JP2668023B2 - 熱処理装置 - Google Patents

熱処理装置

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JP2668023B2
JP2668023B2 JP2025672A JP2567290A JP2668023B2 JP 2668023 B2 JP2668023 B2 JP 2668023B2 JP 2025672 A JP2025672 A JP 2025672A JP 2567290 A JP2567290 A JP 2567290A JP 2668023 B2 JP2668023 B2 JP 2668023B2
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exhaust pipe
waste liquid
heat treatment
exhaust
trap
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純一 柿崎
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Tokyo Electron Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明は熱処理装置に関する。
(従来の技術) 近年、半導体製造熱処理工程においては、処理ウエハ
サイズが4インチから6インチさらには8インチと大型
化し、バッチ処理するウエハ枚数も100枚から150枚と増
加しており、これら処理容量の増大にともない酸化や拡
散等の熱処理装置から排気管に排出される排気ガスとと
もに廃液も増大している。
熱処理装置の中でも特に水蒸気酸化装置ではウエハ処
理後の水蒸気が排気管内で冷やされ多量の廃液が排気管
内に付着する。
排気ガス中に含まれる反応生成物を排気管内にて捕獲
するものとして特願昭63−211769号公報がある。
半導体基板現像処理装置の廃液処理については特開昭
61−160933号公報がある。
(発明が解決しようとする課題) 水蒸気酸化装置では排気管内に付着した多量の廃液が
排気管内に溜まり、排気管開口が実質的に狭くなり、処
理容器内の排気が十分にできず所望の熱処理ができなく
なり、バッチ処理されるウエハ間のバラツキが大きくな
る改善点を有する。
また、定期的に排気管を分解洗浄する必要があり熱処
理装置の稼動率を低下させている。
反応生成物を捕獲する前者の文献の技術は多量の廃液
を溜めることができないため定期的にトラップ部分を分
解洗浄する必要があり装置の稼動率を低下させている。
廃液処理を行う後者の文献の技術は排気管内の管壁に多
量の廃液が付着する酸化装置等においては、廃液を十分
に集めることができず、排気管内に廃液が溜まり排気管
開口が実質的に狭くなり前記と同様の問題が起る。さら
に酸化や拡散等の装置においては、高温の排気ガスやHC
l等の腐食性ガスが排出されるので、熱による変形やガ
スによる腐食の問題点を有する。
この発明は、上記点に鑑みなされたもので、排気管の
内壁に廃液が付着して溜まり排気管が実質的に狭くなる
のを防止でき、処理の安定化が図れる熱処理装置を提供
することにある。
〔発明の構成〕
(課題を解決するための手段) この発明は、処理容器内で生じる熱処理後の排ガスを
排気管を介して排気する熱処理装置において、上記排気
管が垂直に配置されて上方へ排ガスを流す第1の排気管
と、この第1の排気管と上記処理容器を連結する第2の
排気管を有し、上記第1の排気管における第2の排気管
の接続点よりも下方に廃液トラップを設け、この廃液ト
ラップが第1の排気管の内壁に付着して流下する廃液を
溜める溢流式の廃液溜め部を有し、この廃液溜め部の廃
液内に上記第1の排気管の下方端が挿入されていること
を特徴とする。
(作用) この発明の熱処理装置によれば、処理容器内で生じる
熱処理後の排ガスを排気する排気管が垂直に配置されて
上方へ排ガスを流す第1の排気管と、この第1の排気管
と上記処理容器を連結する第2の排気管を有し、上記第
1の排気管における第2の排気管の接続点よりも下方に
廃液トラップを設けているため、上記第1の排気管の内
壁に付着する廃液が内壁に沿って自重で流下して下方の
廃液トラップに捕集される。従って、排気管の内壁に廃
液が付着して溜まり排気管が実質的に狭くなるのを防止
できる、処理の安定化が図れる。
また、上記廃液トラップが、第1の排気管の内壁に付
着して流下する廃液を溜める溢流式の液溜め部を有し、
この液溜め部の廃液内に上記第1の排気管の下方端が挿
入されているため、排気管内と大気間の圧力差を保った
まま廃液を廃液トラップから常時溢流排出することがで
き、廃液が廃液トラップに必要以上に溜まらないので装
置を止めて廃液トラップを定期的に分解洗浄する必要が
なく、装置の稼動率の向上が図れる。
(実施例) 以下、本発明を縦型酸化炉に適用した一実施例につい
て図面を参照して具体的に説明する。
第1図において処理容器である縦型のプロセスチュー
ブ10は耐熱性材料例えば石英チューブからなり、このチ
ューブの一端部にプロセスガス導入管12を連結し、他端
部に排出管13を設けてある。
上記排出管13は水平に配置した第2の排気管21を介し
て主筒を垂直に配置した第1の排気管22に結合してお
り、この第1の排気管22の上端には排気ファン20が連結
されている。
上記プロセスチューブ10の周囲には筒状ヒータ16例え
ば抵抗加熱ヒータが設けられ、プロセスチューブ10を所
定の温度例えば800℃〜1200℃の範囲で適宜設定可能と
している。
そしてこのプロセスチューブ10内には被処理体として
多数枚のウエハ18を例えば石英製のウエハボート17上に
水平にして収納し、このボート17を載置台19上に設置
し、この載置台19を蓋体14に設置して収納されている。
上記蓋体14は図示しない昇降機構により上下移動する
ことでき、プロセスチューブ10内の予め定められた位置
にウエハ18を搬入搬出可能な如く構成している。
前記導入管12には水蒸気発生源2から水蒸気と、マス
フローコントローラ4からHClガスを供給する。
第1の排気管22と第2の排気管21の接続点下方に廃液
トラップ40を配置する。この廃液トラップ40の詳細につ
いては第2図を参照して次に説明する。
廃液トラップ40の一部を構成する上記第1の排気管22
の延長して位置する配管43を液溜め部42の内側に挿入配
置し、上記液溜め部42の上部には穴部44を複数設け、廃
液48を上記穴部44から溢れ出る様に構成し、液溜め部42
の周囲は外側ケース46で密閉している。
高温ガスやHCl等の腐食性ガスと接触する配管43部分
は、非金属例えば石英やふっ素樹脂等の耐熱耐食性部材
から構成されている。
液溜め部42や外側ケース46も耐食性部材で構成してい
る。
次に上記実施例装置の作用について説明する。
ヒータ16によりプロセスチューブ10内の均熱領域を例
えば1000℃の温度に設定し、水蒸気とHClガスをプロセ
スチューブ10に供給し半導体ウエハの酸化処理を行う場
合、水蒸気とHClガスの多くはプロセスチューブ10を通
過して排気され垂直に配置された排気管22の内壁で水蒸
気が冷やされHClを含んだ廃液が排気管22の内壁に付着
し、排気管22の内壁に沿って落下し、廃液トラップ40に
流れ込み液溜め部42に廃液が溜められる。なお必要に応
じて排気管22の外囲気に冷却手段を設けても良い。穴部
44以上に溜まった廃液は液溜め部42から溢れ出し、廃液
トラップ40から排出される。水平に配置された排気管21
部分は100℃以上の温度であるため廃液は付着しない。
したがってどの様に廃液が多くても廃液によって、第
1の排気管22や第2の排気管21は塞がれることはなく、
処理ウエハ間のバラツキのない所望の酸化処理を行うこ
とができる。
また廃液トラップ40に溜まった廃液は排気管内と大気
間の圧力差を保ったまま常時溢れ出るように構成されて
いるため酸化装置を止めることなく廃液を常時排出する
ことができる。
したがって排気管21及び排気管22に廃液が溜まらない
ため定期的に排気管21や排気管22を分解洗浄する必要が
なく酸化装置の稼動率を低下させることがない。
また、HCl等の腐食性ガスを流しても廃液トラップ40
は非金属の耐食性部材で構成されているため、腐食は起
らない。
また、高温の排気ガスが流されても廃液トラップ40は
石英やふっ素樹脂等で構成されており熱的変形等の問題
は起らない。廃液トラップ40部分の材質は、温度が140
℃以下の場合2ふっ化樹脂、140〜260℃の場合4ふっ化
樹脂、260℃以上の場合石英等と温度によって使いわけ
ても良い。
外側ケース46は100℃以下なので、透明塩化ビニール
樹脂を用いれば廃液の溜まり状態を目視チェックするこ
とができる。排気管21部分の温度が100℃以下になる場
合、廃液が付着するのでプロセスチューブ10に接続され
る排気管21は廃液トラップ40に対して若干下向きに傾斜
させ、排気管21に付着した廃液は全て廃液トラップ40に
集められる構成とすることが望ましい。
尚、本発明は前記実施例に限定されるものではなく、
本発明の要旨の範囲内で種々の変形実施が可能である。
廃液トラップの形状はU字配管等の形状でも良いことは
もちろんである。
前記実施例では水蒸気酸化炉について説明を行ったが
拡散炉や常圧CVC装置等の熱処理装置やその他のバッチ
処理装置に応用しても良く、排気管内に流れる排気ガス
も水蒸気に限らず他の処理ガスでも良いことはもちろん
である。また、縦型装置に限らず横型熱処理炉等の横型
装置に適用できるのは当然のことである。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明の熱処理装置によれば、処
理容器内で生じる熱処理後の排ガスを排気する排気管が
垂直に配置されて上方へ排ガスを流す第1の排気管と、
この第1の排気管と上記処理容器を連結する第2の排気
管を有し、上記第1の排気管における第2の排気管の接
続点よりも下方に廃液トラップを設けているため、上記
第1の排気管の内壁に付着する廃液が内壁に沿って自重
で流下して下方の廃液トラップに捕集される。従って、
排気管の内壁に廃液が付着して溜まり排気管が実質的に
狭くなるのを防止でき、処理の安定化が図れる。
また、上記廃液トラップが、第1の排気管の内壁に付
着して流下する廃液を溜める溢流式の液溜め部を有し、
この液溜め部の廃液内に上記第1の排気管の下方端が挿
入されているため、排気管内と大気間の圧力差を保った
まま廃液を廃液トラップから常時溢流排出することがで
き、廃液が廃液トラップに必要以上に溜まらないので装
置を止めて廃液トラップを定期液に分解洗浄する必要が
なく、装置の稼動率の向上が図れる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る縦型熱処理装置の一実施例説明
図、第2図は第1図の廃液トラップ部を拡大して示す説
明図である。 10…プロセスチューブ、16…ヒータ 18…ウエハ、20…排気ファン 21…第2の排気管、22…第1の排気管 40…廃液トラップ、42…液溜め部 44…穴部

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】処理容器内で生じる熱処理後の排ガスを排
    気管を介して排気する熱処理装置において、上記排気管
    が垂直に配置されて上方へ排ガスを流す第1の排気管
    と、この第1の排気管と上記処理容器を連結する第2の
    排気管を有し、上記第1の排気管における第2の排気管
    の接続点よりも下方に廃液トラップを設け、この廃液ト
    ラップが第1の排気管の内壁に付着して流下する廃液を
    溜める溢流式の廃液溜め部を有し、この廃液溜め部の廃
    液内に上記第1の排気管の下方端が挿入されていること
    を特徴とする熱処理装置。
JP2025672A 1990-01-23 1990-02-05 熱処理装置 Expired - Lifetime JP2668023B2 (ja)

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KR1019910001136A KR0147044B1 (ko) 1990-01-23 1991-01-23 배기 시스템을 가지는 열처리장치

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JPH03229414A JPH03229414A (ja) 1991-10-11
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JP3592923B2 (ja) * 1998-02-13 2004-11-24 東京エレクトロン株式会社 排気装置
JP6826064B2 (ja) * 2018-03-16 2021-02-03 株式会社東芝 成膜装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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