JP2675338B2 - Semiconductor integrated circuit - Google Patents

Semiconductor integrated circuit

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JP2675338B2
JP2675338B2 JP63173009A JP17300988A JP2675338B2 JP 2675338 B2 JP2675338 B2 JP 2675338B2 JP 63173009 A JP63173009 A JP 63173009A JP 17300988 A JP17300988 A JP 17300988A JP 2675338 B2 JP2675338 B2 JP 2675338B2
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier
    • H01L27/0203Particular design considerations for integrated circuits
    • H01L27/0207Geometrical layout of the components, e.g. computer aided design; custom LSI, semi-custom LSI, standard cell technique

Description

【発明の詳細な説明】 (イ)産業上の利用分野 本発明は、半導体集積回路に関し、特にFMフロントエ
ンドブロックとFM−IFブロックを有した半導体集積回路
であり、更にはカスタムICの要求に答えられる様に、機
種展開の容易なパターン・レイアウトを有する半導体集
積回路に関するものである。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a semiconductor integrated circuit, and more particularly to a semiconductor integrated circuit having an FM front end block and an FM-IF block, and to meet the demand for custom ICs. As can be answered, the present invention relates to a semiconductor integrated circuit having a pattern layout that allows easy model development.

(ロ)従来の技術 一般に、特開昭59−84542号公報(H01L 21/76)の如
く、複数個の回路ブロックを同一の半導体基板上に形成
する半導体集積回路技術は、第8図の構成となってい
る。
(B) Conventional Technology In general, a semiconductor integrated circuit technology for forming a plurality of circuit blocks on the same semiconductor substrate as shown in Japanese Patent Laid-Open No. 59-84542 (H01L 21/76) has a configuration shown in FIG. Has become.

第8図は、半導体チップ(101)の概略平面図であ
り、a乃至fは回路ブロックを示す。これらの回路ブロ
ックは、夫々取り扱う周波数および信号レベルが異な
り、機能も夫々異なる。
FIG. 8 is a schematic plan view of the semiconductor chip (101), and a to f show circuit blocks. These circuit blocks have different frequencies and signal levels to be handled, and also have different functions.

この回路ブロックは、第9図の如くP-型の半導体基板
(102)上のN型の領域(103)に形成され、各回路ブロ
ックは、その周辺に隣接する高濃度のP+型の領域(10
4)によって区画されている。ここではブロックbとブ
ロックcで示してある。
This circuit block is formed in an N type region (103) on a P type semiconductor substrate (102) as shown in FIG. 9, and each circuit block is surrounded by a high concentration P + type region. (Ten
It is divided by 4). Here, it is shown by block b and block c.

この区画用のP+型の領域(104)は、その一端をP-
の半導体基板(102)に接するとともに、他端は半導体
表面の酸化膜(105)を通してグランドライン(106)に
オーミック接続される。
The P + type region (104) for this partition has one end in contact with the P type semiconductor substrate (102) and the other end ohmic-connected to the ground line (106) through the oxide film (105) on the semiconductor surface. To be done.

グランドライン(106)は、各ブロックから集積回路
の中央部にまとめ、左端にあるグランドボンディングパ
ッドGNDに延在されている。
The ground line (106) is gathered from each block at the center of the integrated circuit and extends to the ground bonding pad GND at the left end.

次に各ブロック回路の電源ライン(VCC)は、第8図
に示すように、集積回路の外周部にまとめ、夫々個別に
電源ボンディングパッドに接続される。
Next, the power supply line (V CC ) of each block circuit is gathered on the outer peripheral portion of the integrated circuit and individually connected to the power supply bonding pad, as shown in FIG.

一方、回路ブロックa乃至fは、機能が異なるため、
ブロック内に存在する素子数が異なり、ブロック・サイ
ズが夫々異なってしまう構成となっている。
On the other hand, since the circuit blocks a to f have different functions,
The number of elements existing in each block is different, and the block sizes are different from each other.

(ハ)発明が解決しようとする課題 前述の複数のブロックより成る半導体集積回路におい
て、AM/FMステレオチューナー用回路に含まれるFMフロ
ントエンドブロックとFM−IFブロックを集積化すると、
この2つのブロックの干渉によって誤動作を起こし、1
チップ化が難しい問題を有していた。また回路ブロック
a乃至fのサイズが異なるので、この回路ブロック全て
を効率良く、半導体チップ(101)内に収めるために
は、各回路ブロックの大きさが相互的に働いてしまい、
同一チップ内への集積を難しくしている問題があった。
(C) Problem to be Solved by the Invention In a semiconductor integrated circuit composed of a plurality of blocks described above, when the FM front end block and the FM-IF block included in the circuit for AM / FM stereo tuner are integrated,
The interference of these two blocks causes malfunction and
There was a problem that it was difficult to make chips. Further, since the circuit blocks a to f have different sizes, the size of each circuit block interacts with each other in order to efficiently accommodate all the circuit blocks in the semiconductor chip (101).
There is a problem that it is difficult to integrate them in the same chip.

また回路ブロックaを削除し、例えば特性を改良した
別の回路ブロックa′を入れたり、第8図の回路ブロッ
ク構成に、更に別の機能を有する回路ブロックgを追加
しようとした場合、各ブロックの大きさが異なるので全
てのパターンを作り直す必要があった。
Further, when the circuit block a is deleted and another circuit block a'having improved characteristics is inserted, or a circuit block g having another function is added to the circuit block configuration of FIG. It was necessary to recreate all the patterns because the size of was different.

従って近年、製品の寿命が非常に短かくなって来てい
る中で、ユーザの希望する独自回路を、あるチップ内に
組み込もうとすると、ユーザは短納期を希望するにもか
かわらず、回路パターンを作り直すために非常に長い納
期を必要としなければならない問題を有していた。
Therefore, in recent years, when the life of the product has become extremely short, if the user wants to incorporate a unique circuit desired by a user into a certain chip, the user desires a short delivery time, but the circuit is short. It had a problem that it needed a very long delivery time to recreate the pattern.

(ニ)課題を解決するための手段 本発明は、斯る課題に鑑みてなされ、FMフロントエン
ドブロック側に対応するFM−IFブロックの側辺に、半導
体基板のリーク電流を吸い取る吸出し電極を設けること
で解決し、また区画ライン()で、半導体チップ
(1)上面を実質的に同一のサイズの多数のマットに分
割し、複数の機能の異なる電子回路ブロックを1つ以上
の整数個のマット内に収容することにより、従来の問題
を解決するものである。
(D) Means for Solving the Problems The present invention has been made in view of the above problems, and a suction electrode that absorbs a leak current of a semiconductor substrate is provided on the side of the FM-IF block corresponding to the FM front end block side. In addition, the upper surface of the semiconductor chip (1) is divided into a large number of mats of substantially the same size by the division line ( 5 ), and a plurality of electronic circuit blocks having different functions are divided into one or more integer numbers. By accommodating it in the mat, the conventional problems are solved.

(ホ)作 用 本発明に依れば、FMフロントエンドブロック側となる
FM−IFブロックの側辺は、FMフロントエンドブロックへ
侵入するリーク電流の通路となるので、この側辺に吸出
し電極(43),(79)を設け、集中的にリーク電流を吸
い出してFMフロントエンドブロックへの干渉を防止して
いる。また区画ライン()で半導体チップ(1)上面
を実質的に同一サイズの多数のマットに分割し、複数の
機能の異なる電子回路ブロックを整数個のマット内に収
容することにより、電子回路ブロック毎の設計を行え且
つ電子回路ブロックを一定の素子数で分割しマット毎の
設計が行える様になる。従って電子回路ブロック毎に分
割して並行設計が可能であり、設計期間の大幅短縮を図
れる。また回路変更も電子回路ブロック毎に且つマット
毎に行えるので、IC全体の設計変更は不要となる。
(E) Operation According to the present invention, it is the FM front end block side
Since the side of the FM-IF block serves as a path for leakage current that enters the FM front end block, the drain electrodes (43) and (79) are provided on this side to centrally absorb the leakage current and Prevents interference with the end block. Further, by dividing the upper surface of the semiconductor chip (1) into a large number of mats having substantially the same size by the division line ( 5 ) and accommodating a plurality of electronic circuit blocks having different functions in an integer number of mats, the electronic circuit block is formed. Each mat can be designed, and the electronic circuit block can be divided into a certain number of elements to design each mat. Therefore, it is possible to divide each electronic circuit block for parallel design, and it is possible to significantly reduce the design period. Further, the circuit can be changed for each electronic circuit block and for each mat, so that it is not necessary to change the design of the entire IC.

(ヘ)実施例 先ず第1図を参照して本発明の第1の実施例を詳述す
る。ここでは説明の都合上、本発明の特徴の1つである
マット分割の構成で説明してゆくので、先ずマット分割
の構成を述べてゆく。
(F) Embodiment First, the first embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIG. For convenience of explanation, the mat division structure, which is one of the features of the present invention, will be described here. Therefore, the mat division structure will be described first.

半導体チップ(1)上面を二点鎖線で示す分割領域
(2)を用いて、実質的に同一形状で、第1および第2
の領域(3),(4)に2等分し、夫々の領域(3),
(4)は、A〜J,K〜Tのマットに分割されている。A
〜J,K〜Tの各マット間には実線で示す電源ラインと一
点鎖線で示すグランドラインを隣接して並列に延在させ
た区画ライン()で区分されている。
The first and second semiconductor chips (1) have substantially the same shape by using the divided regions (2) indicated by the chain double-dashed lines.
Area (3), (4), and each area (3),
(4) is divided into mats A to J and K to T. A
The mats J to K and T are divided by a partition line ( 5 ) in which a power line indicated by a solid line and a ground line indicated by a dot-dash line are adjacently extended in parallel.

区画ライン()を形成する電源ラインおよびグラン
ドラインの配列は、各マットA〜J,K〜Tの左側に実線
で示す電源ラインを設け、右側に一点鎖線で示すグラン
ドラインが設けられる。従って両端の区画ライン(
のみが電源ラインまたはグランドラインの一方で形成さ
れ、中間の区画ラインは両方で構成されている。各マッ
トA〜J,K〜Tに隣接する電源ラインおよびグランドラ
インは、夫々のマットに集積され、回路ブロックへの電
源供給を行っている。
Regarding the arrangement of the power supply line and the ground line forming the division line ( 5 ), the power supply line indicated by a solid line is provided on the left side of each of the mats A to J and K to T, and the ground line indicated by a dashed line is provided on the right side. Therefore, the division line at both ends ( 5 )
Only the power line or the ground line is formed, and the intermediate partition line is formed by both. Power supply lines and ground lines adjacent to the mats A to J and K to T are integrated in the respective mats to supply power to the circuit blocks.

また各区画ライン()の電源ラインとグランドライ
ンは、三点鎖線で示す第3の電源ライン(6)と第2の
電源ライン(7)、第3のグランドライン(8)と第2
のグランドライン(9)に夫々対向して櫛歯状に接続さ
れ、この第3および第2の電源ライン(6),(7)お
よび第3および第2のグランドライン(8),(9)
は、ペレットの周辺に設けられたパッドの中の電源パッ
ドVCC1,VCC2およびグランドパッドGND1,GND2に導かれて
いる。
The power supply line and the ground line of each partition line ( 5 ) are the third power supply line (6) and the second power supply line (7), the third ground line (8) and the second power supply line (7), which are indicated by the three-dot chain line.
Of the third and second power supply lines (6) and (7) and the third and second ground lines (8) and (9), which are connected to each other in a comb shape so as to face each other.
Are led to the power supply pads V CC1 and V CC2 and the ground pads GND1 and GND2 among the pads provided around the pellet.

後で明らかとなるが、回路の都合上、マットK〜M
は、これらのパッドとは別の、VCC3,VCC4,GND3,GND4を
使用し、また各電源ライン、グランドライン、および第
2および第3の電源ライン(7),(6)、第2および
第3のグランドライン(9),(8)は、原則的には2
層配線の内の1層配線で実現されている。
As will become apparent later, due to the circuit, the mats K to M
Is different from these pads, V CC3, V CC4, GND3, using GND4, and each power supply line, ground line, and the second and third power supply line (7), (6), second And the third ground lines (9) and (8) are basically 2
It is realized by one layer wiring among the layer wirings.

上述した区画ライン()で区分される各マットA〜
J,K〜Tは、実質的に同一の大きさの形状に形成され、
具体的には幅をNPNトランジスタ6個が並べられるよう
に設定され、長さは、設計上容易な一定の素子数、例え
ば約100素子がレイアウトできるように設定されてい
る。このマットの大きさについては、IC化する電子回路
ブロックにより、設計し易い素子数に応じて任意に選択
できる。
Each mat A divided by the division line ( 5 ) described above
J and K to T are formed into shapes having substantially the same size,
Specifically, the width is set so that six NPN transistors can be arranged, and the length is set so that a fixed number of elements, for example, about 100 elements, can be laid out for easy design. The size of this mat can be arbitrarily selected according to the number of elements that can be easily designed by an electronic circuit block to be integrated into an IC.

マット内に集積される回路素子は、トランジスタ、ダ
イオード、抵抗およびコンデンサにより構成され、通常
のPN分離によって分離され、各素子の結線は、2層配線
の1層目の電極層によって接続され、例外的に2層目の
電極でクロスオーバーされている。
The circuit elements integrated in the mat are composed of transistors, diodes, resistors and capacitors, separated by normal PN separation, and the wiring of each element is connected by the electrode layer of the first layer of the two-layer wiring. The electrodes of the second layer are crossed over.

次に第2図Aおよび第2図Bを参照して、マット内に
集積される回路素子と区画ライン()について具体的
に説明する。
Next, with reference to FIG. 2A and FIG. 2B, the circuit elements and the partition line ( 5 ) integrated in the mat will be specifically described.

第2図AはマットB付近の拡大上面図である。左の一
点鎖線で示した区画ライン()は、マットAとマット
Bの間に設けられる区画ライン()であり、右の一点
鎖線で示した区画ライン()は、マットBとマットC
の間に設けられる区画ライン()である。そしてこの
区画ライン(),()の間には、点線で示したトラ
ンジスタ(10)、ダイオード(11)、抵抗(12)および
コンデンサ(13)が集積されている。図面ではこれらの
素子が粗になっているが、実際は高密度に集積されてい
る。またマット内の素子間の配線は、一点鎖線で示す第
1層目の電極層(14)で実質的に形成され、マットAと
マットBおよびマットBとマットCのマット間の配線、
例えば信号ラインやフィードバックラインが実線で示す
第2層目の電極層(15)で形成されている。そしてこれ
らの第1層目および第2層目の電極層(14),(15)は
×印で示したコンタクト領域で接続されている。
FIG. 2A is an enlarged top view of the vicinity of the mat B. The partition line ( 6 ) shown by the dashed line on the left is the partition line ( 5 ) provided between the mat A and the mat B, and the partition line ( 7 ) shown by the dashed line on the right is the mat B and the mat. C
It is a division line ( 5 ) provided between. The transistor (10), the diode (11), the resistor (12) and the capacitor (13) shown by the dotted line are integrated between the division lines ( 6 ) and ( 7 ). Although these elements are rough in the drawing, they are actually densely integrated. The wiring between the elements in the mat is substantially formed of the first electrode layer (14) shown by the alternate long and short dash line, and the wiring between the mats A and B and between the mats B and C,
For example, the signal line and the feedback line are formed by the second electrode layer (15) shown by the solid line. The first and second electrode layers (14) and (15) are connected to each other at the contact regions indicated by the cross marks.

第2図Bは第2図AにおけるA−A′線の断面図であ
る。P型の半導体基板(16)上にN型のエピタキシャル
層(17)が積層されており、このエピタキシャル層(1
7)表面より前記半導体基板(16)に到達するP+型の分
離領域(18)が形成され、多数のアイランド領域が形成
されている。このアイランド領域(19)内にはNPNトラ
ンジスタ(10)、ダイオード(11)、抵抗(12)および
コンデンサ(13)等が作られており、NPNトランジスタ
(10)のコレクタ領域(20)と前記半導体基板(16)と
の間にはN+型の埋込み領域(21)が形成されている。前
記エピタキシャル層(17)の表面には例えばCVD法によ
りシリコン酸化膜(22)が形成され、このシリコン酸化
膜(22)上には、第1層目の電極層(14)が形成されて
いる。またこの第1層目の電極層(14)を覆うように、
例えばPIX等の絶縁膜(23)が形成され、この絶縁膜(2
3)上に第2層目の電極層(15)が形成されている。ま
た電源ライン(24)およびグランドライン(25)は、前
記分離領域(18)上に設けられ、グランドライン(25)
はこの分離領域(18)とオーミックコンタクトしてお
り、基板電位の安定化をはかっている。
2B is a sectional view taken along the line AA ′ in FIG. 2A. An N type epitaxial layer (17) is laminated on a P type semiconductor substrate (16).
7) A P + -type isolation region (18) reaching the semiconductor substrate (16) from the surface is formed, and a large number of island regions are formed. The NPN transistor (10), the diode (11), the resistor (12), the capacitor (13), etc. are formed in the island region (19), and the collector region (20) of the NPN transistor (10) and the semiconductor are formed. An N + type buried region (21) is formed between the substrate (16) and the substrate. A silicon oxide film (22) is formed on the surface of the epitaxial layer (17) by, for example, a CVD method, and a first electrode layer (14) is formed on the silicon oxide film (22). . In addition, to cover the first electrode layer (14),
For example, an insulating film (23) such as PIX is formed, and this insulating film (2
3) The second electrode layer (15) is formed on the top. The power supply line (24) and the ground line (25) are provided on the separation region (18), and the ground line (25)
Is in ohmic contact with the isolation region (18) to stabilize the substrate potential.

更に具体的には、第1図の如く第1の領域(3)には
A〜Jの10個のマットを形成し、第2の領域(4)には
K〜Tの10個のマットを形成し、マットを約100素子集
積できる実質的に同一スペースにし、各マット間は区画
ライン()で区分している。
More specifically, as shown in FIG. 1, ten mats A to J are formed in the first area (3), and ten mats K to T are formed in the second area (4). The mats are formed into substantially the same space in which about 100 elements can be integrated, and each mat is divided by a partition line ( 5 ).

斯上した20個のマット内には第3図に示すAM/FMステ
レオチューナー用1チップICが形成される。第3図はこ
の電子ブロック回路を説明するブロック図であり、FMフ
ロントエンドブロック(26)、FM−IFブロック(27)、
ノイズキャンセラーブロック(28)、マルチプレックス
デコーダーブロック(29)、AMチューナーブロック(3
0)の計5つの電子回路ブロックから構成されている。
各回路ブロックは周知のものであるが、その機能を簡単
に説明する。
In the above 20 mats, a one-chip IC for AM / FM stereo tuner shown in FIG. 3 is formed. FIG. 3 is a block diagram for explaining this electronic block circuit. The FM front end block ( 26 ), FM-IF block (27),
Noise canceller block (28), multiplex decoder block (29), AM tuner block (3
It is composed of a total of five electronic circuit blocks (0).
Although each circuit block is well known, its function will be briefly described.

先ずFMフロントエンドブロック(26)はFM放送の選局
部分であり、数十MHz〜数百MHzのFM放送信号を受信し、
10.7MHzの中間周波信号に周波数変換するものであり、
素子数としては約250個を有するのでK〜Mのマットに
集積されている。次にFM−IFブロック(27)は、この中
間周波信号を増幅し、その後検波しオーディオ信号を得
るものであり、素子数としては約430個を有するのでE
〜Iのマットに集積されている。続いてノイズキャンセ
ラーブロック(28)は、イグニッションノイズ等のパル
スノイズを除去するもので、約270個の素子を有するの
でN〜Pのマットに集積されている。更にマルチプレッ
クスデコーダーブロック(29)は、ステレオ信号をステ
レオ復調するブロックであり、約390個の素子を有する
ためQ〜Tのマットに集積されている。最後に、AMチュ
ーナーブロック(30)は、AM放送の選局部分であり、ア
ンテナ受信したAM放送信号を中間周波数(450KHz)に変
換し、検波してオーディオ出力を得るものであり、約35
0個の素子を有するのでA〜Dのマットで集積される。
First, the FM front end block (26) is a part for selecting the FM broadcast, and receives the FM broadcast signal of several tens of MHz to several hundreds of MHz,
The frequency is converted to an intermediate frequency signal of 10.7MHz,
Since it has about 250 elements, it is integrated in a mat of KM. Next, the FM-IF block (27) amplifies this intermediate frequency signal and then detects it to obtain an audio signal. Since it has about 430 elements,
~ I is integrated in the mat. The noise canceller block (28) is for removing pulse noise such as ignition noise. Since it has about 270 elements, it is integrated in the N to P mats. Further, the multiplex decoder block (29) is a block for stereo demodulating a stereo signal, and has about 390 elements and is therefore integrated in the mat of Q to T. Lastly, the AM tuner block (30) is the part for selecting the AM broadcast, converts the AM broadcast signal received by the antenna to an intermediate frequency (450KHz), and detects it to obtain an audio output.
Since it has 0 elements, the mats A to D are integrated.

更には第4図A、第4図Bおよび第4図Cに、夫々AM
チューナーブロック(30)、フロントエンドブロック
(26)とFM−IFブロック(27)およびマルチプレックス
デコーダーブロック(29)を更にブロック化した図を示
す。
Further, in FIGS. 4A, 4B and 4C, AM respectively.
The tuner block (30), the front end block (26), the FM-IF block (27), and the multiplex decoder block (29) are further divided into blocks.

先ず第4図AのAMチューナーブロック(30)内の局部
発振回路(OSC)(31)がマットAに、混合回路(MIX)
(32)がマットBに、自動利得制御回路(AGC)(3
3)、高周波増幅回路(RF)(34)および中間周波増幅
回路(IF)(35)がマットCに、検波回路(DET)(3
6)がマットDに実質的に集積され、第1図の如く電源
パッドVCC1よりたこ足状に4本延在された三点鎖線で示
す第3の電源ライン(37),(38),(39),(40)を
介し、A〜Dのマットの第1の電源ライン(41)にVCC
を供給している。またグランドパッドGND1はマットMと
マットNの間に設けられたたこ足状の3本の電極(42)
を介して一端分割領域(2)上の三点鎖線で示す第2の
グランドライン(43),(44),(45),(46)に接続
され、夫々の第2のグランドライン(43),(44),
(45),(46)はA〜Dのマットの第1のグランドライ
ン(47)に接続されている。
First, the local oscillation circuit (OSC) (31) in the AM tuner block (30) of FIG. 4A is on the mat A and the mixing circuit (MIX).
(32) on mat B, automatic gain control circuit (AGC) (3
3), the high frequency amplification circuit (RF) (34) and the intermediate frequency amplification circuit (IF) (35) are on the mat C, and the detection circuit (DET) (3
6) is substantially integrated on the mat D, and the third power supply line (37), (38), which is shown by the three-dot chain line and extends from the power supply pad V CC1 as shown in FIG. V CC to the first power supply line (41) of the mats A to D via (39) and (40)
Has been supplied. Further, the ground pad GND1 has three octopus-shaped electrodes (42) provided between the mat M and the mat N.
Is connected to the second ground lines (43), (44), (45), (46) indicated by the three-dot chain line on the one-end divided region (2) through the respective second ground lines (43). , (44),
(45) and (46) are connected to the first ground line (47) of the mats A to D.

次に第4図Bの高周波増幅回路(48)、混合回路(4
9)および局部発振回路(50)で構成されるフロントエ
ンドブロック(25)は、数μVと極めて小さいレベルの
信号を扱うため、他の回路ブロック特にFM−IFブロック
(27)からの干渉を嫌い、またこのブロック内にある局
部発振回路(50)がそれ自身発振し、不要輻射を発生さ
せる。そのため特にFM−IFブロック(27)と離間させ、
OSCブロック(50)が一番干渉を嫌うため別の電源VCC3,
VCC4,GND3,GND4を用いている。
Next, the high frequency amplifier circuit (48) and the mixing circuit (4
The front end block (25) consisting of 9) and the local oscillator circuit (50) handles signals of a very small level of a few μV, so it dislikes interference from other circuit blocks, especially the FM-IF block (27). Also, the local oscillator circuit (50) in this block oscillates itself to generate unnecessary radiation. Therefore, in particular, separate it from the FM-IF block (27),
Since the OSC block (50) is most susceptible to interference, another power supply V CC3 ,
We are using the V CC4, GND3, GND4.

すなわちFM−IFブロック(27)と対角線状にあるK〜
Mのマットに集積され、一番コーナとなるマットKに局
部発振回路(50)を集積し、その両側には別のパッドV
CC4およびGND4を通して第1の電源ライン(51)および
グランドライン(52)が設けてある。また他のL,Mのマ
ットは、VCC3およびGND3を通して、夫々の第1の電源ラ
インおよびグランドライン(53),(54)が設けてあ
る。
That is, K ~ which is diagonal to the FM-IF block (27)
The local oscillator circuit (50) is integrated on the mat K, which is the corner of the mat, and the other pads V are on both sides of the mat K.
A first power supply line (51) and a ground line (52) are provided through CC4 and GND4. The other L and M mats are provided with respective first power supply lines and ground lines (53) and (54) through V CC3 and GND 3 .

一方、中間周波増幅回路(55)、検波回路(56)およ
びSメータ(57)等で構成されるFM−IFブロック(27)
は、E〜Iのマットに集積され、検波回路(56)がマッ
トIに、Sメータ(57)等がマットGに、更には中間周
波増幅回路(55)中のリミッタ回路およびミュート回路
等が、E,FとGのマットに実質的に集積されている。
On the other hand, an FM-IF block (27) composed of an intermediate frequency amplification circuit (55), a detection circuit (56), an S meter (57), etc.
Are integrated in the mats E to I, and the detection circuit (56) is in the mat I, the S meter (57) is in the mat G, and the limiter circuit and the mute circuit in the intermediate frequency amplifier circuit (55) are , E, F and G mats are virtually integrated.

ここでは利得が80〜100dBと極めて高いリミッタ回路
と信号レベルの大きい検波回路(56)、前記リミッタ回
路と信号レベルの大きいSメータ(57)は帰還による発
振を生じ、検波回路(56)とSメータ(57)は相互干渉
による特性悪化が生じるため、マットE,F,Gの第1の電
源ライン(58)は、1本の三点鎖線で示す第3の電源ラ
イン(39)に、マットH,Iの第1の電源ライン(59)
は、1本の第3の電源ライン(38)に接続されている。
またマットJはユーザからのオプション回路を集積され
るものであり、この第1の電源ライン(60)も1本の第
3の電源ライン(37)に接続されている。
Here, a limiter circuit having a very high gain of 80 to 100 dB and a detection circuit (56) having a large signal level, and the limiter circuit and an S meter (57) having a large signal level generate oscillation due to feedback, and the detection circuit (56) and S Since the characteristic of the meter (57) deteriorates due to mutual interference, the first power supply line (58) of the mats E, F, G is connected to the third power supply line (39) indicated by the one-dot chain line. H, I first power line (59)
Is connected to one third power supply line (38).
The mat J has an optional circuit from a user integrated therein, and the first power supply line (60) is also connected to one third power supply line (37).

またE〜Jのマットにある一点鎖線で示す第1のグラ
ンドライン(61)は、グランドパッドGND1からたこ足状
に延在されて一端接続された第2のグランドライン(4
3),(44),(45),(46)と、前述と同様に接続さ
れている。
The first ground line (61) indicated by the alternate long and short dash line on the mats E to J extends from the ground pad GND1 in a octopus-like shape and is connected at one end to the second ground line (4).
3), (44), (45) and (46) are connected in the same manner as described above.

続いて、第4図Cのマルチプレックスデコーダーブロ
ック(29)の直流増幅回路(62)、デコーダ回路(6
3)、ランプドライバー回路(64)がマットQとマット
Rに、また位相比較回路(65)、ローパスフィルタ回路
(66)、電圧制御発振器(67)および分周回路(68)等
がマットSとマットTに実質的に集積されている。また
電源パッドVCC2よりたこ足状に3本延在された電極(6
9),(70),(71)は、AMチューナーブロック(30)
とFM−IFブロック(27)との間を通り、分割領域(2)
上の第2の電源ライン(72),(73),(74)へ一端接
続される。そして1本がマットQとRへ、1本がマット
SとTへ、更に1本がノイズキャンセラーブロック(2
8)となるN〜Pのマットへ伸びている。
Then, the DC amplifier circuit (62) and the decoder circuit (6) of the multiplex decoder block (29) of FIG. 4C.
3), the lamp driver circuit (64) is connected to the matte Q and the matte R, and the phase comparison circuit (65), the low pass filter circuit (66), the voltage controlled oscillator (67) and the frequency divider circuit (68) are connected to the matte S. Substantially integrated on the mat T. The electrode was Zaisa three extending from the power supply pad V CC2 in octopus form (6
9), (70), (71) are AM tuner blocks (30)
And the FM-IF block (27), and the divided area (2)
One end is connected to the second power supply lines (72), (73), (74) above. And one is for mats Q and R, one is for mats S and T, and one is for noise canceller block (2
8) It extends to N to P mats.

一方、グランドパッドGND2はたこ足状に3本の第3の
グランドライン(75),(76),(77)に接続され、前
述と同様に、N〜Pのマット、Q,Rのマット、S,Tのマッ
トへ伸びている。
On the other hand, the ground pad GND2 is connected to the three third ground lines (75), (76), (77) in a octopus-like shape, and in the same manner as described above, the N to P mats, the Q and R mats, Extends to S and T mats.

更にブロック間の相互干渉の防止を目的としてパッド
VCC1,VCC2、パッドGND1,GND2を夫々分け使用し、パッド
VCC1,VCC2はリードに接続され、パッドGND1,GND2はリー
ドに接続されている。これは先ずパッドVCC1の変動を直
接パッドVCC2に伝えることを防止し、しかも金属細線を
2本用いることで、この金属細線のインピーダンスを低
下させている。そのためリードに入ったパルスノイズ等
を、前記インピーダンスを介して増幅させず、電圧変動
を防止できる。
In addition, pads are used to prevent mutual interference between blocks.
Separately use V CC1 , V CC2 and pads GND1 and GND2
V CC1 and V CC2 are connected to leads, and pads GND1 and GND2 are connected to leads. This prevents the variation of the pad V CC1 from being directly transmitted to the pad V CC2 , and lowers the impedance of the metal thin wire by using two metal thin wires. Therefore, the pulse noise or the like that has entered the leads is not amplified through the impedance, and the voltage fluctuation can be prevented.

以上説明した如く、第1の電源ラインと第1のグラン
ドラインで構成される区画ライン()によってA〜
J、K〜Tのマットが区分されている。またこの第1の
電源ラインと第1のグランドラインが実質的に櫛歯状に
形成されているため、マット間のスペースや周辺のスペ
ースを有効に活用でき、チップ(1)周辺のパッド
VCC1,GND1,GND2を最短距離でつなぐことができる。
As described above, the partition line ( 5 ) composed of the first power supply line and the first ground line A to
The mats J, K to T are divided. Further, since the first power supply line and the first ground line are formed substantially in a comb shape, the space between the mats and the peripheral space can be effectively used, and the pads around the chip (1) can be effectively used.
V CC1 , GND1, GND2 can be connected at the shortest distance.

次にFMフロントエンド(26)とFM−IFブロック(27)
の干渉対策について述べる。従来では個別ICを夫々使っ
ていたためセット基板上の問題であったが、今回は1チ
ップ化のために更にこの干渉が問題となったが次の対策
により解決している。
Next, FM front end (26) and FM-IF block (27)
This section describes measures against interference. In the past, it was a problem on the set board because each individual IC was used, but this time this interference became a problem because it was one chip, but it is solved by the following measures.

先ず前述した如く、FMフロントエンドブロック(26)
は、数μVと極めて小さいレベルの信号を扱うため、他
の回路ブロック特にFM−IFブロック(27)からの干渉を
嫌い、またこのブロック内に構成される局部発振回路
(50)がそれ自身発振し、不要輻射を発生させるため、
他のブロックと離間したり別の電源を設けたりする必要
がある。
First, as mentioned above, the FM front end block (26)
Since it handles a signal of a very small level of several μV, it dislikes interference from other circuit blocks, especially the FM-IF block (27), and the local oscillator circuit (50) built in this block itself oscillates. However, in order to generate unnecessary radiation,
It is necessary to separate from other blocks or provide another power source.

これ等の理由により、先ずFMフロントエンドブロック
(26)とFM−IFブロック(27)を対角線上に設け、また
このブロックの中の局部発振回路(50)をマットKに集
積させ離間させた。次にAMチューナーブロック(30)と
FM−IFブロック(27)、FMフロントエンドブロック(2
6)とノイズキャンセラーブロック(28)との間、すな
わちマットDとマットE、マットMとマットNの区画ラ
イン幅を広く取ることでFMフロントエンドブロック(2
6)を他のブロック特にFM−IFブロック(27)から遠ざ
けている。またマットDとマットEおよびマットMとマ
ットNとの間に、電源パッドVCC2より第2の領域(2)
へ延在される電極(69),(70),(71)とグランドパ
ッドGND1より第1の領域(3)へ延在される電極(42)
とを設け、更に分割領域(2)上に第2の電源ライン
(72),(73),(74)と第2のグランドライン(4
3),(44),(45),(46)を設けている。従ってFM
フロントエンドブロック(26)は、隣接するFM−IFブロ
ック(27)、AMチューナーブロック(30)およびノイズ
キャンセラーブロック(28)と分離され、特に電源ライ
ン(69),(70),(71)は不要輻射を防止し、グラン
ドライン(43),(44),(45),(46)の少なくとも
1本は、分離領域(18)とコンタクトしているので基板
電流を吸い出すことができ干渉を防止している。
For these reasons, first, the FM front end block (26) and the FM-IF block (27) are provided on a diagonal line, and the local oscillator circuit (50) in this block is integrated on the mat K and separated. Next, with the AM tuner block (30)
FM-IF block (27), FM front end block (2
The FM front end block (2) is provided by widening the partition line width between the mat 6 and the noise canceller block (28), that is, the mat D and mat E and the mat M and mat N.
Keep 6) away from other blocks, especially the FM-IF block (27). Further, between the mat D and the mat E and between the mat M and the mat N, a second area (2) from the power supply pad V CC2 is provided.
Electrodes (69), (70), (71) extending to the first electrode (42) extending from the ground pad GND1 to the first region (3).
And a second power line (72), (73), (74) and a second ground line (4) on the divided area (2).
3), (44), (45) and (46) are provided. Therefore FM
The front end block (26) is separated from the adjacent FM-IF block (27), AM tuner block (30) and noise canceller block (28), especially the power supply lines (69), (70), (71). Unnecessary radiation is prevented, and at least one of the ground lines (43), (44), (45), (46) is in contact with the isolation region (18), so the substrate current can be drawn out and interference can be prevented. doing.

第5図は、前述の如くFMフロントエンドブロック(2
6)とFM−IFブロック(27)の離間状態を具体的に示し
た図である。一点鎖線の電流が1層目に形成される第1
乃至第3の電源ラインおよび第1乃至第3のグランドラ
インであり、実線で示した電極が、2層目に形成される
クロスオーバー用の電極である。
Fig. 5 shows the FM front end block (2
FIG. 6 is a diagram specifically showing a state where the 6) and the FM-IF block (27) are separated. The first dashed-dotted line current is formed on the first layer
To the third power supply line and the first to third ground lines, and the electrodes shown by the solid lines are the crossover electrodes formed in the second layer.

またこのFMフロントエンドブロック(26)の中の局部
発振回路(50)は、干渉を嫌うので、電源パッドVCC4
グランドパッドGND4を別に設け、外の回路は電源パッド
VCC3とグランドパッドGND3で供給されている。
The local oscillator circuit (50) in the FM front end block (26), since hate interference, provided separately the power pads V CC4 and ground pad GND4, outside the circuit power supply pad
Supplied on V CC3 and ground pad GND3.

更にはFM−IFブロック(27)は、FM信号のAM部を除去
するためのリミッタ回路を有し、この回路はマットEと
マットFで集積されている。このリミッタ回路に有るMO
S型のコンデンサは夫々アイランド内に形成され、この
アイランドが形成するPN接合によるコンデンサに依り基
板へリークを生じ、このリーク電流がFMフロントエンド
へ流れ誤動作を起こす。そのため第6図にハッチングで
示したダミーアイランド(78)を設けている。このダミ
ーアイランド(78)は、グランド電位で与えられる半導
体基板(16)と接続したP+型の分離領域(18)で囲まれ
たN型のエピタキシャル層(17)より成るので、このPN
接合による障壁が形成される。従ってリーク電流がFMフ
ロントエンドブロックへ侵入するのを防止できる。更に
はコンデンサをマットEに一括し、FMフロントエンドブ
ロックが形成される領域側に対応するFM−IFブロックの
側辺、具体的には第6図の×印でハッチングしたマット
Eの左側辺と下辺に吸出し電極(43),(79)と分離領
域のコンタクトを設け、集中的に吸い出している。実際
にはコンデンサをマットEに集積しているので、吸出し
電極(43)はマットEの下辺までしか延在されていな
い。
Further, the FM-IF block (27) has a limiter circuit for removing the AM part of the FM signal, and this circuit is integrated with the mat E and the mat F. MO in this limiter circuit
Each S-type capacitor is formed in an island, and the PN junction formed by this island causes leakage to the substrate due to the capacitor, and this leakage current flows to the FM front end and causes malfunction. Therefore, a dummy island (78) shown by hatching in FIG. 6 is provided. This dummy island (78) is composed of an N-type epitaxial layer (17) surrounded by a P + -type isolation region (18) connected to the semiconductor substrate (16) supplied with the ground potential.
A barrier is formed by the junction. Therefore, the leak current can be prevented from entering the FM front end block. Further, the capacitors are put together on the mat E, and the side of the FM-IF block corresponding to the area side where the FM front end block is formed, specifically, the left side of the mat E hatched with a cross in FIG. Suction electrodes (43) and (79) are provided on the lower side and contacts of the separation region are provided to intensively suck out. Since the capacitor is actually integrated on the mat E, the suction electrode (43) extends only to the lower side of the mat E.

ただしコンデンサがマットE〜マットJに分散してい
る時は、第1図のマットE〜マットJの下辺に示す電極
(43)のように形成し、この電極の下層に形成された分
離領域(18)と実質的に全面に渡りコンタクトをしても
良い。更にはこの吸出し電極(79)は、FM−IFブロック
(27)、マルチプレックスデコーダーブロック(29)お
よびノイズキャンセラーブロック(28)が形成される領
域の外周辺に延在されて、これらから生じるリーク電流
も吸い出している。同様にチップ(1)の左半分の周辺
にもグランドライン(80)を設けている。また配線の都
合上第3の電源ライン(37),(38),(39),(4
0)、分割領域(2)上の第2の電源ライン(72),(7
3),(74)および第2のグランドライン(43),(4
4),(45),(46)等は、黒丸で示したスルーホール
(第5図の×印と対応する。)を介して、点線で示す2
層目の電極層(第5図の実線と対応する。)を介してク
ロスオーバーしている。特にAMチューナーブロック(3
0)は外のブロック回路と同時に動作しないので、AMチ
ューナーブロック(30)とFM−IFブロック(27)を1つ
のパッドVCC1を共用しており、このためクロスオーバー
している。またグランドパッドGND1も同様である。
However, when the capacitors are dispersed in the mats E to J, they are formed like the electrodes (43) shown on the lower side of the mats E to J in FIG. 1, and the separation region ( 18) and contact may be made over substantially the entire surface. Further, the suction electrode (79) extends to the outer periphery of the region where the FM-IF block (27), the multiplex decoder block (29) and the noise canceller block (28) are formed, and leaks generated from them. It is also draining the current. Similarly, a ground line (80) is also provided around the left half of the chip (1). In addition, due to wiring, the third power line (37), (38), (39), (4
0), second power supply lines (72), (7) on the divided area (2)
3), (74) and the second ground line (43), (4
4), (45), (46), etc. are shown by dotted lines through through holes (corresponding to the X mark in FIG. 5) shown by black circles.
Crossover is performed through the electrode layer of the layer (corresponding to the solid line in FIG. 5). Especially AM tuner block (3
Since 0) does not operate simultaneously with the external block circuit, the AM tuner block (30) and the FM-IF block (27) share one pad V CC1 and therefore cross over. The same applies to the ground pad GND1.

次にマットEの所を拡大した第7図A,第7図Bを用い
て更に詳述する。このマットEのコンデンサが形成され
る領域から生じるリーク電流を、マットEの両側に形成
した一点鎖線で示すグランドライン(81),(82)や、
グランドライン(81)と櫛歯状に配置された吸出し電極
(83)で吸い出している。このマットEの部分拡大図を
第7図Aに示す。
Next, the mat E will be described in more detail with reference to FIGS. 7A and 7B, which are enlarged views. The leakage current generated from the area where the capacitor of the mat E is formed is indicated by the dashed lines formed on both sides of the mat E (81), (82),
The ground line (81) and the suction electrode (83) arranged in the shape of a comb are sucking out. A partially enlarged view of the mat E is shown in FIG. 7A.

一点鎖線で示した一番太い電極(81),(82)が、第
1図のマットEの両側に形成したグランドライン(7
9),(43)である。この2本のグランドライン(8
1),(82)の間にはMOS型のコンデンサ(84)が形成さ
れており、点でハッチングした部分がコンデンサの上層
電極(85)に相当し、第1層目に形成されている。また
この上層電極(85)は、右側の×印で示したコンタクト
を介して第2層目の電極(86)とオーミックコンタクト
し、この電極(86)は右側へ延在されて、本電子回路ブ
ロックに含まれる回路素子と接続されている。また前記
上層電極(85)の上下または左右に×印で示したコンタ
クト(87)は、第7図Bに示す上層電極(85)の下層に
形成されたP型の拡散領域(88)とコンデンサの下層電
極に該当する電極(89)とのコンタクト部分を示す。こ
こで前記電極(89)は以下下層電極と呼ぶ。この下層電
極(89)は、前記上層電極(85)と同様に、コンタクト
(90)を介して2層目の電極(91)とコンタクトし、こ
の2層目の電極(91)は、右側へ延在されて、本電子回
路ブロックに含まれる回路素子と接続されている。
The thickest electrodes (81) and (82) shown by the one-dot chain line are the ground lines (7) formed on both sides of the mat E in FIG.
9) and (43). These two ground lines (8
A MOS type capacitor (84) is formed between 1) and (82), and the hatched portion corresponds to the capacitor upper layer electrode (85) and is formed on the first layer. Further, the upper layer electrode (85) makes ohmic contact with the second layer electrode (86) through the contact shown by a mark on the right side, and the electrode (86) is extended to the right side to make the electronic circuit of the present invention. It is connected to the circuit elements included in the block. The contacts (87) indicated by crosses above and below or on the left and right of the upper electrode (85) are the P-type diffusion region (88) and the capacitor formed in the lower layer of the upper electrode (85) shown in FIG. 7B. The contact portion with the electrode (89) corresponding to the lower layer electrode is shown. Here, the electrode (89) is hereinafter referred to as a lower layer electrode. This lower layer electrode (89) contacts the second layer electrode (91) through the contact (90) like the upper layer electrode (85), and the second layer electrode (91) moves to the right side. It is extended and connected to the circuit elements included in the electronic circuit block.

最後に本発明の特徴点を一例してみる。例えばAMチュ
ーナーブロック(30)が不要であれば、A〜Dのマット
に、マルチプレックスデコーダーブロック(29)となる
4つのマットをそのまま集積化し、余ったマットQとマ
ットRに例えばマットIとJを集積化する。従ってI,J,
S,Tのマットが余分となるので、このマットを削除すれ
ばマットの配置が四角形のチップ内に整然と収納するこ
とができる。ここではマット内の1層目の配線はそのま
ま使い、マット間の配線およびブロック間の配線のみを
考えれば良い。
Finally, an example of the characteristic points of the present invention will be described. For example, if the AM tuner block (30) is not needed, four mats that will be the multiplex decoder block (29) are integrated in the mats A to D as they are, and the mats I and J, for example, are matted in the remaining mats Q and R. To be integrated. Therefore, I, J,
Since the mats for S and T are redundant, if this mat is deleted, the mats can be neatly stored in a rectangular chip. Here, the wiring of the first layer in the mat is used as it is, and only the wiring between the mats and the wiring between the blocks may be considered.

またFM−IFブロック(27)の一部改良の際は、例えば
改良部となるマットFのみを取り出して改良すれば良
く、他のマットE,G,Hはそのまま使うことができる。ま
たユーザのオプションとなる別のブロックを追加する時
は、全部のマットはそのまま使い、このブロックに必要
な数だけマットを追加すれば良いし、またここではマッ
トJをこのオプション用マットとしている。
Further, when a part of the FM-IF block (27) is modified, for example, only the mat F, which is a modified part, may be taken out and modified, and the other mats E, G, H can be used as they are. When adding another block which is an option for the user, all the mats are used as they are, and the required number of mats may be added to this block. Here, the mat J is used as this option mat.

つまり同一寸法のマットをマトリックス状に形成して
あるため、入替え、追加、および削除が非常に容易とな
る。
That is, since mats having the same size are formed in a matrix, replacement, addition, and deletion are very easy.

(ト)発明の効果 以上の説明からも明らかな如く、先ず第1に、FMフロ
ントエンドブロックが形成される領域側であるFM−IFブ
ロックの側辺に、半導体基板のリーク電流を吸い取る吸
出し電極(79),(43)を設けることで、前記FM−IFブ
ロックが形成される領域より生じるリーク電流を吸い出
すことが可能となる。従ってFM−IFブロックとFMフロン
トエンドブロックを1チップ化できる。
(G) Effects of the Invention As is apparent from the above description, first, the drain electrode for absorbing the leak current of the semiconductor substrate is first provided on the side of the FM-IF block, which is the side where the FM front end block is formed. By providing (79) and (43), it becomes possible to absorb the leak current generated from the region where the FM-IF block is formed. Therefore, the FM-IF block and the FM front end block can be integrated into one chip.

第2に、吸出し電極(79)を直接グランドパッドGND2
に接続したり、吸出し電極(43)をグランドライン(4
2)に接続すると、前記吸出し電極(79),(43)で吸
い出したリーク電流はGND1,GND2を介して外部へ流すこ
とが可能となる。
Second, connect the suction electrode (79) directly to the ground pad GND2.
Or connect the suction electrode (43) to the ground line (4
When connected to 2), the leak current sucked out by the suction electrodes (79), (43) can be made to flow to the outside via GND1 and GND2.

第3に、前記吸出し電極(79),(43)を、この電極
の下層に設けられた分離領域と、実質的に全面に渡りコ
ンタクトすることで、リーク電流の吸出し口となる分離
領域や吸出し電極(79),(43)はFM−IFブロックの周
囲を囲むことになる。
Thirdly, by contacting the drain electrodes (79) and (43) with the isolation region provided under the electrodes over substantially the entire surface, the isolation region or the drain that serves as a leak current drain port. The electrodes (79) and (43) surround the FM-IF block.

そのため、コンデンサがマットEに集積されず、分散
していても有効に吸い出すことができる。
Therefore, the capacitors are not integrated on the mat E and can be effectively sucked out even if they are dispersed.

第4に、吸出し電極(79),(80)を半導体チップの
周辺に延在し、分離領域を前記半導体チップ(1)の周
辺に設けることで、周辺に流れ出るリーク電流を吸い出
すことができる。
Fourthly, by providing the drain electrodes (79) and (80) around the semiconductor chip and providing the isolation region around the semiconductor chip (1), the leak current flowing out to the periphery can be drained.

第5に、前記FM−IFブロックに含まれるコンデンサ
を、このFM−IFブロックが形成される特定の領域に集積
し、この特定の領域に吸出し電極を設けることで、リー
ク電流の発生源であるコンデンサの形成された領域より
集中的に吸い出すことができる。
Fifthly, a capacitor included in the FM-IF block is integrated in a specific region where the FM-IF block is formed, and a suction electrode is provided in this specific region, which is a source of leak current. It can be sucked out intensively from the area where the capacitor is formed.

第6に、区画ライン()で半導体チップ(1)上面
を実質的に同一サイズの多数のマットに分割し、複数の
機能の異なる電子回路ブロックを整数個のマットに収容
すると、電子回路ブロック毎に並行して設計ができ、設
計期間を大幅に短縮できる。また電子回路ブロックを一
定の素子数で分割し、マット毎の設計が行えるので、マ
ット毎の並行設計もできる。また削除、追加および修正
等の回路変更も電子回路ブロック毎またはブロック毎に
設計できるので、ブロック毎またはマット毎の変更のみ
で足り、IC全体の設計変更が不要となる。更にはマット
を基本ブロックとしてセル化できるので、一端設計を終
了すれば、この後の回路変更の際、変更するマットのみ
の修正だけで、他のマットはそのまま使え信頼性が非常
に高くなる。
Sixth, when the upper surface of the semiconductor chip (1) is divided into a large number of mats having substantially the same size by the division line ( 5 ) and a plurality of electronic circuit blocks having different functions are accommodated in an integer number of mats, the electronic circuit block is formed. Each design can be done in parallel and the design period can be greatly shortened. Further, since the electronic circuit block is divided into a certain number of elements and the design for each mat can be performed, the parallel design for each mat can also be performed. Further, since circuit changes such as deletion, addition and correction can be designed for each electronic circuit block or each block, only the change for each block or each mat is sufficient, and the design change of the entire IC is unnecessary. Furthermore, since the mat can be made into a cell as a basic block, once the design is completed, other mats can be used as they are, and the reliability can be improved very much by modifying only the mat to be changed when the circuit is changed thereafter.

しかもこの設計が容易となるマット分割の半導体集積
回路に於いて、FMフロントエンドブロックが形成される
領域に対応するFM−IFブロックの側辺、ここではマット
Eの左側辺とマットE〜マットJの下辺に、吸出し電極
を設けることで、FMフロントエンドブロックが形成され
るマットK〜マットMへ流れるリーク電流が吸い出され
る。従ってこのマット分割におけるICにおいて、FM−IF
ブロックとFMフロントエンドブロックの1チップ化が可
能となる。
Moreover, in the mat-divided semiconductor integrated circuit which facilitates this design, the side of the FM-IF block corresponding to the region where the FM front end block is formed, here the left side of the mat E and the mats E to J By providing the drain electrode on the lower side, the leak current flowing to the mats K to M in which the FM front end block is formed is drained. Therefore, in the IC in this mat division, FM-IF
Block and FM front end block can be integrated into one chip.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は本発明の半導体集積回路の実施例を示す上面
図、第2図Aは本発明の半導体集積回路のマット領域を
示す上面図、第2図Bは第2図AにおけるA−A′線の
断面図、第3図は本発明の半導体集積回路に組み込まれ
る電子回路ブロック図、第4図AはAMチューナーブロッ
クを説明する図、第4図BはFMフロントエンドブロック
とFM−IFブロックを説明する図、第4図Cはマルチプレ
ックスデコーダーブロックを説明する図、第5図は第1
図の電極パターン図、第6図は第1図のダミーアイラン
ドパターン図、第7図AはマットEにコンデンサを集積
した時の上面図、第7図Bは第7図AにおけるA−A′
線の断面図、第8図は従来の半導体集積回路の上面図、
第9図は第8図におけるブロックbとブロックcの間の
断面図である。 (1)……半導体チップ、(2)……分割領域、(3)
……第1の領域、(4)……第2の領域、()……区
画ライン、(37),(38),(39),(40)……第3の
電源ライン、(43),(44),(45),(46)……第2
のグランドライン、(72),(73),(74)……第2の
電源ライン、(75),(76),(77)……第3のグラン
ドライン。
FIG. 1 is a top view showing an embodiment of a semiconductor integrated circuit of the present invention, FIG. 2A is a top view showing a mat area of the semiconductor integrated circuit of the present invention, and FIG. 2B is A-A in FIG. 2A. A sectional view taken along the line ', FIG. 3 is a block diagram of an electronic circuit incorporated in the semiconductor integrated circuit of the present invention, FIG. 4A is a diagram for explaining an AM tuner block, and FIG. 4B is an FM front end block and FM-IF. FIG. 4C is a diagram illustrating a block, FIG. 4C is a diagram illustrating a multiplex decoder block, and FIG.
FIG. 6 is an electrode pattern diagram of FIG. 6, FIG. 6 is a dummy island pattern diagram of FIG. 1, FIG. 7A is a top view when capacitors are integrated on the mat E, and FIG. 7B is AA ′ in FIG. 7A.
FIG. 8 is a cross-sectional view of the line, and FIG. 8 is a top view of a conventional semiconductor integrated circuit.
FIG. 9 is a sectional view between block b and block c in FIG. (1) …… Semiconductor chip, (2) …… Divided area, (3)
...... First area, (4) ...... Second area, ( 5 ) ...... Partition line, (37), (38), (39), (40) ...... Third power supply line, (43 ), (44), (45), (46) …… Second
Ground line, (72), (73), (74) ... second power line, (75), (76), (77) ... third ground line.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭62−12147(JP,A) 特開 昭62−293660(JP,A) 特開 昭61−292341(JP,A) 実開 昭57−138351(JP,U) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References JP 62-12147 (JP, A) JP 62-293660 (JP, A) JP 61-292341 (JP, A) Actual development 57- 138351 (JP, U)

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】半導体チップの半導体層を、略等しい大き
さと形状を持つ複数個の配置領域に区分し、 少なくともNPNトランジスタを含み、素子数と機能が異
なる複数の回路ブロックからなる回路網を、前記回路ブ
ロック毎に1つ又は複数個の前記配置領域に収納し、 電源供給用の配線を前記配置領域の側辺に沿って延在せ
しめ、 収納した素子からのリーク電流が危惧される配置領域の
側辺に、高濃度分離領域を設けると共に前記高濃度分離
領域が露出するコンタクト孔を設け、 前記配置領域の側辺に形成した前記電源供給用の配線の
一部であるグランド(GND)ライン、又は外部接続パッ
ドから単独で引き回したグランド(GND)ラインを、前
記コンタクト孔を介して前記高濃度分離領域に接続して
前記リーク電流の吸い出し電極としたことを特徴とする
半導体集積回路。
1. A semiconductor network of a semiconductor chip is divided into a plurality of arrangement regions having substantially the same size and shape, and a circuit network including a plurality of circuit blocks including at least NPN transistors and having different numbers of elements and functions, Each of the circuit blocks is housed in one or more of the layout areas, and wiring for power supply is extended along the side of the layout area to prevent leakage current from the stored elements in the layout area. Provided on the side edge is a contact hole through which the high concentration isolation area is exposed together with the high concentration isolation area, and a ground (GND) line that is a part of the power supply wiring formed on the side edge of the arrangement area, Alternatively, a ground (GND) line drawn independently from an external connection pad is connected to the high-concentration isolation region through the contact hole to serve as the leak current drain electrode. Semiconductor integrated circuit as a characteristic.
【請求項2】半導体チップの半導体層中央に、この半導
体チップを第1の領域および第2の領域に分割する分割
領域を形成し、 前記分割領域に、高濃度分離領域で囲まれたダミーアイ
ランドを延在せしめ、 前記第1の領域および第2の領域を、略等しい大きさと
形状を有する複数個の配置領域に区分し、 少なくともNPNトランジスタを含み、素子数と機能が異
なる複数の回路ブロックからなる回路網を、前記回路ブ
ロック毎に1つ又は複数個の前記配置領域に収納し、 電源供給用の配線を前記配置領域の側辺に沿って延在せ
しめ、 前記分割領域に設けられたダミーアイランドを囲む高濃
度分離領域上に、前記高濃度分離領域を露出するコンタ
クト孔を設け、 前記電源供給用の配線の一部であるグランド(GND)ラ
インを延長するか、または外部接続パッドから単独で引
き回したグランド(GND)ラインを、前記コンタクト孔
を介して前記高濃度分離領域に接続してリーク電流の吸
い出し電極としたことを特徴とする半導体集積回路。
2. A dummy region is formed in the center of the semiconductor layer of the semiconductor chip, the divided region dividing the semiconductor chip into a first region and a second region, and the divided region is surrounded by a high concentration isolation region. The first region and the second region are divided into a plurality of arrangement regions having substantially the same size and shape, and the plurality of circuit blocks including at least NPN transistors and having different numbers of elements and different functions are provided. Each of the circuit blocks is housed in one or a plurality of the layout areas, and wiring for power supply is extended along a side edge of the layout area. A contact hole that exposes the high concentration isolation region is provided on the high concentration isolation region surrounding the island, and a ground (GND) line that is a part of the power supply wiring is extended or The semiconductor integrated circuit, characterized in that ground (GND) line routed separately from the connection pads, and a suction electrode of leakage current through the contact hole connected to the high-concentration isolation regions.
【請求項3】前記第1の領域および前記第2の領域の一
方には、FMフロントエンドブロックが形成され、他方に
はFM−IFブロック形成される請求項2記載の半導体集積
回路。
3. The semiconductor integrated circuit according to claim 2, wherein an FM front end block is formed in one of the first area and the second area, and an FM-IF block is formed in the other area.
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JPS61292341A (en) * 1985-06-20 1986-12-23 Toshiba Corp Semiconductor integrated circuit
JPS6212147A (en) * 1985-07-10 1987-01-21 Hitachi Ltd Master slice type semiconductor device
JPS62293660A (en) * 1986-06-13 1987-12-21 Hitachi Ltd Semiconductor integrated circuit device

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