JPH0628289B2 - Semiconductor integrated circuit - Google Patents

Semiconductor integrated circuit

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JPH0628289B2
JPH0628289B2 JP20219688A JP20219688A JPH0628289B2 JP H0628289 B2 JPH0628289 B2 JP H0628289B2 JP 20219688 A JP20219688 A JP 20219688A JP 20219688 A JP20219688 A JP 20219688A JP H0628289 B2 JPH0628289 B2 JP H0628289B2
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mat
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semiconductor integrated
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Description

【発明の詳細な説明】 (イ) 産業上の利用分野 本発明は、半導体集積回路に関し、特にカスタムICの
要求に答えられる様に、機種展開の容易なパターン・レ
イアウトに関し、更には相互干渉を嫌うブロックのパタ
ーン・レイアウトを改良した半導体集積回路に関するも
のである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (a) Field of Industrial Application The present invention relates to a semiconductor integrated circuit, and more particularly to a pattern layout that can be easily expanded to meet the requirements of custom ICs, and further, mutual interference. The present invention relates to a semiconductor integrated circuit having an improved pattern layout of blocks it dislikes.

(ロ) 従来の技術 一般に、特開昭59−84542号公報(H01L 21/
76)の如く、複数個の回路ブロックを同一の半導体基板
上に形成する半導体集積回路技術は、第6図の構成とな
っている。
(B) Conventional Technology In general, JP-A-59-84542 (H01L 21 /
As shown in 76), the semiconductor integrated circuit technology for forming a plurality of circuit blocks on the same semiconductor substrate has the configuration shown in FIG.

第6図は、半導体チップ(1)の概略平面図であり、a乃
至fは回路ブロックを示す。これらの回路ブロックは、
夫々取り扱う周波数および信号レベルが異なり、機能も
夫々異なる。
FIG. 6 is a schematic plan view of the semiconductor chip (1), and a to f show circuit blocks. These circuit blocks are
The frequencies and signal levels to be handled are different, and the functions are also different.

この回路ブロックは、第7図の如くP-型の半導体基板
(2)上のN型の領域(3)に形成され、各回路ブロックは、
その周辺に隣接する高濃度のP+型の領域(4)によって区
画されている。ここではブロックbとブロックcで示し
てある。
This circuit block is a P - type semiconductor substrate as shown in FIG.
(2) is formed in the N-type region (3) above, and each circuit block is
It is partitioned by a high-concentration P + -type region (4) adjacent to its periphery. Here, it is shown by block b and block c.

この区画用のP+型の領域(4)は、その一端をP-型の半導
体基板(2)に接するとともに、他端は半導体表面の酸化
膜(5)を通してグランドライン(6)にオーミック接続され
る。
The P + type region (4) for this partition has one end in contact with the P type semiconductor substrate (2) and the other end ohmic-connected to the ground line (6) through the oxide film (5) on the semiconductor surface. To be done.

グランドライン(6)は、各ブロックから集積回路の中央
部にまとめ、左端にあるグランドボンディングパッドGN
Dに延在されている。
The ground line (6) is grouped in the center of the integrated circuit from each block, and the ground bonding pad GN at the left end
Has been extended to D.

次に各ブロック回路の電源ライン(Vcc)は、第6図に示
すように、集積回路の外周部にまとめ、夫々個別に電源
ボンディングパッドに接続される。
Next, the power supply line (Vcc) of each block circuit is gathered on the outer peripheral portion of the integrated circuit and individually connected to the power supply bonding pad, as shown in FIG.

一方、回路ブロックa乃至fは、機能が異なるため、ブ
ロック内に存在する素子数が異なり、ブロック・サイズ
が夫々異なってしまう構成となっている。
On the other hand, since the circuit blocks a to f have different functions, the number of elements existing in the block is different and the block sizes are different.

一方、TVチューナ、FM/AMチューナ等の電子機器
は、RF(Radio Frequency)信号からオーディオ信号
を取出す為、機能毎に分割した各回路ブロックの取扱う
信号の周波数が異なる場合が多い。例えば日本国内向け
のFMチューナだけでも、RF信号は76〜90MHz、
中間周波数信号は10.7MHz、そして20〜2000
0Hzのオーディオ信号と、20Hz〜90MHzの広範囲の
信号を取扱うことになる。
On the other hand, since electronic devices such as TV tuners and FM / AM tuners take out audio signals from RF (Radio Frequency) signals, the frequency of signals handled by each circuit block divided by function is often different. For example, with only an FM tuner for Japan, the RF signal is 76-90MHz,
Intermediate frequency signal is 10.7MHz, and 20 ~ 2000
It handles 0 Hz audio signals and a wide range of signals from 20 Hz to 90 MHz.

上記FM/AMチューナの一例を第4図に示す。同図に
おいて、(11)はFM放送を選局しその受信周波数信号と
局部発振回路(12)の発振周波数信号とを混合回路(13)で
混合することにより中間周波数に周波数変換するFMフ
ロントエンド回路、(14)は中間周波数信号(IF信号)
を増幅・振幅制限し且つこれを検波してオーディオ信号
(AF信号)を得るFM・IF増幅回路、(15)は例えば
特公昭62−21461号に記載されているが如き機能
を有するノイズキャンセル回路、(16)はステレオ放送の
場合にLチャンネル、Rチャンネル信号に復調するマル
チプレクス回路、(17)はAM放送を選局しオーディオ信
号を出力するAMチューナ回路である。例えばFM放送
受信の場合、アンテナ(18)から入力し、RF増幅回路(1
9)で高周波増幅したRF信号とFMフロントエンド回路
(11)の局部発振回路(12)が出力する発振周波数信号とを
FMフロントエンド回路(11)の混合回路(13)で混合する
ことによりFMフロントエンド回路(11)からIF信号を
出力し、該IF信号をFM・IF増幅回路(14)の検波回
路で検波することによりFM・IF増幅回路(14)からコ
ンポジット信号を出力し、マルチプレクス回路(16)によ
って出力端子(20)に夫々Lチャンネル、Rチャンネルの
オーディオ信号を出力する様構成されている。
An example of the FM / AM tuner is shown in FIG. In the figure, (11) is an FM front end that selects an FM broadcast and frequency-converts it to an intermediate frequency by mixing the reception frequency signal and the oscillation frequency signal of the local oscillation circuit (12) with a mixing circuit (13). Circuit, (14) is an intermediate frequency signal (IF signal)
An FM / IF amplifier circuit for amplifying and limiting the amplitude of the signal and detecting the signal to obtain an audio signal (AF signal), (15) is a noise canceling circuit having a function as described in Japanese Patent Publication No. 62-21461 , (16) is a multiplex circuit for demodulating into L channel and R channel signals in the case of stereo broadcasting, and (17) is an AM tuner circuit for selecting AM broadcasting and outputting an audio signal. For example, in the case of FM broadcast reception, input from the antenna (18),
RF signal amplified by high frequency in 9) and FM front end circuit
The IF signal is output from the FM front end circuit (11) by mixing the oscillation frequency signal output from the local oscillation circuit (12) of (11) with the mixing circuit (13) of the FM front end circuit (11), The IF signal is detected by the detection circuit of the FM / IF amplifier circuit (14) to output a composite signal from the FM / IF amplifier circuit (14). The multiplex circuit (16) outputs L to the output terminal (20). It is configured to output channel and R channel audio signals.

尚、斯る構成のFMチューナ回路は例えば昭和62年1
2月10日発行、「′88三洋半導体データブック ポ
ータブルオーディオ用バイポーラ集積回路編」第152
頁に記載されている。
An FM tuner circuit having such a configuration is, for example,
Issued February 10, "'88 Sanyo Semiconductor Data Book Portable Audio Bipolar Integrated Circuit Edition", No. 152
Page.

ところで、近年の電子機器は増々小型化・高性能化が求
められ、それに伴って第4図の回路はできる限り1チッ
プ化する方向に進んでいる。しかしながら、上記FMチ
ューナの例ではFMフロントエンド回路(11)が数十MHz
の高周波信号を扱う為、不要輻射による他回路への干渉
が生じ易い。また、アンテナ(18)からの微弱レベル信号
を取扱う為、他回路ブロックとの干渉により回路動作が
不安定になり易く、著しい場合には発振してしまう。そ
の為、FMフロントエンド回路(11)をも1チップ化する
ことは極めて困難であった。
By the way, in recent years, electronic devices are required to be smaller and have higher performance, and accordingly, the circuit of FIG. 4 is being integrated into one chip as much as possible. However, in the above FM tuner example, the FM front end circuit (11) has a frequency of several tens of MHz.
Since the high frequency signal of 1 is handled, interference with other circuits easily occurs due to unnecessary radiation. Further, since the weak level signal from the antenna (18) is handled, the circuit operation is apt to become unstable due to the interference with other circuit blocks, and in a remarkable case, it oscillates. Therefore, it was extremely difficult to integrate the FM front end circuit (11) into one chip.

(ハ) 発明が解決しようとする課題 この様に、従来はFMフロントエンド回路(11)をも集積
化することは回路干渉が生じ易い為に極めて困難である
欠点があった。また、パターン設計の開発期間が長く、
様々な要求に即応できない欠点があった。
(C) Problems to be Solved by the Invention As described above, conventionally, it is extremely difficult to integrate the FM front end circuit (11) because circuit interference easily occurs. Also, the development period of pattern design is long,
It had a drawback that it could not meet various demands immediately.

(ニ) 課題を解決するための手段 本発明は、斯る課題に鑑みてなされ、区画ライン(21)で
半導体チップ(22)上面を実質的に同一のサイズの多数の
マットに分割し、同時に動作しない電子ブロック回路を
夫々1つ以上の整数個のマット内に収容し、このマット
を交互に配置することにより、従来の課題を解決するも
のである。
(D) Means for Solving the Problems The present invention has been made in view of such problems, and divides the upper surface of the semiconductor chip (22) into a large number of mats having substantially the same size at the partition line ( 21 ), and at the same time, The conventional problems are solved by accommodating the non-operating electronic block circuits in one or more integer number of mats and arranging the mats alternately.

(ホ) 作 用 本発明に依れば、区画ライン(21)で半導体チップ(22)上
面を実質的に同一サイズの多数のマットに分割し、複数
の機能の異なる電子ブロック回路を整数個のマット内に
収容することにより、電子ブロック回路毎の設計を行え
且つ電子ブロック回路を一定の素子数で分割しマット毎
の設計が行える様になる。従って電子ブロック回路毎に
分割して並行設計が可能であり、設計期間の大幅短縮を
図れる。また回路変更も電子ブロック回路毎に且ワマッ
ト毎に行えるので、IC全体の設計変更は不要となる。
(E) Operation According to the present invention, the upper surface of the semiconductor chip (22) is divided into a large number of mats of substantially the same size by the division line ( 21 ), and an electronic block circuit having a plurality of different functions is divided into an integer number of pieces. By storing the electronic block circuit in the mat, the electronic block circuit can be designed, and the electronic block circuit can be divided into a certain number of elements to be designed for each mat. Therefore, it is possible to divide each electronic block circuit for parallel design, and it is possible to significantly reduce the design period. Further, the circuit can be changed for each electronic block circuit and for each wamut, so that the design change of the entire IC is not necessary.

更に第1の電子ブロック回路と第2の電子ブロック回路
は同時に動作しないので、第1の電子ブロック回路が動
作している時、第2の電子ブロック回路を集積したマッ
トは高インピーダンスとなり、またこのマットの右側辺
に配置した第2の電子ブロック回路専用のグランドライ
ンは吸取り専用のラインとなる。一方、第2の電子ブロ
ック回路が動作している時、第1の電子ブロック回路を
集積したマットは高インピーダンスとなり、またこのマ
ットの右側辺に配置した第1の電子ブロック回路専用の
グランドラインは吸取り専用のラインとなる。
Further, since the first electronic block circuit and the second electronic block circuit do not operate at the same time, when the first electronic block circuit is operating, the mat in which the second electronic block circuit is integrated has high impedance, and The ground line dedicated to the second electronic block circuit arranged on the right side of the mat is a line dedicated to sucking. On the other hand, when the second electronic block circuit is operating, the mat in which the first electronic block circuit is integrated has high impedance, and the ground line dedicated to the first electronic block circuit arranged on the right side of the mat is It will be a dedicated line for blotting.

従って第1の電子ブロック回路中での相互干渉をする回
路を夫々別々に集積したマットと第2の電子ブロック回
路を集積したマットを交互に配置することで、この別々
に集積したマットの相互干渉を防止することができる。
Therefore, by alternately arranging the mats in which the circuits interfering with each other in the first electronic block circuit are separately integrated and the mats in which the second electronic block circuit is integrated are alternately arranged, the mutual interference of the separately integrated mats is achieved. Can be prevented.

(ヘ) 実施例 先ず第1図を参照して本発明の実施例を詳述する。(F) Example First, an example of the present invention will be described in detail with reference to FIG.

半導体チップ(22)上面はA〜Hの8つのマットに分割さ
れている。A〜Hの各マット間には電源ライン(23)とグ
ランドライン(24)を隣接して並列に延在させた区画ライ
ン(21)で区分されている。
The upper surface of the semiconductor chip (22) is divided into eight mats A to H. Between the mats A to H, a power supply line (23) and a ground line (24) are divided by a partition line ( 21 ) which is adjacently extended in parallel.

区画ライン(21)を形成する電源ライン(23)およびグラン
ドライン(24)の配列は各マットA〜Hの左側に実線で示
す電源ライン(23)を設け、右側に一点鎖線で示すグラン
ドライン(24)が設けられる。従って両端のマットの区画
ラインのみが電源ライン(23)またはグランドライン(24)
の一方で形成され、中間の区画ラインは両方で構成され
ている。各マットA〜Hに隣接する電源ライン(23)およ
びグランドライン(24)は、夫々のマットに集積され回路
ブロックへの電源供給を行っている。
The arrangement of the power supply line (23) and the ground line (24) forming the division line ( 21 ) is such that the power supply line (23) shown by a solid line is provided on the left side of each mat A to H and the ground line (shown by a dashed line) on the right side. 24) is provided. Therefore, only the partition lines of the mats on both ends are the power line (23) or ground line (24).
Is formed on the one hand, and the intermediate division line is constituted by both. The power supply line (23) and the ground line (24) adjacent to each of the mats A to H are integrated in each mat and supply power to the circuit blocks.

また各区画ライン(21)の電源ライン(23)とグランドライ
ン(24)は、二点鎖線で示すラインで櫛歯状に接続されて
いる。第1の供給ライン(25)は、マットA,Cの電源ラ
イン(23)と、第1の供給ライン(26)はマットB,Dの電
源ラインと櫛歯状に配列し、電源パッドVcc1より並列に
延在されている。第1の供給ライン(27)はマットE,G
の電源ラインと、第1の供給ライン(28)はマットF,H
の電源ラインと櫛歯状に配置し、電源パッドVcc2より並
列に延在されている。
Further, the power supply line (23) and the ground line (24) of each partition line ( 21 ) are connected in a comb-teeth shape by a line indicated by a chain double-dashed line. First supply line (25), the mat A, and C of the power supply line (23), the first supply line (26) is arranged in the mat B, the power supply line and the comb-shaped and D, the power supply pad V cc1 More extended in parallel. First supply line (27) is mat E, G
The power supply line and the first supply line (28) are mats F and H
Are arranged in a comb shape with the power supply line and extend in parallel from the power supply pad V cc2 .

一方、第2の供給ライン(29)は、マットA,Cのグラン
ドライン(24)と、第2の供給ライン(30)は、マットB,
Dのグランドライン(24)と櫛歯状に配列し、グランドパ
ッドGND1より並列に延在されている。第2の供給ライン
(31)はマットE,Gと、第2の供給ライン(32)はマット
F,Hと櫛歯状に配列し、グランドパッドGND2より並列
に延在されている。
On the other hand, the second supply line (29) is the ground line (24) of the mats A and C, and the second supply line (30) is the mat B,
It is arranged in a comb shape with the D ground line (24) and extends in parallel from the ground pad GND1. Second supply line
(31) is arranged with the mats E and G, and the second supply line (32) is arranged with the mats F and H in a comb shape, and extends in parallel from the ground pad GND2.

前記電源ライン(23)、グランドライン(24)、第1の供給
ライン(25),(26),(27),(28)および第2の供給ライン
(29),(30),(31),(32)は、原則的に2層配線の内の1
層配線で実現され、一部交差領域をクロスオーバーして
いる。
The power supply line (23), ground line (24), first supply lines (25), (26), (27), (28) and second supply line
(29), (30), (31), (32) are in principle one of the two-layer wiring.
It is realized by layer wiring and partially crosses over the crossing area.

上述した区画ライン(21)で区分される各マットA〜H
は、実質的に同一の大きさの形状に形成され、具体的に
は幅をNPNトランジスタ6個が並べられるように設定
され、長さは設計上容易な一定の素子数、例えば約10
0素子がレイアウトできるように設定されている。この
マットの大きさについては、IC化する電子ブロック回
路に依り、設計し易い素子数に応じて任意に選択でき
る。
Mats A to H divided by the division line ( 21 ) described above
Are formed to have substantially the same size, and specifically, the width is set so that 6 NPN transistors are arranged, and the length is a fixed number of elements which is easy to design, for example, about 10
It is set so that 0 elements can be laid out. The size of the mat can be arbitrarily selected depending on the number of elements that can be easily designed, depending on the electronic block circuit to be integrated into an IC.

マット内に集積される回路素子は、トランジスタ、ダイ
オード、抵抗およびコンデンサにより構成され、通常の
PN分離によって分離され、各素子の結線は、2層配線
の第1の電極層によって接続され、例外部に2層目の電
極でクロスオーバーされている。
The circuit element integrated in the mat is composed of a transistor, a diode, a resistor and a capacitor and is separated by a normal PN separation, and the wiring of each element is connected by a first electrode layer of a two-layer wiring. The electrodes are crossed over at the second layer.

次に第2図Aおよび第2図Bを参照して、マット内に集
積される回路素子と区画ライン(21)について具体的に説
明する。
Next, with reference to FIGS. 2A and 2B, the circuit elements and partition lines ( 21 ) integrated in the mat will be specifically described.

第2図AはマットB付近の拡大上面図である。左の一点
鎖線で示した区画ライン(41)は、マットAとマットBの
間に設けられる区画ライン(21)であり、右の一点鎖線で
示した区画ライン(42)は、マットBとマットCの間に設
けられる区画ライン(21)である。そしてこの区画ライン
(41),(42)の間には、点線で示したトランジスタ(43)、
ダイオード(44)、抵抗(45)およびコンデンサ(46)が集積
されている。図面ではこれらの素子が粗になっている
が、実際は高密度に集積されている。またマット内の素
子間の配線は、一点鎖線で示す第1層目の電極層(47)で
実質的に形成され、マットAとマットBおよびマットB
とマットCのマット間の配線、例えば信号ラインやフィ
ードバックラインが実線で示す第2層目の電極層(48)で
形成されている。そしてこれらの第1層目および第2層
目の電極層(47),(48)は×印で示したコンタクト領域で
接続されている。
FIG. 2A is an enlarged top view of the vicinity of the mat B. The partition line ( 41 ) shown by the left-hand dashed line is the partition line ( 21 ) provided between the mat A and the mat B, and the partition line ( 42 ) shown by the right-hand dashed line is the mat B and the mat. It is a division line ( 21 ) provided between C. And this division line
Between ( 41 ) and ( 42 ), the transistor (43) indicated by the dotted line,
A diode (44), a resistor (45) and a capacitor (46) are integrated. Although these elements are rough in the drawing, they are actually densely integrated. The wiring between the elements in the mat is substantially formed by the first electrode layer (47) indicated by the alternate long and short dash line.
The wiring between the mat of the mat C and the mat of the mat C, for example, the signal line and the feedback line are formed by the second electrode layer (48) shown by the solid line. The first and second electrode layers (47) and (48) are connected to each other by the contact regions indicated by the cross marks.

第2図Bは第2図AにおけるA−A′線の断面図であ
る。P型の半導体基板(49)上にN型のエピタキシャル層
(50)が積層されており、このエピタキシャル層(50)表面
より前記半導体基板(49)に到達するP+型の分離領域(51)
が形成され、多数のアイランド領域が形成されている。
このアイランド領域(52)内にはNPNトランジスタ(4
3)、ダイオード(44)、抵抗(45)およびコンデンサ(46)等
が作られており、NPNトランジスタ(43)のコレクタ領
域(53)と前記半導体基板(49)との間にはN+型の埋込み領
域(54)が形成されている。前記エピタキシャル層(50)の
表面には例えばCVD法によりシリコン酸化膜(55)が形
成され、このシリコン酸化膜(55)上には、第1層目の電
極層(47)が形成されている。またこの第1層目の電極層
(47)を覆うように、例えば日立化成工業(株)で製品と
して出しているPIXの如き半導体用高耐熱ファインポ
リマー等の絶縁膜(56)が形成され、この絶縁膜(56)
上に第2層目の電極層(48)が形成されている。また電源
ライン(57)およびグランドライン(58)は、前記分離領域
(51)上に設けられ、グランドライン(58)はこの分離領域
(51)とオーミックコンタクトしており、基板電位の安定
化をはかっている。
2B is a sectional view taken along the line AA ′ in FIG. 2A. N type epitaxial layer on P type semiconductor substrate (49)
(50) are stacked, and the P + -type isolation region (51) reaching the semiconductor substrate (49) from the surface of the epitaxial layer (50)
Are formed, and a large number of island regions are formed.
Within this island region (52) are NPN transistors (4
3), a diode (44), a resistor (45), a capacitor (46), etc. are made, and an N + type is provided between the collector region (53) of the NPN transistor (43) and the semiconductor substrate (49). Embedded regions (54) are formed. A silicon oxide film (55) is formed on the surface of the epitaxial layer (50) by, for example, a CVD method, and a first electrode layer (47) is formed on the silicon oxide film (55). . In addition, this first electrode layer
An insulating film (56) made of high heat-resistant fine polymer for semiconductors such as PIX sold as a product by Hitachi Chemical Co., Ltd. is formed so as to cover (47), and this insulating film (56)
A second electrode layer (48) is formed thereon. In addition, the power line (57) and the ground line (58) are
The ground line (58) is provided above (51) and this isolation area is
It is in ohmic contact with (51) to stabilize the substrate potential.

次に、マットにどの様に集積するかを述べる。先ず本I
Cの電子回路は同時に動作しない第1の電子ブロック回
路と第2の電子ブロック回路を有している。この第1お
よび第2の電子ブロック回路は、所定の素子数を目安と
して複数に分割され、各マットに集積される。例えば夫
々が4つのマットに集積され、第1図に示すように、第
1の電子ブロック回路をマットA,C,E,Gに、第2
の電子ブロック回路をマットB,D,F,Hに集積し、
交互に配置している。また第1の電子ブロック回路の中
で相互干渉をする回路は別々のマットに集積し、第2の
電子ブロック回路の中の相互干渉をする回路も別々のマ
ットに集積している。
Next, it will be described how to integrate the mat. First, book I
The electronic circuit of C has a first electronic block circuit and a second electronic block circuit that do not operate simultaneously. The first and second electronic block circuits are divided into a plurality of pieces with a predetermined number of elements as a guide, and are integrated in each mat. For example, each of them is integrated in four mats, and as shown in FIG. 1, the first electronic block circuit is arranged in the mats A, C, E and G and the second electronic block circuit is arranged in the second mat.
The electronic block circuit of is integrated on the mats B, D, F and H,
They are arranged alternately. Further, the circuits interfering with each other in the first electronic block circuit are integrated in separate mats, and the circuits interfering with each other in the second electronic block circuit are also integrated in separate mats.

前述の如く第1および第2の電子ブロック回路は同時に
動作しないので、第1の電子ブロック回路が動作してい
る時は、第2の電子ブロック回路は止まっており、マッ
トB,D,F,Hは高インピーダンスとなる。従ってマ
ットAとCの相互干渉は高インピーダンスのマットB
で、マットCとEの相互干渉は高インピーダンスのマッ
トDで、マットEとGの相互干渉は高インピーダンスの
マットFで抑制できる。
As described above, since the first and second electronic block circuits do not operate at the same time, when the first electronic block circuit is operating, the second electronic block circuit is stopped and the mats B, D, F, H has a high impedance. Therefore, the mutual interference between the mats A and C is caused by the high impedance mat B.
The mutual interference between the mats C and E can be suppressed by the high impedance mat D, and the mutual interference between the mats E and G can be suppressed by the high impedance mat F.

一方、第2の電子ブロック回路が動作している時は、第
1の電子ブロック回路が止まっており、マットA,C,
E,Gは高インピーダンスとなる。従ってマットBと
D、マットDとF、マットFとHの相互干渉は夫々高イ
ンピーダンスのマットC,E,Gで抑制できる。
On the other hand, when the second electronic block circuit is operating, the first electronic block circuit is stopped and the mats A, C,
E and G have high impedance. Therefore, mutual interference between the mats B and D, the mats D and F, and the mats F and H can be suppressed by the mats C, E, and G having high impedance, respectively.

また止まっているブロック自身が巨大な接合型の容量と
なり、高周波ノイズの除去をしている。これは第2図B
に示す断面図のN型のエピタキシャル層(50)とP+型の分
離領域(51)、N型のエピタキシャル層(50)とP型の半導
体基板(49)で形成される。従ってマットAとCの夫々か
ら半導体基板(49)へ高周波ノイズが浸入しても、前記巨
大な接合型の容量が、マットBに在るため、この高周波
ノイズはマットBに印加されている電源ライン(57)で吸
取られ、マットAとマットCの相互干渉を防止してい
る。以下マットCとE、マットEとG等も同様である。
In addition, the stopped block itself becomes a huge junction-type capacitance, removing high-frequency noise. This is Fig. 2B
It is formed of an N type epitaxial layer (50) and a P + type isolation region (51), an N type epitaxial layer (50) and a P type semiconductor substrate (49) in the sectional view shown in FIG. Therefore, even if high frequency noise enters the semiconductor substrate (49) from each of the mats A and C, since the huge junction type capacitance exists in the mat B, this high frequency noise is applied to the mat B. It is sucked by the line (57) to prevent mutual interference between the mat A and the mat C. The same applies to the mats C and E and the mats E and G.

更に、マットの右側辺にはマット専用のグランドライン
(58)が、半導体基板(49)に到達する分離領域(51)とオー
ミックコンタクトしているので、半導体基板(49)に流れ
出たリーク電流を吸取ることができる。
In addition, the ground line dedicated to the mat is on the right side of the mat.
Since (58) is in ohmic contact with the isolation region (51) reaching the semiconductor substrate (49), it is possible to absorb the leak current flowing out to the semiconductor substrate (49).

またマットAとCの電源ライン(23)は、マットBとDの
電源ライン(23)と並列に、第1の供給ライン(25)(26)を
介して電源パッドVcc1より延在されているので、マット
Aの電源ラインに生じる電圧変動を直接マットBの電源
ラインへ伝えることが無くなる。これはVcc2,GND1およ
びGND2も同様の事がいえる。
Further, the power supply line (23) of the mats A and C is extended in parallel with the power supply line (23) of the mats B and D from the power supply pad Vcc1 via the first supply lines (25) and (26). Therefore, the voltage fluctuation occurring in the power line of the mat A is not directly transmitted to the power line of the mat B. The same applies to Vcc2 , GND1 and GND2.

次に、本構成に組み込む電子ブロック回路とマットの関
係について述べる。一例として第4図に示すFM/AM
チューナを使って説明する。ここで第1の電子ブロック
回路としてはFMチューナ回路であり、このFMチュー
ナ回路を相互干渉し易いFMフロントエンドブロック(1
1)とFM−IFブロック(14)に分け、夫々をマットAと
C、マットEとGに集積した。また第2の電子ブロック
回路としては、第5図に示すAMチューナ回路(17)であ
り、高周波増幅回路RF(61)、混合回路MIX(62)およ
び局部発振回路OSC(63)を含んだAM−RFブロック
(64)と、中間周波増幅回路IF(65)と検波回路DET(6
6)を含んだAM−IFブロック(67)に分け、この2つの
ブロック(64),(67)を夫々マットBとD、マットFとH
に集積した。各ブロックは夫々素子数が異なるのでマッ
トに集積される素子数も異なり、ここではマットB,
D,F,HはマットA,C,E,Gに比べ疎になる。
Next, the relationship between the electronic block circuit incorporated in this configuration and the mat will be described. As an example, FM / AM shown in FIG.
Use the tuner to explain. Here, the first electronic block circuit is an FM tuner circuit, and the FM front end block (1
1) and the FM-IF block (14) were divided into mats A and C and mats E and G, respectively. The second electronic block circuit is the AM tuner circuit (17) shown in FIG. 5, which includes the high frequency amplifier circuit RF (61), the mixing circuit MIX (62) and the local oscillator circuit OSC (63). -RF block
( 64 ), intermediate frequency amplifier circuit IF (65) and detection circuit DET (6
It is divided into an AM-IF block ( 67 ) including 6), and these two blocks ( 64 ) and ( 67 ) are respectively mats B and D and mats F and H.
Accumulated in. Since each block has a different number of elements, the number of elements integrated in the mat is also different.
D, F and H are sparser than the mats A, C, E and G.

本ICではFMフロントエンドブロック(11)とFM−I
Fブロック(14)の相互干渉が一番問題となるのでマット
AとC、マットEとGに分けた。従ってマットAとCよ
りマットEとGへ侵入するノイズに対しては、マットB
とDが高インピーダンスの障壁となり、マットEとGよ
りマットAとCへ侵入するノイズに対しては、マットD
とFが高インピーダンスの障壁となる。
In this IC, FM front end block (11) and FM-I
Mutual interference of the F block (14) is the most problematic, so it was divided into mats A and C and mats E and G. Therefore, for noise that enters mats E and G from mats A and C, mat B
And D become high impedance barriers, and mat D is used to prevent noise from entering mats A and C from mats E and G.
And F are high impedance barriers.

一方、グランドラインを考えると、マットAとCよりマ
ットEとGへ侵入するリーク電流は、マットBとDのグ
ランドラインで吸取り、マットEとGよりマットAとC
へ侵入するリーク電流は、マットDとFのグランドライ
ンで吸取ることができる。
On the other hand, considering the ground line, the leak currents that enter the mats E and G from the mats A and C are absorbed by the ground lines of the mats B and D, and the matte A and C are absorbed by the mats E and G.
The leak current that enters into can be absorbed by the ground lines of the mats D and F.

第3図は他の実施例であり、FMフロントエンドブロッ
ク(11)をマットAとBに、FM−IFブロック(14)をマ
ットEとFに、AM−RFブロック(64)をマットCとD
に、AM−IFブロック(67)をマットGとHに集積し
た。この実施例も、マットを2つずつ交互に配置されて
おり、前実施例と同様の効果を有する。
FIG. 3 shows another embodiment in which the FM front end block (11) is the mats A and B, the FM-IF block (14) is the mats E and F, and the AM-RF block ( 64 ) is the mat C. D
Then, the AM-IF block ( 67 ) was integrated on the mats G and H. Also in this embodiment, two mats are alternately arranged, and the same effect as the previous embodiment is obtained.

(ト) 発明の効果 以上の説明からも明らかな如く、第1に区画ライン(21)
で半導体チップ(22)上面を実質的に同一サイズの多数の
マットに分割し、複数の機能の異なる電子ブロック回路
を整数個のマットに収容すると、電子ブロック回路毎に
並行して設計ができ、設計期間を大幅に短縮できる。ま
た電子ブロック回路を一定の素子数で分割し、マット毎
の設計が行えるので、マット毎の並行設計もできる。ま
た削除、追加および修正等の回路変更も電子ブロック回
路毎またはブロック毎に設計できるので、ブロック毎ま
たはマット毎の変更のみで足り、IC全体の設計変更が
不要となる。更にはマットを基本ブロックとしてセル化
できるので、一端設計を終了すれば、この後の回路変更
の際、変更するマットのみの修正だけで、他のマットは
そのまま使え信頼性が非常に高くなる。
(G) Effect of the invention As is apparent from the above description, firstly, the dividing line ( 21 )
By dividing the upper surface of the semiconductor chip (22) into a large number of mats of substantially the same size and accommodating a plurality of electronic block circuits having different functions in an integer number of mats, it is possible to design in parallel for each electronic block circuit, The design period can be greatly shortened. Further, since the electronic block circuit is divided by a fixed number of elements and the design for each mat can be performed, the parallel design for each mat can also be performed. Further, since circuit changes such as deletion, addition and correction can be designed for each electronic block circuit or each block, only the change for each block or each mat is sufficient, and the design change of the entire IC is not necessary. Furthermore, since the mat can be made into a cell as a basic block, once the design is completed, other mats can be used as they are, and the reliability can be improved very much by modifying only the mat to be changed when the circuit is changed thereafter.

第2に、同時に動作しない第1の電子ブロック回路と第
2の電子ブロック回路を、各々複数に分割してマットに
集積し、この第1および第2の電子ブロック回路に集積
したマットを交互に配置し、且つ第1および第2の電子
ブロック回路内で相互干渉を嫌う回路は、夫々別のマッ
トに集積されるようにする。従って一方の電子ブロック
回路において、相互干渉を嫌う回路を有するマットとマ
ットの間には、他方の電子ブロック回路が集積されたマ
ットを有し、更には一方の電子ブロック回路が動作して
いる時は、前記挾まれたマットは回路が止まっているた
め高インピーダンスとなる。そのためこの高インピーダ
ンスのマットの両側に隣接したマットは、相互干渉を防
止できる。
Second, the first electronic block circuit and the second electronic block circuit, which do not operate simultaneously, are each divided into a plurality of pieces and integrated on a mat, and the mats integrated on the first and second electronic block circuits are alternately arranged. The circuits arranged and averse to each other in the first and second electronic block circuits are integrated into separate mats. Therefore, in one of the electronic block circuits, a mat in which the other electronic block circuit is integrated is provided between the mat and the mat which have a circuit that dislikes mutual interference, and when one of the electronic block circuits is operating. , The sandwiched mat has a high impedance because the circuit is stopped. Therefore, the mats adjacent to both sides of this high impedance mat can prevent mutual interference.

しかもこの高インピーダンスのマットは、隣接した両側
のマットを離間させるので、更に相互干渉を防止でき
る。またこの高インピーダンスのマットの右側辺には、
分離領域(51)とオーミックコンタクトしたグランドライ
ン(24)が形成されているので、基板(49)へ流れるリーク
電流を吸取ることができる。
Moreover, this high-impedance mat separates the adjacent mats on both sides, so that mutual interference can be further prevented. Also, on the right side of this high impedance mat,
Since the ground line (24) in ohmic contact with the isolation region (51) is formed, it is possible to absorb the leak current flowing to the substrate (49).

更には第2の電子ブロック回路が動作している時は、こ
の第2の電子ブロック回路が集積されたマットとその側
辺にあるグランドラインは回路の一部として機能し、第
1の電子ブロック回路が動作している時は、第2の電子
ブロック回路が集積されたマットが高インピーダンスと
なり、更にグランドラインが吸取りラインとして働くの
で、2通りの機能を果たす。逆の時も同様である。
Furthermore, when the second electronic block circuit is operating, the mat on which the second electronic block circuit is integrated and the ground line on the side of the mat function as a part of the circuit, and the first electronic block When the circuit is operating, the mat in which the second electronic block circuit is integrated has a high impedance, and the ground line functions as a suction line, so that two functions are performed. The same is true for the opposite case.

第2に、電源ライン(23)およびグランドライン(24)を2
層配線構造の1層目の電極層(47)に形成することによ
り、マット内にレイアウトする素子との配線を実質的に
1層目の電極層(47)で実施できるので、マット間の配
線、信号線の配線を2層目の電極層(48)に集約でき、設
計が非常に簡単となる。
Second, connect the power line (23) and ground line (24) to two.
By forming on the first electrode layer (47) of the layer wiring structure, wiring with the elements to be laid out in the mat can be performed substantially on the first electrode layer (47), so that wiring between the mats , The wiring of the signal line can be integrated in the second electrode layer (48), and the design becomes very simple.

第3に、回路ブロックは、少なくともトランジスタ、ダ
イオード、抵抗およびコンデンサ等の多種の形状の異な
る回路素子で構成されているが、マットを一定の集積し
易いサイズに統一したことで、マット内への素子の配置
を実施するだけで、全体のレイアウトは無用となる様に
設けられるため設計が容易となる。
Thirdly, the circuit block is composed of at least various circuit elements having different shapes such as a transistor, a diode, a resistor, and a capacitor. However, by unifying the mat into a certain size that facilitates integration, Designing is easy because the entire layout is made useless by simply arranging the elements.

第4に、マットの側辺に設けた電源ライン(23)およびグ
ランドライン(24)と第1の供給ライン(25),(26),(2
7),(28)および第2の供給ライン(29),(30),(31),(3
2)とを櫛歯状に形成することにより、半導体チップ(22)
に設けた電源パッドおよびグランドパッドを最短距離で
つなぐことができる。
Fourthly, the power supply line (23) and the ground line (24) and the first supply lines (25), (26), (2) provided on the sides of the mat.
7), (28) and the second supply line (29), (30), (31), (3
2) and the semiconductor chip (22)
It is possible to connect the power supply pad and the ground pad provided at the shortest distance.

第5に、マット内に収容された素子間の配線は、原則と
して1層目に形成するので、区画ライン(21)を超えて行
うマット間および電子ブロック回路間の配線は、2層目
を用いることができ、マット内の素子間の配線とマット
間あるいは電子ブロック回路間の配線を区別して設計で
き、設計が極めて容易となる。
Fifthly, since the wiring between the elements housed in the mat is formed in the first layer in principle, the wiring between the mats and the electronic block circuits that cross the division line ( 21 ) should be in the second layer. It can be used, and the wiring between the elements in the mat and the wiring between the mats or between the electronic block circuits can be distinguished and designed, and the design becomes extremely easy.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明の半導体集積回路の上面図、第2図Aは
本発明の半導体集積回路のマット領域を示す上面図、第
2図Bは第2図AのA−A′線における断面図、第3図
は本発明の半導体集積回路の上面図、第4図はFM/A
Mチューナを示すブロック図、第5図は第4図のAMチ
ューナブロックを示すブロック図、第6図は従来の半導
体集積回路の上面図、第7図は第6図におけるブロック
bとブロックcの間の断面図である。 (21)……区画ライン、(22)……半導体チップ、(23)……
電源ライン、(24)……グランドライン、(25),(26),(2
7),(28)……第1の供給ライン、(29),(30),(31),(3
2)……第2の供給ライン、(43)……トランジスタ、(44)
……ダイオード、(45)……抵抗、(46)……コンデンサ、
(47)……第1層目の電極層、(48)……第2層目の電極
層、(49)……半導体基板、(50)……エピタキシャル層、
(51)……分離領域、(52)……アイランド、(54)……埋込
み領域、(55),(56)……絶縁膜。
FIG. 1 is a top view of the semiconductor integrated circuit of the present invention, FIG. 2A is a top view showing a mat area of the semiconductor integrated circuit of the present invention, and FIG. 2B is a cross section taken along the line AA ′ of FIG. 2A. 3 and 4 are top views of the semiconductor integrated circuit of the present invention, and FIG. 4 is FM / A.
FIG. 5 is a block diagram showing an M tuner, FIG. 5 is a block diagram showing an AM tuner block shown in FIG. 4, FIG. 6 is a top view of a conventional semiconductor integrated circuit, and FIG. 7 is a block diagram showing a block b and a block c in FIG. FIG. ( 21 ) …… Compartment line, (22) …… Semiconductor chip, (23) ……
Power line, (24) …… Grand line, (25), (26), (2
7), (28) ... first supply line, (29), (30), (31), (3
2) …… Second supply line, (43) …… Transistor, (44)
…… Diode, (45) …… Resistance, (46) …… Capacitor,
(47) …… first layer electrode layer, (48) …… second layer electrode layer, (49) …… semiconductor substrate, (50) …… epitaxial layer,
(51) …… Separation area, (52) …… Island, (54) …… Embedded area, (55), (56) …… Insulating film.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H04B 15/02 9298−5K ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Office reference number FI technical display location H04B 15/02 9298-5K

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】電源ラインとグランドラインを一組として
隣接させて延在した区画ラインを、複数本同一方向に配
列して、半導体チップを実質的に同一サイズの複数個の
領域に分割して形成したマットと、 前記半導体チップに組み込まれる複数の機能の異なる電
子ブロック回路より構成された電子回路とを備え、 前記電子回路は、同時に動作しない第1の電子ブロック
回路と第2の電子ブロック回路を少なくとも有し、 この第1の電子ブロック回路を複数に分割し集積した整
数個のマットと第2の電子ブロック回路を複数に分割し
集積したn個のマットとを交互に配置して成ることを特
徴とした半導体集積回路。
1. A semiconductor chip is divided into a plurality of regions of substantially the same size by arranging a plurality of partition lines, which are adjacent to each other and extend as a set of a power supply line and a ground line, in the same direction. A formed mat and an electronic circuit configured by a plurality of electronic block circuits having different functions incorporated in the semiconductor chip, wherein the electronic circuits are a first electronic block circuit and a second electronic block circuit that do not operate simultaneously. At least, and an integer number of mats obtained by dividing the first electronic block circuit into a plurality of pieces and integrating them and n pieces of matting obtained by dividing the second electronic block circuit into a plurality of pieces and alternately arranged. A semiconductor integrated circuit characterized by.
【請求項2】電源ラインおよびグランドラインは、2層
配線構造の1層目に形成される請求項第1項記載の半導
体集積回路。
2. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the power supply line and the ground line are formed in the first layer of the two-layer wiring structure.
【請求項3】回路ブロックは、少なくともバイポーラト
ランジスタ、ダイオード、抵抗およびコンデンサより構
成される請求項第1項記載の半導体集積回路。
3. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the circuit block includes at least a bipolar transistor, a diode, a resistor and a capacitor.
【請求項4】電源ラインは複数個のマットの一側辺に設
けられ、且つ半導体チップの一側辺に設けられた第1の
供給ラインより櫛歯状に延在され、 グランドラインは複数個のマットの他側辺に設けられ、
且つ半導体チップの他側辺に設けられた第2の供給ライ
ンより櫛歯状に延在される請求項第1項記載の半導体集
積回路。
4. A power supply line is provided on one side of a plurality of mats, and extends in a comb shape from a first supply line provided on one side of the semiconductor chip. A plurality of ground lines are provided. Is provided on the other side of the mat
2. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the semiconductor integrated circuit extends in a comb shape from a second supply line provided on the other side of the semiconductor chip.
【請求項5】マット内の配線は、実質的に1層目に形成
され、マットとマットおよび電子ブロック回路と電子ブ
ロック回路との配線は、実質的に2層目に形成される請
求項第1項記載の半導体集積回路。
5. The wiring in the mat is formed substantially in the first layer, and the wiring between the mat and the mat and the electronic block circuit and the electronic block circuit is formed in the substantially second layer. 2. The semiconductor integrated circuit according to item 1.
【請求項6】電源ラインとグランドラインを一組として
隣接させて延在した区画ラインを、複数本同一方向に配
列して、半導体チップを実質的に同一サイズの複数個の
領域に分割して形成したマットと、 前記半導体チップに組み込まれる複数の機能の異なる電
子ブロック回路より構成された電子回路とを備え、 前記電子回路は、同時に動作しないAMチューナブロッ
ク回路とFMチューナブロック回路とを少なくとも有
し、このAMチューナブロック回路を複数に分割し集積
したマットと、 前記FMチューナブロック回路を複数に分割し集積した
マットとを交互に配置して成ることを特徴とした半導体
集積回路。
6. A plurality of partition lines extending adjacently as a set of a power line and a ground line are arranged in the same direction to divide a semiconductor chip into a plurality of regions of substantially the same size. The formed mat and the electronic circuit configured by a plurality of electronic block circuits having different functions incorporated in the semiconductor chip are provided, and the electronic circuit has at least an AM tuner block circuit and an FM tuner block circuit that do not operate simultaneously. A semiconductor integrated circuit is characterized in that a mat in which the AM tuner block circuit is divided into a plurality of pieces and integrated, and a mat in which the FM tuner block circuit is divided into a plurality of pieces and is integrated are arranged alternately.
【請求項7】電源ラインおよびグランドラインは、2層
配線構造の1層目に形成される請求項第6項記載の半導
体集積回路。
7. The semiconductor integrated circuit according to claim 6, wherein the power supply line and the ground line are formed on the first layer of the two-layer wiring structure.
【請求項8】回路ブロックは、少なくともバイポーラト
ランジスタ、ダイオード、抵抗およびコンデンサより構
成される請求項第6項記載の半導体集積回路。
8. The semiconductor integrated circuit according to claim 6, wherein the circuit block includes at least a bipolar transistor, a diode, a resistor and a capacitor.
【請求項9】電源ラインは複数個のマットの一側辺に設
けられ、且つ半導体チップの一側辺に設けられた第1の
供給ラインより櫛歯状に延在され、 グランドラインは複数個のマットの他側辺に設けられ、
且つ半導体チップの他側辺に設けられた第2の供給ライ
ンより櫛歯状に延在される請求項第6項記載の半導体集
積回路。
9. A power supply line is provided on one side of a plurality of mats, and extends in a comb shape from a first supply line provided on one side of a semiconductor chip. A plurality of ground lines are provided. Is provided on the other side of the mat
7. The semiconductor integrated circuit according to claim 6, wherein the semiconductor integrated circuit extends in a comb shape from a second supply line provided on the other side of the semiconductor chip.
【請求項10】マット内の配線は、実質的に1層目に形
成され、マットとマットおよび電子ブロック回路と電子
ブロック回路との配線は、実質的に2層目に形成される
請求項第6項記載の半導体集積回路。
10. The wiring in the mat is formed substantially in the first layer, and the wiring between the mat and the mat and the electronic block circuit and the electronic block circuit is formed in the substantially second layer. 6. A semiconductor integrated circuit according to item 6.
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