JP2666417B2 - 放射線照射滅菌可能なポリカーボネート成形品 - Google Patents

放射線照射滅菌可能なポリカーボネート成形品

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JP2666417B2
JP2666417B2 JP63266073A JP26607388A JP2666417B2 JP 2666417 B2 JP2666417 B2 JP 2666417B2 JP 63266073 A JP63266073 A JP 63266073A JP 26607388 A JP26607388 A JP 26607388A JP 2666417 B2 JP2666417 B2 JP 2666417B2
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光彦 増本
俊明 朝生
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Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、耐放射線性に優れたポリカーボネート成形
品に関する。本発明のポリカーボネート成形品は放射線
による黄変が少ないので、放射線滅菌を行う人工透析
器、人工肺、輸血セット等のケースとして有用である。
〔従来の方法およびその課題〕
従来、ポリカーボネート樹脂は人工透析器、人工肺、
輸血セット等の医療用製品に使用されている。
これらの医療用製品に用いられる場合には通常、高圧
蒸気滅菌法、エチレンオキシドガス(EOG)滅菌法が行
われている。しかし、蒸気滅菌法では完全に滅菌が行わ
れなかったり、滅菌処理後に乾燥工程が必要である等処
理法に難点があった。また、EOG滅菌では、被滅菌材料
中に残留するEOGの毒性等の問題があった。
従って、最近では、比較的安価で、低温で、乾式で実
施可能な放射線(一般的にはγ線)を照射する滅菌法が
注目されている。
しかしながら、通常ポリカーボネート樹脂に放射線を
照射すると樹脂の分解により、黄変が生じ、製品価値を
損ないがちとなる欠点があった。
上記の如く、従来、放射線照射による滅菌に適した医
療用製品を成形できるポリカーボネート樹脂が要求され
ている。
〔課題を解決するための手段〕 本発明者らは、放射線照射による滅菌に適した医療用
製品を成形できるポリカーボネート樹脂を開発すべく鋭
意検討を重ねた結果、硫黄を含有する特定の化合物をポ
リカーボネート樹脂に配合する方法を見出し、本発明に
至った。
すなわち、芳香族ポリカーボネート樹脂100重量部
に、下記一般式(1)で表されるチオエーテルを0.01〜
3重量部配合してなるポリカーボネート樹脂組成物を成
形してなる放射線照射滅菌可能なポリカーボネート成形
品である。
一般式(1): (式中、nは平均1〜100の正数、Rは水素、炭素数
1〜20のアルキル基又は−COCH3、R1は水素、メチル基
又はエチル基、Xは単なる結合又は酸素原子を示す。) 以下、本発明の構成について説明する。
まず、本発明の硫黄を含有する化合物は、上記の一般
式(1)で表されるチオエーテルである。本発明のチオ
エーテルは、アルキレンオキシドと硫化水素との反応;
メルカプトアルコール或いはアルキルメルカプタンとジ
クロロアルカンとの反応;アルキルメルカプタンとアル
キルクロライドとの反応;メルカプトアルコール或いは
アルキルメルカプタンとジクロロアルカン及びジメルカ
プトアルカンとの反応などにより容易に製造されるもの
であり、種々のものが市販されている。具体的には2,
2′−チオジエタノール、3,3′−チオジプロパノール、
2,2′−チオジエタノールジメチルエーテル、2,2′−チ
オジエタノールモオメチルエーテル、2,2′−チオジエ
タノールジアセテート、2,2′−チオジエタノールモノ
アセテート、1,2−ビス〔(2−ヒドロキシエチル)チ
オ〕エタン、1,2−ビス〔(2−エチル)チオ〕エタ
ン、1,2−ビス〔(2−ビチル)チオ〕エタン、ビス
(5−ヒドロキシエチル−3−チオエチル)サルファイ
ド、ジブチルサルファイド、ジラウリルサルファイド、
ジステアリルサルファイド、アルキレンポリサルファイ
ドなどが例示され、適宜、単独或いは2種以上を混合し
て使用する。
次に上記のチオエーテルを配合する本発明の芳香族ポ
リカーボネート樹脂は、従来の芳香族のホモ−又はコ−
ポリカーポネート樹脂でよく、特に限定はないものであ
り、芳香族二価フェノール系化合物、ホスゲン、末端停
止剤を反応させてなるものであり、本発明では粘度平均
分子量が15,000〜28,000範囲が好ましい。
ここに、芳香族二価フェノール系化合物としてはビス
(4−ヒドロキシフェニル)メタン、ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)エーテル、ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)スルホン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホ
キシド、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルフィド、
ビス(4−ヒドロキシフェニル)ケトン、1,1−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)エタン、2,2−ビス(4−
ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒド
ロキシフェニル)ブタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシ
フェニル)シクロヘキサン、2,2−ビス(4−ヒドロキ
シ−3,5−ジブロモフェニル)プロパン、2,2−ビス(4
−ヒドロキシ−3,5−ジクロロフェニル)プロパン、2,2
−ビス(4−ヒドロキシ−3−ブロモフェニル)プロパ
ン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−クロロフェニ
ル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメ
チルフェニル)プロパン、1,1−ビス(4−ヒドロキシ
フェニル)−1フェニルエタン、ビス(4−ヒドロキシ
フェニル)ジフェニルメタンが例示され、また、末端停
止剤(分子量調節剤)は、通常のフェノール、P−t−
ブチルフェノール、トリブロモフェノールなどの他にオ
クチルフェノール、ノリルフェノール、ラウリルフェノ
ール、パルミチルフェノール、ステアリルフェノール等
の長鎖アルキル置換フェノール;ヒドロキシ安息香酸オ
クチル、ヒドロキシ安息香酸ラウリル、ヒドロキシ安息
香酸ノリル、ヒドロキシ安息香酸ステアリル等のヒドロ
キシ安息香酸長鎖アルキルエステル;オクチルエーテル
フェノール(=オクチルオキシフェノール)、ノリルエ
ーテルフェノール、ラウリルエーテルフェノール、パル
ミチルエーテルフェノール、オクタデシロキシフェノー
ル、ドデシロキシフェノール等の長鎖アルキルオキシフ
ェノール;カプリン酸クロライド、ラウリル酸クロライ
ド、ミリスチン酸クロライド、パルミチン酸クロライ
ド、ステアリン酸クロライド、セロチン酸クロライド等
の脂肪族酸クロライドなどが例示される。
芳香族ポリカーボネート樹脂に対するチオエーテルの
添加量はポリカーボネート樹脂100重量部に対して0.01
〜3重量部、好ましくは0.05〜2重量部であり、添加量
が0.01重量部未満では放射線照射による黄変度の改良効
果が不充分であり、又、3重量部を超えて使用しても黄
変度の改良効果の改善は望めず、逆に機械的特性、耐熱
性等が低下するので好ましくない。
上記の芳香族ポリカーボネート樹脂組成物を成形して
本発明の放射線滅菌可能な成形品を製造するための条件
は、使用する芳香族ポリカーボネート樹脂の粘度平均分
子量、チオエーテルの添加量等により変化するものであ
るが、通常、260〜340℃で射出成形することにより製造
する。
本発明は上記の如きものであるが、成形材料の調整に
あたって、必要に応じて熱安定剤、酸化防止剤、着色
剤、滑剤、離型剤等の種々の添加剤を配合することがで
きるものである。
〔実施例〕
以下、実施例および比較例によって具体的に説明す
る。
実施例1〜5及び比較例1 芳香族ポリカーボネート樹脂(商品名;ユーピロンS
−2000、三菱瓦斯化学(株)製)に、第1表に記載のチ
オエーテルを配合し、適宜タンブラーにて混合し、それ
ぞれ一軸のベント式押出機で押出し、ペレットとした。
このペレットを用い、射出成形機(住友重機工業
(株)製;ネオマット350/120)にて樹脂温度280℃、金
型温度80℃、保持圧1000kg/cm2にて50×60mm、厚さ1.6m
mの成形片を成形した。
この成形片を用い、2.5メガラッドのγ線を照射し、
その黄変度(Y.I.)の変化(ΔY.I.)をスガ試験機
(株)製の色差計SM−3−CHにて測定した。
結果を第1表に示した。
なお、表中の略号は下記であり、添加量は芳香族ポリ
カーボネート樹脂(S−2000)100重量部に対する重量
部である。
・TDE :2,2′−チオジエタノール. ・TDEM :2,2′−チオジエタノールジメチルエーテル. ・BHESE:1,2−ビス〔(2−ヒドロキシエチル)チオ〕
エタン. ・BESE :1,2−ビス((2−エチル)チオ〕エタン. ・PTDE :HOC2H4−(−S−C2H4−)n−OH;n=10. 〔発明の作用および効果〕 以上の如く、本発明のチオエーテルを配合した芳香族
ポリカーボネート樹脂組成物を用いた成形品は、γ線照
射に対し黄変が少ない。
従って、放射線滅菌(一般にはγ線滅菌)を行う人工
透析器、人工肺、輸血セット等のケース等として有用で
ある。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭54−106562(JP,A) 特開 昭62−135556(JP,A) 特開 平2−49058(JP,A) 特開 平1−229052(JP,A)

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】芳香族ポリカーボネート樹脂100重量部
    に、下記一般式(1)で表されるチオエーテルを0.01〜
    3重量部配合してなるポリカーボネート樹脂組成物を成
    形してなる放射線照射滅菌可能なポリカーボネート成形
    品. 一般式(1): (式中、nは平均1〜100の正数、Rは水素、炭素数1
    〜20のアルキル基又は−COCH3、R1は水素、メチル基又
    はエチル基、Xは単なる結合又は酸素原子を示す。)
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