JP2659630B2 - Connection method between chip components and substrate - Google Patents

Connection method between chip components and substrate

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wiring conductor
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    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161Disposition
    • H01L2224/16151Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
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    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、基板上の配線導体への
チップ部品の溶融金属による接続方法に関し、更に詳し
くは、半田バンプ等溶融金属バンプを利用したIC、L
SI等チップ部品の基板上への高密度接続方法に関す
る。
The present invention relates also relates to a connection methods according to the molten metal of the chip component on the wiring conductors on the substrate, more particularly, IC utilizing solder bumps molten metal bumps, L
SI such as Ru <br/> relates to a high density connection methods to the chip components on the board.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、IC、LSI等チップ部品の小型
化、高集積化および多ピン化に伴い、基板に対するこれ
らチップ部品の高密度接続技術の確立が不可欠となって
きている。
2. Description of the Related Art In recent years, as chip components such as ICs and LSIs have become smaller, more highly integrated, and have more pins, it has become essential to establish a high-density connection technology of these chip components to a substrate.
Is coming .

【0003】従来より、セラミック基板、ガラス基板、
エポキシ樹脂基板等に形成された配線導体へのIC等チ
ップ部品の接続方法としては、半田バンプを利用したリ
フローによるセルフアライメント接続法が一般に用いら
れている。この方法では、チップ部品の接続パッド上若
しくは基板上に形成された配線導体上に予めほぼ球形の
半田バンプが形成され、基板の配線導体上に半田バンプ
を介してチップ部品を載せた状態で基板を介して半田バ
ンプが加熱され、溶融した半田バンプの表面張力の作用
でチップ部品が配線導体上に位置決めされる。一方、フ
ィルム基板上へのIC等チップ部品の接続方法として
は、金バンプと錫メッキパターンとを高温高圧下で熱圧
着させる熱圧着法又はワイヤボンディング法が一般に用
いられている。
[0003] Conventionally, ceramic substrates, glass substrates,
As a method for connecting a chip component such as an IC to a wiring conductor formed on an epoxy resin substrate or the like, a self-alignment connection method by reflow using solder bumps is generally used. In this method, a substantially spherical solder bump is formed in advance on a connection pad of a chip component or on a wiring conductor formed on a substrate, and the chip component is placed on the wiring conductor of the substrate via the solder bump. The solder bumps are heated via the substrate, and the chip component is positioned on the wiring conductor by the action of the surface tension of the melted solder bumps. On the other hand, as a method for connecting a chip component such as an IC to a film substrate, a thermocompression method or a wire bonding method in which a gold bump and a tin plating pattern are thermocompressed under a high temperature and a high pressure is generally used.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】リフロー方式の接続方
法では、半田バンプはチップ部品の自重による加圧力を
受けるため、図5(a) に示すように、チップ部品1の接
続パッド2上の半田バンプ3は溶融時に基板(図示省
略)上の配線導体4とチップ部品1上の接続パッド2と
の間で樽状に押しつぶられた状態で冷却固化される。こ
のため、隣接するバンプ3,3同士が接触してブリッジ
を形成する危険性が高くなる。バンプ3,3同士の接触
を回避するためには接続パッド2および配線導体4の配
線ピッチ間隔を広げる必要があるため、高密度接続化が
困難となっている。
In the reflow connection method, since the solder bumps are subjected to the pressing force due to the weight of the chip component, the solder bumps on the connection pads 2 of the chip component 1 as shown in FIG. The bumps 3 are cooled and solidified in a state of being crushed in a barrel shape between the wiring conductors 4 on the substrate (not shown) and the connection pads 2 on the chip component 1 at the time of melting. For this reason, there is a high risk that the adjacent bumps 3 will come into contact with each other to form a bridge. In order to avoid contact between the bumps 3, 3, it is necessary to increase the wiring pitch interval between the connection pad 2 and the wiring conductor 4, so that high-density connection is difficult.

【0005】また、チップ部品と基板とを半田等の溶融
金属で接続した構造においては、温度サイクル負荷をか
けたときのチップ部品と基板との熱膨張係数の差に起因
した熱疲労の問題を考える必要があるが、リフロー方式
の接続法で形成される樽状の接続半田3は横断面積に対
する接続高さ比が小さいため、熱疲労による導通不良が
早期に発生しやすく、高信頼性の確保が困難となってい
る。
Further, in a structure in which a chip component and a substrate are connected by a molten metal such as solder, a problem of thermal fatigue caused by a difference in thermal expansion coefficient between the chip component and the substrate when a temperature cycle load is applied. It is necessary to consider that the barrel-shaped connection solder 3 formed by the reflow connection method has a small connection height ratio with respect to the cross-sectional area, so that conduction failure due to thermal fatigue easily occurs at an early stage, and high reliability is secured. Has become difficult.

【0006】さらに、基板上に接続したIC、LSI等
チップ部品は、導体表面の酸化防止、絶縁性確保、耐衝
撃性向上等の目的で一般に樹脂で封止されるが、リフロ
ー方式の接続法で形成される樽状の接続半田3は上述し
たように横断面積に対する接続高さ比が小さいため、チ
ップ部品1と基板との間のギャップへの樹脂の回り込み
が悪くなり、該ギャップ内に気泡や空隙が残って十分な
封止効果が得られなくなるという問題が生じている。
Further, chip components such as ICs and LSIs connected on a substrate are generally sealed with a resin for the purpose of preventing oxidation of a conductor surface, securing insulation, and improving impact resistance. As described above, the connection height ratio of the barrel-shaped connection solder 3 to the cross-sectional area is small, so that the resin does not easily flow into the gap between the chip component 1 and the substrate, and bubbles are formed in the gap. In addition, there is a problem that a sufficient sealing effect cannot be obtained due to remaining air gaps.

【0007】一方、上述した熱圧着法においては、配線
ピッチ間隔が100μm程度の高密度接続が可能である
が、IC、LSI等チップ部品に高温高圧によるダメー
ジを与える危険性があり、また金バンプを用いるためコ
ストが高くなる欠点がある。さらに高精度高剛性の装置
が必要で、300ピン以上の多ピン同時接続となると加
圧荷重が大きすぎて実現困難になるという問題がある。
また、図5(b) に示すように、チップ部品1上の接続パ
ッド2と基板(図示省略)上の配線導体4とを接続する
金バンプ5は高圧下で板状若しくは膜状に押しつぶされ
るため、温度サイクル負荷をかけたときのチップ部品1
と基板との熱膨張係数の差に起因した熱疲労や、樹脂に
よる封止の点についてはリフロー方式の接続法と同様の
問題が生じている。
On the other hand, in the above-mentioned thermocompression bonding method, high-density connection with a wiring pitch interval of about 100 μm is possible, but there is a risk of damaging chip parts such as ICs and LSIs due to high temperature and high pressure. There is a disadvantage that the cost is high because of using. Further, a high-precision, high-rigidity device is required, and when multiple pins of 300 pins or more are simultaneously connected, there is a problem that the pressing load is too large to be realized.
As shown in FIG. 5B, the gold bumps 5 connecting the connection pads 2 on the chip component 1 and the wiring conductors 4 on the substrate (not shown) are crushed in a plate or film under high pressure. Therefore, a chip component 1 when a temperature cycle load is applied
In terms of thermal fatigue caused by the difference in thermal expansion coefficient between the substrate and the substrate, and sealing with resin, the same problems as those in the reflow connection method have arisen.

【0008】ワイヤボンディング法はボンディングを1
本ずつ行うため、ボンディング作業に長時間を要する。
したがって、多ピンチップ部品の接続には適していな
い。
In the wire bonding method, the bonding is
Since the bonding is performed one by one, a long time is required for the bonding operation.
Therefore, it is not suitable for connecting multi-pin chip components.

【0009】上記従来技術の問題点に鑑み、本発明の目
的は、配線ピッチ間隔の短縮化による高密度接続が可能
で、高信頼性のチップ部品と基板との接続構造を低コス
トで実現できるチップ部品と基板との接続方法を提供す
ることにある。
In view of the above problems of the prior art, it is an object of the present invention to realize a high-density connection by shortening a wiring pitch interval, and to realize a highly reliable connection structure between a chip component and a substrate at low cost. and to provide a connection methods between the chip component and the substrate.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載の本発明
のチップ部品と基板との接続方法は、チップ部品上又は
基板上の配線導体上に形成された溶融金属バンプを介し
てチップ部品と基板上の配線導体とを当接させ、溶融金
属バンプを加熱し溶融させた後に冷却し固化させること
により、チップ部品と基板上の配線導体とを溶融金属バ
ンプを介して接続するチップ部品と基板との接続方法に
おいて、前記溶融金属バンプを介した前記チップ部品と
前記配線導体との当接時に前記溶融金属バンプと前記配
線導体とを位置合わせし、同一位置において前記溶融金
属バンプに所定の加圧力を加えて全ての溶融金属バンプ
を同一高さとし、その後前記溶融金属バンプを溶融温度
へと加熱する前に前記加圧力を減圧し若しくは無加圧状
態にすることを特徴としている。
The present invention according to claim 1 is provided.
The method of connecting the chip component to the substrate is such that the chip component and the wiring conductor on the substrate are brought into contact via the molten metal bump formed on the chip component or the wiring conductor on the substrate, and the molten metal bump is heated. And then cooling and solidifying, thereby connecting the chip component and the wiring conductor on the substrate via the molten metal bump. In the method of connecting the chip component and the substrate, the chip component via the molten metal bump When the molten metal bump and the wiring conductor are aligned with each other at the time of contact with the wiring conductor, a predetermined pressure is applied to the molten metal bump at the same position to make all the molten metal bumps the same height, and then the Before the molten metal bump is heated to the melting temperature, the pressure is reduced or brought into a non-pressurized state.

【0011】前述した構成において、好ましくは、配線
導体との当接前にチップ部品を予加熱したり、前記溶融
金属バンプをパルスヒート加熱により溶融温度へ加熱し
たりする。
In the above-described configuration, preferably, the chip component is preheated before contact with the wiring conductor, or the molten metal bump is heated to a melting temperature by pulse heating.

【0012】[0012]

【作用】請求項1に記載したチップ部品と基板との接続
方法においては、溶融金属バンプの溶融時にチップ部品
と基板との間のギャップが溶融前の溶融金属バンプの高
さ寸法以上に調節されるので、冷却により固化した溶融
金属バンプは溶融前の最大横断面積よりも小さな最大横
断面積を有することとなる。したがって、隣接する接続
パッド間若しくは配線導体間が溶融金属同士の接触によ
り短絡する危険性がなくなり、配線ピッチ間隔の短絡化
による高密度接続が可能になる。また、同一体積の溶融
金属バンプを樽状に押しつぶして固化させた場合に比べ
て溶融金属の横断面積に対する接続高さ比が増大するの
で、耐熱疲労性に優れたチップ部品と基板との接続構造
を低コストで実現することができる。しかも、チップ部
品と配線導体との当接時に溶融金属バンプと前記配線導
体とを位置合わせし、同一位置において前記溶融金属バ
ンプに所定の加圧力を加えて全ての溶融金属バンプを同
一高さとするので、基板の高さのばらつきも含めて金属
バンプの高さを一定にすることができ、接続不良をなく
すことができる。
In the method for connecting a chip component to a substrate according to the first aspect, when the molten metal bump is melted, the gap between the chip component and the substrate is adjusted to be at least the height dimension of the molten metal bump before melting. Therefore, the molten metal bump solidified by cooling has a maximum cross-sectional area smaller than the maximum cross-sectional area before melting. Therefore, there is no danger of short-circuiting between adjacent connection pads or between wiring conductors due to contact between molten metals, and high-density connection by short-circuiting wiring pitch intervals becomes possible. In addition, since the connection height ratio to the cross-sectional area of the molten metal is increased as compared with the case where the same volume of the molten metal bump is crushed into a barrel and solidified, the connection structure between the chip component and the substrate having excellent heat resistance fatigue resistance Can be realized at low cost. Moreover, the molten metal bump and the wiring conductor are aligned at the time of contact between the chip component and the wiring conductor, and a predetermined pressure is applied to the molten metal bump at the same position so that all the molten metal bumps have the same height. Therefore, the height of the metal bumps including the variation in the height of the substrate can be kept constant, and the connection failure can be eliminated.

【0013】上記接続方法において、配線導体との当接
前にチップ部品を予加熱することにより、加熱時間を短
縮することができるし、また、溶融金属バンプをパルス
ヒート加熱により溶融温度へ加熱することにより、必要
なときに必要に応じて加熱することができ、加熱の自由
度を増すことができる。
In the above connection method, the heating time can be shortened by preheating the chip component before contact with the wiring conductor, and the molten metal bump is heated to the melting temperature by pulse heating. Thus, heating can be performed when necessary, if necessary, and the degree of freedom of heating can be increased.

【0014】[0014]

【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例につき
説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0015】図1から図4までは本発明の接続方法によ
り形成されるチップ部品と基板との接続構造の一実施例
を示したものである。はじめに図1および図2を参照す
ると、この実施例では基板としてフィルム基板11が使
用されており、フィルム基板11上には配線導体12が
形成されている。所望パターン形状の配線導体12を形
成する方法としては、特に限定はされないが、予め銅箔
を接着剤13でフィルム基板11上に接着形成した後、
マスクを介して銅箔をエッチングする方法を採用するこ
とができる。また、配線導体12の表面には予め半田等
の溶融金属メッキを施しておくことが好ましい。
FIGS. 1 to 4 show a connection method according to the present invention .
1 shows an embodiment of a connection structure between a chip component formed on a substrate and a substrate. First, referring to FIGS. 1 and 2, a film substrate 11 is used as a substrate in this embodiment, and a wiring conductor 12 is formed on the film substrate 11. The method of forming the wiring conductor 12 having a desired pattern shape is not particularly limited, but after a copper foil is previously formed on the film substrate 11 with an adhesive 13,
A method of etching a copper foil through a mask can be employed. Preferably, the surface of the wiring conductor 12 is previously plated with molten metal such as solder.

【0016】図1および図4に示すように、IC、LS
I等のチップ部品21は接続パッド22を有しており、
接続パッド22と配線導体12とが鼓状に中央部がくび
れた形状とされた半田バンプ23を介して接続されてい
る。半田バンプ23は予めチップ部品21の接続パッド
22上又は基板11上の配線導体12上に融着形成され
たものであり、接続パッド22上又は配線導体12上へ
の形成時に表面張力の作用でほぼ球形をなすものである
が、配線導体12上で加熱溶融された後、チップ部品2
1と基板11との間のギャップ調整により、ここでは略
鼓状に引き伸ばされた状態で冷却固化されている。一例
としてバンプ径が70〜80μmの半田バンプ23を使
用する場合、チップ部品21と基板11との間のギャッ
プを半田バンプ23の溶融時に20〜30μm又はそれ
以上増大させることにより、半田バンプ23を略鼓状に
形成することができる。
As shown in FIGS. 1 and 4, IC, LS
The chip component 21 such as I has a connection pad 22,
The connection pad 22 and the wiring conductor 12 are connected via a solder bump 23 whose central portion is narrowed like a drum. The solder bumps 23 are previously formed by fusion bonding on the connection pads 22 of the chip component 21 or on the wiring conductors 12 on the substrate 11. When the solder bumps 23 are formed on the connection pads 22 or on the wiring conductors 12, the surface tension acts. It has a substantially spherical shape, but after being heated and melted on the wiring conductor 12, the chip component 2
Due to the adjustment of the gap between the substrate 1 and the substrate 11, the resin is cooled and solidified in a state where it is stretched in a substantially drum shape. For example, when the solder bump 23 having a bump diameter of 70 to 80 μm is used, the gap between the chip component 21 and the substrate 11 is increased by 20 to 30 μm or more when the solder bump 23 is melted. It can be formed in a substantially drum shape.

【0017】上記実施例の接続構造においては、半田バ
ンプ23がチップ部品21と基板11との間で溶融され
た後に鼓状をなして固化しているので、隣接する接続パ
ッド22,22間若しくは配線導体12,12間が半田
バンプ23,23同士の接触により短絡する危険性がな
くなる実験では、上記構成を採用することにより、配
線ピッチ間隔が100μm以下の場合であっても高い接
続信頼性が得られることが確認された。また、同一面積
の半田バンプを樽状に押しつぶして固化させた場合に比
べて半田の横断面積に対する接続高さ比が増大するの
で、熱疲労による導通不良の発生を制御することができ
る。また、チップ部品21と基板11との間のギャップ
を増大させることができるので、図3に示すように、チ
ップ部品21の接続後にチップ部品21を樹脂24で封
止する場合には、該ギャップ内への樹脂24の回り込み
が容易になり、完全封止が可能になる。
In the connection structure of the above embodiment, since the solder bumps 23 are melted between the chip component 21 and the substrate 11 and solidified in a drum shape, the solder bumps 23 are connected between the adjacent connection pads 22 or 22. The risk of a short circuit between the wiring conductors 12 due to the contact between the solder bumps 23 is eliminated . In experiments, it was confirmed that high connection reliability was obtained by employing the above configuration even when the wiring pitch interval was 100 μm or less. Further, since the connection height ratio to the cross-sectional area of the solder is increased as compared with the case where the solder bumps having the same area are crushed into a barrel and solidified, the occurrence of conduction failure due to thermal fatigue can be controlled. Since the gap between the chip component 21 and the substrate 11 can be increased, when the chip component 21 is sealed with the resin 24 after the connection of the chip component 21, as shown in FIG. The inside of the resin 24 can be easily turned into the inside, and complete sealing can be achieved.

【0018】なお、上記実施例では溶融金属バンプとし
て半田バンプを用いたが、半田と同程度の低融点合金か
らなる他の合金バンプを用いてもよい。また、半田バン
プ23はチップ部品21と基板11の配線導体12との
間で直胴状をなして固化されていてもよい。さらに、基
板としては上述したフィルム基板の他、セラミック基
板、ガラス基板、エポキシ等樹脂基板を用いることがで
きる。
In the above embodiment, the solder bump is used as the molten metal bump. However, another alloy bump made of a low melting point alloy similar to the solder may be used. Further, the solder bump 23 may be solidified in a straight body between the chip component 21 and the wiring conductor 12 of the substrate 11. Further, as the substrate, a ceramic substrate, a glass substrate, a resin substrate such as epoxy, etc. can be used in addition to the above-mentioned film substrate.

【0019】図6は本発明によるチップ部品と基板との
接続方法の一実施例を示す工程説明図である。なお、同
図において基板11上の配線導体12は誇張的に図示さ
れているが、例えば銅箔からなる配線導体12の厚みは
20〜30μm程度となる。図6を参照すると、この実
施例では、チップ部品21の接続パッド22上に形成さ
れた半田バンプ23をフィルム基板11上の配線導体1
2上で加熱し溶融させた後に冷却し固化させることによ
り、チップ部品21上の接続パッド22と基板11上の
配線導体12とが半田を介して接続されるが、半田バン
プ23の溶融時にチップ部品21と基板11との間のギ
ャップが溶融前の半田バンプ23の高さ寸法以上に調節
されることを特徴としている。
[0019] FIG. 6 is a process diagram showing an embodiment of a method of connecting the chip component and the substrate according to the present invention. Although the wiring conductor 12 on the substrate 11 is exaggeratedly shown in FIG. 1, the thickness of the wiring conductor 12 made of, for example, copper foil is about 20 to 30 μm. Referring to FIG. 6, in this embodiment, the solder bumps 23 formed on the connection pads 22 of the chip component 21 are connected to the wiring conductors 1 on the film substrate 11.
The connection pads 22 on the chip component 21 and the wiring conductors 12 on the substrate 11 are connected via solder by heating and melting on the chip 2 and then cooling and solidifying. The feature is that the gap between the component 21 and the substrate 11 is adjusted to be equal to or larger than the height dimension of the solder bump 23 before melting.

【0020】更に詳しく説明すると、この実施例では、
まずフィルム基板11が背後から加圧され(工程(a)
)、その加圧力によってフィルム基板11上の配線導
体12がチップ部品21の接続パッド22上に形成され
ている略球形の半田バンプ23に圧接される(工程(b)
)。上述したように、配線導体12の表面には予め半
田等の低融点金属メッキを施しておくことが好ましい。
加圧工程において、半田バンプ23の頂部には所定の加
圧力が加えられ、これにより、半田バンプ23の高さば
らつきをなくすことができる。
More specifically, in this embodiment,
First, the film substrate 11 is pressed from behind (step (a)
), The wiring conductors 12 on the film substrate 11 are pressed against the substantially spherical solder bumps 23 formed on the connection pads 22 of the chip component 21 by the pressing force (step (b)).
). As described above, it is preferable that the surface of the wiring conductor 12 is previously plated with a low melting point metal such as solder.
In the pressurizing step, a predetermined pressing force is applied to the top of the solder bump 23, so that the height variation of the solder bump 23 can be eliminated.

【0021】次に、半田バンプ23に加えられていた加
圧力が減圧され若しくは無加圧状態とされた後、半田バ
ンプ23が溶融温度まで加熱されることにより、半田バ
ンプ23が溶融される(工程(c) )。
Next, after the pressure applied to the solder bumps 23 is reduced or made non-pressurized, the solder bumps 23 are heated to a melting temperature to melt the solder bumps 23 ( Step (c)).

【0022】この加熱工程において、半田バンプ23は
基板11又はチップ部品21の少なくとも何れか一方を
介して加熱されるが、上述したように、予め全ての半田
バンプ23が同一高さに揃えられているので、全ての半
田バンプ23が均一に加熱され、均一な温度で溶融され
ることとなる。また、この実施例では、半田バンプ23
が加圧工程を経て溶融されるので、リフロー方式の半田
接続では必要とされるフラックスを省略しても、半田バ
ンプ23を配線導体12に対し確実に接合させることが
できる。
In this heating step, the solder bumps 23 are heated via at least one of the substrate 11 and the chip component 21. As described above, all the solder bumps 23 are previously adjusted to the same height. Therefore, all the solder bumps 23 are uniformly heated and melted at a uniform temperature. In this embodiment, the solder bumps 23
Is melted through a pressing step, so that the solder bumps 23 can be securely bonded to the wiring conductors 12 even if the flux required for the reflow soldering is omitted.

【0023】さらに、この実施例では、上述したよう
に、半田バンプ23に加えられていた加圧力が減圧され
若しくは無加圧状態とされた後、半田バンプ23が溶融
温度まで加熱されるので、半田バンプ23内の圧縮応力
がきわめて小さいか若しくは圧縮応力の生じていない状
態で半田バンプ23を溶融させることができる。したが
って、溶融した半田バンプ23の横への広がりを小さく
し、隣接する半田バンプ同士が接触しブリッジを形成す
る危険性を少なくすることができる。
Further, in this embodiment, as described above, after the pressure applied to the solder bumps 23 is reduced or brought into a non-pressurized state, the solder bumps 23 are heated to the melting temperature. The solder bump 23 can be melted in a state where the compressive stress in the solder bump 23 is extremely small or no compressive stress is generated. Therefore, the spread of the molten solder bumps 23 can be reduced, and the risk that adjacent solder bumps come into contact with each other to form a bridge can be reduced.

【0024】図7は半田バンプ23に加圧力を加えたま
ま半田バンプ23を溶融温度まで加熱した場合の例を、
上記実施例との比較のために示したものである。この比
較例における加圧工程(工程(a) および(b) )は図6に
示す工程(a) および(b) と同様であるが、この比較例で
は、加熱工程(工程(c) )おいて半田バンプ23に加圧
力が加えられたまま半田バンプ23が溶融されるので、
半田バンプ23は横に大きく広がり、隣接する半田バン
プとの接触の危険性が高くなることが判る。
FIG. 7 shows an example in which the solder bump 23 is heated to the melting temperature while the pressing force is applied to the solder bump 23.
This is shown for comparison with the above embodiment. The pressurizing steps (steps (a) and (b)) in this comparative example are the same as steps (a) and (b) shown in FIG. 6, but in this comparative example, the heating step (step (c)) Therefore, the solder bumps 23 are melted while the pressing force is applied to the solder bumps 23,
It can be seen that the solder bumps 23 spread greatly laterally, increasing the risk of contact with adjacent solder bumps.

【0025】なお、本発明による接続方法の上記実施例
において、チップ部品への熱影響を最小限度に抑えるた
め、加熱方法としてはパルスヒート加熱を用いることが
好ましい。また、溶融温度までの加熱時間を短縮させる
ため、チップ部品21を予加熱しておくことが好まし
い。
In the above embodiment of the connection method according to the present invention, it is preferable to use pulse heating as a heating method in order to minimize the influence of heat on the chip components. Further, in order to shorten the heating time up to the melting temperature, it is preferable to preheat the chip component 21.

【0026】更に図6を参照すると、発明による接続
方法の上記実施例では、半田バンプ23が溶融したとき
に、基板11又はチップ部品21(この実施例ではチッ
プ部品21)が微動されて、チップ部品21と基板11
との間のギャップが溶融前の半田バンプ23の高さ寸法
以上となるように調節され、好ましくは、半田バンプ2
3が略直胴状もしくは弧状をなすようにチップ部品21
と基板11との間のギャップが調節される(工程(b)
)。そして、調節されたギャップ寸法を保ったまま、
半田バンプ23は冷却されて固化される。
Still referring to FIG. 6, in the above embodiment of the connection method according to the present invention, when the solder bump 23 is melted, the substrate 11 or the chip component 21 (the chip component 21 in this embodiment) is turned off. Finely moved, the chip component 21 and the substrate 11
Is adjusted to be equal to or larger than the height dimension of the solder bump 23 before melting.
The chip component 21 is formed so that 3 has a substantially straight body or arc shape.
The gap between the substrate and the substrate 11 is adjusted (step (b)
). And while maintaining the adjusted gap size,
The solder bumps 23 are cooled and solidified.

【0027】このように、この実施例においては、半田
バンプ23の溶融時にチップ部品21と基板11との間
のギャップが溶融前の半田バンプ23の高さ寸法以上に
調節されるので、冷却により固化した半田バンプ23は
溶融前の最大横断面積よりも小さな最大横断面積を有す
ることとなる。したがって、隣接する接続パッド22,
22間若しくは配線導体12,12間が半田バンプ同士
の接触により短絡する危険性がなくなり、配線ピッチ間
隔の短縮化による高密度接続が可能になる。また、同一
体積の半田バンプを樽状に押しつぶして固化させた場合
に比べて半田の横断面積に対する接続高さ比が増大する
ので、耐熱疲労性に優れたチップ部品と基板との接続構
造を低コストで実現することができる。
As described above, in this embodiment, when the solder bump 23 is melted, the gap between the chip component 21 and the substrate 11 is adjusted to be equal to or larger than the height dimension of the solder bump 23 before melting. The solidified solder bump 23 has a maximum cross-sectional area smaller than the maximum cross-sectional area before melting. Therefore, adjacent connection pads 22,
There is no danger of short circuit between the wiring conductors 22 or between the wiring conductors 12 due to the contact between the solder bumps, and high-density connection by shortening the wiring pitch interval becomes possible. Also, since the connection height ratio to the cross-sectional area of the solder is increased as compared with a case where the same volume of solder bumps is crushed into a barrel and solidified, the connection structure between the chip component and the substrate having excellent heat fatigue resistance is reduced. It can be realized at cost.

【0028】特に、この実施例のように、半田バンプ2
3は略直胴状若しくは鼓状をなすようにチップ部品21
と基板11との間のギャップを調節した場合、チップ部
品21と基板11との間で冷却固化される半田バンプ2
3が略直胴状若しくは鼓状をなしたものになるので、更
に高密度接続が可能で耐熱疲労性に優れたチップ部品と
基板との接続構造を低コストで実現できることとなる。
In particular, as in this embodiment, the solder bumps 2
Reference numeral 3 denotes a chip component 21 having a substantially straight body or drum shape.
When the gap between the substrate and the substrate 11 is adjusted, the solder bump 2 cooled and solidified between the chip component 21 and the substrate 11 is formed.
Since 3 has a substantially straight body or drum shape, a connection structure between the chip component and the substrate, which can be connected more densely and has excellent thermal fatigue resistance, can be realized at low cost.

【0029】図8から図10までは上述した本発明によ
接続方法を実施するための接続装置の一実施例を示し
たものである。はじめに図8および図9を参照すると、
接続装置はチップ部品21を保持するボンディングステ
ージ31を備えており、ボンディングステージ31の上
方には帯状のフィルム基板11がチップ部品21と向き
合った状態でガイドローラ32,33等を介して緊張状
態に保持されている。フィルム基板11の上方にはフィ
ルム基板11を背後から押圧してチップ部品21の接続
パッド22上に形成された溶融金属バンプ23と基板1
1上の配線導体12とを当接させるボンディングツール
34が設けられている。
FIGS. 8 to 10 illustrate the above-described present invention.
It illustrates an embodiment of a connecting device for carrying out the that connection method. Referring first to FIGS. 8 and 9,
The connection device includes a bonding stage 31 for holding the chip component 21, and the belt-like film substrate 11 is placed above the bonding stage 31 in a state of tension via the guide rollers 32, 33 while facing the chip component 21. Is held. Above the film substrate 11, the molten metal bump 23 formed on the connection pad 22 of the chip component 21 and the substrate 1 are pressed by pressing the film substrate 11 from behind.
A bonding tool 34 for contacting the upper wiring conductor 12 is provided.

【0030】ボンディングツール34は加圧機構をなす
加圧シリンダ35と、この加圧シリンダ35の可動ロッ
ド35aの先端に設けられたボンディングヘッド36
と、可動ロッド35aをチャッキングしてその移動を停
止させるロック機構35bとを備えており、更に、ボン
ディングツール34にはボンディングヘッド36および
フィルム基板11を介して半田バンプ23を溶融温度ま
でパルスヒート加熱するためのパルスヒート加熱部37
が組み込まれている。
The bonding tool 34 includes a pressing cylinder 35 serving as a pressing mechanism, and a bonding head 36 provided at the tip of a movable rod 35a of the pressing cylinder 35.
And a lock mechanism 35b for chucking the movable rod 35a and stopping the movement thereof. The bonding tool 34 further includes a bonding head 36 and the film substrate 11 through which the solder bumps 23 are pulse-heated to a melting temperature. Pulse heat heating unit 37 for heating
Is incorporated.

【0031】ボンディングステージ31はチップ部品2
1を搭載するボンディング台38と、ボンディング台3
8をボンディングヘッド36に対しX軸方向に位置調整
するためのX軸調整機構39と、ボンディング台38を
ボンディングヘッド36に対しY軸方向に位置調整する
ためのY軸調整機構40と、半田バンプ23の溶融時に
チップ部品21をZ軸方向に微動させてチップ部品21
とフィルム基板11との間のギャップを溶融前の溶融金
属バンプ23の高さ寸法以上に調節するためのZ軸微調
整機構41とを備えている。また、この実施例ではボン
ディング台38内にはチップ部品21を予加熱するため
の予加熱部(図示せず)が組み込まれている。ここでは
Z軸微調整機構41は、パルスモータ41aおよび該モ
ータの回転を直線運動に変換するボールねじ軸・ナット
機構(図示せず)を用いたものとなっており、X軸・Y
軸調整機構39,40を介してボンディング台38を微
動させる機構となっているが、カムの回転を利用してz
軸方向の微動を行わせるものであってもよい。
The bonding stage 31 is a chip component 2
1 is mounted on the bonding table 38 and the bonding table 3
An X-axis adjusting mechanism 39 for adjusting the position of the bonding table 8 with respect to the bonding head 36 in the X-axis direction; a Y-axis adjusting mechanism 40 for adjusting the position of the bonding table 38 with respect to the bonding head 36 in the Y-axis direction; When the chip component 21 is melted, the chip component 21 is finely moved in the Z-axis direction.
And a Z-axis fine adjustment mechanism 41 for adjusting the gap between the metal bump and the film substrate 11 to be equal to or larger than the height of the molten metal bump 23 before melting. In this embodiment, a preheating unit (not shown) for preheating the chip component 21 is incorporated in the bonding table 38. Here, the Z-axis fine adjustment mechanism 41 uses a pulse motor 41a and a ball screw shaft / nut mechanism (not shown) that converts the rotation of the motor into a linear motion.
A mechanism for finely moving the bonding table 38 via the axis adjusting mechanisms 39 and 40 is used.
Fine movement in the axial direction may be performed.

【0032】図10(a) を参照すると、加圧シリンダ3
5の内部は上室と下室とに区画されており、加圧シリン
ダ35に対する駆動制御系は、加圧空気供給源42と、
上室に対する加圧空気の給排を制御する第1切換弁43
と、下室に対する加圧空気の給排を制御する第2切換弁
44とを備えており、第2切換弁44は、半田バンプ2
3が溶融温度に加熱される前に加圧シリンダ35の加圧
力を減圧し若しくは無加圧状態にするための減圧機構を
構成している。
Referring to FIG. 10A, the pressure cylinder 3
5 is partitioned into an upper chamber and a lower chamber, and a drive control system for the pressurizing cylinder 35 includes a pressurized air supply source 42,
First switching valve 43 for controlling supply and discharge of pressurized air to and from the upper chamber
And a second switching valve 44 for controlling the supply and discharge of the pressurized air to and from the lower chamber.
Before the 3 is heated to the melting temperature, a pressure reducing mechanism for reducing the pressure of the pressurizing cylinder 35 or setting it to a non-pressurized state is configured.

【0033】次に、図8〜図10を参照して、図6に示
す接続方法を実施する場合の上記接続装置の作動工程を
説明する。まず、図10(a) に示すように、第1切換弁
43を介してシリンダ35の上室に加圧空気を供給し、
シリンダ35の下室は大気に開放させる。これにより可
動ロッド35aが下降し、フィルム基板11が可動ロッ
ド先端のボンディングヘッド36により押圧されて基板
11上の配線導体12(図9)がチップ部品21上の半
田バンプ23に当接される。そして、図10(b) に示す
ように、半田バンプ23には所定加圧力Fが加えられ
る。
Next, referring to FIGS. 8 to 10, the operation steps of the above-described connecting device when the connecting method shown in FIG. 6 is performed will be described. First, as shown in FIG. 10A, pressurized air is supplied to the upper chamber of the cylinder 35 via the first switching valve 43,
The lower chamber of the cylinder 35 is opened to the atmosphere. As a result, the movable rod 35 a descends, and the film substrate 11 is pressed by the bonding head 36 at the tip of the movable rod, so that the wiring conductor 12 (FIG. 9) on the substrate 11 comes into contact with the solder bump 23 on the chip component 21. Then, as shown in FIG. 10B, a predetermined pressing force F is applied to the solder bumps 23.

【0034】その後、図10(c) に示すように、第2切
換弁44を介してシリンダ35の下室に加圧空気が供給
されることにより、半田バンプ23に加えられていた加
圧力が減圧され若しくは無加圧状態とされる。そして、
図10(d) に示すように、可動ロッド35aがロック機
構35bによってロックされた状態でパルスヒート加熱
部37(図8)が通電されることにより、半田バンプ2
3が溶融温度に達するまでパルスヒート加熱される。次
いで、半田バンプ23が溶融状態となったときに、図1
0(e) に示すように、チップ部品21がZ軸微調整機構
41(図8)により下方に微動されて、チップ部品21
と基板11との間のギャップが調整される。こうして半
田バンプ23は上下方向に引き伸ばされたまま冷却され
固化する。
Thereafter, as shown in FIG. 10C, pressurized air is supplied to the lower chamber of the cylinder 35 through the second switching valve 44, so that the pressing force applied to the solder bump 23 is reduced. The pressure is reduced or no pressure is applied. And
As shown in FIG. 10D, when the pulse heating unit 37 (FIG. 8) is energized in a state where the movable rod 35a is locked by the lock mechanism 35b, the solder bump 2
3 is pulse heat heated until it reaches the melting temperature. Next, when the solder bumps 23 are in a molten state, FIG.
0 (e), the chip component 21 is finely moved downward by the Z-axis fine adjustment mechanism 41 (FIG. 8),
The gap between the substrate and the substrate 11 is adjusted. Thus, the solder bumps 23 are cooled and solidified while being stretched in the vertical direction.

【0035】図11は半田バンプ23に加圧力を加えた
まま半田バンプ23を加熱溶融させる場合の工程を、上
記装置による作動工程との比較のために示したものであ
る。図11(b) 〜(c) に示すように、半田バンプ23に
加圧力Fを加えたまま可動ロッド35aをロック機構3
5bによってチャッキングすると、チャッキング部より
下方の可動ロッド35a等の内部に圧縮応力が残存する
ため、図11(d) に示すように、その後シリンダ35の
下室に加圧空気を供給したとしても、半田バンプ23に
は残圧負荷fが加わることとなり、このため、溶融した
半田バンプ23は横に大きく広がってしまう。
FIG. 11 shows a process of heating and melting the solder bump 23 while applying a pressing force to the solder bump 23 for comparison with an operation process by the above-described apparatus. As shown in FIGS. 11B to 11C, the movable rod 35a is locked with the locking mechanism 3 while the pressing force F is applied to the solder bumps 23.
When chucking is performed by 5b, a compressive stress remains inside the movable rod 35a and the like below the chucking portion. Therefore, as shown in FIG. Also, a residual pressure load f is applied to the solder bumps 23, so that the melted solder bumps 23 largely spread laterally.

【0036】これに対し、本発明の接続方法を実施する
ための上記実施例の接続装置によれば、図10(c) およ
び(d) に示すような減圧若しくは無加圧化を行うことに
より、半田バンプ23の広がりを防止することができ、
隣接する半田バンプ間のブリッジ形成を防止できるので
ある。そして、上記実施例装置によれば、上述した図1
0(e) の工程を経ることにより、半田バンプ23は溶融
前の最大横断面積よりも小さな最大横断面積を有するこ
ととなり、好ましくは直胴状若しくは鼓状に中央部がく
びれた柱形状となる。したがって、隣接する接続パッド
22間若しくは配線導体12間が半田同士の接触により
短絡する危険性が少なくなり、配線ピッチ間隔の短縮化
による高密度接続が可能になる。また、同一体積の半田
バンプを樽状に押しつぶして固化させた場合に比べて溶
融金属の横断面積に対する接続高さ比が増大するので、
耐熱疲労性に優れたチップ部品と基板との接続構造を低
コストで実現することができる。
On the other hand, the connection method of the present invention is implemented.
According to the connection device of the above-described embodiment, the spread of the solder bumps 23 can be prevented by reducing the pressure or applying no pressure as shown in FIGS.
Bridge formation between adjacent solder bumps can be prevented. According to the apparatus of the embodiment, the above-described FIG.
Through the step of 0 (e), the solder bump 23 has a maximum cross-sectional area smaller than the maximum cross-sectional area before melting, and preferably has a columnar shape with a central portion constricted in a straight or drum shape. . Therefore, the risk of short-circuiting between adjacent connection pads 22 or between the wiring conductors 12 due to contact between solders is reduced, and high-density connection by shortening the wiring pitch interval becomes possible. Also, since the connection height ratio to the cross-sectional area of the molten metal increases as compared to a case where the same volume of solder bumps is crushed into a barrel and solidified,
A connection structure between a chip component and a substrate having excellent thermal fatigue resistance can be realized at low cost.

【0037】なお、上記実施例の接続装置ではボンディ
ングステージ31側にZ軸方向の微調整機構41が備え
られているが、代替的にボンディングツール34側に同
様の微調整機構を設けてもよい、また、パルスモータと
ロードセル等の圧力センサとを用いて加圧機構および減
圧機構を構成してもよく、さらに、フィルム基板11を
下からチップ部品21に向けて押圧するように、ボンデ
ィングステージ31とボンディングツール34を上記実
施例とは上下反対に位置してもよい。また、基板として
セラミック基板、ガラス基板、樹脂基板等を用いる場
合、基板をボンディングツールに保持させるとともに、
該基板をチップ部品に向けて押圧させるように構成して
もよい。
In the connection device of the above embodiment, the fine adjustment mechanism 41 in the Z-axis direction is provided on the bonding stage 31 side. Alternatively, a similar fine adjustment mechanism may be provided on the bonding tool 34 side. Further, a pressing mechanism and a depressurizing mechanism may be constituted by using a pulse motor and a pressure sensor such as a load cell. Further, the bonding stage 31 is pressed so that the film substrate 11 is pressed toward the chip component 21 from below. The bonding tool 34 and the bonding tool 34 may be positioned upside down in the above embodiment. When a ceramic substrate, a glass substrate, a resin substrate, or the like is used as a substrate, the substrate is held by a bonding tool,
The substrate may be configured to be pressed toward the chip component.

【0038】[0038]

【発明の効果】以上の説明から明かなように、本発明の
チップ部品と基板との接続方法によれば、配線ピッチ間
隔の短縮化による高密度接続が可能で低コストで信頼性
の高いチップ部品と基板との接続構造を得ることができ
る。また、配線導体との当接前にチップ部品を予加熱す
ることにより、加熱時間を短縮することができるし、溶
融金属バンプをパルスヒート加熱により溶融温度へ加熱
することにより、必要なときに必要に応じて加熱するこ
とができ、加熱の自由度を増すことができる。
As is clear from the above description, according to the method for connecting a chip component to a substrate according to the present invention, a high-density connection can be achieved by shortening the wiring pitch interval, and a low-cost and highly reliable chip is provided. A connection structure between the component and the board can be obtained. In addition, by preheating the chip component before contact with the wiring conductor, the heating time can be reduced, and by heating the molten metal bump to the melting temperature by pulse heating, it is necessary when necessary. And the degree of freedom of heating can be increased.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の接続方法および接続装置により形成
されるチップ部品と基板との接続構造の一実施例を示す
概略側面図。
FIG. 1 is a schematic side view showing one embodiment of a connection structure between a chip component and a substrate formed by a connection method and a connection device of the present invention.

【図2】 図1に示す接続構造を上方より見た概略平面
図。
FIG. 2 is a schematic plan view of the connection structure shown in FIG. 1 as viewed from above.

【図3】 図1に示す接続構造のチップ部品を樹脂で封
止した例を示す概略側面図。
FIG. 3 is a schematic side view showing an example in which the chip component having the connection structure shown in FIG. 1 is sealed with a resin.

【図4】 図1に示す接続構造の基板上の配線導体とチ
ップ部品との間の半田接続関係を示す要部斜視図。
4 is an essential part perspective view showing a solder connection relationship between a wiring conductor on a substrate and a chip component having the connection structure shown in FIG. 1;

【図5】 従来のチップ部品と基板との接続構造におけ
る基板上の配線導体とチップ部品との接続状態を示す要
部斜視図であって、(a) はリフロー方式の半田接続方法
で形成された接続構造例を示し、(b) は金バンプを用い
た熱圧着法で形成された接続状態を示す。
FIG. 5 is a perspective view of a main part showing a connection state between a wiring conductor on a substrate and a chip component in a conventional connection structure between a chip component and a substrate, wherein (a) is formed by a reflow soldering method; (B) shows a connection state formed by a thermocompression bonding method using gold bumps.

【図6】 本発明のチップ部品と基板との接続方法の一
実施例を示す工程説明図。
FIG. 6 is a process explanatory view showing one embodiment of a method for connecting a chip component and a substrate according to the present invention.

【図7】 チップ部品と基板との接続方法の比較例を示
す工程説明図。
FIG. 7 is a process explanatory view showing a comparative example of a method of connecting a chip component and a substrate.

【図8】 本発明のチップ部品と基板との接続方法を実
するための接続装置の一実施例を示す要部概略斜視
図。
FIG. 8 illustrates a method for connecting a chip component and a substrate according to the present invention.
Main part schematic perspective view showing an embodiment of a connecting device for facilities.

【図9】 図8に示す接続装置でチップ部品上の溶融金
属バンプと基板上の配線導体とを圧接させた状態を概略
的に示す一部断面側面図。
9 is a partial cross-sectional side view schematically showing a state in which a molten metal bump on a chip component and a wiring conductor on a substrate are pressed against each other by the connection device shown in FIG. 8;

【図10】 図8に示す接続装置でチップ部品上の溶融
金属バンプと基板上の配線導体とを接続するまでの作業
工程を示す工程説明図。
FIG. 10 is a process explanatory view showing work steps until the molten metal bump on the chip component and the wiring conductor on the substrate are connected by the connection device shown in FIG. 8;

【図11】 接続装置の比較例においてチップ部品上の
溶融金属バンプと基板上に配線導体とを接続するまでの
作業工程を示す工程説明図。
FIG. 11 is a process explanatory view showing work steps up to connection of a molten metal bump on a chip component and a wiring conductor on a substrate in a comparative example of a connection device.

【符号の説明】 11 フィルム基板 12 配線導体 21 チップ部品 22 接続パッド 23 半田バンプ 31 ボンディングステージ 34 ボンディングツール 35 加圧シリンダ(加圧機構) 37 パルスヒート加熱部 41 Z軸微調整機構 43 第1切換弁 44 第2切換弁(減圧機構)DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Film substrate 12 Wiring conductor 21 Chip component 22 Connection pad 23 Solder bump 31 Bonding stage 34 Bonding tool 35 Pressing cylinder (Pressing mechanism) 37 Pulse heat heating unit 41 Z axis fine adjustment mechanism 43 First switching Valve 44 2nd switching valve (pressure reducing mechanism)

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平2−235352(JP,A) 特開 平2−10844(JP,A) 特開 昭61−156745(JP,A) 特開 昭57−206037(JP,A) 特開 昭63−250831(JP,A) 特開 平3−16237(JP,A) ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-2-235352 (JP, A) JP-A-2-10844 (JP, A) JP-A-61-156745 (JP, A) JP-A-57-157 206037 (JP, A) JP-A-63-250831 (JP, A) JP-A-3-16237 (JP, A)

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 チップ部品上又は基板上の配線導体上に
形成された溶融金属バンプを介してチップ部品と基板上
の配線導体とを当接させ、溶融金属バンプを加熱し溶融
させた後に冷却し固化させることにより、チップ部品と
基板上の配線導体とを溶融金属バンプを介して接続する
チップ部品と基板との接続方法において、 前記溶融金属バンプを介した前記チップ部品と前記配線
導体との当接時に前記溶融金属バンプと前記配線導体と
を位置合わせし、同一位置において前記溶融金属バンプ
に所定の加圧力を加えて全ての溶融金属バンプを同一高
さとし、その後前記溶融金属バンプを溶融温度へと加熱
する前に前記加圧力を減圧し若しくは無加圧状態にする
ことを特徴とするチップ部品と基板との接続方法。
1. A chip component and a wiring conductor on a substrate are brought into contact via a molten metal bump formed on a chip component or a wiring conductor on a substrate, and the molten metal bump is heated and melted, and then cooled. In the method of connecting a chip component and a substrate, wherein the chip component and the wiring conductor on the substrate are connected via a molten metal bump by solidifying the chip component, the wiring between the chip component and the wiring conductor via the molten metal bump At the time of contact, the molten metal bump and the wiring conductor are aligned, and a predetermined pressing force is applied to the molten metal bump at the same position to make all the molten metal bumps the same height. A method of connecting a chip component and a substrate, wherein the pressure is reduced or brought into a non-pressurized state before heating.
【請求項2】 前記配線導体との当接前に前記チップ部
品を予加熱することを特徴とする請求項1に記載のチッ
プ部品と基板との接続方法。
2. The method for connecting a chip component to a substrate according to claim 1, wherein the chip component is preheated before the contact with the wiring conductor.
【請求項3】 前記溶融金属バンプをパルスヒート加熱
により溶融温度へ加熱することを特徴とする請求項1ま
たは請求項2に記載のチップ部品と基板との接続方法。
3. The method for connecting a chip component to a substrate according to claim 1, wherein the molten metal bump is heated to a melting temperature by pulse heating.
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