JP2672017B2 - ストリップ連続処理用電子ビーム溶接設備 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は金属ストリップを連続的に処理する処理ライ
ンにおいて、先行するストリップの後端と後行するスト
リップの先端を電子ビームで溶接して接続するストリッ
プ連続処理用電子ビーム溶接設備に関する。

〔従来の技術〕

金属ストリップのコイルを巻戻して次々に溶接接続
し、連続処理するストリップ連続処理ラインの代表例と
しては、連続タンデム圧延、連続酸洗、連続焼鈍等の多
種の設備がある。これらの処理ラインでは、連続して処
理されるストリップの先後端は、従来、主にフラッシュ
バットあるいはレーザビーム等により溶接していた。し
かるに、フラッシュバット法では珪素鋼、フェライト系
SUS、高炭素鋼等の高級材の溶接ができない。また、レ
ーザ方ではこれらの溶接は可能であるが、設備費及びラ
ンニングコストが極めて高く、実用的ではなく、実用化
しても経済性に劣る。また、アルミ、銅等の非鉄材の溶
接ができない等の欠点がある。

これに対し、電子ビーム溶接は真空中で電子銃より放
射された電子ビームにより溶接を行うので、鉄及び非鉄
系のほとんどの金属の溶接を確実に行うことが可能であ
る。また、数10mmまでの厚物の溶接ができる。このよう
に、電子ビーム溶接がストリップの連続処理ラインで利
用できれば、材質あるいは板厚にほとんど無関係に溶接
が行え、これまでバッチ式で生産していたものが連続処
理化できるようになる。

しかしながら、電子ビーム溶接では溶接線部分を如何
にして真空に保持するかが問題である。この問題を分析
すれば、次のようになる。

（１）溶接線を取り囲む真空チャンバと溶接線に沿って
移動する電子銃間の真空のためのシール。

（２）板厚の異なる２つのストリップと真空チャンバ間
とのシールと、溶接によるストリップの熱変形を拘束す
るためのクランプの配置の適切化。

（３）板幅の異なる２つのストリップと真空チャンバ間
のシール。

以上の（１）〜（３）のうち（１）の問題に対しては
特開昭48−30644号あるいは特開昭53−65237号に代表さ
れる対策例がある。

（２）の問題に対しては特開昭50−136246号あるいは
特開昭50−143743号のような対応策が知られている。

（３）の問題に対しては、同じ板幅の場合について特
開昭50−117654号に示される対応策がある。

〔発明が解決しようとする課題〕

電子ビーム溶接をストリップの連続処理ラインに適用
する場合には、前述した３項の問題があり、これら問題
に対してそれぞれ上述した対応策又は関連策があるが、
このうち（１）の問題に対する特開昭48−30644号の対
策例は、真空チャンバをチャック状の１対のシリコンゴ
ム棒状体で閉じ、このシリコンゴム棒状体間に電子銃を
挿入し、電子銃の移動を可能としながらシールを行うも
のである。しかしながら、この構成では、電子銃とシリ
コンゴム棒状体間でシールの完全性を期待するのは無理
であり、また両者の間には摺動運動があるので摩耗の問
題が生じる。

一方、特開昭53−65237号では、溶接線を包囲する第
１の真空室の傾斜した上壁面に電子ビームの通過するス
リットを形成し、このスリットを着脱自在の可撓性テー
プで覆い、電子銃の移動に伴い電子ビームの通過するス
リット部分のみ可撓性テープを剥がし、電子ビームの通
過後は可撓性テープでスリット部分を再び覆い、シール
を行うものである。しかしながら、この構成では、電子
銃室と可撓性テープを含む第２の真空チャンバ間のシー
ルが必要であり、この間のシールは特殊なシール材を用
いる必要がある。また、このシール材は摺動部分に設け
られるので、やはり摩耗の問題が生じる。更に、可撓性
テープと傾斜上壁面のスリットとの高さを一致させるこ
とは難しく、空気の侵入を許してしまうという可能性が
ある。

上記（２）の問題に対しては、特開昭50−136246号で
は下部チャンバ体を傾け、特開昭50−143743号ではベロ
ーズでシール材をストリップに押し付けるようにしてい
る。これにより板厚の異なるストリップと真空チャンバ
との間のシールが可能となる。しかしながら、これらの
構成では、溶接によるストリップの熱変形防止のための
クランプを配置した場合、溶接線から離れた位置に配置
されることになり、このためストリップの熱変形をある
程度許容することになり、精密な溶接を行うことができ
ない。

第３の問題は板幅の異なるストリップと真空チャンバ
間のシールである。特開昭50−117654号では、同じ板幅
のストリップに対して、Ｕ字形のシールタブ板をストリ
ップの幅端部に押圧するものであり、これでは板幅の異
なるストリップと真空チャンバ間のシールは行えない。

本発明の第１の目的は、真空チャンバと電子銃間のシ
ールを、摺動による摩擦の問題がなくかつ確実に行える
ストリップ連続処理用電子ビーム溶接設備を提供するこ
とである。

本発明の第２の目的は、板幅の異なるストリップのシ
ールに際してストリップのクランプを確実に行えるスト
リップ連続処理用電子ビーム溶接設備を提供することで
ある。

本発明の第３の目的は、板幅の異なる２つのストリッ
プと真空チャンバ間のシールを可能とするストリップ連
続処理用電子ビーム溶接設備を提供することである。

〔課題を解決するための手段〕

上記第１の目的を達成するため、本発明によれば、２
つのストリップの一方の面の側に配置され、開口部を有
する平面状の開放面を有する開いた真空チャンバ体と、
前記ストリップの他方の面の側に配置された第２の真空
チャンバ体であって、前記第１の真空チャンバ体と協働
して前記ストリップの突き合わせ部を取り囲む真空チャ
ンバを形成する第２の真空チャンバ体と、前記第１の真
空チャンバ体を前記ストリップの一方の面に向けて押圧
する第１のアクチュエータ手段と、前記第２の真空チャ
ンバ体を前記ストリップの他方の面に向けて押圧する第
２のアクチュエータ手段と、前記第１の真空チャンバ体
の前記開放面の上方で前記第１の真空チャンバ体を閉じ
るように走行自在に配置され、前記突き合わせ部に沿っ
て電子ビームを放射する電子銃を備えた走行板と、前記
第１の真空チャンバ体の前記開放面と前記走行板との間
を非接触でシールし、前記真空チャンバを真空に保持す
る第１のシール手段とを含むことを特徴とするストリッ
プ連続処理用電子ビーム溶接設備によって達成される。

前記第１のシール手段は、好ましくは、前記第１の真
空チャンバ体の前記開放面に近接して位置し、両者の間
に狭い間隙を形成する前記走行板と一体の壁部分と、前
記開放面に前記開口部を取り囲むよう設けられた少なく
とも１つの溝と、前記溝に連通して設けられ、前記狭い
間隙に侵入した空気を吸引する吸引手段とを含む。

また、前記開放面及び壁部分の少なくとも一方の小さ
な凹凸のラビリンスを設けてもよい。

上記第２の目的を達成するため、本発明によれば、２
つのストリップの一方の面の側に配置された第１の真空
チャンバ体と、前記ストリップの他方の面の側に配置さ
れた第２の真空チャンバ体であって、前記第１の真空チ
ャンバ体と協働して前記ストリップの突き合わせ部を取
り囲む真空チャンバを形成する第２の真空チャンバ体
と、前記第１の真空チャンバ体を前記ストリップの一方
の面に向けて押圧する第１のアクチュエータ手段と、前
記第２の真空チャンバ体を前記ストリップの他方の面に
向けて押圧する第２のアクチュエータ手段と、前記第２
の真空チャンバ体に設けられ、前記第１の真空チャンバ
体の前記２つのストリップとの接触面を基準面としてこ
れに該２つのストリップを押圧し、これらストリップを
それぞれ挟持するクランプ手段と、前記基準面及びクラ
ンプ手段の内側で前記第１及び第２の真空チャンバ体に
それぞれ設けられ、前記ストリップと真空チャンバ体の
間をシールする第２のシール手段とを含むことを特徴と
するストリップ連続処理用電子ビーム溶接設備によって
達成される。

前記第２のシール手段は、好ましくは、前記第１の真
空チャンバ体に設けられ、前記基準面とほぼ同一平面を
なす比較的硬い第１のシール材と、この第１のシール材
に対向して前記第２の真空チャンバ体に設けられた比較
的柔らかい第２のシール材とを含み、前記クランプ手段
は、前記第２のシール材に近接して配置され、前記２つ
のストリップを拘束する２つのクランプ部材と、これら
クランプ部材を前記基準面に向けて押圧するアクチュエ
ータ手段とを含む。

前記第１及び第２のシール材の少なくとも一方を幅方
向に複数個に分割し、それらの間に少なくとも１つの空
間を設け、この空間を吸引手段に連通させて該空間に侵
入した空気を吸引するようにしてもよい。

また、上記第３の目的を達成するため、本発明によれ
ば、２つのストリップの一方の面の側に配置された第１
の真空チャンバ体と、前記ストリップの他方の面の側に
配置された第２の真空チャンバ体であって、前記第１の
真空チャンバ体と協働して前記ストリップの突き合わせ
部を取り囲む真空チャンバを形成する第２の真空チャン
バ体と、前記第１の真空チャンバ体を前記ストリップの
一方の面に向けて押圧する第１のアクチュエータ手段
と、前記第２の真空チャンバ体を前記ストリップの他方
の面に向けて押圧する第２のアクチュエータ手段と、前
記２つのストリップの相対する板幅端の各側において前
記２つのストリップの突き合わせ部の延長上で相互に隣
接して配置され、前記板幅端に対して出し入れ自在の２
つのシールタブを有し、この２つのシールタブをそれぞ
れ前記２つのストリップの板幅端に押圧しかつ前記第１
及び第２の真空チャンバ体間で挟持することにより該板
幅端と真空チャンバ体間のシールを行う第３のシール手
段とを含むことを特徴とするストリップ連続処理用電子
ビーム溶接設備が提供される。

前記２つのシールタブは前記２つのストリップよりも
厚みを大とされる。

前記２つのシールタブは、好ましくは、各々、芯板
と、この芯板の上下面に接触する柔らかいシール材とを
含む。

〔作用〕

第１の真空チャンバ体の開放面の上方に電子銃を備え
た走行板を配置し、開放面と走行板との間を非接触でシ
ールする第１のシール手段を設けることにより、真空チ
ャンバへの空気の侵入が防止され、真空チャンバと電子
銃間で摺動摩擦のない安定したシールが得られる。

第１のシール手段を、開放面との間に狭い間隙を形成
する壁部分と、少なくとも１つの溝と、吸引手段とで構
成することにより、開放面と壁部分との間の狭い間隙に
より空気の侵入が少なくなると共に、溝まで侵入した空
気は吸引手段により連続的に引かれ、真空チャンバの真
空を保持するように作用する。

開放面及び壁部分の少なくとも一方に小さな凹凸のラ
ビリンスを設けることにより、狭い間隙での通気抵抗が
一層増大し、更に大きなシール効果が得られる。

第１の真空チャンバ体のストリップ接触面を基準面と
するクランプ手段を第２の真空チャンバ体に設け、基準
面及びクランプ手段の内側にストリップと真空チャンバ
体の間をシールする第２のシール手段を設けることによ
り、ストリップと真空チャンバ体の間がシールされると
共に、クランプ手段と第２のシール手段が同じ真空チャ
ンバ体に設けられるので、クランプ手段をストリップ突
き合わせ部（溶接線）に近接して配置することが可能と
なり、ストリップを溶接線の近くでクランプでき、溶接
熱によるストリップの変形を効果的に防止できる。

第２のシール手段を、比較的硬い第１のシール材と、
比較的柔らかい第２のシール材とで構成し、第２のシー
ル材を第１のシール材に向けて押圧することにより、板
厚の異なるストリップに対しては比較的柔らかい第２の
シール材で板厚の差を吸収でき、板厚の異なるストリッ
プに対するシールを確実に行える。

第１及び第２のシール材の少なくとも一方に少なくと
も１つの空間を設け、この空間を吸引手段に通過させる
ことにより、更に大きなシール効果が得られる。

また、２つのストリップの突き合わせ部（溶接線）の
延長上で相互に隣接して配置され、ストリップの板幅端
に対して出し入れ自在の２つのシールタブを有する第３
のシール手段を設け、２つのシールタブをそれぞれスト
リップ板幅端に押圧しかつ第１及び第２の真空チャンバ
体間で挟持することにより、板幅の異なるストリップで
あっても板幅端と真空チャンバ体間のシールを確実に行
うことが可能となる。

２つのシールタブを、各々、芯板と、この芯板の上下
面に接触する柔らかいシール材とで構成することによ
り、芯板を操作して板幅の異なるストリップの板幅端へ
の迅速な追従が可能であり、また柔かいシール材を圧
縮、挟持して高いシール効果を得ることができる。

〔実施例〕

以下、本発明の一実施例を第１図〜第６図により説明
する。

第１図〜第４図において、本実施例のストリップ連続
処理用電子ビーム溶接設備は符号１で示されており、ス
トリップ連続処理ラインでの２つのストリップ2,3の先
後端がこの溶接設備１により電子ビームが溶接される。
この溶接作業中、連続処理ラインの中央処理部では連続
して所定の処理が行われており、そのためのストリップ
は図示しないストリップアキュムレータのルーパから供
給される。従って、溶接作業はルーパの容量に依存して
通常は１分以内で完了するように設計される。

溶接されるストリップ2,3は、連続処理ラインの代表
例である酸洗設備では板厚2.0〜1.2mm、板幅700〜1850m
m程度である。ただし、溶接される２つのストリップ2,3
の板厚差は10〜20％以内に制限される。そして、ストリ
ップの材質としては、低炭素鋼は勿論のこと、SUS、珪
素鋼等の各種のものが扱われる。

溶接作業を行うに当たって、初めに２つのストリップ
2,3の先後端が図示しない剪断機で剪断される。この剪
断に当たって、一方のストリップ例えば後行するストリ
ップ２は矢印Ａ方向に昇降する２つの押板4,5でクラン
プされ、他方のストリップ例えば先行するストリップ３
も矢印Ｂ方向応に昇降する押板6,7でクランプされる。
ただし、ストリップ３の側の押板6,7はストリップ３の
後端を剪断後、矢印Ｃ方向に押し込まれ、２つのストリ
ップ2,3の先後端が図示のように密着状態に突き合わせ
られる。しかる後、本実施例の溶接設備１が図示の位置
に持ち来たされ、ストリップ2,3の先後端が電子ビーム
溶接される。

溶接設備１は、ストリップ2,3の上面側に配置された
上部の真空チャンバ体10と、ストリップ2,3の下面側に
配置され、上部の真空チャンバ体10と協働して２つのス
トリップ2,3の突き合わせ部（溶接線）を取り囲む真空
チャンバ９を画定する下部の真空チャンバ体11とを有し
ている。上部の真空チャンバ体10はスタンド12でピン13
に取り付けられた２つのアクチュエータ14により押し下
げ可能にスタンド12に懸架され、下部の真空チャンバ体
11はスタンド12に設けられた２つのアクチュエータ15に
より押し上げ可能にスタンド12支持されている。上部の
真空チャンバ体10のアクチュエータ14との連結は、第２
図に示すように真空チャンバ体10の各側部にブラケット
16を設け、このブラケット16をアクチュエータ14にピン
17で取り付けることによりなされ、またブラケット16は
スタンド12に設けられた基準台18に係合、載置し、上部
の真空チャンバ体10の位置決めを行っている。

第３図の拡大図から良く分かるように、上部真空チャ
ンバ10は中央に開口部19を有する平面状の開放面20を備
え、かつ開放面20の上方に、筒部21より電子ビーム22A
を放射する電子銃22を備えた走行板23が開口部19を閉じ
従って真空チャンバ９を閉じるように配置されている。
この走行板23は真空チャンバ体10に対して、真空チャン
バ体10の両側部に設けられたガイド溝24を備えたガイド
機構によりストリップ2,3の幅方向に走行自在に案内さ
れ、アクチュエータ25によりストリップ2,3の幅方向に
走行する。

走行板23は真空チャンバ体10の開放面20に面する壁部
分の壁面26が開放面20に近接して位置し、開放面20との
間に0.5mm以下、通常0.1mm程度の狭い間隙27を形成して
いる。また、この間隙27において、開放面20に開口部19
を取り囲む２つの溝28,29が形成され、溝28には通路30
及び配管31を介して図示しない真空ポンプが接続されて
いる。このようにして、上部真空チャンバ体10の開放面
20と走行板23との間にはこの部分を非接触でシールし、
真空チャンバ９を真空に保持するための第１のシール手
段26〜31が設けられている。

上部真空チャンバ体10の底部には、２つのストリップ
2,3に直接接触する平らな面32が設けられ、この面32
は、真空チャンバ体10が前述したようにスタンド12に設
けられた基準台18により位置決めされているので、高さ
方向に常に一定の位置にある。面32の内側には、これと
ほぼ同一平面をなす比較的硬いシール材33が真空チャン
バ９を取り囲むように設置されている。また、下部真空
チャンバ体11には、シール材33に対向して比較的柔らか
いシール材34が設置されている。下部真空チャンバ体10
のアクチュエータ15のピストンを押し上げることによ
り、柔らかいシール材34はその可撓圧縮特性により２つ
のストリップ2,3の板厚の差を吸収しながら変形し、シ
ール効果を発揮する。このように２つのシール材33,34
はストリップ2,3と真空チャンバ体10,11の間をシールす
る第２のシール手段として機能する。

一方、下部真空チャンバ体11には、シール材34に近接
してその外側に２つのクランプ部材35とアクチュエータ
36とからなるクランプ手段が設けられ、クランプ部材35
をアクチュエータ36のピストンにより上部真空チャンバ
体10の面32を基準面として押圧することにより、２つの
ストリップ2,3が面32に押し付けられ、面32とクランプ
部材35との間で挟持、固定される。

溶接設備１は、また第２図及び第４図に示すように、
２つのストリップ2,3の相対する板幅端の各側に配置さ
れた２つのシールタブ37,38を有し、シールタブ37,38は
２つのストリップ2,3の突き合わせ部の延長上で側面39
において相互に隣接して配置され、かつストリップ板幅
端側が幅方向に切り欠いた形状40になっている。またシ
ールタブ37,38はそれぞれ、スタンド12の支持台41に取
り付けられたアクチュエータ42,43によりストリップ板
幅端に向けて押し付けられる構成となっている。シール
タブ37,38は２つのストリップ2,3よりも厚みが大とされ
る。このシールタブ37,38とアクチュエータ42,43は第３
のシール手段を構成し、シールタブ37,38をそれぞれ２
つのストリップ2,3の板幅端に押し付けかつこれらシー
ルタブが上部及び下部の真空チャンバ体10,11間で挟持
されることにより、板幅の異なるストリップ2,3の板幅
端と真空チャンバ体10,11間のシールが行われる。

シールタブ37,38は、各々、第５図及び第６図に示す
ように、アクチュエータ42又は43に取り付けられた中央
の芯となる芯板44と、この芯板44の上下面に接着された
柔らかいシール材45とからなり、芯板44には適所に幾つ
かの孔46が開けられ、この孔46のあるところでは上下の
シール材45が直接相互に接着され、芯板44に対するシー
ル材45の接着を強固にしている。

下部の真空チャンバ体11には、更に、真空チャンバ９
に通ずる孔47が開けられ、孔47は配管48を介して図示し
ない真空ポンプが接続され、この真空ポンプにより真空
チャンバ９は約10秒程度で0.1〜0.01Torr程度の真空に
吸引される。

このように構成した本実施例の溶接設備１において
は、２つのストリップ2,3の先後端を前述したように剪
断し、密着状態に突き合わせた後、アクチュエータ42,4
3を駆動して２つのシールタブ37,38をストリップ2,3の
板幅端に押し当て、次いでアクチュエータ14,15を駆動
して上部及び下部の真空チャンバ体10,11を閉じ、第２
のシール手段であるシール材33,34によりストリップ2,3
と真空チャンバ体10,11との間をシールすると共に、真
空チャンバ体10,11のシール材33,34間で第３のシール手
段であるシールタブ37,38を挟持することにより、スト
リップ2,3の板幅端と真空チャンバ体10,11間がシールさ
れる。

このとき、第２のシール手段によるシールは、柔らか
いシール材34でストリップ2,3の板厚の差を吸収するの
で、ストリップ2,3が板厚が異なっても確実にシールを
行える。また、シールタブ37,38の第３のシール手段に
より、板幅の異なるストリップ2,3であっても板幅端と
真空チャンバ体間のシールを確実に行うことができる。

次いで、アクチュエータ36を駆動してクランプ部材35
を上部真空チャンバ体10の底面32に向けて押圧し、２つ
のストリップ2,3を第２のシール手段33,34の間近の位置
でクランプする。

このようにして溶接設備１を段取りを行った後、配管
48に接続された真空ポンプを駆動し、真空チャンバ９を
約10秒程度で0.1〜0.01Torr程度の真空に吸引する。こ
のとき、同時に配管31に接続された真空ポンプも駆動
し、溝28,29の吸引を行い、第１のシール手段である狭
い間隙27により真空チャンバ９への空気の侵入を少なく
すると共に、溝28,29まで侵入した吸気を吸引し、真空
チャンバ９の真空を維持するようにする。

しかる後、アクチュエータ25を駆動して走行板23をガ
イド機構24に沿って走行させながら、電子銃22の筒部21
から電子ビーム22Aをストリップ2,3の突き合わせ部（溶
接線）に放射し、溶接を行う。

このとき、狭い間隙27のシール作用及び配管31に接続
された真空ポンプの駆動は接続されており、真空チャン
バ９と走行板23間で摺動摩耗のない安定したシールが得
られる。また、クランプ部材35はシール材34と同じ真空
チャンバ体11に組み込まれ、シール材34の間近の位置に
配置される結果、クランプ部材35は溶接線に近接して位
置しており、このため溶接熱によるストリップの変形は
クランプ部材35の拘束により効果的に防止される。

なお、以上の実施例では、クランプ手段の基準面32を
上部の真空チャンバ体10に設けたが、これは下部の真空
チャンバ体11に設けてもよい。ただし、この場合はその
他の機器の位置も上下反対となる。

また、アクチュエータ14,15,25,36,42,43は油圧シリ
ンダであっても、空圧シリンダであってもよく、更に電
動モータによるスクリュー駆動方式であってもよい。

更に上記実施例では、第３のシール手段に関し、２つ
のシールタブ37,38の側部39を隣接配置する構成とした
が、この隣接側部でのシール性を強化するため、シール
タブ37,38を外部よりスプリング、アクチュエータ等の
付勢手段で相互に押し付け、圧力を加えるようにしても
よい。

本発明の更に他の実施例を第７図により説明する。本
実施例は第１及び第２のシール手段の変形例を示すもの
である。即ち、第７図において、上部真空チャンバ体10
の開放面20には小さな凹凸のラビリンス50が設けられ、
ラビリンス50の抵抗により狭い間隙27での通気抵抗が一
層増大し、第１のシール手段において更に大きなシール
効果を得ることができる。

また、上部真空チャンバ体10の底面32に設けられるシ
ール材51を２分割し、中間に空間52を設け、この空間52
を通路53及び配管54を介して図示しない真空ポンプに接
続し、空間52に侵入した空気を吸引する。これにより、
第２のシール手段のシール効果を更に大きくすることが
できる。

なお、ラビリンス50は走行板23の底面26に設けてもよ
いし、開放面20と底面36の両方に設けてもよい。また、
シール材51の空間52は１か所としたが、複数箇所設けて
もよく、また空間52は下部真空チャンバ体11のシール材
に設けてもよいし、両方に設けてもよい。

〔発明の効果〕

本発明によれば、非接触の第１のシールを設けたの
で、真空チャンバ体と電子銃間で摺動による摩耗の問題
のない安定したシールを行うことができる。

また、クランプ手段と第２のシール手段が同じ真空チ
ャンバ体に設けられるので、クランプ手段を溶接線に近
接して配置でき、溶接熱によるストリップの変形を効果
的に防止できる。第２のシール手段を比較的硬い第１の
シール材と、比較的柔らかい第２のシール材とで構成し
たので、板厚の異なるストリップに対するシールに確実
に行える。

更に、２つのシールタブを有する第３のシール手段を
設けたので、板幅の異なるストリップであっても板幅端
と真空チャンバ体間のシールを確実に行うことができ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例によるストリップ連続処理用
電子ビーム溶接設備のストリップ走行方向の断面図であ
り、第２図はその溶接設備のストリップ幅方向の部分断
面図であり、第３図は第１図の一部を拡大して示す断面
図であり、第４図は第２図のIV−IV線から見た矢視図で
あり、第５図はシールタブの縦断面図であり、第６図は
シールタブの平面図であり、第７図は本発明の他の実施
例による電子ビーム溶接設備の一部を示す断面図であ
る。 符号の説明 １……電子ビーム溶接設備 2,3……ストリップ ９……真空チャンバ 10……（第１の）真空チャンバ体 11……（第２の）真空チャンバ体 14……アクチュエータ（第１のアクチュエータ手段） 15……アクチュエータ（第２のアクチュエータ手段） 19……開口部 20……開放面 22……電子銃 23……走行板 26……底面（壁部分） 27……間隙（第１のシール手段） 28,29……溝（第１のシール手段） 30……通路（吸引手段） 32……底面（接触面） 33,34……シール材（第２のシール手段） 35……クランプ部材（クランプ手段） 37,38……シールタブ（第３のシール手段） 44……芯板 45……シール材 50……ラビリンス 51……シール材 52……空間 53……通路（吸引手段）

Claims (9)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】先行するストリップの後端と後行するスト
   リップの先端の突き合わせ部を電子ビームで溶接して接
   続するストリップ連続処理用電子ビーム溶接設備におい
   て、 前記ストリップの一方の面の側に配置され、開口部を有
   する平面状の開放面を有する開いた第１の真空チャンバ
   体と、 前記ストリップの他方の面の側に配置された第２の真空
   チャンバ体であって、前記第１の真空チャンバ体と協働
   して前記ストリップの突き合わせ部を取り囲む真空チャ
   ンバを形成する第２の真空チャンバ体と、 前記第１の真空チャンバ体を前記ストリップの一方の面
   に向けて押圧する第１のアクチュエータ手段と、 前記第２の真空チャンバ体を前記ストリップの他方の面
   に向けて押圧する第２のアクチュエータ手段と、 前記第１の真空チャンバ体の前記開放面の上方で前記第
   １の真空チャンバ体を閉じるように走行自在に配置さ
   れ、前記突き合わせ部に沿って電子ビームを放射する電
   子銃を備えた走行板と、 前記第１の真空チャンバ体の前記開放面と前記走行板と
   の間を非接触でシールし、前記真空チャンバを真空に保
   持する第１のシール手段と を含むことを特徴とするストリップ連続処理用電子ビー
   ム溶接設備。
2. 【請求項２】請求項１記載のスリップ連続処理用電子ビ
   ーム溶接設備において、前記第１のシール手段は、前記
   第１の真空チャンバ体の前記開放面に近接して位置し、
   両者の間に狭い間隙を形成する前記走行板と一体の壁部
   分と、前記開放面に前記開口部を取り囲むよう設けられ
   た少なくとも１つの溝と、前記溝に連通して設けられ、
   前記狭い間隙に侵入した空気を吸引する吸引手段とを含
   むことを特徴とするストリップ連続処理用電子ビーム溶
   接設備。
3. 【請求項３】請求項２記載のスリップ連続処理用電子ビ
   ーム溶接設備において、前記開放面及び壁部分の少なく
   とも一方に小さな凹凸のラビリンスを設けたことを特徴
   とするストリップ連続処理用電子ビーム溶接設備。
4. 【請求項４】先行するストリップの後端と後行するスト
   リップの先端の突き合わせ部を電子ビームで溶接して接
   続するストリップ連続処理用電子ビーム溶接設備におい
   て、 前記ストリップの一方の面の側に配置された第１の真空
   チャンバ体と、 前記ストリップの他方の面の側に配置された第２の真空
   チャンバ体であって、前記第１の真空チャンバ体と協働
   して前記ストリップの突き合わせ部を取り囲む真空チャ
   ンバを形成する第２の真空チャンバ体と、 前記第１の真空チャンバ体を前記ストリップの一方の面
   に向けて押圧する第１のアクチュエータ手段と、 前記第２の真空チャンバ体を前記ストリップの他方の面
   に向けて押圧する第２のアクチュエータ手段と、 前記第２の真空チャンバ体に設けられ、前記第１の真空
   チャンバ体の前記２つのストリップとの接触面を基準面
   としてこれに該２つのストリップを押圧し、これらスト
   リップをそれぞれ挟持するクランプ手段と、 前記基準面及びクランプ手段の内側で前記第１及び第２
   の真空チャンバ体にそれぞれ設けられ、前記ストリップ
   と真空チャンバ体の間をシールする第２のシール手段と を含むことを特徴とするストリップ連続処理用電子ビー
   ム溶接設備。
5. 【請求項５】請求項４記載のストリップ連続処理用電子
   ビーム溶接設備において、前記第２のシール手段は、前
   記第１の真空チャンバに設けられ、前記基準面とほぼ同
   一平面をなす比較的硬い第１のシール材と、この第１の
   シール材に対向して前記第２の真空チャンバ体に設けら
   れた比較的柔らかい第２のシール材とを含み、前記クラ
   ンプ手段は、前記第２のシール材に近接して配置され、
   前記２つのストリップを拘束する２つのクランプ部材
   と、前記２つのクランプ部材をそれぞれ前記基準面に向
   けて押圧するアクチュエータ手段とを含むことを特徴と
   するストリップ連続処理用電子ビーム溶接設備。
6. 【請求項６】請求項５記載のストリップ連続処理用電子
   ビーム溶接設備において、前記第１及び第２のシール材
   の少なくとも一方を幅方向に複数個に分割し、それらの
   間に少なくとも１つの空間を設け、この空間を吸引手段
   に連通させて該空間に侵入した空気を吸引することを特
   徴とするストリップ連続処理用電子ビーム溶接設備。
7. 【請求項７】先行するストリップの後端と後行するスト
   リップの先端の突き合わせ部を電子ビームで溶接して接
   続するストリップ連続処理用電子ビーム溶接設備におい
   て、 前記ストリップの一方の面の側に配置された第１の真空
   チャンバ体と、 前記ストリップの他方の面の側に配置された第２の真空
   チャンバ体であって、前記第１の真空チャンバ体と協働
   して前記ストリップの突き合わせ部を取り囲む真空チャ
   ンバ体を形成する第２の真空チャンバ体と、 前記第１の真空チャンバ体を前記ストリップの一方の面
   に向けて押圧する第１のアクチュエータ手段と、 前記第２の真空チャンバ体を前記ストリップの他方の面
   に向けて押圧する第２のアクチュエータ手段と、 前記２つのストリップの相対する板幅端の各側において
   前記２つのストリップの突き合わせ部の延長上で相互に
   隣接して配置され、前記板幅端に対して出し入れ自在の
   ２つのシールタブを有し、この２つのシールタブをそれ
   ぞれ前記２つのストリップの板幅端に押圧しかつ前記第
   １及び第２の真空チャンバ体間で挟持することにより該
   板幅端と真空チャンバ体間のシールを行う第３のシール
   手段とを含むことを特徴とするストリップ連続処理用電
   子ビーム溶接設備。
8. 【請求項８】請求項７記載のストリップ連続処理用電子
   ビーム溶接設備において、前記２つのシールタブは前記
   ２つのストリップよりも厚みが大であることを特徴とす
   るストリップ連続処理用電子ビーム溶接設備。
9. 【請求項９】請求項７記載のストリップ連続処理用電子
   ビーム溶接設備において、前記２つのシールタブは、各
   々、芯板と、この芯板の上下面に接触する柔らかいシー
   ル材とを含むことを特徴とするストリップ連続処理用電
   子ビーム溶接設備。