JP2672230B2 - 射出成形装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はゴム製品成形用の射出成
形装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】ゴム製品の射出成形に際しては、キャビ
ティ内のエア抜きが成形歩留りに大きく影響し、通常は
金型をバンピングしてキャビティ内のエア抜き（ガス抜
き）を行っているが、この場合金型の合わせ面間にゴム
材料が流出してバリが生じてしまう。

【０００３】そこで、このようなバンピングによるエア
抜きに伴うバリ発生を回避するために、例えば、実開昭
６１−１４０８１７号公報に示されているように、キャ
ビティ内を真空にするようにした射出成形装置が提案さ
れている。

【０００４】これは、成形機のノズル受け部の外側にノ
ズルセット時にシール装置によって隔成される真空室を
設け、インジエクションノズルがノズル受け部に当接す
る直前に該真空室を真空引きし、ノズル受け部に開口す
るスプルーを経由してキャビティ内を真空にするように
してある。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】前述の射出成形装置は
金型およびノズル受け部までゴム材料の流通部分を加熱
装置により全体的にゴムの加硫温度に加熱するホットラ
ンナータイプの射出成形装置であるため、１回毎の成形
工程でスプルーに滞留したゴム材料が加硫して、型抜き
時に製品と一緒にスプルー部も引き抜かれるので、次工
程での真空引きが可能となるのであるが、これを材料歩
留りの良いコールドランナータイプのものに適用しよう
としても不可能である。

【０００６】即ち、コールドランナータイプの射出成形
装置では、前述のようにゴム材料の歩留りを良くするた
めに、スプルーを含めてその上流のゴム材料流通部分を
加硫温度よりも低い温度に保持しておくことから、型抜
き時にはスプルー上流にゴム材料が残留しており、従っ
て、該部分を通してのキャビティの真空引きは出来な
い。

【０００７】このようなことから、前記公報あるいは実
公昭６０−３６４１７号公報にも示されているように、
固定型，可動型を取付ける一対の取付板間に、これら固
定型，可動型を全体的に包囲して真空室を形成すること
も考えられているが、これでは、作業効率の向上を図る
上で真空室の容積を狭めようとした場合に、金型の厚み
を十分にとることができず、成形高さ寸法に大きく制約
を受けてしまう。

【０００８】そこで、本発明はゴム材料歩留りの良いコ
ールドランナータイプの射出成形に際して、成形高さ寸
法に制約を受けることなくキャビティ内を真空引きする
ことができる射出成形装置を提供するものである。

【０００９】

【課題を解決するための手段】キャビティを形成する固
定型および可動型に、ゴム材料の加硫温度に加熱する加
熱手段を設ける一方、固定型，可動型の何れか一方に断
熱材を介して接続されて、ゴム材料を注入するインジエ
クションノズルのノズル受け部から前記キャビティに連
絡するランナーおよびスプルーを形成するランナーブロ
ックに、ゴム材料を加硫温度よりも低い温度に保持する
冷却手段を設けると共に、固定型と可動型の何れか一方
の外周部に環状壁を設け、他方の外周部にこの環状壁に
内接するシール手段を設けて、これら固定型と可動型と
の合わせ部外周側に、真空引きされる真空室を形成して
ある。

【００１０】

【作用】固定型と可動型を型締めする直前に真空室を真
空引きすることにより、これら固定型と可動型との合わ
せ面間を通してキャビティ内が真空引きされる。

【００１１】キャビティの真空引き後、キャビティ内に
ゴム材料を充填し、加硫成形後に製品を型抜きすると、
スプルー上流のゴム材料流通路内にはゴム材料が未加硫
のまま残留し、次の射出成形に備える。

【００１２】

【実施例】以下、本発明の一実施例を図面と共に詳述す
る。

【００１３】図５は本発明の実施例装置によって形成さ
れる円筒形防振ブッシュを示し、ブッシュａは金属製の
内筒ｂと、金属製の外筒ｃ、およびこれら内，外筒ｂ，
ｃ間に一体成形される防振ゴムｄとからなっていて、こ
の防振ゴムｄの部分が射出成形される。

【００１４】図１〜４において、１は上側の固定型（以
下上型と称す）、２は下側の可動型（以下下型と称す）
で、これら上型１，下型２には、ゴム材料の加硫温度、
例えば１５０〜１７０℃に加熱するカートリッジヒータ
ー３を加熱手段として設けてある。

【００１５】上型１，下型２にはそれぞれ後述するキャ
ビティ１４を形成するコア４，５を複数個対設してあ
る。

【００１６】コア４には前記ブッシュａの内筒ｂを芯出
しするロケートピン６を設けてある一方、コア５には同
じく内筒ｂの芯出しと、製品の型抜きとを兼ねたエジエ
クターピン７を出没自在に設けてある。

【００１７】エジエクターピン７はエジエクタープレー
ト８にボルト９固定して立設されて、該エジエクタープ
レート８の図外のシリンダー機構による上下移動により
出没動作される。

【００１８】下型２は断熱材１０，１１を介して下型取
付板１２にボルト１３固定され、この下型２の型面上に
はブッシュａの外筒ｃを位置決めし、前記コア４，５と
の間にキャビティ１４を形成する一対のスライドコア１
５を設けてある。

【００１９】各スライドコア１５は長手方向両端部にガ
イド突起１６を形成してあり、これらガイド突起１６を
下型２の側面にボルト１８を固定したガイドレール１７
に係合して、該ガイドレール１７に沿って下型２の型面
上を摺動するようにしてある。

【００２０】スライドコア１５の各背面には傾斜したカ
ム面１５ａを形成してあると共に、先端に図外のシリン
ダー機構にチャッキングされるフック２０を設けた牽引
ロッド１９を突設してあり、この牽引ロッド１９を下型
２の型面上に固設した軸受部２１に軸支してある。

【００２１】一方、上型１には前記カム面１５ａに摺接
する傾斜したカム面２２ａを形成したカムブロック２２
を固設してあり、上型１と下型２との型締め時に、カム
面１５ａ，２２ａ同志の摺接によりスライドコア１５，
１５を密接させるようになっている。

【００２２】上型１はその上面に断熱材２３を介して配
置したランナーブロック２４，２５と共に上型取付板２
６に図外のボルトにより一体に共締め固定してある。

【００２３】ランナーブロック２４，２５には、上型取
付板２６に固設したロケートリング２７のノズル受け部
２８、およびその注入口２９に連絡するランナー３０を
形成してあると共に、ランナーブロック２５には一側に
取付けた冷却液口３２から供給される冷却液を循環させ
る冷却パイプ３１を冷却手段として設けてあり、前記ノ
ズル受け部２８に当接されるインジエクションノズル３
３から注入されるゴム材料を、加硫温度よりも低い温
度、例えば７０〜９０℃に保持し得るようにしてある。

【００２４】また、ランナーブロック２５の下面側に
は、上型１を貫通してコア４のゲート４ａと、ランナー
３０とを連絡するスプルー３５を形成したスプルーブッ
シュ３４を固設してある。

【００２５】そして、前記上型１と下型２との合わせ部
外周側に真空室３７を形成してある。

【００２６】この真空室３７は、上型１の外周部にボル
ト３９固定した環状壁３８と、下型２の外周部に図外の
ボルトにより固定したシートブロック４０にリテーナプ
レート４１を介してボルト４２固定されて、前記環状壁
３８を内接するシール手段としてのパッキング４３とで
隔成され、環状壁３８に設けたバキューム口４４より図
外のバキュームポンプにより真空引されるようになって
いる。

【００２７】次に以上の実施例装置によりブッシュａを
射出成形する工程を説明する。

【００２８】先ず、上型１から離間された下型２のコア
５に突出したエジエクターピン７の端部に内筒ｂを嵌合
し、その外側に外筒ｃをセットする。

【００２９】次に、下型２を上型１に向けて上昇させる
が、この下型２の上昇過程でパッキング４３が環状壁３
８に内接して真空室３７が隔成されるから、これら上型
１と下型２とを型締めする前に真空室３７をバキューム
ポンプで真空引きする。この真空室３７の真空引きによ
り、コア４，５間は勿論、上型１と下型２（スライドコ
ア１５を含む）との間隙全体の空気が排出されるから、
この真空引きしている状態で上型１と下型２とを型締め
する。

【００３０】前記真空引き工程では、上型１のコア４に
設けたゲート４ａは、前工程の製品の型抜きにより開口
状態となっているが、該ゲート４ａに続く上流側のスプ
ルー３５およびランナー３０には、冷却パイプ３１内を
循環する冷却液により７０〜９０℃の加硫温度よりも低
い温度に保持されたゴム材料が滞留していて、所謂目詰
まり状態となっていることから、これらスプルー３５、
ランナー３０を通して真空漏れすることはなく、キャビ
ティ１４を確実に真空引きすることができる。一方、前
述の上型１と下型２との型締めの過程では、スライドコ
ア１５の背面のカム面１５ａが上型１のカムブロック２
２のカム面２２ａに対して摺接してガイドされることに
より、一対のスライドコア１５は互いに接近する方向に
下型２の型面上をスライドし、外筒ｃを挟圧して位置決
めすると共に、内筒ｂが上型１のコア４に突設したロケ
ートピン６に嵌合して芯出しされ、内，外筒ｂ，ｃとも
適正に芯出しされてコア４，５およびスライドコア１５
間に適正にセットされ、コア４，５と内，外筒ｂ，ｃと
の間にキャビティ１４が確定される。

【００３１】次いで、ロケートリング２７のノズル受け
部２８にインジエクションノズル３３の先端を当接し、
該インジエクションノズル３３よりゴム材料を注入すれ
ば、ランナー３０，スプルー３５およびコア４のゲート
４ａを通ってキャビティ１４内にゴム材料が充填され
る。

【００３２】上型１，下型２は共にカートリッジヒータ
３により、１５０〜１７０℃の加硫温度に加熱されてい
るため、キャビティ１４に充填されたゴム材料は経時的
に加硫，硬化し、成形工程が終了する。

【００３３】成形後、下型２を下降して上型１と離間さ
せると、コア４のゲート４ａおよびスプルー３５の下側
部分では、ゴム材料が加硫，硬化するため、これらの部
分のゴム材料は下型２側の製品と共に抜き取られて、ス
プルー３５の下側およびゲート４ａが加硫，硬化したゴ
ムで閉塞されることはない。

【００３４】そして、下型２を所定の取出し位置まで下
降させた後、スライドカム１５の牽引ロッド１９端のフ
ック２０を図外のシリンダー機構にチャッキングして、
スライドコア１５をスライド移動させると共に、エジエ
クタープレート８を上昇させれば、エジエクターピン７
により製品、即ちブッシュａが下型２のコア５より突き
上げられて型抜きされ、成形工程の１サイクルが終了す
る。

【００３５】なお、前記実施例では円筒形防振ブッシュ
の射出成形用としてスライドコアを用いたものを例示し
たが、これに限定されるものでないことは勿論である。

【００３６】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、コールド
ランナータイプの射出成形に際して、キャビティ内の真
空引きを可能にして製品歩留りを向上できると共に、真
空室は固定型，可動型に設けた環状壁とシール手段とに
よってこれら固定型と可動型との合わせ部外周側に隔成
するようにしてあるため、真空室の形成によって金型の
厚み、成形高さ寸法に些かも制約を受けることもないと
いう実用上多大な効果を有する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例を示す断面図。

【図２】図１のＡ−Ａ線に沿う断面図。

【図３】図１の要部の拡大図。

【図４】スライドコアの略示的斜視図。

【図５】射出成形された防振ブッシュの断面図。

【符号の説明】 １…固定型（上型） ２…可動型（下型） ３…加熱手段 １４…キャビティ ２３…断熱材 ２４，２５…ランナーブロック ３０…ランナー ３１…冷却手段 ３５…スプルー ３７…真空室 ３８…環状壁 ４３…シール手段

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 キャビティを形成する固定型および可動
   型に、ゴム材料の加硫温度に加熱する加熱手段を設ける
   一方、固定型，可動型の何れか一方に断熱材を介して接
   続されて、ゴム材料を注入するインジエクションノズル
   のノズル受け部から前記キャビティに連絡するランナー
   およびスプルーを形成するランナーブロックに、ゴム材
   料を加硫温度よりも低い温度に保持する冷却手段を設け
   ると共に、固定型と可動型の何れか一方の外周部に環状
   壁を設け、他方の外周部にこの環状壁に内接するシール
   手段を設けて、これら固定型と可動型との合わせ部外周
   側に、真空引きされる真空室を形成したことを特徴とす
   る射出成形装置。