JP2699805B2 - 光検出器および光発信器 - Google Patents

光検出器および光発信器

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JP2699805B2
JP2699805B2 JP5112561A JP11256193A JP2699805B2 JP 2699805 B2 JP2699805 B2 JP 2699805B2 JP 5112561 A JP5112561 A JP 5112561A JP 11256193 A JP11256193 A JP 11256193A JP 2699805 B2 JP2699805 B2 JP 2699805B2
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隆一 及川
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は光通信用の光検出器およ
び光発信器に関する。
【0002】
【従来の技術】光通信において、一種類の信号光波長あ
たりの情報転送速度を上げるために、互いに直交する2
つの直線偏光を合成して信号光として用いる方法が提案
あるいは試行されている。この方式においては、偏って
いない信号光を用いた場合や、偏光面を制御していない
場合に比べて、一種類の信号光波長あたり2倍の情報転
送速度が得られる。
【0003】従来例としては例えば図4に示す方式(特
開平第3−140028号公報)がある。これは送信側
では、一個の光源LDからの光を、コリメータレンズC
L,検光子P1 ,ハーフミラーHM1 により互いに直交
する2本の直線偏光の光束に分け、一方の光束はシャッ
ターS2 へ、他方の光束は、1/4波長板W1 ,ミラー
1 ,1/4波長板W2 ,ミラーM2 を経て、シャッタ
ーS1 へ送り、シャッターS1 ,S2 にて開閉制御した
後にハーフミラーHM2 により合成して、2ビットずつ
信号を転送する。受信側ではハーフミラーHM3 で光束
を2本に分けたのち、偏光通過面が互いに直交するよう
に設置された2つの検光子P2 ,P3 をそれぞれ通し
て、2つの光電変換素子PD1 ,PD2 に入射させて2
ビット分の電気信号出力を得る。
【0004】この方式では、シャッター制御が必要な代
わりに、発信光源LDに変調をかける必要がないことを
利点としているが、デジタル変調のかけられた、2個の
光源を用いても同じことができるのは自明である。その
場合は1/4波長板W1 ,W2 とハーフミラーHM1
不要となり、代わりに、検光子は2つの光源の前に1個
ずつ、計2個必要になる。かくして、一種類の信号光波
長あたり2倍の情報転送速度を得ることができる。
【0005】次に、サブバンド間光学遷移を示す超格子
層または多重量子井戸層の端面から信号光を入射させる
タイプの光検出器の従来例としては、図5に示す例(特
開平第2−192769号公報)が挙げられる。すなわ
ち、多数のV字溝を形成したn−基板14上に多重量子
井戸層15をエピタキシャル成長させた構造を備えた素
子である。多重量子井戸層15につづき、クラッド層1
6とn−コンタクト層17が成長され、n−基板14と
n−コンタクト層17にn−電極18が取り付けられた
構造である。多重量子井戸層15の光学励起方向(量子
井戸層に垂直な方向)が2種類あって、それらが互いに
直交しているため、基板端面から入射した直線偏光は、
V字溝の少なくとも一方の斜面の部分の量子井戸に光学
遷移を引き起こす。したがって多重量子井戸層15は全
体としては必ずどこかで光学遷移が起こっているわけで
あり、入射光が偏っていても、偏光面にかかわらず入射
光を検出することができる。これはサブバンド間光学遷
移を示す量子井戸が量子井戸に垂直な電場成分によって
しか光学励起されないという性質を欠点としてとらえた
例である。一方、逆に利点としてとらえれば直線偏光の
振動面あるいは楕円偏光の主軸方向を同定するための受
光素子としての応用が考えられる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】いずれにしても、2つ
以上の直線偏光を合成して信号光として用いる場合、従
来の技術では受信側において、ハーフミラーなどの入射
光を2本の光束に分離する手段と、検光子などの分離し
た2本の光束を直線偏光にする手段と、2つの直線偏光
を電気信号に変換する2つの光電変換素子が必要であ
る。また送信側においても同様に、検光子,ハーフミラ
ー,1/4波長板,シャッター,2個の光源等が必要で
ある。すなわち、多くの部品点数を必要とし、また光電
変換素子と光源を除いては小型化の困難な部品である。
したがって、結果的に部品点数の増大と大型化をまね
く。さらに、ハーフミラーや、検光子を通る間に信号光
強度が減衰するという問題がある。
【0007】これらの問題は、直線偏光が合成された光
束の分解と電気信号への変換を1個の光検出器で行い、
また複数の直線偏光が合成された光束を1個の光発信器
で発生させることができれば解決することができる。そ
のために、本発明では、第1に上に述べたサブバンド間
光学遷移を示す半導体超格子の性質を利用して、超格子
層端面から信号光を入射させる方式の光検出器を採用し
ている。第2に、互いに成長面方向の異なる複数の量子
井戸レーザーを独立に動作させることによって、複数の
直線偏光が合成された光束を発生させる方式を採用して
いる。
【0008】ここで、図5の従来例に示す光検出器が使
えないことは明らかである。まず、V字溝斜面の相対す
る量子井戸層の部分が互いに分離されておらず一体とな
っているため、入射直線偏光の偏光面にかかわらず入射
光を検出してしまう。さらに、効率の悪いことには、V
字溝の角度を90°とすると、片方の斜面の部分の量子
井戸で光学遷移確率が最大の時には、相対するもう一方
の斜面の部分の量子井戸では光学遷移確率が最小にな
る。このことは、量子井戸層のうち、光電変換に寄与す
るのは平均としては全体の半分しかないことを意味す
る。
【0009】本発明の目的は、複数の直線偏光が合成さ
れた光束の分解と電気信号への変換を1個の光検出器で
行うことができる光検出器と、複数の直線偏光が合成さ
れた光束を1個の光発信器で発生させることができる光
発信器を提供し、部品点数が少なく小型で、かつ信号光
損失の小さい光通信システムを構成できるようにするこ
とである。
【0010】本発明の光検出器は、半導体基板上に方向
が互いに交差するように形成された溝の斜面に、サブバ
ンド間光学遷移を示す複数個の半導体超格子が互いに分
離して形成され、前記半導体超格子の半導体基板と反対
側の面に形成される電流印加電極は、前記溝の斜面方向
が同じ場合には互いに並列に接続され、前記溝の斜面方
向が異なる場合には互いに接続されていないことを特徴
とする。
【0011】また本発明の光発信器は、半導体基板上に
方向が互いに交差するように形成された溝の斜面に、複
数個の量子井戸レーザ層が互いに分離して形成され、前
記量子井戸レーザ層の半導体基板と反対側の面に形成さ
れる電流注入電極は、前記溝の斜面方向が同じ場合には
並列に接続され、前記溝の斜面方向が異なる場合には互
いに接続されていないことを特徴とする。
【0012】
【作用】本発明の光検出器においては、サブバンド間光
学遷移を示す複数個の半導体超格子が、少なくとも一組
は成長面方向が互いに交差して設置され、かつ成長面方
向が互いに交差する半導体超格子同士は、成長開始面ま
たは成長終了面のうち、少なくとも一方が互いに電気的
に分離されている。成長面方向が相交差する半導体超格
子はそれぞれ異なる振動面の直線偏光成分に対して応答
を示すから、応答信号をそれぞれ独立に取り出すことに
よって、複数の直線偏光が合成された光束の分解と電気
信号への変換を1個の光検出器で行うことができる。ま
たこのとき、半導体超格子の光学励起方向すなわち成長
面の垂線方向は合成前の直線偏光の振動面に合わせ込ん
でおくことを前提としているので、高い効率で光電変換
が可能である。
【0013】また、本発明の光発信器においては、複数
個の量子井戸レーザー層が、少なくとも一組は成長面方
向が互いに交差して設置され、かつ成長面方向が互いに
交差する量子井戸レーザー層同士は、2つの電流注入面
のうち、少なくとも一方が互いに電気的に分離されてい
る。したがって、成長面方向が相交差する量子井戸レー
ザー層をそれぞれ独立に動作させることによって、複数
の直線偏光が合成された光束を1個の光発信器で行うこ
とができる。
【0014】以下、本発明の原理について図1、図2を
用いて説明する。
【0015】図2(a)に示すように、光検出器の場合
半絶縁性GaAs基板1にn−GaAsバッファー層
2を介してAlGaAs/GaAs超格子層3をエピタ
キシャル成長させ、引き続きn−AlGaAsクラッド
層4、およびn−GaAsコンタクト層5を成長させた
後、AuGeNi電極6を取り付ける部分はAlGaA
s/GaAs超格子層3から上方を、その他の部分はn
−GaAsバッファー層2から上方をメサ型に加工して
バイアス電流印加・信号電圧読みとり用のAuGeNi
電極6を取り付けた構造を単位構造とする。この単位構
造を図1に示すように複数枚(図1の例では4枚)接着
剤等で機械的に張り合わせて1個の光検出器を形成す
る。図1に示すように半絶縁性GaAs基板同士を接合
するように張り合わせるので、成長面方向が互いに交差
する超格子同士は電気的に絶縁され、独立に動作させら
れる。
【0016】光発信器の場合は図2(b)に示すよう
に、半絶縁性GaAs基板1にn−GaAsバッファー
層2を介してAlGaAs/GaAs量子井戸レーザー
層7をエピタキシャル成長させ、引き続き、p−GaA
sコンタクト層8を成長させた後、AuGeNi電極6
を取り付ける部分はAlGaAs/GaAs量子井戸レ
ーザー層7から上方を、その他の部分はn−GaAsバ
ッファー層2から上方をメサ型に加工して、電流注入用
のAuGeNi電極6およびAu/Ti電極9を取り付
けた構造を単位構造とする。この単位構造を、光受信器
の場合と同様、図1のように半絶縁性GaAs基板同士
を接合するように張り合わせる。成長面方向が互いに交
差する量子井戸レーザー層同士は電気的に絶縁されるの
で、独立に動作させられる。
【0017】なお、AlGaAs/GaAs超格子層3
およびAlGaAs/GaAs量子井戸レーザー層7の
メサ側面でのキャリアの消滅による感度低下や発光強度
の低下を防ぐため、表面保護膜を形成する。
【0018】図1の受光素子に半絶縁性GaAs基板1
の端面方向から信号光を入射すると、紙面を正位置にみ
て水平方向のAlGaAs/GaAs超格子層は振動方
向が垂直な直線偏光成分に応答し、紙面に向かって垂直
方向のAlGaAs/GaAs超格子層は振動方向が水
平な直線偏光成分に応答するので、それぞれの超格子層
の垂線方向を信号光の振動方向に一致させておくことに
より、振動方向が互いに直交する2つの直線偏光が合成
された信号光の分離と電気信号への変換を同時に1個の
光検出器で行うことができる。
【0019】また、図2(b)の単位構造を図1のよう
に張り合わせた発光素子では、紙面を正位置にみて水平
方向と垂直方向のAlGaAs/GaAs量子井戸レー
ザー層をそれぞれ独立に動作させることができるので、
振動方向が互いに直交する2つの直線偏光が合成された
信号光の発生を、1個の光発信器で行うことができる。
【0020】
【実施例】以下、本発明の実施例を図3に示す構造を用
いて説明する。まず光検出器は次のように構成する。
【0021】n−GaAs基板10上に形成された直角
をなす多数のV字溝11上にn−GaAsバッファー層
2、AlGaAs/GaAs超格子層3およびn−Ga
Asコンタクト層5がエピタキシャル成長され、V字溝
11の頂上部と底部のエピタキシャル層がエッチング除
去され、続いて絶縁性クラッド層12が形成された構造
をとる。バイアス電流印加・読みだしAuGeNi電極
6の一方はn−GaAs基板10に取り付けられ、他方
のAuGeNi電極6は図3の断面図に示すように絶縁
性クラッド層12に開口されたコンタクトホール13を
通してn−GaAsコンタクト層5に接続される。この
とき、AuGeNi電極6は図3に示すように、同じ方
向のV字溝11の斜面のn−GaAsコンタクト層5が
全て互いに接続され、異なる方向のV字溝11の斜面の
n−GaAsコンタクト層5とは接続されないように形
成される。すなわち、成長面方向が異なる超格子同士は
成長面のGaAsバッファー層2の側を除いては絶縁さ
れているので、V字溝11の相異なる斜面に形成された
超格子同士はそれぞれ異なる受光素子として独立に動作
させることができる。この検出器にn−GaAs基板1
0の端面方向から、振動面が互いに垂直な2つの直線偏
光を合成した信号光を入射すると、第1の実施例の場合
と同様に、信号光の分離と電気信号への変換を同時に1
個の光検出器で行うことができる。ただし、第1の実施
例の場合同様、それぞれの超格子層の垂線方向を信号光
の振動方向に一致させておくものとする。
【0022】一方、光発信器は、図3において、AlG
aAs/GaAs超格子層3をAlGaAs/GaAs
量子井戸レーザー層7で、n−GaAsコンタクト層5
をp−GaAsコンタクト層8で、コンタクトホール上
のAuGeNi電極6をAu/Ti電極9で、それぞれ
置き換えることによって得られる。V字溝11の相異な
る斜面の量子井戸レーザーを、それぞれ独立に動作させ
ることによって、振動面が互いに垂直な2つの直線偏光
を合成した信号光の発生を1個の光発信器で行うことが
できる。
【0023】以上に示した実施例においては超格子系と
してAlGaAs/GaAs系を用いているが、これに
限るものではない。使用する波長帯に合わせて適当な系
を選択すればよい。この際選択する超格子系は1種類で
ある必要はなく、サブバンド間準位の異なる複数種類の
半導体超格子を組み合わせてもよい。そうすることによ
って、複数の入射光波長に対応することができる。同様
に量子井戸レーザーもAlGaAs/GaAs系に限る
ものではなく、発信したい波長に合わせて適当な系を選
択することができるし、複数種類の量子井戸から構成さ
れていてもよい。
【0024】また、本発明の光検出器を用いて光通信シ
ステムを構成するにあたっては、超格子面の垂線と合成
前の直線偏光の振動面を一致させるために、光の入射方
向に平行で超格子面を含む軸の回りに本発明の光検出器
を回転させる機構を付加しておくとよい。受信出力が最
大となる回転位置を自動追尾して設定する機構を付加し
ておけばなお便利である。また送受信の方式として、受
信側で分離した信号の区別ができるように、送信側で少
なくとも1つの直線偏光に識別信号を挿入したり送信出
力に大小の区別をつけると、光受信器の回転位置の決定
が容易になる。
【0025】
【発明の効果】本発明によれば、直線偏光の分解・合成
にハーフミラーや検光子を必要とせず、また、複数の光
電変換素子や複数の発光素子を必要としないので、信号
強度の低下が防がれ、また部品点数が少なく、小型の光
通信システムを構成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の原理を説明するための図である。
【図2】本発明の原理を説明するための図である。
【図3】本発明の実施例を説明するための図である。
【図4】従来の光通信方式を説明する図である。
【図5】従来の光検出器を説明する図である。
【符号の説明】
1 半絶縁性GaAs基板 2 n−GaAsバッファー層 3 AlGaAs/GaAs超格子層 4 n−AlGaAsクラッド層 5 n−GaAsコンタクト層 6 AuGeNi電極 7 AlGaAs/GaAs量子井戸レーザー層 8 p−GaAsコンタクト層 9 Au/Ti電極 10 n−GaAs基板 11 V字溝 12 絶縁性クラッド層 13 コンタクトホール 14 n−基板 15 多重量子井戸層 16 クラッド層 17 n−コンタクト層 18 n−電極

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】半導体基板上に方向が互いに交差するよう
    に形成された溝の斜面に、サブバンド間光学遷移を示す
    複数個の半導体超格子が互いに分離して形成され、前記
    半導体超格子の半導体基板と反対側の面に形成される電
    流印加電極は、前記溝の斜面方向が同じ場合には互いに
    並列に接続され、前記溝の斜面方向が異なる場合には互
    いに接続されていないことを特徴とする光検出器。
  2. 【請求項2】半導体基板上に方向が互いに交差するよう
    に形成された溝の斜面に、複数個の量子井戸レーザ層が
    互いに分離して形成され、前記量子井戸レーザ層の半導
    体基板と反対側の面に形成される電流注入電極は、前記
    溝の斜面方向が同じ場合には並列に接続され、前記溝の
    斜面方向が異なる場合には互いに接続されていないこと
    を特徴とする光発信器。
JP5112561A 1993-05-14 1993-05-14 光検出器および光発信器 Expired - Lifetime JP2699805B2 (ja)

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TWI427824B (zh) * 2008-03-14 2014-02-21 Asahi Kasei Emd Corp 紅外線發光元件

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JPH01155675A (ja) * 1987-12-14 1989-06-19 Canon Inc 半導体レーザー装置
FR2688964B1 (fr) * 1992-03-23 1995-03-03 France Telecom Photorecepteur en onde guidee a base de puits quantiques de materiaux semiconducteurs, notamment pour systeme de communication coherent en diversite de polarisation.

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