、あるいは素子破壊を起こす虞れがある。
However, since the state storage unit is configured using the same elements as the nonvolatile memory unit, there is a possibility that the state storage unit itself may become unstable due to twice writing data. Further, since the write state is determined by detecting the potential level in the block, when the detected level is determined to be in the erased state near the threshold level, the write state is determined even when the state is close to the written state. Is performed, which may cause an unstable state of the memory IC or destruction of elements.

【0012】本発明は、上述したような従来の技術が有
する問題点に鑑みてなされたものであって、データの二
度書きによる不揮発性メモリICの不安定状態、あるい
は素子破壊の発生を防止することができる不揮発性半導
体記憶装置を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems of the prior art, and prevents an unstable state of a nonvolatile memory IC due to twice writing of data or occurrence of element destruction. It is an object of the present invention to provide a nonvolatile semiconductor memory device that can perform the above-mentioned operations.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は、不揮発性メモリ部内にデータが書き込まれ
ている状態での外部からのデータの書き込みが禁止され
る不揮発性半導体記憶装置であって、前記不揮発性メモ
リ部においてデータの書き込み状態を判断するしきい値
となる第1のしきい値よりも低い値を第2のしきい値と
して有し、前記不揮発性メモリ部内の電荷の電位レベル
が前記第2のしきい値を超えた場合に前記不揮発性メモ
リ部内にデータが書き込まれている状態であると判断す
る電位状態保持レジスタを具備し、該電位状態保持レジ
スタは、前記不揮発性メモリと異なる素子により構成さ
れていることを特徴とする。
SUMMARY OF THE INVENTION In order to achieve the above object, the present invention relates to a nonvolatile semiconductor memory device in which external data writing is prohibited while data is being written in a nonvolatile memory section. A second threshold having a value lower than a first threshold which is a threshold for judging a data write state in the nonvolatile memory unit; comprises a potential state holding register is determined to be a state in which the potential level data in the nonvolatile memory unit if it exceeds the second threshold value is written, said potential state holding register
The star is configured by an element different from the nonvolatile memory.
It is characterized by having been done.

【0014】また、データが書き込まれるための不揮発
性メモリ部と、外部から前記不揮発性メモリ部にデータ
の書き込みが行われる際に、前記不揮発性メモリ部内の
電荷の電位レベルがしきい値として設定される第1のし
きい値を超えているかどうか判断し、超えている場合は
前記不揮発性メモリ部へのデータの書き込みを禁止する
書き込み状態保持レジスタとを有してなる不揮発性半導
体記憶装置において、前記第1のしきい値よりも低い値
を第2のしきい値として有し、外部より前記不揮発性メ
モリ部にデータの書き込みが行われる際に、前記不揮発
性メモリ部内の電荷の電位レベルが前記第2のしきい値
を超えているかどうか判断し、超えている場合は前記不
揮発性メモリ部へのデータの書き込みを禁止する電位状
態保持レジスタを具備し、該電位状態保持レジスタは、
前記不揮発性メモリと異なる素子により構成されている
ことを特徴とする。
The nonvolatile memory section for writing data and the potential level of the electric charge in the nonvolatile memory section when the data is written from the outside to the nonvolatile memory section are set as threshold values. And determining whether or not the first threshold value exceeds a first threshold value. If the first threshold value is exceeded, a write state holding register for prohibiting data writing to the nonvolatile memory unit is provided. Having a value lower than the first threshold value as a second threshold value, and when writing data from the outside to the nonvolatile memory portion, the potential level of the electric charge in the nonvolatile memory portion. Is determined to be greater than or equal to the second threshold value, and if so, a potential state holding register for inhibiting writing of data to the nonvolatile memory unit is set. And Bei, said potential state holding register,
It is composed of an element different from the nonvolatile memory.
It is characterized by the following.

【0015】[0015]

【0016】[0016]

【作用】上記のように構成された本発明では、外部から
不揮発性メモリ部にデータが書き込まれると同時に、電
位状態保持レジスタに不揮発性メモリ部内の電荷の電位
レベルが入力される。電位状態保持レジスタに入力され
た電位レベルは、一定のしきい値を超えているかどうか
判断され、それにより、データが書き込まれている状態
かどうか判断されるが、電位状態保持レジスタにおける
しきい値は不揮発性メモリ部におけるしきい値よりも低
い値となっているため、入力された電荷の電位レベルが
不揮発性メモリ部におけるしきい値付近であっても、デ
ータが書き込まれている状態と判断される。
According to the present invention constructed as described above, at the same time data is written from the outside to the nonvolatile memory section, the potential level of the charges in the nonvolatile memory section is input to the potential state holding register. It is determined whether or not the potential level input to the potential state holding register exceeds a certain threshold value, thereby determining whether or not data is being written. Is lower than the threshold value in the non-volatile memory section, so that it is determined that data is being written even when the potential level of the input charge is near the threshold value in the non-volatile memory section. Is done.

【0017】また、書き込み状態保持レジスタを有する
既存のアーキテクチャに採用される場合、書き込み状態
保持レジスタに比べて電位状態保持レジスタのしきい値
が低く設定されているので、上記同様に入力された電荷
の電位レベルが不揮発性メモリ部におけるしきい値付近
であっても、データが書き込まれている状態と判断され
る。
In the case of adopting an existing architecture having a write state holding register, the threshold value of the potential state holding register is set lower than that of the write state holding register. It is determined that data is being written even when the potential level is near the threshold value in the nonvolatile memory section.

【0018】[0018]

【実施例】以下に、本発明の実施例について図面を参照
して説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0019】図1は、本発明の不揮発性半導体記憶装置
の一実施例を示す内部ブロック図である。
FIG. 1 is an internal block diagram showing one embodiment of the nonvolatile semiconductor memory device of the present invention.

【0020】本実施例は図1に示すように、データが書
き込まれるための不揮発性メモリ部2と、アドレス及び
チップセレクト信号が入力され、アドレスラッチ信号を
出力するアドレス制御回路1と、外部からリード信号が
入力され、不揮発性メモリ部2からデータを読み出すリ
ード制御回路5と、外部から不揮発性メモリ部2へのラ
イトデータあるいはイレーズ信号が入力されるライト/
イレーズ制御回路6と、不揮発性メモリ部2内へのデー
タの書き込み状態を保持する書き込み状態保持レジスタ
3と、書き込み状態保持レジスタ3に保持される不揮発
性メモリ部2内へのデータの書き込み状態を保持する電
位状態保持レジスタ4とから構成されている。
In this embodiment, as shown in FIG. 1, a nonvolatile memory section 2 for writing data, an address control circuit 1 to which an address and a chip select signal are input and outputs an address latch signal, A read control circuit 5 that receives a read signal and reads data from the nonvolatile memory unit 2 and a write / read circuit that receives write data or an erase signal from the outside to the nonvolatile memory unit 2
The erase control circuit 6, a write state holding register 3 for holding a write state of data in the nonvolatile memory section 2, and a write state of the data in the nonvolatile memory section 2 held in the write state holding register 3. And a potential state holding register 4 to be held.

【0021】以下に、上述した構成における動作につい
て説明する。
The operation of the above configuration will be described below.

【0022】(1)リードアクセスの場合 アドレス制御回路1に対し、ADR信号線a及び/CS
信号線bを介して外部よりアドレス及びチップセレクト
信号が入力される。
(1) In case of read access The ADR signal lines a and / CS
An address and a chip select signal are input from the outside via the signal line b.

【0023】アドレス及びチップセレクト信号がアドレ
ス制御回路1に入力されると、不揮発性メモリ部2及び
書き込み状態保持レジスタ3に対し、INADR信号線
cを介してアドレスラッチ信号が送られる。
When an address and a chip select signal are input to the address control circuit 1, an address latch signal is sent to the nonvolatile memory unit 2 and the write state holding register 3 via the INADR signal line c.

【0024】リードアクセスの場合、外部よりリード制
御回路5に対して/RDS信号線fを介してリードセレ
クト信号が入力され、外部より入力されたアドレス信号
に対応する不揮発性メモリ部2内のデータが、RDDA
TA信号線j及びDATA信号線gを介して外部へ出力
される。この際、ライトアクセス状態ではないので、そ
の他の信号線はノ−アクティブである。
In the case of read access, a read select signal is externally input to the read control circuit 5 via the / RDS signal line f, and data in the nonvolatile memory unit 2 corresponding to the externally input address signal is read. But RDDA
It is output to the outside via the TA signal line j and the DATA signal line g. At this time, since it is not in the write access state, the other signal lines are inactive.

【0025】(2)書き込み状態保持レジスタ3: ”
1 ”、電位状態保持レジスタ4:”0 ”の状態からの
ライトアクセスの場合 アドレス制御回路1に対し、ADR信号線a及び/CS
信号線bを介して外部よりアドレス及びチップセレクト
信号が入力される。
(2) Write state holding register 3: "
1 ", the potential state holding register 4: in the case of write access from the state of" 0 ", the ADR signal line a and / CS
An address and a chip select signal are input from the outside via the signal line b.

【0026】アドレス及びチップセレクト信号がアドレ
ス制御回路1に入力されると、不揮発性メモリ部2、書
き込み状態保持レジスタ3及び電位状態保持レジスタ4
に対し、INADR信号線cを介してアドレスラッチ信
号が送られる。
When an address and a chip select signal are input to the address control circuit 1, the nonvolatile memory unit 2, the write state holding register 3, and the potential state holding register 4
, An address latch signal is sent via the INADR signal line c.

【0027】次に、外部から書き込み状態保持レジスタ
3及びライト/イレーズ制御回路6に対し、/WE信号
線d及びDATA信号線gを介してライトイネーブル及
びライトデータが入力される。
Next, a write enable signal and write data are externally input to the write state holding register 3 and the write / erase control circuit 6 via the / WE signal line d and the DATA signal line g.

【0028】書き込み状態保持レジスタ3にライトイネ
ーブル及びアドレス信号が入力されると、不揮発性メモ
リ部2においては、まだデータの書き込みが行われてい
ない状態であるため、Volt信号線iを介して、書き
込み保持レジスタ3のレジスタビットの内容としてイレ
ーズ状態 ”1 ”が、電位状態保持レジスタ4の該当す
るアドレスに対応するレジスタセルに報告される。この
場合の電位保持レジスタ4のレジスタセルはイレーズ状
態 ”0 ”である。
When a write enable signal and an address signal are input to the write state holding register 3, the non-volatile memory section 2 is in a state where data has not yet been written. The erase state “1” is reported to the register cell corresponding to the corresponding address of the potential state holding register 4 as the contents of the register bit of the write holding register 3. In this case, the register cell of the potential holding register 4 is in the erase state "0".

【0029】レジスタセルにイレーズ状態が報告される
と、不揮発性メモリ部2のアドレスに対応する書き込み
セルはイレーズされている状態であると判断され、以下
に示す制御が行われる。
When the erase state is reported to the register cell, it is determined that the write cell corresponding to the address of the nonvolatile memory unit 2 is in the erased state, and the following control is performed.

【0030】まず、外部からライト/イレーズ制御回路
6及びWERDATA信号線kを介して不揮発性メモリ
部2にライトデータが書き込まれると、不揮発性メモリ
2にデータが書き込まれていることを示すライト状態
”0 ”が、書き込み状態保持レジスタ3にセットされ
る。
First, when write data is externally written to the nonvolatile memory unit 2 via the write / erase control circuit 6 and the WERDATA signal line k, a write state indicating that data is written to the nonvolatile memory 2 “0” is set in the write state holding register 3.

【0031】次に、電位状態保持レジスタ4に書き込み
状態がセットされるが、ここで、電位状態保持レジスタ
4に対する書き込み状態がセットされるまでの流れにつ
いて説明する。
Next, the writing state is set in the potential state holding register 4. The flow until the writing state in the potential state holding register 4 is set will be described.

【0032】まず、不揮発性メモリ部2にライトデータ
が書き込まれると、/INWE信号線hがアクティブに
なり、WERDATA信号線kを介して電位状態保持レ
ジスタ4にライトデータが入力される。
First, when write data is written to the nonvolatile memory unit 2, the / INWE signal line h becomes active, and the write data is input to the potential state holding register 4 via the WERDATA signal line k.

【0033】ここで、ライト状態あるいはイレーズ状態
においては、電荷の流れを操作することによって状態が
判断されるため、ライトデータが入力されるということ
は、電位状態保持レジスタ4に電荷が注入されるという
ことになる。
Here, in the write state or the erase state, the state is determined by manipulating the flow of the electric charge. Therefore, the input of the write data means that the electric charge is injected into the potential state holding register 4. It turns out that.

【0034】電位状態保持レジスタ4に電荷が注入され
ると、その電荷が何Vに帯電されているかが検出され
る。
When a charge is injected into the potential state holding register 4, it is detected how many volts the charge is charged.

【0035】そして、検出結果により、第2のしきい値
である一定のスレッショルドレベルを超える場合はライ
ト状態 ”1 ”とし、スレッショルドレベル以下の場合
はイレーズ ”0 ”とし、入力されたアドレスに対応す
るレジスタビットに書き込み状態がセットされる。
According to the detection result, the write state is set to "1" when the threshold value exceeds a certain threshold level which is the second threshold value, and the erase state is set to "0" when the threshold level is lower than the threshold level. The write state is set in the corresponding register bit.

【0036】図2は、本発明のライト/イレーズ状態を
判断するための電位領域を示す図であり、(a)は不揮
発性メモリ部2における図、(b)は電位状態保持レジ
スタ4における図である。
FIGS. 2A and 2B are diagrams showing potential regions for judging the write / erase state according to the present invention. FIG. 2A is a diagram in the nonvolatile memory unit 2, and FIG. 2B is a diagram in the potential state holding register 4. It is.

【0037】図2(a)及び(b)に示すように、不揮
発性メモリ部2に注入された電荷の電位レベルが第1の
しきい値であるスレッショルドレベルに比べて充分高け
れば(図中B領域付近)、電位状態保持レジスタ4にお
いて書き込み状態がライト状態と判断され、 ライト状
態 ”1 ”がセットされる。また、不揮発性メモリ部2
に注入された電荷の電位レベルがスレッショルドレベル
に比べて充分低ければ(図中A領域付近)、電位状態保
持レジスタ4において書き込み状態がイレーズ状態と判
断され、 イレーズ状態 ”0 ”がセットされる。
As shown in FIGS. 2A and 2B, if the potential level of the electric charge injected into the nonvolatile memory unit 2 is sufficiently higher than the threshold level which is the first threshold value (in the figure, (Near area B), the potential state holding register 4 determines that the write state is the write state, and the write state “1” is set. In addition, the nonvolatile memory unit 2
If the potential level of the charge injected into the memory cell is sufficiently lower than the threshold level (near area A in the figure), the potential state holding register 4 determines that the write state is the erase state, and sets the erase state "0".

【0038】ここで、注入された電荷の電位レベルが、
スレッショルドレベル周辺(図中C領域付近)の場合に
おける電位保持レジスタ4の動作のついて説明する。
Here, the potential level of the injected charge is
The operation of the potential holding register 4 in the vicinity of the threshold level (around the area C in the figure) will be described.

【0039】スレッショルドレベル周辺では、電位レベ
ルがイレーズ領域に存在したとしても、スレッショルド
周辺であるため、不揮発性メモリ部2における書き込み
状態としてはライト状態に限りなく近い状態にある。そ
のため、電位レベルがスレッショルドレベル周辺にある
状態の不揮発性メモリ部2の書き込みセルに対して、デ
ータの書き込みを行うと二度書きと同じような状態とな
ってしまう虞れがある。そこで、図2(b)に示すよう
に、第2のしきい値である電位状態保持レジスタ4にお
けるスレッショスドレベルを、第1のしきい値である不
揮発性メモリ部2におけるスレッショルドレベルよりも
低く設定する。
In the vicinity of the threshold level, even if the potential level exists in the erase area, the write state in the nonvolatile memory section 2 is almost as close as possible to the write state because the potential level is around the threshold. Therefore, when data is written to the write cell of the nonvolatile memory unit 2 in a state where the potential level is around the threshold level, there is a possibility that a state similar to twice writing may occur. Therefore, as shown in FIG. 2B, the threshold level of the potential state holding register 4 which is the second threshold is set to be lower than the threshold level of the nonvolatile memory unit 2 which is the first threshold. Set lower.

【0040】これにより、電位レベルが図2のC領域付
近に存在するような状態においては、必ずライト状態と
判断される。
Thus, in a state where the potential level exists in the vicinity of the region C in FIG. 2, it is always determined to be the write state.

【0041】上述したように、不揮発性メモリ部2にデ
ータが書き込まれると、書き込み状態保持レジスタ3に
おける書き込み状態がライト状態 ”0 ”、電位状態保
持レジスタ4における書き込み状態もライト状態 ”1
”となり、不揮発性メモリ部2に対する二度書きが防
止される。
As described above, when data is written to the nonvolatile memory unit 2, the write state in the write state holding register 3 is the write state "0", and the write state in the potential state holding register 4 is also the write state "1".
"And writing to the nonvolatile memory unit 2 twice is prevented.

【0042】(3)書き込み状態保持レジスタ3: ”
0 ”、電位状態保持レジスタ4:”1 ”の状態からの
ライトアクセスの場合 アドレス制御回路1に対し、ADR信号線a及び/CS
信号線bを介して外部よりアドレス及びチップセレクト
信号が入力される。
(3) Write state holding register 3: "
0 ", the potential state holding register 4: in the case of write access from the state of" 1 ", the ADR signal line a and / CS
An address and a chip select signal are input from the outside via the signal line b.

【0043】アドレス及びチップセレクト信号がアドレ
ス制御回路1に入力されると、不揮発性メモリ部2、書
き込み状態保持レジスタ3及び電位状態保持レジスタ4
に対し、INADR信号線cを介してアドレスラッチ信
号が送られる。
When an address and a chip select signal are input to the address control circuit 1, the nonvolatile memory unit 2, the write state holding register 3, and the potential state holding register 4
, An address latch signal is sent via the INADR signal line c.

【0044】次に、外部から書き込み状態保持レジスタ
3及びライト/イレーズ制御回路6に対し、/WE信号
線d及びDATA信号線gを介してライトイネーブル及
びライトデータが入力される。
Next, a write enable signal and write data are externally input to the write state holding register 3 and the write / erase control circuit 6 via the / WE signal line d and the DATA signal line g.

【0045】このとき、入力されたアドレスに対応する
書き込み状態保持レジスタ3はライト状態 ”0 ”であ
るため、入力アドレスに対応する不揮発性メモリ部2の
書き込みセルには既にデータが書き込まれているという
ことになる。
At this time, since the write state holding register 3 corresponding to the input address is in the write state "0", data has already been written in the write cell of the nonvolatile memory unit 2 corresponding to the input address. It turns out that.

【0046】そのため、書き込み状態保持レジスタ3に
より、/INWE信号線hはアクティブ状態にされず、
不揮発性メモリ部2にはデータが書き込まれない。ま
た、書き込み状態保持レジスタ3により、/busy信
号線eがアクティブ状態にされることによって、外部に
対しても既にデータが書き込まれているアドレスにアク
セスしてきたことが示される。
Therefore, the / INWE signal line h is not activated by the write state holding register 3,
No data is written to the nonvolatile memory unit 2. When the / busy signal line e is set to the active state by the write state holding register 3, it indicates that an address to which data has already been written has been accessed externally.

【0047】この場合の電位状態保持レジスタ4及びV
olt信号線iの動きは、書き込み状態保持レジスタ
3: ”1 ”、電位状態保持レジスタ4: ”0 ”の状
態からのライトアクセスの場合と同様である。
In this case, the potential state holding register 4 and V
The movement of the alt signal line i is the same as in the case of the write access from the state of the write state holding register 3: “1” and the state of the potential state holding register 4: “0”.

【0048】(4)書き込み状態保持レジスタ3: ”
1 ”、電位状態保持レジスタ4:”1 ”の状態からの
ライトアクセスの場合 この状態は、不揮発性メモリ部2の任意のアドレスに対
応する書き込みセルの電荷の電位レベルが、図2のC領
域付近に示すようなスレッショルドレベル周辺に存在す
る場合におけるものである。
(4) Write state holding register 3: "
1 ", potential state holding register 4: write access from" 1 "state In this state, the potential level of the charge of the write cell corresponding to an arbitrary address in the nonvolatile memory unit 2 is changed to the C area in FIG. This is in the case where it exists around a threshold level as shown in the vicinity.

【0049】この場合、電位状態保持レジスタ4により
/INWE信号線hがアクティブ状態にされず、不揮発
性メモリ部2にデータが書き込まれない。また、電位状
態保持レジスタ4により、/busy信号線eがアクテ
ィブ状態にされることによって、外部に対して既にデー
タが書き込まれているアドレスに対してアクセスしてき
たことが示される。
In this case, the / INWE signal line h is not set to the active state by the potential state holding register 4, and no data is written to the nonvolatile memory unit 2. The / busy signal line e is set to the active state by the potential state holding register 4 to indicate that an address to which data has already been written to the outside has been accessed.

【0050】なお、上述した実施例では本発明の要旨と
する、データが書き込まれている不揮発性メモリ部への
書き込みを禁止する構成についてのみ述べたが、データ
が書き込まれている不揮発性メモリ部であると認識した
場合には、通常行われる消去動作を行い、その後に該消
去動作を上記の手順によって確認し、書き込みを行うよ
うに構成してもよい。
In the above-described embodiment, only the configuration of prohibiting writing to the nonvolatile memory portion to which data is written, which is the gist of the present invention, has been described. However, the nonvolatile memory portion to which data is written is described. When it is recognized that the erase operation is performed, a normal erase operation may be performed, and thereafter, the erase operation may be confirmed by the above-described procedure, and writing may be performed.

【0051】以上説明した電荷情報の保持レジスタはメ
モリICの外部にある場合でも同様の効果をもたらすこ
とができる。
The charge information holding register described above can provide the same effect even when it is outside the memory IC.

【0052】[0052]

【発明の効果】本発明は、以上説明したように構成され
ているので以下に記載するような効果を奏する。
Since the present invention is configured as described above, it has the following effects.

【0053】請求項1に記載のものにおいては、不揮発
性メモリ部にデータが書き込まれているかどうかを判断
するためのしきい値を不揮発性メモリ部におけるしきい
値よりも低い値とする電位保持レジスタを有する構成と
したため、検出された電荷の電位レベルが不揮発性メモ
リ部におけるしきい値付近であっても、データが書き込
まれている状態と判断され、データの二度書きによる不
揮発性メモリICの不安定状態、あるいは素子破壊の発
生を防止することができる。また、電位状態保持レジス
タが、不揮発性メモリと異なる素子により構成されてい
るため、電位状態保持レジスタそのものがデータの二度
書きによって不安定な状態に陥ることを防止することが
できる。
According to the first aspect, the threshold value for determining whether or not data is written in the nonvolatile memory unit is set to a value lower than the threshold value in the nonvolatile memory unit. Because of the configuration including the register, even if the potential level of the detected electric charge is near the threshold value in the nonvolatile memory portion, it is determined that data is being written, and the nonvolatile memory IC that writes data twice is used. Can be prevented from being in an unstable state or element destruction. In addition, the potential state holding register
Is configured with a different element from the nonvolatile memory.
Therefore, the potential state holding register itself stores data twice.
Preventing writing into an unstable state
it can.

【0054】請求項2に記載のものにおいては、既存の
アーキテクチャに上記同様の電位状態保持レジスタを設
ける構成としたため、新たに装置を設計することなく、
請求項1に記載のものと同様の効果を得ることができ
る。また、電位状態保持レジスタが、不揮発性メモリと
異なる素子により構成されているため、電位状態保持レ
ジスタそのものがデータの二度書きによって不安定な状
態に陥ることを防止することができる。
According to the second aspect of the present invention, since a potential state holding register similar to the above is provided in an existing architecture, a new device is not designed,
The same effect as that of the first aspect can be obtained. In addition, the potential state holding register is a non-volatile memory.
Since it is composed of different elements,
The register itself is unstable due to writing data twice
Can be prevented from falling into a state.

【0055】[0055]

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の不揮発性半導体記憶装置の一実施例を
示す内部ブロック図である。
FIG. 1 is an internal block diagram showing one embodiment of a nonvolatile semiconductor memory device of the present invention.

【図2】本発明のライト/イレーズ状態を判断するため
の電位領域を示す図であり、(a)は不揮発性メモリ部
における図、(b)は電位状態保持レジスタにおける図
である。
FIGS. 2A and 2B are diagrams showing a potential region for determining a write / erase state according to the present invention, wherein FIG. 2A is a diagram in a nonvolatile memory unit, and FIG. 2B is a diagram in a potential state holding register.

【図3】特開平5−67758に開示されているメモリ
ICのブロック図である。
FIG. 3 is a block diagram of a memory IC disclosed in JP-A-5-67758.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 アドレス制御回路 2 不揮発性メモリ部 3 書き込み状態保持レジスタ 4 電位状態保持レジスタ 5 リード制御回路 6 ライト/イレーズ制御回路 a ADR(アドレス)信号線 b /CS(チップセレクト)信号線 c INADR(内部アドレス)信号線 d /WE(ライトネーブル)信号線 e /busy信号線 f /RDS(リードセレクト)信号線 g DATA信号線 h /INWE(内部ライトイネーブル)信号線 i Volt信号線 j RDDATA(リードデータ)信号線 k WERDATA(ライト/イレーズデータ)信号
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Address control circuit 2 Non-volatile memory unit 3 Write state holding register 4 Potential state holding register 5 Read control circuit 6 Write / erase control circuit a ADR (address) signal line b / CS (chip select) signal line c INADR (internal address) ) Signal line d / WE (write enable) signal line e / busy signal line f / RDS (read select) signal line g DATA signal line h / INWE (internal write enable) signal line i Volt signal line j RDDATA (read data) Signal line k WERDATA (write / erase data) signal line

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 不揮発性メモリ部内にデータが書き込ま
れている状態での外部からのデータの書き込みが禁止さ
れる不揮発性半導体記憶装置であって、 前記不揮発性メモリ部においてデータの書き込み状態を
判断するしきい値となる第1のしきい値よりも低い値を
第2のしきい値として有し、前記不揮発性メモリ部内の
電荷の電位レベルが前記第2のしきい値を超えた場合に
前記不揮発性メモリ部内にデータが書き込まれている状
態であると判断する電位状態保持レジスタを具備し、該電位状態保持レジスタは、前記不揮発性メモリと異な
る素子により構成されていることを特徴とする 不揮発性
半導体記憶装置。
1. A non-volatile semiconductor memory device in which external data writing is prohibited while data is being written in a non-volatile memory unit, wherein the non-volatile memory unit determines a data writing state. A second threshold having a value lower than the first threshold, which is a threshold value to be set, when the potential level of the electric charge in the nonvolatile memory portion exceeds the second threshold. A potential state holding register for determining that data is being written in the nonvolatile memory unit, wherein the potential state holding register is different from the nonvolatile memory;
A non-volatile semiconductor storage device, comprising:
【請求項2】 データが書き込まれるための不揮発性メ
モリ部と、外部から前記不揮発性メモリ部にデータの書
き込みが行われる際に、前記不揮発性メモリ部内の電荷
の電位レベルがしきい値として設定される第1のしきい
値を超えているかどうか判断し、超えている場合は前記
不揮発性メモリ部へのデータの書き込みを禁止する書き
込み状態保持レジスタとを有してなる不揮発性半導体記
憶装置において、 前記第1のしきい値よりも低い値を第2のしきい値とし
て有し、外部より前記不揮発性メモリ部にデータの書き
込みが行われる際に、前記不揮発性メモリ部内の電荷の
電位レベルが前記第2のしきい値を超えているかどうか
判断し、超えている場合は前記不揮発性メモリ部へのデ
ータの書き込みを禁止する電位状態保持レジスタを具備
し、該電位状態保持レジスタは、前記不揮発性メモリと異な
る素子により構成されていることを特徴とする 不揮発性
半導体記憶装置。
2. A nonvolatile memory section for writing data, and a potential level of a charge in the nonvolatile memory section is set as a threshold when data is written to the nonvolatile memory section from outside. And determining whether the first threshold value is exceeded, and if the first threshold value is exceeded, a write state holding register for prohibiting writing of data to the nonvolatile memory unit is provided. A second threshold having a value lower than the first threshold, and a potential level of charges in the nonvolatile memory unit when data is written from the outside to the nonvolatile memory unit. A potential state holding register for judging whether the threshold value exceeds the second threshold value, and in the case of exceeding the second threshold value, prohibiting writing of data to the nonvolatile memory portion. , Said potential state holding register is different to the non-volatile memory
A non-volatile semiconductor storage device, comprising:
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