JPH02301846A - Semiconductor storage element - Google Patents
Semiconductor storage elementInfo
- Publication number
- JPH02301846A JPH02301846A JP1123675A JP12367589A JPH02301846A JP H02301846 A JPH02301846 A JP H02301846A JP 1123675 A JP1123675 A JP 1123675A JP 12367589 A JP12367589 A JP 12367589A JP H02301846 A JPH02301846 A JP H02301846A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cell
- memory cell
- data
- nonvolatile memory
- written
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 7
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 11
- 230000006386 memory function Effects 0.000 claims description 9
- 101000741396 Chlamydia muridarum (strain MoPn / Nigg) Probable oxidoreductase TC_0900 Proteins 0.000 description 4
- 101000741399 Chlamydia pneumoniae Probable oxidoreductase CPn_0761/CP_1111/CPj0761/CpB0789 Proteins 0.000 description 4
- 101000741400 Chlamydia trachomatis (strain D/UW-3/Cx) Probable oxidoreductase CT_610 Proteins 0.000 description 4
- 230000006870 function Effects 0.000 description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000004044 response Effects 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000007781 pre-processing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Storage Device Security (AREA)
- Read Only Memory (AREA)
- Non-Volatile Memory (AREA)
- For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の概要〕
メモリ機能制御用の記憶部を持つ不揮発性の半導体記憶
素子に関し、
不揮発性メモリのプログラム状態を比較的簡易に検出可
能にすることを目的とし、
セルマトリクスにその特定ワード線に沿って所定情報を
書込まれたセル群を備え、またメモリ機能制御用の不揮
発メモリセルを備える半導体記憶素子において、該不揮
発メモリセルに書込むメモリ機能制御用情報を、前記所
定情報を書込まれるセル群の一部に書込んでおき、該不
揮発メモリセルの記憶情報に従って、前記セル群からの
読出しデータを選択して、該不揮発メモリセルの記憶情
報を外部へ読出し可能にするよう構成する。[Detailed Description of the Invention] [Summary of the Invention] The present invention relates to a non-volatile semiconductor memory element having a memory section for controlling memory functions, and an object of the present invention is to make it possible to relatively easily detect the programmed state of the non-volatile memory. In a semiconductor memory device that includes a group of cells in which predetermined information is written in a matrix along its specific word line, and also includes nonvolatile memory cells for controlling memory functions, information for controlling memory functions written to the nonvolatile memory cells is , the predetermined information is written in a part of the cell group to be written, and read data from the cell group is selected according to the storage information of the nonvolatile memory cell, and the storage information of the nonvolatile memory cell is externalized. Configure it so that it can be read.
本発明は、メモリ機能制御用の記憶部を持つ不揮発性の
半導体記憶素子に関する。The present invention relates to a nonvolatile semiconductor memory element having a memory section for controlling memory functions.
最近の不揮発性メモリ素子特にEEPROM(Elec
tric−ally Erasable & Prog
ramable Read 0nly Memory)
では、チップ上に本来のメモリセルアレイとは別の不揮
発性メモリセルを搭載し、このセルをプログラムするこ
とによって素子機能を制御する様な記憶素子が要求され
ている。例えば、上記セルのプログラム状態によって書
込み機能を制御し、書込みが許される場合しか書込みが
できないようにして、誤書込みの防止やデータ保護を目
的とするものが発表されている(ソフトウェアライトプ
ロテクトなどと呼ばれている)。Recent non-volatile memory devices, especially EEPROM (Elec.
tric-ally Erasable & Prog
ramable Read 0nly Memory)
Now, there is a need for a memory element in which a nonvolatile memory cell separate from the original memory cell array is mounted on a chip, and the element function can be controlled by programming this cell. For example, a technology has been announced that controls the write function according to the programming state of the cell, and allows writing only when writing is permitted, with the aim of preventing erroneous writing and protecting data (such as software write protection). being called).
しかしながら、このメモリセルのプログラム状態を外部
から検出する手段を有していない為、プログラム状態を
知る為には実際に書込みを行なってみるなどの方法しか
存在しなかった。However, since there is no means for externally detecting the programmed state of this memory cell, the only way to know the programmed state is to actually perform writing.
本発明はこの様な問題を解決し、前記プログラム状態を
比較的簡易に検出可能にすることを目的とするものであ
る。It is an object of the present invention to solve such problems and to make it possible to detect the program state relatively easily.
(課題を解決するための手段〕
第1図に示すように本発明では、セルフI・リクス10
の特定ワード線に沿って所定情報例えば後述のESを書
込まれたセル群11.12を有し、またメモリ機能制御
用情報を書込む不揮発メモリセル23を有する半導体記
憶素子の該セル群に、不揮発メモリセル23に書込むメ
モリ機能制御用情報と対応する情報を書込んでお(。例
えばセルマトリクス10への書込み禁止/書込み可なら
、不揮発メモリセル23へばデータ“’ 1 ” /“
0゛′をまたセル群11.,12の残りの(BSを書込
んだ残りの)セルに書込み禁止、書込み可、を示す情報
を書込んでおく。(Means for Solving the Problems) As shown in FIG.
This cell group of a semiconductor memory element has a cell group 11.12 in which predetermined information, for example, ES, which will be described later, is written along a specific word line, and also has a nonvolatile memory cell 23 in which memory function control information is written. , information corresponding to the memory function control information to be written to the nonvolatile memory cell 23 is written (For example, if writing to the cell matrix 10 is prohibited/enabled, data "' 1 "/" is written to the nonvolatile memory cell 23.
0゛' again in cell group 11. , 12 (the remaining cells in which the BS has been written), information indicating whether writing is prohibited or writable is written.
またメモリにはビット線を選択する従って読出しデータ
を選択する手段があるが、この選択手段を不揮発メモリ
セルの記憶データで制御し7、該記憶データに対応する
セル群11.12記憶データが取出せるようにする。Furthermore, the memory has a means for selecting a bit line and thus selecting read data, and this selection means is controlled by the data stored in the nonvolatile memory cell 7, and the stored data in the cell groups 11 and 12 corresponding to the stored data is read out. Make it available.
この構成によれば、不揮発メモリセル23の記憶データ
で読出しデータの選択を行なうので、不揮発メモリセル
の記憶データを読出すときは該記憶データに対応するデ
ータを記憶しているセル群11.12を読出すようにす
れば、上記選択で等測的に不揮発メモリセルの記憶デー
タを読出ずことができる。According to this configuration, read data is selected based on the data stored in the non-volatile memory cell 23, so when reading data stored in the non-volatile memory cell, the cell group 11.12 storing data corresponding to the stored data is selected. By reading out the data stored in the nonvolatile memory cell, the above selection can be made isometrically without reading out the data stored in the nonvolatile memory cell.
この読出しデータの伝送経路は通常の経路であり、不揮
発メモリセルの記憶データのだめの特別の読出し経路、
端子ピンなどを必要としない。This read data transmission path is a normal path, and a special read path for storing data stored in nonvolatile memory cells.
No terminal pins are required.
第2図に本発明の実施例を示す。10はEEFROMの
メモリセルのアレイ (セルマトリクス)、13は該セ
ルマトリクスのワード線選択を行なうローデコーダ、1
5はビット線選択を行なうリートコラムゲート、16は
センスアンプ、17はI10バッファで、読出しデータ
は10−15−16−17の経路で外部へ取出される。FIG. 2 shows an embodiment of the present invention. 10 is an array of EEFROM memory cells (cell matrix); 13 is a row decoder for selecting word lines of the cell matrix; 1;
5 is a read column gate for selecting a bit line, 16 is a sense amplifier, 17 is an I10 buffer, and read data is taken out to the outside through a path 10-15-16-17.
RADDは外部から供給されるローアドレスで、ローア
ドレスバッファ14を経て(該バッファでアドレスの各
ビットとその反転ビットを作られて)ローデコーダ13
へ入力し、ワード線選択に供される。CADDはコラム
アドレスであり、リードコラムアドレスバッファ19を
経てリードコラムデコーダ18に人力し、リードコラム
ゲート15のオンオフ従ってビット線選択を行なう。RADD is a row address supplied from the outside, which is passed through the row address buffer 14 (each bit of the address and its inverted bit is created in the buffer) and then sent to the row decoder 13.
and is used for word line selection. CADD is a column address, which is inputted to the read column decoder 18 via the read column address buffer 19 to turn on/off the read column gate 15 and select a bit line.
CB、OE、WEはチップイネーブル、出力イネーブル
、ライトイネーブル各バーで、コントロールロジック2
5に入力してCB、OE、WE各制御を行なう。24は
昇圧回路、20はワード線昇圧回路で、セルマトリクス
への書込み時にワード線を高電位にする。このメモリで
はライト時とリード時ではコラムゲートを異ならせてあ
り、22はライト時のコラムゲートである。コラムアド
レスCADDはライトコラムアドレスバッファWCAを
経てライトコラムデコーダWCDに入力し、ビット線を
選択させる。ライトデータはI10バッファ17、ライ
トコラムゲート22、ページレジスタ及びビット線昇圧
回路21を通してセルマトリクス10へ送られる。この
メモリは通常の少数ビット例えば1バイト同時書込みの
他、多数ビット例えば64ハイド同時書込みが可能であ
る。多数ビy l−同時書込ののときは、少数ピッI・
ずつ送って回路21のページレジスタPRへ蓄え、多数
ビットが蓄えられたところでこれらを同時に書込む。CB, OE, WE are chip enable, output enable, write enable bars, control logic 2
5 to perform CB, OE, and WE control. 24 is a booster circuit, and 20 is a word line booster circuit, which sets the word line to a high potential when writing to a cell matrix. In this memory, the column gates are different for writing and reading, and 22 is the column gate for writing. Column address CADD is input to write column decoder WCD via write column address buffer WCA to select a bit line. Write data is sent to the cell matrix 10 through the I10 buffer 17, write column gate 22, page register and bit line booster circuit 21. This memory allows simultaneous writing of a large number of bits, for example 64 hides, in addition to the usual simultaneous writing of a small number of bits, for example 1 byte. When writing multiple bits at the same time, write only a few bits.
The bits are sent one by one and stored in the page register PR of the circuit 21, and when a large number of bits have been stored, they are written simultaneously.
またこの種のメモリばE S (Electronic
5iBna−1ure)セル11.12を持っている
。このBSセルには例えば会社コード、デバイスコート
などを書込んでおく。本例ではこれは1ワ一ド線分のメ
モリセル群(マスクROM)で構成され、ESセル1,
2の2群にされている。ESDはこの1ワード線を選択
するデコーダで、高圧検出バッファ29の出力のIlま
たはして、ローアドレスバッファ14とローデコーダ1
3が有効になってセルマトリクス10の通常デコーダ部
が選択、またはローアドレスバッファ14が無効でES
Dが有効になりESセル部が選択、になる。Also, this type of memory is E S (Electronic).
5iBna-1ure) cell 11.12. For example, a company code, device code, etc. are written in this BS cell. In this example, this is composed of a memory cell group (mask ROM) for one word line, and the ES cell 1,
They are divided into two groups. ESD is a decoder that selects this one word line, and as the output Il of the high voltage detection buffer 29, the row address buffer 14 and the row decoder 1
3 is enabled and the normal decoder section of the cell matrix 10 is selected, or the row address buffer 14 is disabled and ES is selected.
D is enabled and the ES cell section is selected.
23が機能制御用の記憶部、本例ではソフトウェア保護
用の不揮発性メモリセルである。ごのメモリセル23へ
の書込みは、ラフ1〜ウエア保8! 用ロジック26に
より制御する。書込み禁止/書込み可だけなら1ビット
あればよく、この場合不揮発メモリセル23はEEPR
OMのメモリセル1個で構成可能である。この不揮発メ
モリセルに書込みを行なうには、通常の如くアドレスと
データを入力しただけではセルマトリクス10へ書込み
が行なわれるだけであるから、アドレスCADD、 R
ADDとI10バッファ17からのデータとで特殊操作
または前処理をする。その操作要領がソフI・ウェア保
護ロジック26にセットされており、該保護ロジ・ンク
26はCADD、 RADD、データを受けてそれらが
所定のものであるとき不揮発メモリセル23への書込み
と判断し、続いて通常の書込みアドレス、書込みデータ
が送られてきたとき、セルマトリクス10の当該アドレ
スへ当該データを書込むと同時に、不揮発メモリセルに
例えばデータ1“書込み禁止”を書込む。Reference numeral 23 denotes a storage section for function control, which in this example is a nonvolatile memory cell for software protection. Writing to the memory cells 23 is from Rough 1 to Wear 8! control by logic 26. If it is only write-protected/write-enabled, 1 bit is sufficient; in this case, the nonvolatile memory cell 23 is EEPR.
It can be configured with one OM memory cell. To write to this nonvolatile memory cell, simply inputting the address and data as usual will only write to the cell matrix 10, so the addresses CADD, R
Perform special operations or preprocessing on ADD and data from I10 buffer 17. The operation procedure is set in the software I/ware protection logic 26, and the protection logic 26 receives the CADD, RADD, and data and determines that writing to the nonvolatile memory cell 23 occurs when the data is predetermined. Then, when a normal write address and write data are sent, the data is written to the corresponding address in the cell matrix 10, and at the same time, data 1 "write prohibited", for example, is written to the nonvolatile memory cell.
このパ書込み禁止゛を詠出すには次のようにする。BS
セル部ば】ワード線分例えば64ハイドのメモリセルが
あり、これらに会社コード、デバイスコードなどが書込
まれている。本発明ではこのESセル部の残りのメモリ
セルを用い、ごれGこソフトウェア保8!!(書込み禁
止)、同保護解除(書込み可)の情報を書込んでおく。To write this write-protection command, do the following: B.S.
In the cell section, there are memory cells of 64 word lines, for example, in which company codes, device codes, etc. are written. In the present invention, the remaining memory cells of this ES cell section are used to store the software. ! (Writing is prohibited) and the protection release (Writable) information is written in advance.
この情報も例えば会社コードなどと同様に、ソフトウェ
ア保護ならその情報コードをES七月川用へ、同保護解
除ならその情報コードをESSセル部へ書込んでおく。This information is also written in the same way as the company code, for example, if the software is to be protected, the information code is written to the ES Nanatsugawa, and if the same protection is to be canceled, the information code is written to the ESS cell section.
64ハイドに対するコラムアドレスはA。The column address for 64 Hyde is A.
〜A5の6ビントでよく、そして不揮発メモリセル23
に” 1 ”が書込まれていると、これを受けてリード
コラムデコーダ18ではA5をOに固定化する。このた
め64パ゛イ1−の読出しデータのうちリードコラムゲ
ートを通過できるのは前半32バイト(BSセル1のデ
ータ)だけであり、こうして上記ソフトウェア保護を表
わす情報コートが読出される。~6 bits of A5 are enough, and non-volatile memory cell 23
When "1" is written in A5, the read column decoder 18 fixes A5 to O in response to this. Therefore, only the first 32 bytes (data of BS cell 1) of the 64 bytes of read data can pass through the read column gate, and thus the information code representing the software protection is read out.
不揮発メモリセル23に書込まれている情報がソフトウ
ェア保護解除゛0′”であれば、これを受けてリードコ
ラムデコーダ18ではA5を1に固定化し、これにより
64ハイドの続出しデータのうちの後半32ハイl−(
ESセル2のデータ)が読出し可能になり、この中のソ
フトウェア保護解除の情報コードが読出される。If the information written in the non-volatile memory cell 23 is software protection release ``0'''', the read column decoder 18 fixes A5 to 1 in response to this, and as a result, among the successive data of 64 hides, Second half 32 high l-(
The data in the ES cell 2 becomes readable, and the software protection release information code therein is read out.
またこの読出しをするときは特殊操作端子A9に通常は
使用しない電圧(5Vに対する12Vなど)を加える。Also, when performing this reading, a voltage that is not normally used (such as 12V versus 5V) is applied to the special operation terminal A9.
このとき高圧検出バッファ29は前述のローアドレスバ
ッファ14等を無効、ESDを有効、にする。At this time, the high voltage detection buffer 29 disables the aforementioned row address buffer 14 etc. and enables ESD.
不揮発メモリセル23に書込み禁止パビが書込まれてい
ると、ソフI司シェア保護ロジック26、コントロール
ロジック25の経路で、セルマトリクス10への書込み
が禁止される。なお、書込め禁止になっていても、特殊
操作(特定のアドレス等)入力)をして書込みを行なう
と、セルフ1ヘリクス10の所望アドレス領域ヘハイト
単位でIl[次又は全(64)ハイド同時書込みを行な
うことができる。If a write prohibition pattern is written in the nonvolatile memory cell 23, writing to the cell matrix 10 is prohibited through the path of the software share protection logic 26 and the control logic 25. Note that even if writing is prohibited, if you perform a special operation (inputting a specific address, etc.) to write, Il [next or all (64) Writing can be performed.
〔発明の効果]
以上説明したように本発明によれば不揮発メモリセル(
メモリ機能制御用記憶部)の記憶データを実質」二読出
すことができ、従来のように実際に書込みなどの当該処
理をして禁止/許可を知る必要がなくなり、便利である
。[Effects of the Invention] As explained above, according to the present invention, nonvolatile memory cells (
It is convenient because the data stored in the memory function control storage unit can be virtually read out, and there is no need to actually perform writing or other relevant processing to know whether it is prohibited or permitted, as in the past.
第1図は本発明の原理図、 第2図は本発明の実施例を示ずブmト7り図である。 Figure 1 is a diagram of the principle of the present invention. FIG. 2 is a schematic diagram showing an embodiment of the present invention.
Claims (1)
報を書込まれたセル群(11、12)を備え、またメモ
リ機能制御用の不揮発メモリセル(23)を備える半導
体記憶素子において、 該不揮発メモリセルに書込むメモリ機能制御用情報を、
前記所定情報を書込まれるセル群の一部に書込んでおき
、 該不揮発メモリセルの記憶情報に従って、前記セル群か
らの読出しデータを選択して、該不揮発メモリセルの記
憶情報を外部へ読出し可能にしてなることを特徴とする
半導体記憶素子。[Claims] 1. A semiconductor comprising a cell group (11, 12) in which predetermined information is written in a cell matrix along its specific word line, and also comprising a nonvolatile memory cell (23) for controlling memory functions. In the memory element, memory function control information to be written to the nonvolatile memory cell is
The predetermined information is written in a part of the cell group to be written, and read data from the cell group is selected according to the storage information of the nonvolatile memory cell, and the storage information of the nonvolatile memory cell is read to the outside. A semiconductor memory element characterized by being made possible.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1123675A JPH02301846A (en) | 1989-05-17 | 1989-05-17 | Semiconductor storage element |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1123675A JPH02301846A (en) | 1989-05-17 | 1989-05-17 | Semiconductor storage element |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02301846A true JPH02301846A (en) | 1990-12-13 |
Family
ID=14866520
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1123675A Pending JPH02301846A (en) | 1989-05-17 | 1989-05-17 | Semiconductor storage element |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02301846A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08329688A (en) * | 1995-05-30 | 1996-12-13 | Nec Corp | Nonvolatile semiconductor storage device |
-
1989
- 1989-05-17 JP JP1123675A patent/JPH02301846A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08329688A (en) * | 1995-05-30 | 1996-12-13 | Nec Corp | Nonvolatile semiconductor storage device |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5890191A (en) | Method and apparatus for providing erasing and programming protection for electrically erasable programmable read only memory | |
US7249231B2 (en) | Semiconductor memory with access protection scheme | |
JPS61267846A (en) | Integrated circuit device with memory | |
US6108235A (en) | Memory device | |
TW201415460A (en) | A non-volatile memory device for which control information may be set from an external source | |
EP3057100B1 (en) | Memory device and operating method of same | |
KR20020025793A (en) | Memory device and memory access control method | |
JP3542637B2 (en) | Current measuring method and microcontroller system | |
US20020174310A1 (en) | Non-volatile memory | |
US6532529B1 (en) | Microcomputer including flash memory overwritable during operation and operating method thereof | |
JP2002015584A (en) | Read/protect circuit for non-volatile memory | |
US6549475B2 (en) | Semiconductor memory device and information device | |
US6556476B1 (en) | Non-volatile memory data protection | |
JP2842442B2 (en) | Microcomputer, nonvolatile semiconductor memory device, and method for writing and erasing the same | |
US5226015A (en) | Semiconductor memory system | |
JP2003051195A (en) | Semiconductor memory device | |
JPH02301846A (en) | Semiconductor storage element | |
JPH05266681A (en) | Eeprom | |
US20200319805A1 (en) | Method for Writing Non-Volatile Memory of System-on-Chip | |
KR100309463B1 (en) | Specific address memory block protection circuit | |
US6987697B2 (en) | Memory device | |
JPS63266562A (en) | Semiconductor integrated circuit | |
JPWO2005101423A1 (en) | Sector protection circuit for nonvolatile semiconductor memory device, sector protection method, and nonvolatile semiconductor memory device | |
JP2503968B2 (en) | Storage device | |
JP2701790B2 (en) | Nonvolatile semiconductor memory device |