JPH05120891A - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device

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JPH05120891A
JPH05120891A JP4106484A JP10648492A JPH05120891A JP H05120891 A JPH05120891 A JP H05120891A JP 4106484 A JP4106484 A JP 4106484A JP 10648492 A JP10648492 A JP 10648492A JP H05120891 A JPH05120891 A JP H05120891A
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JP
Japan
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storage element
data
memory device
protection
semiconductor memory
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Application number
JP4106484A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hideo Nakamura
英夫 中村
Terumi Sawase
照美 沢瀬
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To protect a memory without the sacrifice of memory areas by using the combination between protection information and an external signal to determine whether a stop signal should be generated or not. CONSTITUTION:When the address stored in protection information is designated by an address signal 61, an address discriminating circuit 51 registers and discriminates it, and a gate signal is given to latch circuits 52 and 53, and data '1' or '0' is read out from a storage element group 1 through a sense amplifier 3. In the initial state, data is fixed to '1' or '0' by the semiconductor production method. In the case of data '1', a write stop signal is active and an erase stop signal is disabled, and a general data protection area is designated, and the storage element is erased from '1' to '0'. Write from '0' to '1' is started to test whether the protecting function is operated or not.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体記憶装置に関
し、特に不揮発性メモリの書込み、消去、および読出し
の保護機能を有する半導体記憶装置に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a semiconductor memory device having a nonvolatile memory write, erase, and read protection function.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、EEPROM(Electricall
y Erasable and ProgrammableRead Only Nem
ory)は、不揮発性メモリであり、かつ電気的に書換えが
可能であるが、逆に保護したいデ−タを書換えてしまう
心配があるため、問題となっていた。そこで、不揮発性
メモリのデ−タの必密保護の方法として、セキュリティ
ビットを用い、このビットの状態によってメモリ外部か
らのアクセスを禁止する方法が提案されている(例え
ば、『エレクトロニクス デザイン』(Electronics
Desin),March 3,1983,pp.123〜128参照)。すなわ
ち、通常の書換えを目的とするメモリブロックとは分離
された書込み専用のセキュリティレジスタを準備し、こ
のレジスタの特定ビットの状態によってメモリブロック
へのアクセスを禁止するのである。この場合、セキュリ
ティレジスタを書換え可能なメモリ素子で構成する方法
として、セキュリティレジスタの消去動作を、メモリブ
ロックの全面消去動作のときのみ可能な構成にすること
によって、メモリブロックの保護デ−タがセキュリティ
レジスタに書込まれた後は、メモリブロックのデ−タを
破壊せずには、メモリブロックにアクセスすることがで
きないようにしている。
2. Description of the Related Art Conventionally, an EEPROM (Electricall)
y Erasable and Programmable Lead Only Nem
ory) is a non-volatile memory and is electrically rewritable, but on the contrary, there is a concern that data to be protected may be rewritten, which has been a problem. Therefore, as a method for inevitable protection of data in a non-volatile memory, a method has been proposed in which a security bit is used and access from outside the memory is prohibited depending on the state of the bit (for example, "Electronic Design" (Electronics).
Desin), March 3, 1983, pp.123-128). That is, a write-only security register, which is separated from a memory block intended for normal rewriting, is prepared, and access to the memory block is prohibited depending on the state of a specific bit of this register. In this case, as a method of configuring the security register with a rewritable memory element, the protection data of the memory block is protected by making the erase operation of the security register possible only when the entire erase operation of the memory block is performed. After the data is written in the register, the memory block cannot be accessed without destroying the data in the memory block.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかし、この方法で
は、メモリの読出しを許可しながら、一度書込んでデ−
タの書換えを阻止するような保護機能については、何等
考慮されていなかった。また、セキュリティレジスタを
構成する不揮発性メモリの消去、書込みの条件は、デ−
タ記憶領域とは異なっているため、独立した消去、書込
み回路を備える必要があり、回路が複雑になる傾向があ
る。また、上記の方法は、メモリ全体を単位として動作
する保護機能であるため、部分的かつ小容量に分割し
て、各領域での保護デ−タを制御することができない。
なお、従来から知られている他のメモリ保護方法とし
て、ソフトウェアで領域や保護の内容を指定する方法が
ある。しかし、この方法では、これらを記憶する別の記
憶装置と、その記憶装置を制御するシステムソフトウェ
アを必要とするため、規模が大きくなり、比較的小規模
なメモリ容量を備えた不揮発性メモリ等のデ−タ保護に
は適していない。例えば、キャッシュカ−ド等に応用さ
れ、不揮発性メモリを内蔵したマイクロコンピュ−タに
おいては、不揮発性メモリをプログラム記憶エリア、I
Dコ−ド、あるいはデ−タ等の種々の異なった用途にエ
リアを分けて使用したいという要求がある。このような
場合には、小領域に分割されたエリア毎に読出し、プロ
グラム消去等の機能を阻止できることが、高信頼システ
ムを実現する上で非常に重要となる。本発明の目的は、
これら従来の課題を解決し、少量の単位のメモリに対し
て各種の保護機能を与え、また書換え可能なデ−タ記憶
領域中に保護デ−タを記憶するのみで、書換えを阻止す
る条件を設定することができる不揮発性の半導体記憶装
置を提供することにある。
However, in this method, writing is performed once and data is written while permitting reading of the memory.
No consideration was given to the protection function that prevents rewriting of data. In addition, the conditions for erasing and writing the nonvolatile memory that constitutes the security register are
Since it is different from the data storage area, it is necessary to provide an independent erasing / writing circuit, which tends to complicate the circuit. Further, since the above method is a protection function that operates in units of the entire memory, it is not possible to control the protection data in each area by dividing it into partial and small capacities.
As another memory protection method known in the related art, there is a method of designating an area and protection contents by software. However, this method requires a separate storage device for storing these and system software for controlling the storage device, and therefore, the scale becomes large, and the nonvolatile memory such as a nonvolatile memory having a relatively small memory capacity is required. Not suitable for data protection. For example, in a microcomputer applied to a cache card or the like and having a built-in non-volatile memory, the non-volatile memory is used as a program storage area, I
There is a demand to use the areas separately for various different uses such as D code or data. In such a case, it is very important to prevent the functions such as reading and program erasing for each area divided into small areas in order to realize a highly reliable system. The purpose of the present invention is to
These conventional problems are solved, various protection functions are given to a small amount of memory, and only by storing the protection data in a rewritable data storage area, a condition for preventing rewriting is provided. A non-volatile semiconductor memory device that can be set is provided.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の半導体記憶装置は、マトリクスに配列され
た複数の記憶素子群と、マトリクス内に配列された少な
くとも1ビットのメモリ保護情報を記憶する保護デ−タ
記憶素子と、マトリクス内の指定されたアドレス信号に
従って複数の記憶素子群のうちの選択された1記憶素子
をアクセスする第1の手段と、保護デ−タ記憶素子の内
容を読出す第2の手段とを具備し、第2の手段は、選択
された1記憶素子に対して、プログラム(書込み)、消
去あるいは読出しの各動作を許可するか、または禁止す
るかを、保護デ−タ記憶素子の内容に従って決定すると
ともに、第1の手段は、選択された1記憶素子および保
護デ−タ記憶素子に共通のワ−ド線を介してアクセス
し、また記憶素子群および保護デ−タ記憶素子はそれぞ
れ電気的に書換えが可能な記憶素子で構成されているこ
とを特徴としている。
In order to achieve the above object, a semiconductor memory device of the present invention comprises a plurality of memory element groups arranged in a matrix and at least 1-bit memory protection information arranged in the matrix. Protective data storage element to be stored, first means for accessing a selected one storage element of a plurality of storage element groups according to a specified address signal in a matrix, and contents of the protected data storage element And a second means for reading, the second means determines whether to permit or prohibit each program (write), erase, or read operation for one selected storage element, While determining according to the contents of the protection data storage element, the first means accesses the selected one storage element and the protection data storage element via a common word line, and also the storage element group and the storage element group. Fine protection de - is characterized by data storage device that consists of a storage device capable of respectively electrically rewritten.

【0005】[0005]

【作用】本発明においては、特に記憶素子群に保護デ−
タ記憶素子を設けるとともに、その保護デ−タ記憶素子
に記憶された内容と、外部信号との組合わせによって、
阻止信号を生成するようにしている。保護情報を記憶し
ているアドレスを指定することにより、ラッチ回路にゲ
−ト信号を与えられ、記憶素子群からセンスアンプを介
して読出された保護情報がラッチ回路に記憶される。例
えば、保護情報は、書込みまたは消去阻止信号とキ−ワ
−ドにより形成される。不一致検出回路で、キ−ワ−ド
の外部信号とラッチ回路に記憶されているキ−ワ−ドの
ビットパタ−ンとが比較され、不一致のときには信号の
発生を禁止し、一致しているときのみ書込みまたは消去
阻止信号を発生する。これにより、記憶素子の特定のエ
リアに書込まれたデ−タのパタ−ンによって、記憶素子
群の書込みまたは消去の各動作を阻止することができ、
かつ保護情報を再帰可能な状態でも記憶することができ
るので、柔軟性のある保護機能付き書込み消去可能な半
導体記憶装置を実現することができる。
In the present invention, the protection data is especially applied to the memory element group.
By providing a data storage element and combining the contents stored in the protection data storage element with an external signal,
A blocking signal is generated. By designating an address storing the protection information, a gate signal is given to the latch circuit, and the protection information read from the storage element group through the sense amplifier is stored in the latch circuit. For example, the protection information is formed by a write or erase block signal and a keyword. The mismatch detection circuit compares the external signal of the keyword with the bit pattern of the keyword stored in the latch circuit. When they do not match, signal generation is prohibited, and when they match. Only generate a write or erase inhibit signal. As a result, it is possible to prevent each operation of writing or erasing the storage element group by the pattern of the data written in the specific area of the storage element.
In addition, since the protection information can be stored even in a recursive state, it is possible to realize a flexible write / erasable semiconductor memory device with a protection function.

【0006】[0006]

【実施例】以下、本発明の実施例を、図面により詳細に
説明する。図12は、本発明で用いられる電気的に書込
み・消去が可能な半導体記憶装置の基本構成図である。
図12において、1は記憶素子群、2はアドレスデコ−
ダ、3はセンスアンプ、4は書込み消去電圧制御回路で
ある。アドレスデコ−ダ2に対してアドレス入力6
1、、記憶素子群1に対して書込みデ−タ66、書込み
消去電圧制御回路4に対して書込み起動信号62を、そ
れぞれ加えることにより、デ−タの書込みが行われる。
また、アドレス入力61、読出し起動信号64を加える
ことにより、センスアンプ3より読出しデ−タ65が得
られる。また、アドレスデコ−ダ2に対してアドレス6
1、および書込み消去電圧制御回路4に対して消去起動
信号63を、それぞれ加えることにより、内容の消去が
行われる。図13は、図12の記憶素子に対する書込み
および消去動作の説明図である。記憶素子群1に対する
書換えは、図13に示すように、アドレス61を与える
とともに、消去起動信号63を入力することにより、指
定アドレスに相当する記憶素子を消去し、次に書込み起
動信号62と書込みデ−タ66を与えることにより、記
憶素子への書込みを行う。
Embodiments of the present invention will now be described in detail with reference to the drawings. FIG. 12 is a basic configuration diagram of an electrically writable / erasable semiconductor memory device used in the present invention.
In FIG. 12, 1 is a memory element group and 2 is an address decoder.
3, 3 is a sense amplifier, and 4 is a write / erase voltage control circuit. Address input 6 to address decoder 2
1, the write data 66 is applied to the memory element group 1, and the write start signal 62 is applied to the write / erase voltage control circuit 4 to write data.
Further, by adding the address input 61 and the read start signal 64, the read data 65 can be obtained from the sense amplifier 3. Also, address 6 for address decoder 2
The contents are erased by adding the erase start signal 63 to the write erase voltage control circuit 4 and the erase start signal 63. FIG. 13 is an explanatory diagram of write and erase operations for the storage element of FIG. To rewrite the memory element group 1, as shown in FIG. 13, by supplying an address 61 and inputting an erase start signal 63, the memory element corresponding to the designated address is erased, and then the write start signal 62 and the write start signal 62 are written. By supplying the data 66, writing to the storage element is performed.

【0007】図14は、図12の書込み・消去電圧制御
回路の回路図である。書込み・消去電圧制御回路4は、
記憶素子群1の各端子へ書込みあるいは消去に必要な高
電圧を与える回路であり、図14に示すように、MOS
トランジスタ(負荷トランジスタとオンオフ・トランジ
スタ)から構成され、書込み起動信号62、消去起動信
号63により出力OUTをオンオフする。図12に示す
ような構成の不揮発性記憶装置に対して、本発明を適用
する場合、種々の実施例が考えられる。図1(a)〜
(d)は、本発明の第1の実施例の複数の基本回路を示
す半導体記憶装置の構成図である。先ず、図1(a)
は、第1番目の基本構成を示すものである。すなわち、
マトリクス状に配列された記憶素子群1に対して、マト
リクスの列方向、つまりアドレス方向の記憶素子群を単
位として、1行毎に少なくとも1ビットのメモリ保護情
報を記憶する記憶素子1aを配置し、列方向に指定され
た制御信号により保護情報記憶素子1aの内容を同時に
読出して、読出された内容、例えば‘1’であればプロ
グラム(書込み)、消去、または読出しの各動作をその
まま許可し、‘0’であればこれらの各動作を阻止する
ようにして、記憶素子群1の内容を保護するものであ
る。次に、図1(b)は、マトリクス状の記憶素子群1
のアドレスの一部、つまり列方向の少なくとも1行を保
護情報を記憶する記憶素子1bとし、先ずこの保護情報
記憶素子1bを読出して、その内容により、例えば
‘1’であれば記憶素子群1に対するプログラム、消
去、および読出しの各動作を許可し、‘0’であれば、
これらの動作を阻止することにより記憶素子群1の内容
を保護するものである。
FIG. 14 is a circuit diagram of the write / erase voltage control circuit of FIG. The write / erase voltage control circuit 4 is
This is a circuit for applying a high voltage required for writing or erasing to each terminal of the memory element group 1, and as shown in FIG.
It is composed of a transistor (load transistor and on / off transistor), and turns on / off the output OUT by a write start signal 62 and an erase start signal 63. When the present invention is applied to the nonvolatile memory device configured as shown in FIG. 12, various embodiments can be considered. 1 (a)-
FIG. 3D is a configuration diagram of a semiconductor memory device showing a plurality of basic circuits according to the first embodiment of the present invention. First, FIG. 1 (a)
Shows the first basic configuration. That is,
With respect to the storage element group 1 arranged in a matrix, a storage element 1a for storing at least 1-bit memory protection information is arranged for each row in units of the storage element group in the column direction of the matrix, that is, the address direction. , The contents of the protection information storage element 1a are simultaneously read by a control signal designated in the column direction, and the read contents, for example, if it is '1', program (write), erase, or read operations are permitted as they are. , "0", the contents of the memory element group 1 are protected by blocking each of these operations. Next, FIG. 1B shows a matrix-shaped storage element group 1.
Of a part of the address, that is, at least one row in the column direction is set as a storage element 1b for storing protection information. First, the protection information storage element 1b is read out, and if the content is, for example, "1", the storage element group 1 Allows programming, erasing, and reading operations for, and if it is '0',
The contents of the memory element group 1 are protected by blocking these operations.

【0008】次に、図1(c)は、図1(b)の変形例
であって、マトリクスの列方向の少なくとも1行を記憶
保護情報を記憶する記憶素子群1bとすることは、図1
(b)と同じであるが、この場合には、1行の各ビット
を矢印のように、記憶素子群1の各行に割当てておき、
先ず読出された保護情報記憶素子1bの内容によって、
例えば、右側1ビットの内容が‘1’であれば、素子群
1の下行のプログラム、消去、読出しの各動作を許可
し、右から2番目のビットの内容が‘0’であれば、素
子群1の下から2番目の行の各動作を阻止し、右から3
番目のビットの内容が‘1’であれば、下から3番目の
行の各動作を許可するようにすることにより、記憶素子
群1の内容を各行毎に保護するものである。次に、図1
(d)は、図1(a)と(b)の両保護方法を組合わせ
たもので、マトリクスの列方向の半分、つまりアドレス
の半分は前者の保護方法で記憶内容を保護し、残りの半
分は後者の保護方法で記憶内容を保護するものである。
すなわち、記憶素子群1Aの部分には、各行毎に少なく
とも1ビットの保護情報を記憶する素子群1aを配置
し、残りの記憶素子群1Bの部分には、少なくとも1行
に保護情報を記憶した記憶素子群1bを配置して、選択
されたアドレスによってそれぞれの記憶保護情報により
メモリ内容を保護する。以下、図1(a)の場合と、図
1(b)の場合について、実施例を挙げて動作を詳述す
る。なお、図1(c)(d)の場合には、(a)(b)
の動作の応用であるため、詳細な動作説明は省略する。
Next, FIG. 1C is a modification of FIG. 1B, in which at least one row in the column direction of the matrix is a storage element group 1b for storing storage protection information. 1
Same as (b), but in this case, each bit of one row is assigned to each row of the storage element group 1 as indicated by an arrow,
First, depending on the contents of the protection information storage element 1b read out,
For example, if the content of the 1st bit on the right side is '1', the programming, erasing, and reading operations in the lower row of the element group 1 are permitted, and if the content of the second bit from the right is '0', the element is Block each action in the second row from the bottom of group 1, 3 from the right
If the content of the second bit is "1", the contents of the storage element group 1 are protected for each row by permitting each operation of the third row from the bottom. Next, FIG.
(D) is a combination of the protection methods of FIGS. 1 (a) and 1 (b). Half of the matrix in the column direction, that is, half of the address, protects the stored contents by the former protection method. The other half protects the stored contents by the latter protection method.
That is, the element group 1a for storing at least 1-bit protection information is arranged in each row in the storage element group 1A, and the protection information is stored in at least one row in the remaining storage element group 1B. The memory element group 1b is arranged to protect the memory contents with the respective memory protection information according to the selected address. Hereinafter, the operation will be described in detail with reference to examples in the case of FIG. 1A and the case of FIG. In the case of FIGS. 1C and 1D, (a) and (b)
Since this is an application of the operation of, the detailed description of the operation will be omitted.

【0009】図2は、第1の実施例を示す半導体記憶装
置の構成図である。この実施例では、メモリの少量単位
毎に各種の保護機能を与えることができるようにした場
合を示している。図2において、31はアドレスデコ−
ダ、37は保護情報の一時記憶レジスタ、39は内部制
御回路、41はアドレスバス、42はデ−タバス、32
1〜328は高電圧制御回路、341,342はセンス
アンプ、351,352は出力ドライバ、151,15
2,155,156は記憶素子を構成するトランジス
タ、153,154は記憶素子のゲ−ト電圧をオンオフ
するトランジスタである。従来の半導体記憶装置では、
図2の左半分のみ、つまりアドレスデコ−ダ31、デ−
タ用メモリマトリクス151,155、デ−タ読出し用
センスアンプ341、出力ドライバ351、高電圧制御
回路321〜326、328のみが設けられていた。図
3は、図2におけるメモリアクセス時の記憶素子への電
圧関係図である。図3の電圧条件を記憶素子151,1
55に与えることにより、読出し、プログラム、および
消去の各動作が行われる。すなわち、読出し動作の場合
には、ワ−ド線(W)21にアドレスデコ−ダ31によ
りVccの電圧を加え、高圧ワ−ド線(WH)221に高
電圧制御回路321より同じくVccの電圧を加え、ウェ
ル111に高電圧制御回路323より−Vppの電圧を加
え、ウェル電圧をVccにすることによって選択した記憶
素子の内容を消去することができる。
FIG. 2 is a block diagram of a semiconductor memory device showing the first embodiment. In this embodiment, various protection functions can be given to each small unit of memory. In FIG. 2, reference numeral 31 is an address decorator.
37, a temporary storage register of protection information, 39 an internal control circuit, 41 an address bus, 42 a data bus, 32
1 to 328 are high voltage control circuits, 341 and 342 are sense amplifiers, 351 and 352 are output drivers, 151 and 15
Reference numerals 2, 155 and 156 are transistors that form a memory element, and 153 and 154 are transistors that turn on and off the gate voltage of the memory element. In the conventional semiconductor memory device,
Only the left half of FIG. 2, that is, the address decoder 31, the data
Only the data memory matrices 151 and 155, the data reading sense amplifier 341, the output driver 351, and the high voltage control circuits 321 to 326 and 328 are provided. FIG. 3 is a voltage relationship diagram for the storage element at the time of memory access in FIG. The voltage condition of FIG.
By giving it to 55, read, program, and erase operations are performed. That is, in the case of a read operation, a voltage of Vcc is applied to the word line (W) 21 by the address decoder 31, and a voltage of Vcc is similarly applied to the high voltage word line (WH) 221 by the high voltage control circuit 321. In addition, the voltage of -Vpp is applied from the high voltage control circuit 323 to the well 111 and the well voltage is set to Vcc, whereby the contents of the selected memory element can be erased.

【0010】本実施例においては、上述した従来の構成
に対して、図2の右側の構成を追加する。すなわち、保
護情報を記憶する記憶素子152,156を各ワ−ド線
221に1素子ないし複数素子だけ配列し、指定された
アドレスに対応する保護情報メモリの状態によって、デ
−タメモリのアクセスを許可、あるいは禁止する機能を
付加している。このために追加される回路としては、記
憶素子のゲ−ト電圧の供給をオンオフする制御ゲ−ト1
53,154、保護情報用のセンスアンプ342、保護
情報用の出力ドライバ352、および一時記憶レジスタ
37である。本実施例では、アレ−状に配列された記憶
素子群の一辺に、ワ−ド線で選択される一連の記憶素子
群(151,155等)を単位としてメモリ保護デ−タ
を記憶する記憶素子152,156を置き、ワ−ド線選
択時に、これらの記憶素子152,156を同時に読出
して、プログラム、消去、読出しの制御を阻止すること
を可能にしている。保護情報を記憶する記憶素子15
2,156は、従来のデ−タ用メモリ151,155と
同じように、読出し、プログラム、および消去が可能で
ある。しかし、デ−タ用メモリ151,155に対する
プログラム、消去の動作時に、保護情報素子151,1
55は記憶情報を失ってはならない。このために、デ−
タメモリ151,155へのプログラム、消去の動作時
には、保護情報記憶素子152,156に対して異なっ
た条件を与える必要がある。
In the present embodiment, the configuration on the right side of FIG. 2 is added to the above-described conventional configuration. That is, one or a plurality of storage elements 152 and 156 for storing protection information are arranged in each word line 221, and access to the data memory is permitted depending on the state of the protection information memory corresponding to the designated address. , Or the function to prohibit is added. As a circuit added for this purpose, a control gate 1 for turning on / off the supply of the gate voltage of the memory element is provided.
53 and 154, a sense information sense amplifier 342, a protection information output driver 352, and a temporary storage register 37. In the present embodiment, a memory for storing memory protection data in units of a series of memory element groups (151, 155, etc.) selected by word lines is arranged on one side of the memory element groups arranged in an array. By disposing the elements 152 and 156, the memory elements 152 and 156 can be read at the same time when the word line is selected to prevent the control of programming, erasing and reading. Storage element 15 for storing protection information
2, 156 can be read, programmed, and erased in the same manner as the conventional data memories 151, 155. However, when the data memories 151 and 155 are programmed and erased, the protection information elements 151 and 1
55 must not lose the stored information. For this reason,
It is necessary to give different conditions to the protected information storage elements 152 and 156 during the programming and erasing operations of the data memories 151 and 155.

【0011】図4は、図2の保護記憶素子へのプログラ
ムおよび消去の各動作を阻止するための電圧関係図であ
る。デ−タのプログラム時には、図3に示すように、ワ
−ド線(W)21にVcc、高圧ワ−ド線(WH)221
にVcc、デ−タ読出し線(D)231に−Vpp、I線2
5に−Vpp、WELL線111に−Vpを、それぞれ加
えるのに対して、保護情報記憶素子には、図4に示すよ
うに、プログラム阻止のためにワ−ド線(W)21にデ
−タと同じくVcc、I線25にもデ−タと同じく−Vppを
加えるが、WH線とD線とWELL線には、0電圧を加
える。これにより、保護情報はプログラムされすに済
む。また、消去時にも、WH線とD線とS線とWELL
線とに0電圧を加えることによって、保護情報を消さな
いようにする。図2のゲ−ト153,154および高圧
インバ−タ361は、これらの保護情報の破壊を防止す
るため、図4に示す電圧条件を与える回路である。次
に、保護機能のある読出し、プログラム、消去の各動作
について、動作を詳述する。
FIG. 4 is a voltage relationship diagram for preventing each operation of programming and erasing the protection storage element of FIG. At the time of data programming, as shown in FIG. 3, Vcc is applied to the word line (W) 21, and high voltage word line (WH) 221.
To Vcc, data read line (D) 231 to -Vpp, I line 2
5, -Vpp is applied to the WELL line 111, and -Vp is applied to the WELL line 111. On the other hand, in the protected information storage element, as shown in FIG. Like the data, Vcc and -Vpp are applied to the I line 25 as well as the data, but 0 voltage is applied to the WH line, the D line and the WELL line. This allows the protection information to be programmed. Also, at the time of erasing, WH line, D line, S line, and WELL
Do not erase the protected information by applying 0 voltage to the line. The gates 153 and 154 and the high voltage inverter 361 shown in FIG. 2 are circuits that apply the voltage conditions shown in FIG. 4 in order to prevent the destruction of the protection information. Next, the operations of the read, program, and erase operations having the protection function will be described in detail.

【0012】図5は、図2における読出し動作時のタイ
ミングチャ−トである。チップセレクト信号43、アド
レス41が与えられると、記憶装置は動作を開始する。
指定されたアドレスに対応したワ−ド線21が選択さ
れ、デ−タ用メモリ素子151、および保護情報用記憶
素子152の内容が各々センスアンプ341、342に
より読出される。センスアンプ342の出力は、一時記
憶レジスタ37にセットされ、その出力47が‘1’の
場合には、デ−タメモリ用の出力ドライバ351を駆動
してデ−タをデ−タバス42上に読出す。また、保護情
報の出力47が‘0’の場合には、デ−タメモリ用出力
ドライバ351を制御して、ドライバ351からの出力
を禁止し、デ−タバス42にデ−タが送出されないよう
にする。読出しの場合には、デ−タメモリ151と、保
護情報素子152とは同時に読出されるので、保護機能
を付加したことにより、動作時間の遅れは生じない。
FIG. 5 is a timing chart during the read operation in FIG. When the chip select signal 43 and the address 41 are given, the memory device starts its operation.
The word line 21 corresponding to the designated address is selected, and the contents of the data memory element 151 and the protection information memory element 152 are read by the sense amplifiers 341 and 342, respectively. The output of the sense amplifier 342 is set in the temporary storage register 37. When the output 47 is "1", the output driver 351 for the data memory is driven to read the data on the data bus 42. put out. Further, when the protection information output 47 is "0", the data memory output driver 351 is controlled to prohibit the output from the driver 351 so that the data is not transmitted to the data bus 42. To do. In the case of reading, since the data memory 151 and the protection information element 152 are read simultaneously, the addition of the protection function does not cause a delay in the operation time.

【0013】図6は、図2におけるプログラムあるいは
消去時のタイムチャ−トである。この場合にも、読出し
動作と同じように、チップ選択信号43とアドレス41
が与えられることにより、動作が開始される。内部制御
回路39は、最初に、制御モ−ドを読出し状態(ST
1)に置き、指定アドレスに対する保護情報記憶素子1
52を読出し、一時記憶レジスタ37に記憶する。この
出力47が‘1’のときには、内部制御回路39の内部
制御状態をプログラムあるいは消去モ−ド(ST2)に
移す。各高電圧発生回321〜325では、消去モ−ド
(ST2)の間、図3で示す高電圧を発生し、プログラ
ムあるいは消去動作を行う。同時に、高電圧発生回路3
26に接続された信号線49は‘0’レベルとなり、こ
れによりゲ−ト153をオフにし、ゲ−ト362〜36
4の出力を0Vにする。また、インバ−タ361の出力
491は‘1’となるため、ゲ−ト154をオンし、保
護情報記憶素子152のゲ−ト154をオンし、保護情
報記憶素子152のゲ−ト電圧222を0Vにする。こ
の結果、保護情報記憶素子152、156への電圧関係
は図4を満足するようになり、デ−タメモリ151,1
55へのプログラムまたは消去動作時に、保護情報記憶
素子152,156の記憶情報は保護される。なお、プ
ログラム、消去動作時には、保護情報の読出しと、デ−
タプログラム、消去動作が時系列的に実行されるが、読
出しの時間に比べて、プログラム、消去時間は103
105倍長いので、保護情報の読出しによる実質的なア
クセス動作の増加は生じない。
FIG. 6 is a time chart at the time of programming or erasing in FIG. Also in this case, as in the read operation, the chip selection signal 43 and the address 41
Is given to start the operation. The internal control circuit 39 first reads the control mode to the read state (ST
1), the protection information storage element 1 for a specified address
52 is read out and stored in the temporary storage register 37. When the output 47 is "1", the internal control state of the internal control circuit 39 is shifted to the program or erase mode (ST2). In each of the high voltage generation times 321 to 325, the high voltage shown in FIG. 3 is generated during the erase mode (ST2) to perform the program or erase operation. At the same time, the high voltage generation circuit 3
The signal line 49 connected to 26 becomes "0" level, which turns off the gate 153, and the gates 362-36.
Set the output of 4 to 0V. Since the output 491 of the inverter 361 becomes "1", the gate 154 is turned on, the gate 154 of the protection information storage element 152 is turned on, and the gate voltage 222 of the protection information storage element 152 is turned on. To 0V. As a result, the voltage relationship to the protection information storage elements 152 and 156 satisfies the condition shown in FIG. 4, and the data memories 151 and 1
The stored information in the protected information storage elements 152 and 156 is protected during the program or erase operation to 55. During the program and erase operations, the protection information is read and the data is deleted.
The programming and erasing operations are executed in time series, but the programming and erasing times are 10 3 to 10 times as long as the reading time.
Since it is 10 5 times longer, there is no substantial increase in access operation due to reading of the protection information.

【0014】このように、本実施例においては、共通の
ワ−ド線にデ−タ用のメモリマトリクスと保護情報用の
メモリマトリクスを配列し、読出し動作時には、両者を
同時にアクセスして、保護情報によって読出しデ−タの
デ−タ線への送出を制御し、またプログラム、消去動作
時には、先ず保護情報の読出しを行い、この情報によっ
てプログラム、消去動作を制御することが可能となる。
この結果、ワ−ド線単位でのメモリ保護をソフトウェア
の助けを借りずに実現でき、メモリ保護のためのアクセ
ス時間の増加をなくすことができる。また、ワ−ド線単
位でメモリ保護を行うことができるので、メモリエリア
に無駄のないメモリ保護が可能となる。さらに、本実施
例では、アドレスデコ−ダ31およびワ−ド線21の制
御回路は、デ−タ用メモリマトリクスと、保護情報線メ
モリマトリクスとに共用できるので、保護機能を実現す
る場合のエリア上の増加も最小に抑えることができる。
As described above, in this embodiment, the memory matrix for data and the memory matrix for protection information are arranged on the common word line, and at the time of read operation, both are simultaneously accessed and protected. It is possible to control the sending of read data to the data line by the information, and at the time of the program and erase operations, first read the protection information and control the program and erase operations by this information.
As a result, memory protection in word line units can be realized without the help of software, and an increase in access time for memory protection can be eliminated. Moreover, since the memory protection can be performed in units of word lines, it is possible to protect the memory area without waste. Further, in this embodiment, the control circuit of the address decoder 31 and the word line 21 can be shared by the data memory matrix and the protection information line memory matrix, so that an area for realizing the protection function is provided. The increase above can also be minimized.

【0015】図7は、本発明の第2の実施例を示す半導
体記憶装置の構成図である。図12と同じ記号は、同一
のものを表わしている。図7の半導体記憶装置は、図1
2の回路構成に対して、アドレス判定回路51、書込み
阻止デ−タラッチ回路52、消去阻止デ−タラッチ回路
53を付加し、各阻止信号671、672に対しては、
書込み状態での読出しデ−タで書込み阻止信号671を
アクティブにし、また消去状態での読出しデ−タで消去
阻止信号672をアクティブにするように設定する。図
8は、図7の保護デ−タと阻止条件の関係を示す説明図
である。図8に示すように、書込み状態での読出し信号
が‘1’、消去状態での読出し信号が‘0’とすると、
ラッチ回路52では読出しデ−タ‘0’のとき、書込み
阻止信号はディセ−ブル、読出しデ−タ‘1’のとき、
書込み阻止信号はアクティブとなる。また、ラッチ回路
53では、読出しデ−タ‘0’のとき、消去阻止信号は
アクティブ、読出しデ−タ‘1’のとき、消去阻止信号
はディセ−ブルとなる。次に、記憶装置の保護機能のテ
ストおよび再帰不可能な保護機能の設定方法について説
明する。先ず最初に、保護情報の記憶しているアドレス
をアドレス信号61で指定すると、アドレス判定回路5
1がこれを登録判定することにより、ラッチ回路52,
53にゲ−ト信号が与えられ、また記憶素子群1からセ
ンスアンプ3を介して‘1’または‘0’のデ−タが読
出される。初期状態には、半導体素子の製造方法によ
り、デ−タは‘1’または‘0’のいずれかの状態に固
定されている。例えば、‘1’の状態の場合には、図8
の条件から、書込み阻止信号がアクティブで消去阻止信
号はディセ−ブルされている。従って、保護情報記憶ア
ドレス以外、すなわち一般のデ−タ保護領域を指定し
て、記憶素子を‘1’から‘0’に、つまり消去するこ
とができる。
FIG. 7 is a block diagram of a semiconductor memory device showing a second embodiment of the present invention. The same symbols as those in FIG. 12 represent the same components. The semiconductor memory device shown in FIG.
An address determination circuit 51, a write blocking data latch circuit 52, and an erase blocking data latch circuit 53 are added to the circuit configuration of No. 2 for each blocking signal 671 and 672.
The write inhibit signal 671 is activated by the read data in the written state, and the erase inhibit signal 672 is activated by the read data in the erased state. FIG. 8 is an explanatory diagram showing the relationship between the protection data and the blocking condition of FIG. As shown in FIG. 8, if the read signal in the written state is "1" and the read signal in the erased state is "0",
In the latch circuit 52, the write blocking signal is disabled when the read data is "0", and when the read data is "1",
The write inhibit signal becomes active. In the latch circuit 53, the erase block signal is active when the read data is "0", and the erase block signal is disable when the read data is "1". Next, a method of testing the protection function of the storage device and a method of setting the non-recursive protection function will be described. First, when the address in which the protection information is stored is designated by the address signal 61, the address determination circuit 5
1 judges the registration of this, the latch circuit 52,
A gate signal is applied to 53, and data "1" or "0" is read from the storage element group 1 through the sense amplifier 3. In the initial state, the data is fixed to either "1" or "0" depending on the method of manufacturing the semiconductor device. For example, in the case of the state of “1”, FIG.
According to the condition (1), the write inhibit signal is active and the erase inhibit signal is disabled. Therefore, the storage element can be erased from "1" to "0", that is, erased, by designating a general data protection area other than the protection information storage address.

【0016】さらに、‘0’から‘1’へ書込み起動を
かけて、保護機能が動作するか否かをテストすることが
できる。消去および書込み阻止動作のテストは、保護情
報記憶領域を含む全記憶素子に対して、保護機能の状態
を変えずに行うことができる。次に、保護情報領域を消
去状態で、このアドレスを指定して読出し起動をかける
と、ラッチ回路52,53に‘0’が読出され、消去阻
止信号アクティブ、書込み阻止信号ディセ−ブル状態と
なる。この状態では、前述のように、全記憶素子に対し
て消去阻止動作をテストすることができる。次に、ラッ
チ回路52に‘0’、ラッチ回路53に‘1’が読出さ
れるように、保護情報領域にデ−タを設定し、これを読
出す。この状態では、記憶素子群1は、保護機能を持た
ない電気的に書込み・消去の可能な不揮発性記憶素子と
して動作する。逆に、ラッチ回路52,53にそれぞれ
‘1’および‘0’が読出されるように、保護情報領域
にデ−タを設定し、これを読出すと、この記憶装置は書
込み・消去機能がともに阻止され、その状態から書込み
・消去機能をアクティブにする状態には戻れなくなる。
この結果、記憶素子群1に記憶されたデ−タは、これ以
後、破壊されることがなくなる。
Furthermore, it is possible to test whether or not the protection function operates by writing the write start from "0" to "1". The erase and write blocking operations can be tested for all storage elements including the protection information storage area without changing the state of the protection function. Next, in the erased state of the protected information area, when this address is designated and read activation is performed, "0" is read to the latch circuits 52 and 53, and the erase inhibit signal is active and the write inhibit signal is in the disable state. .. In this state, as described above, the erase prevention operation can be tested for all storage elements. Next, data is set in the protected information area so that "0" is read by the latch circuit 52 and "1" is read by the latch circuit 53, and this is read. In this state, the storage element group 1 operates as an electrically writable / erasable nonvolatile storage element having no protection function. Conversely, when data is set in the protected information area so that "1" and "0" are read into the latch circuits 52 and 53, respectively, and this is read, this memory device has a write / erase function. Both are blocked, and it is impossible to return from that state to the state in which the write / erase function is activated.
As a result, the data stored in the storage element group 1 will not be destroyed thereafter.

【0017】図9は、本発明の第3の実施例を示す半導
体記憶装置の構成図であり、図10は、図9の書込み・
消去制御回路の詳細構成図である。図9の装置では、書
込み・消去機能の阻止領域と書込み機能のみ、あるいは
消去機能のみを阻止する領域を、同一記憶素子群上で分
離するようにしている。すなわち、図9においては、図
7に比べて、書込み阻止デ−タラッチ回路521,52
2、消去阻止デ−タラッチ回路531,532の2組が
設けられている点で異なっている。書込み・消去制御回
路4は、図10に示すように、阻止信号6711,67
12,6721,6722と、外部からの書込み起動信
号62、消去起動信号63により高電圧Vpを制御し、
この出力681〜684を記憶素子群の2つの領域11
および12に与える。保護情報記憶エリアが例えば領域
11にあれば、記憶素子群11は前述したように再帰不
可能な書込み・消去阻止領域を実現できる。また、保護
情報のラッチ回路522,532に対応するデ−タを書
込み阻止、あるいは消去阻止指定にして、領域11を再
帰不可能な書込み・消去阻止状態にすることで、領域1
2に対しては、保護情報の指定に従って書込み阻止、消
去阻止状態を再帰不可能な形で指定することができる。
記憶素子領域を更に分割して、その領域に対応して保護
情報ラッチ回路を準備して、書込み・消去制御回路を構
成すれば、その領域毎に異なった保護条件を指定するこ
とができる。
FIG. 9 is a block diagram of a semiconductor memory device showing a third embodiment of the present invention, and FIG.
It is a detailed block diagram of an erase control circuit. In the device of FIG. 9, the write / erase function blocking area and the write function only area or the area blocking only the erase function are separated on the same memory element group. That is, in FIG. 9, compared with FIG. 7, the write block data latch circuits 521, 52
2. The difference is that two sets of erasure prevention data latch circuits 531 and 532 are provided. The write / erase control circuit 4, as shown in FIG.
12, 6721, 6722, and the high voltage Vp is controlled by the write start signal 62 and the erase start signal 63 from the outside,
The outputs 681 to 684 are used as the two areas 11 of the storage element group.
And give to 12. If the protection information storage area is in the area 11, for example, the storage element group 11 can realize the non-recursive write / erase prevention area as described above. Further, by setting the data corresponding to the protection information latch circuits 522 and 532 to the write-inhibit or erase-inhibit state, and setting the region 11 in the non-recursive write / erase-inhibited state, the region 1
With respect to 2, it is possible to specify the write-inhibited state and the erase-inhibited state in a non-recursive form according to the designation of the protection information.
If the memory element area is further divided and a protection information latch circuit is prepared corresponding to the area to configure a write / erase control circuit, different protection conditions can be specified for each area.

【0018】図11は、本発明の第4の実施例を示す半
導体記憶装置の構成図である。図11においては、保護
情報と外部信号との組合わせにより、阻止信号の生成を
行うようにした構成が示される。図11において、51
はアドレス判定回路、54は保護情報ラッチ回路、55
は組合わせ回路、69は外部信号である。それ以外の信
号は、図7および図9と同一のものである。例えば、組
合わせ回路55としてラッチ回路54の出力と外部信号
69の不一致検出回路を用いると、キ−ワ−ド検出型の
保護機能を実現することができる。保護情報の記憶して
いるアドレスをアドレス信号61で指定すると、アドレ
ス判定回路51がこれを判定することにより、ラッチ回
路54にゲ−ト信号が与えられ、記憶素子群1からセン
スアンプ3を介して、読出された保護情報がラッチ回路
54に記憶される。例えば、この保護情報を図8に示す
書込みあるいは消去阻止情報とキ−ワ−ドとにより構成
する。不一致検出回路55でキ−ワ−ドの外部信号69
で与えられるキ−ワ−ドとラッチ回路54に記憶されて
いるキ−ワ−ドの出力ビットパタ−ンとを比較して、不
一致のときには671,672信号の発生を禁止し、一
致しているときのみ図8に従って書込みあるいは消去阻
止信号を発生するようにする。
FIG. 11 is a block diagram of a semiconductor memory device showing a fourth embodiment of the present invention. FIG. 11 shows a configuration in which the blocking signal is generated by combining the protection information and the external signal. In FIG. 11, 51
Is an address determination circuit, 54 is a protection information latch circuit, 55
Is a combinational circuit, and 69 is an external signal. The other signals are the same as those in FIGS. 7 and 9. For example, if a mismatch detection circuit for the output of the latch circuit 54 and the external signal 69 is used as the combination circuit 55, a keyword detection type protection function can be realized. When the address in which the protection information is stored is designated by the address signal 61, the address determination circuit 51 determines the address, a gate signal is given to the latch circuit 54, and the storage element group 1 passes through the sense amplifier 3. Then, the read protection information is stored in the latch circuit 54. For example, this protection information is composed of the writing or erasing prevention information and the keyword shown in FIG. An external signal 69 of the keyword in the mismatch detection circuit 55.
Is compared with the key word output bit pattern stored in the latch circuit 54, and when they do not match, the generation of 671 and 672 signals is prohibited and they match. Only at this time, the write or erase block signal is generated according to FIG.

【0019】このように、図7、図9および図11の実
施例においては、電気的に書込み・消去の可能な記憶素
子群の特定のエリアに書込まれたデ−タのパタ−ンによ
り、記憶素子群の書込みあるいは消去動作を阻止するこ
とができ、かつ、この保護情報を再帰可能な状態におい
ても記憶することができるので、柔軟性のある保護機能
付きの電気的書込み・消去可能な半導体記憶装置を実現
することができる。
As described above, in the embodiments shown in FIGS. 7, 9 and 11, the pattern of data written in a specific area of the electrically writable / erasable memory element group is used. Since the write or erase operation of the memory element group can be prevented and this protection information can be stored even in a recursive state, it is possible to electrically write / erase with a flexible protection function. A semiconductor memory device can be realized.

【0020】[0020]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
少量の単位でメモリの各種の保護機能を実現することが
でき、また特定のエリアに書込まれたデ−タのパタ−ン
により記憶素子群の書込みまたは消去動作を阻止するこ
とができるので、メモリエリアに無駄のないメモリ保護
を行うことが可能である。
As described above, according to the present invention,
Since various protection functions of the memory can be realized in a small unit, and the pattern of data written in a specific area can prevent the writing or erasing operation of the memory element group, It is possible to protect the memory area without waste.

【0021】[0021]

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の基本原理を示す半導体記憶装置の構成
図である。
FIG. 1 is a configuration diagram of a semiconductor memory device showing the basic principle of the present invention.

【図2】本発明の第1の実施例を示す半導体記憶装置の
構成図である。
FIG. 2 is a configuration diagram of a semiconductor memory device showing a first embodiment of the present invention.

【図3】図1のデ−タ用記憶素子へのプログラム、消去
を行う場合の電圧関係図である。
FIG. 3 is a voltage relation diagram when programming and erasing the data storage element of FIG.

【図4】図1保護情報用記憶素子へのプログラム、消去
動作を阻止する場合の電圧関係図である。
FIG. 4 is a voltage relationship diagram in the case of blocking programming and erasing operations for the protection information storage element.

【図5】図1における読出し動作のタイムチャ−トであ
る。
5 is a time chart of the read operation in FIG.

【図6】図1のプログラム、または消去動作時のタイム
チャ−トである。
FIG. 6 is a time chart during a program or erase operation of FIG.

【図7】本発明の第2の実施例を示す半導体記憶装置の
構成図である。
FIG. 7 is a configuration diagram of a semiconductor memory device showing a second embodiment of the present invention.

【図8】図7の保護デ−タと阻止条件の関係を示す説明
図である。
8 is an explanatory diagram showing the relationship between the protection data and the blocking condition of FIG.

【図9】本発明の第3の実施例を示す半導体記憶装置の
構成図である。
FIG. 9 is a configuration diagram of a semiconductor memory device showing a third embodiment of the present invention.

【図10】図9における書込み消去電圧制御回路の構成
図である。
10 is a configuration diagram of a write / erase voltage control circuit in FIG.

【図11】本発明の第4の実施例を示す半導体記憶装置
の構成図である。
FIG. 11 is a configuration diagram of a semiconductor memory device showing a fourth embodiment of the present invention.

【図12】従来の記憶保護を持たない半導体記憶装置の
構成図である。
FIG. 12 is a configuration diagram of a conventional semiconductor memory device having no memory protection.

【図13】図12における消去および書込み動作の説明
図である。
13 is an explanatory diagram of erase and write operations in FIG. 12;

【図14】図12における書込みおよび消去電圧制御回
路の構成図である。
14 is a configuration diagram of a write / erase voltage control circuit in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 不揮発性記憶素子群 2 アドレスデコ−ダ 4 書込み・消去電圧制御回路 31 アドレスデコ−ダ 37 保護情報の一時記憶レジスタ 39 内部制御回路 51 アドレス検出回路 52,53 保護情報ラッチ回路 61 アドレス入力 62 書込み起動信号 63 消去起動信号 64 読出し起動信号 65 読出しデ−タ線 66 書込みデ−タ線 151,155 デ−タ用メモリ素子 152,156 保護情報記憶用メモリ素子 341,342 センスアンプ 351,352 出力ドライバ 321〜328 高電圧制御回路 153,154 制御ゲ−ト 1 Nonvolatile Memory Element Group 2 Address Decoder 4 Program / Erase Voltage Control Circuit 31 Address Decoder 37 Temporary Storage Register of Protection Information 39 Internal Control Circuit 51 Address Detection Circuit 52, 53 Protection Information Latch Circuit 61 Address Input 62 Write Start signal 63 Erase start signal 64 Read start signal 65 Read data line 66 Write data line 151, 155 Data memory device 152, 156 Protected information storage memory device 341, 342 Sense amplifier 351, 352 Output driver 321 to 328 High voltage control circuit 153,154 Control gate

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 マトリクスに配列された複数の記憶素子
群と、該マトリクス内に配列された少なくとも1ビット
のメモリ保護情報を記憶する保護デ−タ記憶素子と、該
マトリクス内の指定されたアドレス信号に従って複数の
記憶素子群のうちの選択された1記憶素子をアクセスす
る第1の手段と、該保護デ−タ記憶素子の内容を読出す
第2の手段とを具備し、該第2の手段は、上記選択され
た1記憶素子に対して、プログラム(書込み)、消去あ
るいは読出しの各動作を許可するか、または禁止するか
を、上記保護デ−タ記憶素子の内容に従って決定すると
ともに、上記第1の手段は、上記選択された1記憶素子
および保護デ−タ記憶素子に共通のワ−ド線を介してア
クセスし、また上記記憶素子群および保護デ−タ記憶素
子はそれぞれ電気的に書換えが可能な記憶素子で構成さ
れていることを特徴とする半導体記憶装置。
1. A plurality of storage element groups arranged in a matrix, a protection data storage element for storing at least 1-bit memory protection information arranged in the matrix, and a designated address in the matrix. It comprises a first means for accessing a selected one storage element of a plurality of storage element groups in accordance with a signal, and a second means for reading the contents of the protection data storage element. The means determines whether to permit or prohibit each of the programming (writing), erasing or reading operations for the selected one storage element according to the contents of the protection data storage element, and The first means accesses the selected one storage element and the protection data storage element via a common word line, and the storage element group and the protection data storage element are electrically connected to each other. A semiconductor memory device comprising a rewritable memory element.
【請求項2】 請求項1に記載の半導体記憶装置におい
て、上記第1の手段は、選択された1記憶素子と保護デ
−タ記憶素子を読出す際には、上記選択された1記憶素
子に関して、該1記憶素子と保護デ−タ記憶素子の両方
を同時にアクセスすることを特徴とする半導体記憶装
置。
2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein said first means selects one selected memory element when reading out one selected memory element and a protection data memory element. With respect to the above, a semiconductor memory device characterized in that both the one memory element and the protection data memory element are simultaneously accessed.
【請求項3】 請求項1に記載の半導体記憶装置におい
て、上記第1の手段は、選択された1記憶素子にアクセ
スする場合に、プログラム(書込み)または消去の各動
作を、選択された1記憶素子より優先して保護デ−タ記
憶素子にアクセスすることを特徴とする半導体記憶装
置。
3. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the first means selects one operation of programming (writing) or erasing when accessing one selected memory element. A semiconductor memory device characterized in that a protection data memory element is accessed with priority over a memory element.
【請求項4】 請求項1に記載の半導体記憶装置におい
て、上記記憶素子、第1の手段および第2の手段は、キ
ャッシュカ−ドに内蔵されることを特徴とする半導体記
憶装置。
4. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the memory element, the first means and the second means are built in a cache card.
【請求項5】 請求項1に記載の半導体記憶装置におい
て、上記記憶素子、第1の手段、および第2の手段に加
えて、上記保護デ−タ記憶素子の内容と、マイクロコン
ピュ−タの外部から入力される外部信号の内容とに従っ
て、禁止信号を発生する第3の手段を設けることを特徴
とする半導体記憶装置。
5. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein, in addition to the memory element, the first means, and the second means, the contents of the protection data memory element and the contents of the microcomputer. A semiconductor memory device comprising: a third means for generating an inhibition signal according to the content of an external signal input from the outside.
【請求項6】 請求項5に記載の半導体記憶装置におい
て、上記外部信号は、キ−ワ−ド検出のための信号であ
り、上記第3の手段は、不一致検出回路で構成されるこ
とを特徴とする半導体記憶装置。
6. The semiconductor memory device according to claim 5, wherein the external signal is a signal for keyword detection, and the third means comprises a mismatch detection circuit. A characteristic semiconductor memory device.
【請求項7】 請求項1に記載の半導体記憶装置におい
て、上記記憶素子、第1の手段および第2の手段を、マ
イクロコンピュ−タに内蔵することを特徴とする半導体
記憶装置。
7. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the memory element, the first means, and the second means are built in a microcomputer.
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