JP2687811B2 - エーテル類の製造法 - Google Patents
エーテル類の製造法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は医薬などの合成中間体と
なるエーテル類の工業的有利な製造法に関する。
なるエーテル類の工業的有利な製造法に関する。
【０００２】
【従来技術】分子内にフェノールエーテル結合を有する
化合物として、たとえば血糖および血中脂質低下作用を
有するチアゾリジンジオン誘導体が知られている（特開
昭５５−２２６３６，特開昭５５−６４５８６）。それ
らの記載によれば２−ピリジルエタノール類を出発原料
とし、これらとｐ−フルオロニトロベンゼンとのベンゼ
ン環上での置換反応によってフェノールエーテル結合を
形成、つづいてニトロ基の還元、メアバインアシレーシ
ョン（Ｍｅｅｒｗｅｉｎ ａｃｙｌａｔｉｏｎ）反応の
後、チアゾリジン環を構築して目的とするチアゾリジン
ジオン誘導体を製造している。しかし、フェノールエー
テル結合形成反応に用いられるｐ−フルオロニトロベン
ゼンは、高価であるとともに工業的に大量に入手するこ
とが困難であり、また反応生成物のニトロ基を炭素鎖に
変換してチアゾリジンジオン環を構築するにあたり多く
の工程数を必要とし、工業的に有利な製造法とは言い難
い。一方、工業的に有利な製造法として２−ピリジルエ
タノール類をトシル化後、これとｐ−ヒドロキシベンツ
アルデヒドとのウィリアムソン（Ｗｉｌｌｉａｍｓｏ
ｎ）合成法によってフェノールエーテル合成を行い、
２，４−チアゾリジンジオン誘導体を製造する方法が知
られている（特開昭６３−１３９１８２）。この方法
は、前述のチアゾリジンジオン誘導体の製造法に比べ
て、工程数が少なく、比較的高収率で目的とするチアゾ
リジンジオン誘導体が得られるが、このルートの一工程
であるウィリアムソン合成法は副生物が多く、目的とす
る生成物との分離が厄介である。
化合物として、たとえば血糖および血中脂質低下作用を
有するチアゾリジンジオン誘導体が知られている（特開
昭５５−２２６３６，特開昭５５−６４５８６）。それ
らの記載によれば２−ピリジルエタノール類を出発原料
とし、これらとｐ−フルオロニトロベンゼンとのベンゼ
ン環上での置換反応によってフェノールエーテル結合を
形成、つづいてニトロ基の還元、メアバインアシレーシ
ョン（Ｍｅｅｒｗｅｉｎ ａｃｙｌａｔｉｏｎ）反応の
後、チアゾリジン環を構築して目的とするチアゾリジン
ジオン誘導体を製造している。しかし、フェノールエー
テル結合形成反応に用いられるｐ−フルオロニトロベン
ゼンは、高価であるとともに工業的に大量に入手するこ
とが困難であり、また反応生成物のニトロ基を炭素鎖に
変換してチアゾリジンジオン環を構築するにあたり多く
の工程数を必要とし、工業的に有利な製造法とは言い難
い。一方、工業的に有利な製造法として２−ピリジルエ
タノール類をトシル化後、これとｐ−ヒドロキシベンツ
アルデヒドとのウィリアムソン（Ｗｉｌｌｉａｍｓｏ
ｎ）合成法によってフェノールエーテル合成を行い、
２，４−チアゾリジンジオン誘導体を製造する方法が知
られている（特開昭６３−１３９１８２）。この方法
は、前述のチアゾリジンジオン誘導体の製造法に比べ
て、工程数が少なく、比較的高収率で目的とするチアゾ
リジンジオン誘導体が得られるが、このルートの一工程
であるウィリアムソン合成法は副生物が多く、目的とす
る生成物との分離が厄介である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、医薬などの
合成中間体となり得るエーテル類の工業的有利な製造法
を提供するものである。
合成中間体となり得るエーテル類の工業的有利な製造法
を提供するものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、非水系溶媒
中、一般式 Ａ−ＣＨ2ＣＨ2−Ｘ （Ｉ） 《式中、Ａは芳香環残基，Ｒ1−ＣＯ−（式中、Ｒ1は脂
肪族炭化水素残基，芳香族炭化水素残基，異項環残基，
芳香脂肪族炭化水素残基または脂環族炭化水素残基を示
す。）またはＲ2−ＣＨ＝ＣＨ−（式中、Ｒ2は脂肪族炭
化水素残基，芳香族炭化水素残基，異項環残基，芳香脂
肪族炭化水素残基または脂環族炭化水素残基を示す。）
で示される基を、Ｘは脱離基を示す。》で表される化合
物と、一般式 ＭＯ−Ｂ （II） （式中、Ｍはアルカリ金属原子またはアルカリ土類金属
原子を、Ｂは芳香環残基を示す。）で表される化合物と
を反応させることを特徴とする一般式 Ａ−ＣＨ2ＣＨ2−Ｏ−Ｂ （III） （式中、ＡおよびＢは前記と同意義である。）で表され
るエーテル化合物の製造法である。
中、一般式 Ａ−ＣＨ2ＣＨ2−Ｘ （Ｉ） 《式中、Ａは芳香環残基，Ｒ1−ＣＯ−（式中、Ｒ1は脂
肪族炭化水素残基，芳香族炭化水素残基，異項環残基，
芳香脂肪族炭化水素残基または脂環族炭化水素残基を示
す。）またはＲ2−ＣＨ＝ＣＨ−（式中、Ｒ2は脂肪族炭
化水素残基，芳香族炭化水素残基，異項環残基，芳香脂
肪族炭化水素残基または脂環族炭化水素残基を示す。）
で示される基を、Ｘは脱離基を示す。》で表される化合
物と、一般式 ＭＯ−Ｂ （II） （式中、Ｍはアルカリ金属原子またはアルカリ土類金属
原子を、Ｂは芳香環残基を示す。）で表される化合物と
を反応させることを特徴とする一般式 Ａ−ＣＨ2ＣＨ2−Ｏ−Ｂ （III） （式中、ＡおよびＢは前記と同意義である。）で表され
るエーテル化合物の製造法である。
【０００５】上記一般式（Ｉ）および（III）中、Ａで
示される芳香環残基としては芳香族炭化水素残基および
芳香族異項環残基があげられ、該芳香族炭化水素残基と
しては、たとえばフェニル基，ナフチル基が、また該芳
香族異項環残基としては酸素原子，硫黄原子，窒素原子
の１ないし４個を環構成原子とするたとえばフリル基
（２−フリル，３−フリル），チエニル基（２−チエニ
ル，３−チエニル），ピリジル基（２−ピリジル，３−
ピリジル，４−ピリジル），チアゾリル（２−チアゾリ
ル，４−チアゾリル，５−チアゾリル），トリアゾリル
（１，２，４−トリアゾル−１−イル，１，２，３−ト
リアゾル−１−イル，１，３，４−トリアゾル−１−イ
ル，１，２，５−トリアゾル−１−イル），テトラゾリ
ル（１−テトラゾリル，５−テトラゾリル）などが挙げ
られる。これらの基は（III）式中−Ｏ−Ｂ基のβ−脱
離を引き起こし、共鳴安定化構造をとりやすくするもの
である。これらの芳香環残基はその環上の任意の位置に
置換基を有していてもよく、該置換基としては、本反応
に悪影響を及ぼさないものであればいかなるものでもよ
く、たとえばメチル，エチル，ｎ−プロピル，ｉ−プロ
ピル，ｎ−ブチル，ｉ−ブチル，ｔ−ブチル，ｎ−ペン
チル，ｉ−ペンチル，ネオペンチル，ｎ−ヘキシルなど
の炭素数１〜６のアルキル基、好ましくは炭素数１〜３
のもの、たとえばメトキシ，エトキシ，ｎ−プロポキ
シ，ｉ−プロポキシ，ｎ−ブトキシ，ｉ−ブトキシ，ｔ
−ブトキシなど炭素数１〜４のアルコキシ基、好ましく
は炭素数１〜３のもの、たとえばフッ素，塩素，臭素な
どのハロゲン原子、たとえばホルミルオキシ，アセチル
オキシ，プロピオニルオキシ，ブチリルオキシ，イソブ
チリルオキシ，ピバロイルオキシ，ヘキサノイルオキシ
などの炭素数６以下のアルカノイルオキシ基、たとえば
ベンゾイルオキシ，１−ナフトイルオキシなどのアリー
ルカルボニルオキシ基、たとえばメトキシカルボニルオ
キシ，エトキシカルボニルオキシなどの炭素数２〜５の
アルコキシカルボニルオキシ基などが挙げられる。
示される芳香環残基としては芳香族炭化水素残基および
芳香族異項環残基があげられ、該芳香族炭化水素残基と
しては、たとえばフェニル基，ナフチル基が、また該芳
香族異項環残基としては酸素原子，硫黄原子，窒素原子
の１ないし４個を環構成原子とするたとえばフリル基
（２−フリル，３−フリル），チエニル基（２−チエニ
ル，３−チエニル），ピリジル基（２−ピリジル，３−
ピリジル，４−ピリジル），チアゾリル（２−チアゾリ
ル，４−チアゾリル，５−チアゾリル），トリアゾリル
（１，２，４−トリアゾル−１−イル，１，２，３−ト
リアゾル−１−イル，１，３，４−トリアゾル−１−イ
ル，１，２，５−トリアゾル−１−イル），テトラゾリ
ル（１−テトラゾリル，５−テトラゾリル）などが挙げ
られる。これらの基は（III）式中−Ｏ−Ｂ基のβ−脱
離を引き起こし、共鳴安定化構造をとりやすくするもの
である。これらの芳香環残基はその環上の任意の位置に
置換基を有していてもよく、該置換基としては、本反応
に悪影響を及ぼさないものであればいかなるものでもよ
く、たとえばメチル，エチル，ｎ−プロピル，ｉ−プロ
ピル，ｎ−ブチル，ｉ−ブチル，ｔ−ブチル，ｎ−ペン
チル，ｉ−ペンチル，ネオペンチル，ｎ−ヘキシルなど
の炭素数１〜６のアルキル基、好ましくは炭素数１〜３
のもの、たとえばメトキシ，エトキシ，ｎ−プロポキ
シ，ｉ−プロポキシ，ｎ−ブトキシ，ｉ−ブトキシ，ｔ
−ブトキシなど炭素数１〜４のアルコキシ基、好ましく
は炭素数１〜３のもの、たとえばフッ素，塩素，臭素な
どのハロゲン原子、たとえばホルミルオキシ，アセチル
オキシ，プロピオニルオキシ，ブチリルオキシ，イソブ
チリルオキシ，ピバロイルオキシ，ヘキサノイルオキシ
などの炭素数６以下のアルカノイルオキシ基、たとえば
ベンゾイルオキシ，１−ナフトイルオキシなどのアリー
ルカルボニルオキシ基、たとえばメトキシカルボニルオ
キシ，エトキシカルボニルオキシなどの炭素数２〜５の
アルコキシカルボニルオキシ基などが挙げられる。
【０００６】Ａで示されるＲ1−ＣＯ−およびＲ2−ＣＨ
＝ＣＨ−中、Ｒ1，Ｒ2で示される脂肪族炭化水素残基と
しては、たとえばメチル，エチル，ｎ−プロピル，ｉ−
プロピル，ｎ−ブチル，ｉ−ブチル，ｔ−ブチル，ｎ−
ペンチル，ｉ−ペンチル，ネオペンチル，ｎ−ヘキシル
などの炭素数１〜６のアルキル基、好ましくは炭素数１
〜３のもの、たとえばビニル，アリルなど炭素数５以下
のアルケニル基が挙げられる。Ｒ1，Ｒ2で示される芳香
族炭化水素残基としてはたとえばフェニル，ナフチルな
どが、芳香脂肪族炭化水素残基としてはたとえばベンジ
ル，フェネチル，ナフチルメチル，ナフチルエチルなど
が挙げられる。また異項環残基としてはＡで示される芳
香環残基の中の芳香族異項環残基の他にたとえばテトラ
ヒドロフラニル，ジヒドロフラニル，テトラヒドロチエ
ニル，ジヒドロチエニル，テトラヒドロピラニル，ジヒ
ドロピラニル，ピペリジニル，モルホリニル，ピロリジ
ニル，ピペラジニル，Ｎ−メチルピペラジニルなどが挙
げられる。これら芳香族炭化水素残基，異項環残基およ
び芳香脂肪族炭化水素残基は環上の任意の位置に置換基
を有していてもよく、該置換基としてはＡで示される芳
香環残基の置換基と同様のものが挙げられる。Ｒ1，Ｒ2
で示される脂環族炭化水素残基としてはたとえばシクロ
プロピル基，シクロブチル基，シクロペンチル基，シク
ロヘキシル基などの炭素数３〜７のシクロアルキル基が
挙げられる。
＝ＣＨ−中、Ｒ1，Ｒ2で示される脂肪族炭化水素残基と
しては、たとえばメチル，エチル，ｎ−プロピル，ｉ−
プロピル，ｎ−ブチル，ｉ−ブチル，ｔ−ブチル，ｎ−
ペンチル，ｉ−ペンチル，ネオペンチル，ｎ−ヘキシル
などの炭素数１〜６のアルキル基、好ましくは炭素数１
〜３のもの、たとえばビニル，アリルなど炭素数５以下
のアルケニル基が挙げられる。Ｒ1，Ｒ2で示される芳香
族炭化水素残基としてはたとえばフェニル，ナフチルな
どが、芳香脂肪族炭化水素残基としてはたとえばベンジ
ル，フェネチル，ナフチルメチル，ナフチルエチルなど
が挙げられる。また異項環残基としてはＡで示される芳
香環残基の中の芳香族異項環残基の他にたとえばテトラ
ヒドロフラニル，ジヒドロフラニル，テトラヒドロチエ
ニル，ジヒドロチエニル，テトラヒドロピラニル，ジヒ
ドロピラニル，ピペリジニル，モルホリニル，ピロリジ
ニル，ピペラジニル，Ｎ−メチルピペラジニルなどが挙
げられる。これら芳香族炭化水素残基，異項環残基およ
び芳香脂肪族炭化水素残基は環上の任意の位置に置換基
を有していてもよく、該置換基としてはＡで示される芳
香環残基の置換基と同様のものが挙げられる。Ｒ1，Ｒ2
で示される脂環族炭化水素残基としてはたとえばシクロ
プロピル基，シクロブチル基，シクロペンチル基，シク
ロヘキシル基などの炭素数３〜７のシクロアルキル基が
挙げられる。
【０００７】前記一般式（Ｉ）中、Ｘで示される脱離基
としてはたとえばハロゲン（塩素，臭素，ヨウ素な
ど），アルキルスルホニルオキシ基（メチルスルホニル
オキシ，エチルスルホニルオキシ，プロピルスルホニル
オキシなど炭素数１〜３のもの），アリールスルホニル
オキシ（フェニルスルホニルオキシ，ｐ−トルエンスル
ホニルオキシなどなど炭素数６〜８のもの）が挙げられ
るが、なかでもアリールスルホニルオキシ基またはアル
キルスルホニルオキシ基が好ましい。前記一般式（II）
中、Ｍで示されるアルカリ金属原子としては、たとえば
カリウム，ナトリウム，リチウムなどが、アルカリ土類
金属原子としてはたとえばマグネシウム，カルシウム，
ストロンチウム，バリウムなどが挙げられる。前記一般
式（II）および（III）中、Ｂで示される芳香環残基と
してはＡで示される芳香環残基と同様なものが挙げられ
る。またこれらの置換基としてはＡで示される芳香環残
基の置換基の他にたとえばアルデヒドなどが挙げられ
る。
としてはたとえばハロゲン（塩素，臭素，ヨウ素な
ど），アルキルスルホニルオキシ基（メチルスルホニル
オキシ，エチルスルホニルオキシ，プロピルスルホニル
オキシなど炭素数１〜３のもの），アリールスルホニル
オキシ（フェニルスルホニルオキシ，ｐ−トルエンスル
ホニルオキシなどなど炭素数６〜８のもの）が挙げられ
るが、なかでもアリールスルホニルオキシ基またはアル
キルスルホニルオキシ基が好ましい。前記一般式（II）
中、Ｍで示されるアルカリ金属原子としては、たとえば
カリウム，ナトリウム，リチウムなどが、アルカリ土類
金属原子としてはたとえばマグネシウム，カルシウム，
ストロンチウム，バリウムなどが挙げられる。前記一般
式（II）および（III）中、Ｂで示される芳香環残基と
してはＡで示される芳香環残基と同様なものが挙げられ
る。またこれらの置換基としてはＡで示される芳香環残
基の置換基の他にたとえばアルデヒドなどが挙げられ
る。
【０００８】本発明の方法においては、化合物（Ｉ）と
化合物（II）との反応は非水系溶媒中で行われる。該非
水系溶媒は実質的に水を含まない有機溶媒、より具体的
には水含量が５％以下、好ましくは３％以下の有機溶媒
を言う。その例としてはたとえばメタノール，エタノー
ル，プロパノール，イソプロパノール，ブタノール，イ
ソブタノール，ｔ−ブタノールなどのアルコール類、ア
セトン，メチルエチルケトン，ジエチルケトン，メチル
イソブチルケトンなどのケトン類、ジオキサン、テトラ
ヒドロフランなどのエーテル類、ジクロルエタン、クロ
ロホルムなどの脂肪族ハロゲン化炭化水素類、アセトニ
トリル，Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド，ジメチルスル
ホキシド，ヘキサメチルスルホスホラストリアミドなど
が挙げられ、これらは単独あるいは混合溶媒として用い
ることができるが、とりわけアルコール類，ケトン類，
エーテル類，アセトニトリル，Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド，ジメチルスルホキシド，ヘキサメチルホスホラ
ストリアミドなどの親水性のものが好ましい。溶媒の使
用量は化合物（Ｉ）に対し５〜３０重量倍、好ましくは
１０〜１５重量倍である。該非水系溶媒は水の含有量が
少ないものがよいが、５％以下であれば実質的には差し
支えない。非水系溶媒が多くの水を含む場合には化合物
（II）の水和物形成および解離によって収率が悪く好ま
しくない。化合物（II）の使用量は化合物（Ｉ）に対
し、通常、過剰モル用いられ、好ましくは１．５〜２モ
ルである。反応温度は室温ないし溶媒の還流温度まで可
能であるが、化合物（Ｉ）は構造上β脱離反応を起こし
やすいため、β−脱離反応と反応時間との関係から５０
〜１２０℃が好ましく、７０〜９０℃がさらに好まし
い。反応時間は反応温度などの反応条件によって異なる
が、たとえば反応温度が５０〜１２０℃の場合は通常１
〜１５時間、７０〜９０℃の場合は通常３〜６時間であ
る。
化合物（II）との反応は非水系溶媒中で行われる。該非
水系溶媒は実質的に水を含まない有機溶媒、より具体的
には水含量が５％以下、好ましくは３％以下の有機溶媒
を言う。その例としてはたとえばメタノール，エタノー
ル，プロパノール，イソプロパノール，ブタノール，イ
ソブタノール，ｔ−ブタノールなどのアルコール類、ア
セトン，メチルエチルケトン，ジエチルケトン，メチル
イソブチルケトンなどのケトン類、ジオキサン、テトラ
ヒドロフランなどのエーテル類、ジクロルエタン、クロ
ロホルムなどの脂肪族ハロゲン化炭化水素類、アセトニ
トリル，Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド，ジメチルスル
ホキシド，ヘキサメチルスルホスホラストリアミドなど
が挙げられ、これらは単独あるいは混合溶媒として用い
ることができるが、とりわけアルコール類，ケトン類，
エーテル類，アセトニトリル，Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド，ジメチルスルホキシド，ヘキサメチルホスホラ
ストリアミドなどの親水性のものが好ましい。溶媒の使
用量は化合物（Ｉ）に対し５〜３０重量倍、好ましくは
１０〜１５重量倍である。該非水系溶媒は水の含有量が
少ないものがよいが、５％以下であれば実質的には差し
支えない。非水系溶媒が多くの水を含む場合には化合物
（II）の水和物形成および解離によって収率が悪く好ま
しくない。化合物（II）の使用量は化合物（Ｉ）に対
し、通常、過剰モル用いられ、好ましくは１．５〜２モ
ルである。反応温度は室温ないし溶媒の還流温度まで可
能であるが、化合物（Ｉ）は構造上β脱離反応を起こし
やすいため、β−脱離反応と反応時間との関係から５０
〜１２０℃が好ましく、７０〜９０℃がさらに好まし
い。反応時間は反応温度などの反応条件によって異なる
が、たとえば反応温度が５０〜１２０℃の場合は通常１
〜１５時間、７０〜９０℃の場合は通常３〜６時間であ
る。
【０００９】本反応の目的化合物は反応液を公知の分離
精製手段に付すことによって目的とする化合物（III）
を単離精製することができるが、反応液中の目的物（II
I）の含量が高いためそのまま次工程の反応に用いるこ
ともできる。前記一般式（Ｉ）で表される化合物はたと
えば一般式 Ａ−ＣＨ2ＣＨ2−ＯＨ （IV） （式中、Ａは前記と同意義である。）で表される化合物
にハロゲン化剤またはスルホニルハライドを反応させる
ことにより製造することができる。ハロゲン化剤として
はたとえば塩化チオニル，オキシ塩化リン，三臭化リン
などが挙げられ、スルホニルハライドとしてはたとえば
メタンスルホニルクロライド，エタンスルホニルクロラ
イド，プロパンスルホニルブロマイドなどの炭素数１〜
４のアルカンスルホニルハライド、たとえばベンゼンス
ルホニルクロライド，ｐ−トルエンスルホニルクロライ
ド，ｐ−トルエンスルホニルブロマイドなどの炭素数６
〜８のアレーンスルホニルハライドが挙げられる。なか
でもアルカン−およびアレーン−スルホニルハライドが
好ましい。ハロゲン化剤またはスルホニルハライド類の
使用量は化合物（IV）に対し１〜３倍モル、好ましくは
１〜１．２倍モルである。
精製手段に付すことによって目的とする化合物（III）
を単離精製することができるが、反応液中の目的物（II
I）の含量が高いためそのまま次工程の反応に用いるこ
ともできる。前記一般式（Ｉ）で表される化合物はたと
えば一般式 Ａ−ＣＨ2ＣＨ2−ＯＨ （IV） （式中、Ａは前記と同意義である。）で表される化合物
にハロゲン化剤またはスルホニルハライドを反応させる
ことにより製造することができる。ハロゲン化剤として
はたとえば塩化チオニル，オキシ塩化リン，三臭化リン
などが挙げられ、スルホニルハライドとしてはたとえば
メタンスルホニルクロライド，エタンスルホニルクロラ
イド，プロパンスルホニルブロマイドなどの炭素数１〜
４のアルカンスルホニルハライド、たとえばベンゼンス
ルホニルクロライド，ｐ−トルエンスルホニルクロライ
ド，ｐ−トルエンスルホニルブロマイドなどの炭素数６
〜８のアレーンスルホニルハライドが挙げられる。なか
でもアルカン−およびアレーン−スルホニルハライドが
好ましい。ハロゲン化剤またはスルホニルハライド類の
使用量は化合物（IV）に対し１〜３倍モル、好ましくは
１〜１．２倍モルである。
【００１０】この反応は通常溶媒中塩基の存在下で行わ
れ、該溶媒としては、たとえばジクロロエタン，クロロ
ホルムなどの脂肪族ハロゲン化炭化水素、テトラヒドロ
フラン，ジオキサンなどのエーテル類、アセトン，メチ
ルエチルケトンなどのケトン類、アセトニトリル，Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミドまたはこれらと水との混合溶
媒が挙げられ、該塩基としては、たとえばトリエチルア
ミン，トリプロピルアミン，トリブチルアミン，ピリジ
ンなどの第三級アミン類、たとえば水酸化ナトリウム，
水酸化カリウムなどのアルカリ金属の水酸化物、たとえ
ば炭酸ナトリウム，炭酸カリウムなどのアルカリ金属の
炭酸塩の他水素化ナトリウム，酢酸ナトリウムなどが挙
げられる。塩基の使用量は化合物（IV）に対し１〜３倍
モル、好ましくは１〜１．２倍モルである。この反応は
通常０〜４０℃で行われるが、好ましくは０〜２５℃で
ある。反応時間は通常０．５〜５時間である。
れ、該溶媒としては、たとえばジクロロエタン，クロロ
ホルムなどの脂肪族ハロゲン化炭化水素、テトラヒドロ
フラン，ジオキサンなどのエーテル類、アセトン，メチ
ルエチルケトンなどのケトン類、アセトニトリル，Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミドまたはこれらと水との混合溶
媒が挙げられ、該塩基としては、たとえばトリエチルア
ミン，トリプロピルアミン，トリブチルアミン，ピリジ
ンなどの第三級アミン類、たとえば水酸化ナトリウム，
水酸化カリウムなどのアルカリ金属の水酸化物、たとえ
ば炭酸ナトリウム，炭酸カリウムなどのアルカリ金属の
炭酸塩の他水素化ナトリウム，酢酸ナトリウムなどが挙
げられる。塩基の使用量は化合物（IV）に対し１〜３倍
モル、好ましくは１〜１．２倍モルである。この反応は
通常０〜４０℃で行われるが、好ましくは０〜２５℃で
ある。反応時間は通常０．５〜５時間である。
【００１１】本発明の反応は種々の化合物の合成に用い
ることができるが、その一例を示す。一般式（Ｉ）中、
Ａが５−エチル−２−ピリジル基である化合物と一般式
（II）中Ｂがｐ−位にホルミル基を有するフェニル基で
ある化合物を本発明の方法によって反応させると、４−
［２−（５−エチル−２−ピリジル）エトキシ］ベンズ
アルデヒドが得られる。これと２，４−チアゾリジンジ
オンを適当な塩基の存在下クノエヴェナーゲル（Ｋｎｏ
ｅｖｅｎａｇｅｌ）反応に付すことにより５−［４−
［２−（５−エチル−２−ピリジル）エトキシ］ベンジ
リデン］−２，４−チアゾリジンジオンが得られ、さら
にこれを還元することにより血糖および血中脂質低下作
用を有し糖尿病治療剤など医薬として用いられる５−
［４−［２−（５−エチル−２−ピリジル）エトキシ］
ベンジル］−２，４−チアゾリジンジオンに導くことが
できる。この一連工程に本発明の方法を適用するとき、
本発明の方法によって得られる目的化合物は特開昭６３
−１３９１８２に記載の方法で得られるものに比べ分離
が厄介な不純物がないため、分離精製が簡単であり、ま
た４−［２−（５−エチル−２−ピリジル）エトキシ］
ベンズアルデヒドを含有する反応混合物をそのまま次の
２，４−チアゾリジンジオンとの縮合反応に用いた場合
でも５−［４−［２−（５−エチル−２−ピリジル）エ
トキシ］ベンジリデン］−２，４−チアゾリジンジオン
をより高収率で得ることができ、さらにそのまま精製し
ないで次の還元工程に用いた場合でも５−［４−［２−
（５−エチル−２−ピリジル）エトキシ］ベンジル］−
２，４−チアゾリジンジオンを高収率で得ることができ
る。
ることができるが、その一例を示す。一般式（Ｉ）中、
Ａが５−エチル−２−ピリジル基である化合物と一般式
（II）中Ｂがｐ−位にホルミル基を有するフェニル基で
ある化合物を本発明の方法によって反応させると、４−
［２−（５−エチル−２−ピリジル）エトキシ］ベンズ
アルデヒドが得られる。これと２，４−チアゾリジンジ
オンを適当な塩基の存在下クノエヴェナーゲル（Ｋｎｏ
ｅｖｅｎａｇｅｌ）反応に付すことにより５−［４−
［２−（５−エチル−２−ピリジル）エトキシ］ベンジ
リデン］−２，４−チアゾリジンジオンが得られ、さら
にこれを還元することにより血糖および血中脂質低下作
用を有し糖尿病治療剤など医薬として用いられる５−
［４−［２−（５−エチル−２−ピリジル）エトキシ］
ベンジル］−２，４−チアゾリジンジオンに導くことが
できる。この一連工程に本発明の方法を適用するとき、
本発明の方法によって得られる目的化合物は特開昭６３
−１３９１８２に記載の方法で得られるものに比べ分離
が厄介な不純物がないため、分離精製が簡単であり、ま
た４−［２−（５−エチル−２−ピリジル）エトキシ］
ベンズアルデヒドを含有する反応混合物をそのまま次の
２，４−チアゾリジンジオンとの縮合反応に用いた場合
でも５−［４−［２−（５−エチル−２−ピリジル）エ
トキシ］ベンジリデン］−２，４−チアゾリジンジオン
をより高収率で得ることができ、さらにそのまま精製し
ないで次の還元工程に用いた場合でも５−［４−［２−
（５−エチル−２−ピリジル）エトキシ］ベンジル］−
２，４−チアゾリジンジオンを高収率で得ることができ
る。
【００１２】
【発明の効果】本発明によれば、公知の方法に比べ、反
応時間が短く、高い収率で品質の高いフェノールエーテ
ル類を製造することができ、次工程の収率および品質に
良い結果をもたらす。また、本発明の製造法は安全性が
高く、操作性も良いことから工業的に極めて有利なもの
である。
応時間が短く、高い収率で品質の高いフェノールエーテ
ル類を製造することができ、次工程の収率および品質に
良い結果をもたらす。また、本発明の製造法は安全性が
高く、操作性も良いことから工業的に極めて有利なもの
である。
【００１３】
（参考例１） ポタシウム ４−ホルミルフェノレートの製造 水酸化カリウム８１．３ｇ（含量８５％）をエタノール
１．０８リットルに撹拌下溶解し、これにｐ−ヒドロキ
シベンズアルデヒド１５０ｇを室温で溶かし、さらに１
時間撹拌した。反応液を減圧下濃縮し、残渣にエタノー
ル３５０ミリリットルを加えて再度濃縮した。残留固形
分にエタノール２００ミリリットルを加え、さらにジイ
ソプロピルエーテル２．１リットルを加えて室温で１時
間撹拌した。得られた析出物を減圧下濾過し、ジイソプ
ロピルエーテル１５０ミリリットルで洗浄した。減圧下
４０℃で乾燥し、ポタシウム ４−ホルミルフェノレー
ト１９７ｇ（収率１００％）を得た。
１．０８リットルに撹拌下溶解し、これにｐ−ヒドロキ
シベンズアルデヒド１５０ｇを室温で溶かし、さらに１
時間撹拌した。反応液を減圧下濃縮し、残渣にエタノー
ル３５０ミリリットルを加えて再度濃縮した。残留固形
分にエタノール２００ミリリットルを加え、さらにジイ
ソプロピルエーテル２．１リットルを加えて室温で１時
間撹拌した。得られた析出物を減圧下濾過し、ジイソプ
ロピルエーテル１５０ミリリットルで洗浄した。減圧下
４０℃で乾燥し、ポタシウム ４−ホルミルフェノレー
ト１９７ｇ（収率１００％）を得た。
【００１４】（参考例２） （５−エチル−２−ピリジル）エチル メタンスルホネ
ートの製造 （５−エチル−２−ピリジル）エタノール８０ｇをメチ
レンクロライド８００ミリリットルに溶かし、トリエチ
ルアミン５５ｇを加えた。この混合物に冷却撹拌下メタ
ンスルホニルクロライド７３．２ｇを徐々に滴下し、室
温で３時間撹拌した。反応液に水４００ミリリットルを
加えて分液し水層をメチレンクロライド１３０ミリリッ
トルで逆抽出し、抽出有機層を合併した。有機層を飽和
重曹水４００ミリリットルで洗浄後、飽和食塩水で洗浄
し無水芒硝で乾燥した。減圧下溶媒を留去して（５−エ
チル−２−ピリジル）エチル メタンスルホネート１２
１ｇ（１００％）を淡黄色油状物として得た。 ＩＲ（Ｎｅａｔ）νｃｍ-1：１３６０，１２００，１１
８０ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：１．２３（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝７．５Ｈｚ），２．６５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．５Ｈ
ｚ），２．８８（３Ｈ，ｓ），３．２０（２Ｈ，ｔ，Ｊ
＝６．５Ｈｚ），４．６２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．５Ｈ
ｚ），７．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．５
２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３．０Ｈｚ），８．
３８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ）
ートの製造 （５−エチル−２−ピリジル）エタノール８０ｇをメチ
レンクロライド８００ミリリットルに溶かし、トリエチ
ルアミン５５ｇを加えた。この混合物に冷却撹拌下メタ
ンスルホニルクロライド７３．２ｇを徐々に滴下し、室
温で３時間撹拌した。反応液に水４００ミリリットルを
加えて分液し水層をメチレンクロライド１３０ミリリッ
トルで逆抽出し、抽出有機層を合併した。有機層を飽和
重曹水４００ミリリットルで洗浄後、飽和食塩水で洗浄
し無水芒硝で乾燥した。減圧下溶媒を留去して（５−エ
チル−２−ピリジル）エチル メタンスルホネート１２
１ｇ（１００％）を淡黄色油状物として得た。 ＩＲ（Ｎｅａｔ）νｃｍ-1：１３６０，１２００，１１
８０ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：１．２３（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝７．５Ｈｚ），２．６５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．５Ｈ
ｚ），２．８８（３Ｈ，ｓ），３．２０（２Ｈ，ｔ，Ｊ
＝６．５Ｈｚ），４．６２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．５Ｈ
ｚ），７．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．５
２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３．０Ｈｚ），８．
３８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ）
【００１５】（参考例３） （５−エチル−２−ピリジル）エチル ｐ−トルエンス
ルホネートの製造 水酸化ナトリウム７．１ｇを水３３ミリリットルに、ま
た（５−エチル−２−ピリジル）エタノール７．６ｇを
テトラヒドロフラン３３ミリリットルにそれぞれ溶解
し、両者を混合して冷却した。冷却撹拌溶液に、ｐ−ト
ルエンスルホニルクロライド１１．７ｇをテトラヒドロ
フラン５１ミリリットルに溶かした溶液を０℃でゆっく
り滴下して加え、滴下後同温度で２時間撹拌した。反応
混合物に氷水を加えメチレンクロライド１００ミリリッ
トルで２回抽出し、抽出有機層を合併して水洗後無水芒
硝で乾燥した。減圧下溶媒を留去し、淡黄色油状物とし
て（５−エチル−２−ピリジル）エチル ｐ−トルエン
スルホネートを１４．４ｇ（収率９４．４％）得た。 ＩＲ（Ｎｅａｔ）νｃｍ-1：１３６０，１１９０，１１
８０ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：１．２２（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝７．５Ｈｚ），２．４１（３Ｈ，ｓ），２．６０
（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），３．０８（２Ｈ，ｔ，
Ｊ＝６．８Ｈｚ），４．４１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈ
ｚ），７．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），７．２
６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ） ７．４１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，３．０Ｈ
ｚ），７．６８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．２
５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ）
ルホネートの製造 水酸化ナトリウム７．１ｇを水３３ミリリットルに、ま
た（５−エチル−２−ピリジル）エタノール７．６ｇを
テトラヒドロフラン３３ミリリットルにそれぞれ溶解
し、両者を混合して冷却した。冷却撹拌溶液に、ｐ−ト
ルエンスルホニルクロライド１１．７ｇをテトラヒドロ
フラン５１ミリリットルに溶かした溶液を０℃でゆっく
り滴下して加え、滴下後同温度で２時間撹拌した。反応
混合物に氷水を加えメチレンクロライド１００ミリリッ
トルで２回抽出し、抽出有機層を合併して水洗後無水芒
硝で乾燥した。減圧下溶媒を留去し、淡黄色油状物とし
て（５−エチル−２−ピリジル）エチル ｐ−トルエン
スルホネートを１４．４ｇ（収率９４．４％）得た。 ＩＲ（Ｎｅａｔ）νｃｍ-1：１３６０，１１９０，１１
８０ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：１．２２（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝７．５Ｈｚ），２．４１（３Ｈ，ｓ），２．６０
（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），３．０８（２Ｈ，ｔ，
Ｊ＝６．８Ｈｚ），４．４１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈ
ｚ），７．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），７．２
６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ） ７．４１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，３．０Ｈ
ｚ），７．６８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．２
５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ）
【００１６】（実施例１） イ）４−［２−（５−エチル−２−ピリジル）エトキ
シ］ベンズアルデヒドの製造 （５−エチル−２−ピリジル）エチル メタンスルホネ
ート７２ｇとポタシウム４−ホルミルフェノレート８
５．５ｇをエタノール８５０ミリリットルに溶かし、還
流下６．５時間撹拌した。反応液を減圧下濃縮し、残渣
に酢酸エチル８５０ミリリットルを加えて０．２Ｎ苛性
ソーダ水溶液７００ミリリットルで５回、水７００ミリ
リットルで２回洗浄し、無水芒硝で乾燥した。有機層を
活性炭７．０ｇで処理した後、減圧下溶媒を留去し４−
［２−（５−エチル−２−ピリジル）エトキシ］ベンズ
アルデヒドを含む油状物６７ｇを得た。本品をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーに付して精製し、４−［２
−（５−エチル−２−ピリジル）エトキシ］ベンズアル
デヒド５６．０ｇを淡黄色油状物として得た［（５−エ
チル−２−ピリジル）エチル メタンスルホネートから
の収率は７０．０％であった。］。本品は標品とＩＲ
（Ｎｅａｔ）およびＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）において完全
に一致した。 ＩＲ（Ｎｅａｔ）νｃｍ-1：１６９５，１６０５，１５
８０，１２６０，１１６０ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：１．２３（３Ｈ，ｄ，
Ｊ＝７．５Ｈｚ），２．６３（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．５Ｈ
ｚ），３．２５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），４．４
４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），６．９８（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．
５Ｈｚ），７．４６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，
３．０Ｈｚ）７．７８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），
８．３９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ），９．８３（１
Ｈ，ｓ）
シ］ベンズアルデヒドの製造 （５−エチル−２−ピリジル）エチル メタンスルホネ
ート７２ｇとポタシウム４−ホルミルフェノレート８
５．５ｇをエタノール８５０ミリリットルに溶かし、還
流下６．５時間撹拌した。反応液を減圧下濃縮し、残渣
に酢酸エチル８５０ミリリットルを加えて０．２Ｎ苛性
ソーダ水溶液７００ミリリットルで５回、水７００ミリ
リットルで２回洗浄し、無水芒硝で乾燥した。有機層を
活性炭７．０ｇで処理した後、減圧下溶媒を留去し４−
［２−（５−エチル−２−ピリジル）エトキシ］ベンズ
アルデヒドを含む油状物６７ｇを得た。本品をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーに付して精製し、４−［２
−（５−エチル−２−ピリジル）エトキシ］ベンズアル
デヒド５６．０ｇを淡黄色油状物として得た［（５−エ
チル−２−ピリジル）エチル メタンスルホネートから
の収率は７０．０％であった。］。本品は標品とＩＲ
（Ｎｅａｔ）およびＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）において完全
に一致した。 ＩＲ（Ｎｅａｔ）νｃｍ-1：１６９５，１６０５，１５
８０，１２６０，１１６０ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：１．２３（３Ｈ，ｄ，
Ｊ＝７．５Ｈｚ），２．６３（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．５Ｈ
ｚ），３．２５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），４．４
４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），６．９８（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．
５Ｈｚ），７．４６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，
３．０Ｈｚ）７．７８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），
８．３９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ），９．８３（１
Ｈ，ｓ）
【００１７】ロ）４−［２−（５−エチル−２−ピリジ
ル）エトキシ］ベンズアルデヒドの製造 （５−エチル−２−ピリジル）エチル メタンスルホネ
ート１５１ｇ（含量９４％）とポタシウム ４−ホルミ
ルフェノレート１７９ｇをエタノール１．５リットルに
溶かし、還流下５時間撹拌した。反応液を減圧下濃縮
し、残渣に酢酸エチル１．７リットルを加えて０．２Ｎ
苛性ソーダ水溶液５００ミリリットルで３回、ついで水
５００ミリリットルで洗浄し、無水芒硝で乾燥した。有
機層を活性炭６．３ｇで処理し、減圧下溶媒を留去し４
−［２−（５−エチル−２−ピリジル）エトキシ］ベン
ズアルデヒドを含む油状物１４１．５ｇを得た。本品を
ＨＰＬＣで定量し４−［２−（５−エチル−２−ピリジ
ル）エトキシ］ベンズアルデヒド１１９ｇが含まれるこ
とを確認した［（５−エチル−２−ピリジル）エチルメ
タンスルホネートからの収率は７５．３％であっ
た。］。
ル）エトキシ］ベンズアルデヒドの製造 （５−エチル−２−ピリジル）エチル メタンスルホネ
ート１５１ｇ（含量９４％）とポタシウム ４−ホルミ
ルフェノレート１７９ｇをエタノール１．５リットルに
溶かし、還流下５時間撹拌した。反応液を減圧下濃縮
し、残渣に酢酸エチル１．７リットルを加えて０．２Ｎ
苛性ソーダ水溶液５００ミリリットルで３回、ついで水
５００ミリリットルで洗浄し、無水芒硝で乾燥した。有
機層を活性炭６．３ｇで処理し、減圧下溶媒を留去し４
−［２−（５−エチル−２−ピリジル）エトキシ］ベン
ズアルデヒドを含む油状物１４１．５ｇを得た。本品を
ＨＰＬＣで定量し４−［２−（５−エチル−２−ピリジ
ル）エトキシ］ベンズアルデヒド１１９ｇが含まれるこ
とを確認した［（５−エチル−２−ピリジル）エチルメ
タンスルホネートからの収率は７５．３％であっ
た。］。
【００１８】ハ）４−［２−（５−エチル−２−ピリジ
ル）エトキシ］ベンズアルデヒドの製造 （５−エチル−２−ピリジル）エチル ｐ−トルエンス
ルホネート１４ｇとポタシウム ４−ホルミルフェノレ
ート１４．７ｇをエタノール２００ミリリットルに溶か
し、還流下５時間撹拌した。反応液を減圧下濃縮し、残
渣に酢酸エチル２００ミリリットルを加えて０．２Ｎ苛
性ソーダ水溶液１００ミリリットルで５回、ついで水１
５０ミリリットルで２回洗浄し、無水芒硝で乾燥した。
有機層を活性炭１ｇで処理し、減圧下溶媒を留去し４−
［２−（５−エチル−２−ピリジル）エトキシ］ベンズ
アルデヒドを含む赤色油状物１０．５ｇを得た。本品を
ＨＰＬＣで定量し４−［２−（５−エチル−２−ピリジ
ル）エトキシ］ベンズアルデヒド８．２ｇが含まれるこ
とを確認した。［（５−エチル−２−ピリジル）エチル
メタンスルホネートからの収率は７０．１％であっ
た。］。
ル）エトキシ］ベンズアルデヒドの製造 （５−エチル−２−ピリジル）エチル ｐ−トルエンス
ルホネート１４ｇとポタシウム ４−ホルミルフェノレ
ート１４．７ｇをエタノール２００ミリリットルに溶か
し、還流下５時間撹拌した。反応液を減圧下濃縮し、残
渣に酢酸エチル２００ミリリットルを加えて０．２Ｎ苛
性ソーダ水溶液１００ミリリットルで５回、ついで水１
５０ミリリットルで２回洗浄し、無水芒硝で乾燥した。
有機層を活性炭１ｇで処理し、減圧下溶媒を留去し４−
［２−（５−エチル−２−ピリジル）エトキシ］ベンズ
アルデヒドを含む赤色油状物１０．５ｇを得た。本品を
ＨＰＬＣで定量し４−［２−（５−エチル−２−ピリジ
ル）エトキシ］ベンズアルデヒド８．２ｇが含まれるこ
とを確認した。［（５−エチル−２−ピリジル）エチル
メタンスルホネートからの収率は７０．１％であっ
た。］。
【００１９】（参考例４） ５−［４−［２−（５−エチル−２−ピリジル）エトキ
シ］ベンジリデン］−２，４−チアゾリジンジオンの製
造 実施例１のロ）と同様に処理して得られた４−［２−
（５−エチル−２−ピリジル）エトキシ］ベンズアルデ
ヒド９４ｇ（含量８０．６％）をエタノール１．１リッ
トルに溶かし、２，４−チアゾリジンジオン９３．７ｇ
とピペリジン１９．７ｇを加えて５時間還流下に撹拌し
た。反応液を徐々に室温まで冷却し、その結果得られる
結晶を減圧下濾過した。結晶をエタノール１００ミリリ
ットルで洗浄し、５０℃で減圧下乾燥し、５−［４−
［２−（５−エチル−２−ピリジル）エトキシ］ベンジ
リデン］−２，４−チアゾリジンジオンの淡黄色結晶７
７．１ｇ（含量９９．５％）を得た（４−［２−（５−
エチル−２−ピリジル）エトキシ］ベンズアルデヒドか
らの収率は７３．０％であった。）。本品は標品の５−
［４−［２−（５−エチル−２−ピリジル）エトキシ］
ベンジリデン］−２，４−チアゾリジンジオンと各種ス
ペクトルデータが完全に一致した。
シ］ベンジリデン］−２，４−チアゾリジンジオンの製
造 実施例１のロ）と同様に処理して得られた４−［２−
（５−エチル−２−ピリジル）エトキシ］ベンズアルデ
ヒド９４ｇ（含量８０．６％）をエタノール１．１リッ
トルに溶かし、２，４−チアゾリジンジオン９３．７ｇ
とピペリジン１９．７ｇを加えて５時間還流下に撹拌し
た。反応液を徐々に室温まで冷却し、その結果得られる
結晶を減圧下濾過した。結晶をエタノール１００ミリリ
ットルで洗浄し、５０℃で減圧下乾燥し、５−［４−
［２−（５−エチル−２−ピリジル）エトキシ］ベンジ
リデン］−２，４−チアゾリジンジオンの淡黄色結晶７
７．１ｇ（含量９９．５％）を得た（４−［２−（５−
エチル−２−ピリジル）エトキシ］ベンズアルデヒドか
らの収率は７３．０％であった。）。本品は標品の５−
［４−［２−（５−エチル−２−ピリジル）エトキシ］
ベンジリデン］−２，４−チアゾリジンジオンと各種ス
ペクトルデータが完全に一致した。
【００２０】（参考例５） ５−［４−［２−（５−エチル−２−ピリジル）エトキ
シ］ベンジル］−２，４−チアゾリジンジオンの製造 参考例４と同様に処理して得られた５−［４−［２−
（５−エチル−２−ピリジル）エトキシ］ベンジリデ
ン］−２，４−チアゾリジンジオン３０ｇをジオキサン
６００ミリリットルに懸濁させ、５％パラジウム−炭素
（５０％ｗｅｔ）２０ｇを加えて、１１０℃水素加圧
（１００ｋｇ／ｃｍ2）下で２時間接触還元した。触媒
を熱時濾去し、濾液を約５４０ミリリットルまで減圧下
濃縮した。析出結晶を濾取し、得られた結晶をジオキサ
ン６００ミリリットルに熱時溶解し、室温までゆっくり
冷却して再結晶した。得られた結晶を減圧下濾取し、６
０℃で減圧乾燥後、５−［４−［２−（５−エチル−２
−ピリジル）エトキシ］ベンジル］−２，４−チアゾリ
ジンジオン２１．７ｇを得た（５−［４−［２−（５−
エチル−２−ピリジル）エトキシ］ベンジリデン］−
２，４−チアゾリジンジオンからの収率は７２％であっ
た。）。 本品は標品の５−［４−［２−（５−エチル
−２−ピリジル）エトキシ］ベンジル］−２，４−チア
ゾリジンジオンと各種スペクトルデータが完全に一致し
た。
シ］ベンジル］−２，４−チアゾリジンジオンの製造 参考例４と同様に処理して得られた５−［４−［２−
（５−エチル−２−ピリジル）エトキシ］ベンジリデ
ン］−２，４−チアゾリジンジオン３０ｇをジオキサン
６００ミリリットルに懸濁させ、５％パラジウム−炭素
（５０％ｗｅｔ）２０ｇを加えて、１１０℃水素加圧
（１００ｋｇ／ｃｍ2）下で２時間接触還元した。触媒
を熱時濾去し、濾液を約５４０ミリリットルまで減圧下
濃縮した。析出結晶を濾取し、得られた結晶をジオキサ
ン６００ミリリットルに熱時溶解し、室温までゆっくり
冷却して再結晶した。得られた結晶を減圧下濾取し、６
０℃で減圧乾燥後、５−［４−［２−（５−エチル−２
−ピリジル）エトキシ］ベンジル］−２，４−チアゾリ
ジンジオン２１．７ｇを得た（５−［４−［２−（５−
エチル−２−ピリジル）エトキシ］ベンジリデン］−
２，４−チアゾリジンジオンからの収率は７２％であっ
た。）。 本品は標品の５−［４−［２−（５−エチル
−２−ピリジル）エトキシ］ベンジル］−２，４−チア
ゾリジンジオンと各種スペクトルデータが完全に一致し
た。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｄ 249/04 Ｃ０７Ｄ 249/04 249/08 249/08 257/04 257/04 277/24 277/24 307/40 307/40 333/16 333/16
Claims (6)
- 【請求項１】非水系溶媒中、一般式 Ａ−ＣＨ2ＣＨ2−Ｘ 《式中、Ａは芳香環残基を、Ｘは脱離基を示す。》で表
される化合物と、一般式 ＭＯ−Ｂ （式中、Ｍはアルカリ金属原子またはアルカリ土類金属
原子を、Ｂはホルミルフェニル基を示す。）で表される
化合物とを反応させることを特徴とする一般式 Ａ−ＣＨ2ＣＨ2−Ｏ−Ｂ （式中、ＡおよびＢは前記と同意義である。）で表され
るエーテル化合物の製造法。 - 【請求項２】Ａが置換基を有していてもよい芳香族異項
環残基である請求項１記載の製造法。 - 【請求項３】芳香族異項環残基が、酸素原子，硫黄原
子，窒素原子の１ないし４個を環構成原子とする芳香族
異項環残基である請求項２記載の製造法。 - 【請求項４】芳香族異項環残基が、窒素原子の１ないし
４個を環構成原子とする芳香族異項環残基である請求項
２記載の製造法。 - 【請求項５】芳香族異項環残基がピリジル基である請求
項２記載の製造法。 - 【請求項６】置換基が、炭素数１〜６のアルキル基、炭
素数１〜４のアルコキシ基、ハロゲン原子、炭素数６以
下のアルカノイルオキシ基、アリールカルボニルオキシ
基、または炭素数２〜５のアルコキシカルボニルオキシ
基である請求項２記載の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4066368A JP2687811B2 (ja) | 1991-03-25 | 1992-03-24 | エーテル類の製造法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6020891 | 1991-03-25 | ||
| JP3-60208 | 1991-03-25 | ||
| JP4066368A JP2687811B2 (ja) | 1991-03-25 | 1992-03-24 | エーテル類の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05112483A JPH05112483A (ja) | 1993-05-07 |
| JP2687811B2 true JP2687811B2 (ja) | 1997-12-08 |
Family
ID=26401272
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4066368A Expired - Lifetime JP2687811B2 (ja) | 1991-03-25 | 1992-03-24 | エーテル類の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2687811B2 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4812570A (en) * | 1986-07-24 | 1989-03-14 | Takeda Chemical Industries, Ltd. | Method for producing thiazolidinedione derivatives |
-
1992
- 1992-03-24 JP JP4066368A patent/JP2687811B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05112483A (ja) | 1993-05-07 |
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