JP2655036B2 - 光学物品の製造方法 - Google Patents
光学物品の製造方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、無機コート膜の表面状
態の改質方法に関する。
態の改質方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】真空蒸着法、イオンプレーテイング法、
スパッタリング法等によって得られる無機コート膜は、
眼鏡、レンズ等光学材料の反射防止膜、ハードコート
膜、各種機能性膜に広く用いられている。特にＳｉＯ2
膜は、その基板との付着力、硬度、取扱易さなどの点で
幅広く使用されている。
スパッタリング法等によって得られる無機コート膜は、
眼鏡、レンズ等光学材料の反射防止膜、ハードコート
膜、各種機能性膜に広く用いられている。特にＳｉＯ2
膜は、その基板との付着力、硬度、取扱易さなどの点で
幅広く使用されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、ＳｉＯ2等の
無機コート膜は、Ｓｉ，Ｎａ，Ｃａ，等の不純物を含む
水滴が付着した場合、乾燥する過程に於て不純物が無機
コート膜表面に残り、無機コート膜と強固に結合し、い
わゆるヤケ現象を起こす。
無機コート膜は、Ｓｉ，Ｎａ，Ｃａ，等の不純物を含む
水滴が付着した場合、乾燥する過程に於て不純物が無機
コート膜表面に残り、無機コート膜と強固に結合し、い
わゆるヤケ現象を起こす。
【０００４】また、蒸着による膜はバルクに比べ一般に
密度が小さく、膜内での水分子、気体分子等の移動も容
易であると考えられる。その為、水分子等が膜の表面に
吸着、その後拡散により膜と基材の界面に達し膜と基材
の密着性に悪影響を及ぼすなど、耐久性の低下を招いて
いた。
密度が小さく、膜内での水分子、気体分子等の移動も容
易であると考えられる。その為、水分子等が膜の表面に
吸着、その後拡散により膜と基材の界面に達し膜と基材
の密着性に悪影響を及ぼすなど、耐久性の低下を招いて
いた。
【０００５】さらに、無機コート膜にシラン化合物を反
応させる際、ＤｉＰ法、スピンナー法、スプレー法、等
により塗布して反応させる方法を用いると、塗布膜厚を
調整するためにシラン化合物を希釈するための溶媒が必
要となる。また、表面との反応に寄与しなかったシラン
化合物を洗浄するための溶媒も必要である。水酸基を有
する水系、アルコール系の溶媒は、溶媒とシラン化合物
が反応したり、溶解性、洗浄性が悪いため、使用するこ
とが困難である。そのため、いままでは人体に有害な溶
媒、環境に有害な溶媒（例えばフロン）を使用すること
が一般的であった。フロンに関してはオゾン層破壊物質
として世界的に全廃の動きがあり、環境保護の面からも
使用を絶対に避けなければならない。
応させる際、ＤｉＰ法、スピンナー法、スプレー法、等
により塗布して反応させる方法を用いると、塗布膜厚を
調整するためにシラン化合物を希釈するための溶媒が必
要となる。また、表面との反応に寄与しなかったシラン
化合物を洗浄するための溶媒も必要である。水酸基を有
する水系、アルコール系の溶媒は、溶媒とシラン化合物
が反応したり、溶解性、洗浄性が悪いため、使用するこ
とが困難である。そのため、いままでは人体に有害な溶
媒、環境に有害な溶媒（例えばフロン）を使用すること
が一般的であった。フロンに関してはオゾン層破壊物質
として世界的に全廃の動きがあり、環境保護の面からも
使用を絶対に避けなければならない。
【０００６】また、ＤｉＰ法、スピンナー法、スプレー
法の場合、真空中で形成した無機コート膜を、真空槽内
から取り出して新たな工程を増す必要があり、洗浄工程
も付設しなければならず効率的でなかった。更に塗布法
では、塗布膜厚を厳密に制御することが難かしく、希釈
溶媒を添加し、所望の膜厚を得る必要があった。
法の場合、真空中で形成した無機コート膜を、真空槽内
から取り出して新たな工程を増す必要があり、洗浄工程
も付設しなければならず効率的でなかった。更に塗布法
では、塗布膜厚を厳密に制御することが難かしく、希釈
溶媒を添加し、所望の膜厚を得る必要があった。
【０００７】そこで本発明は、この様な問題点を解決す
るもので、その目的とするところは、無機コート膜の表
面状態を改質し、上記に挙げたようなヤケ現象を解消で
きうる機能を効率的に、かつフロンなどの環境に有害な
溶媒を使用することなく表面に持たせるところにある。
るもので、その目的とするところは、無機コート膜の表
面状態を改質し、上記に挙げたようなヤケ現象を解消で
きうる機能を効率的に、かつフロンなどの環境に有害な
溶媒を使用することなく表面に持たせるところにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の光学物品の製造
方法は、基材を真空状態におき、この基材の上方に、光
学特性を有する無機コート膜を形成する第１の工程と、
真空状態におかれた前記基材の無機コート膜の表面に、
疎水性基を有する気体状の有機シラン化合物を導入し、
前記無機コート膜表面と前記有機シラン化合物とを真空
中で反応させる第２の工程と、しかる後に、前記基材を
大気中に取り出す第３の工程と、をこの順序で有するこ
とを特徴とする。前記無機コート膜としては、主として
Ｓｉ０ 2 を含む層を最表層として持つ単層膜又は多層膜
を用いることができる。また、前記無機コート膜として
は、合成樹脂基材上、又はハードコート層を有する合成
樹脂基材上、に形成された反射防止性を用いることがで
きる。
方法は、基材を真空状態におき、この基材の上方に、光
学特性を有する無機コート膜を形成する第１の工程と、
真空状態におかれた前記基材の無機コート膜の表面に、
疎水性基を有する気体状の有機シラン化合物を導入し、
前記無機コート膜表面と前記有機シラン化合物とを真空
中で反応させる第２の工程と、しかる後に、前記基材を
大気中に取り出す第３の工程と、をこの順序で有するこ
とを特徴とする。前記無機コート膜としては、主として
Ｓｉ０ 2 を含む層を最表層として持つ単層膜又は多層膜
を用いることができる。また、前記無機コート膜として
は、合成樹脂基材上、又はハードコート層を有する合成
樹脂基材上、に形成された反射防止性を用いることがで
きる。
【０００９】無機コート膜に処理を行うには、すでに基
材上に存在しているコート膜の性質、密着性、耐久性を
低下させずに処理を行なう必要がある。その為には、密
着性、耐久性を低下させない温度及び環境で、かつ反射
防止膜等の分光特性に影響を与えないなど、膜全体に影
響を与えない程度の表面付近で反応を行う処理が望まし
い。本発明で用いるシラン化合物は、表面水酸基の存在
下で、膜表面と反応する基を有する物質を用いることが
出来る。例えば、ハロゲン化シラン化合物が挙げられ
る。ハロゲン化シラン化合物は、水酸基の存在下で、Ｓ
ｉＯ2膜表面に対して下式に示すような脱塩酸反応が起
こり、水酸基の存在する表面の反応に非常に有効であ
る。
材上に存在しているコート膜の性質、密着性、耐久性を
低下させずに処理を行なう必要がある。その為には、密
着性、耐久性を低下させない温度及び環境で、かつ反射
防止膜等の分光特性に影響を与えないなど、膜全体に影
響を与えない程度の表面付近で反応を行う処理が望まし
い。本発明で用いるシラン化合物は、表面水酸基の存在
下で、膜表面と反応する基を有する物質を用いることが
出来る。例えば、ハロゲン化シラン化合物が挙げられ
る。ハロゲン化シラン化合物は、水酸基の存在下で、Ｓ
ｉＯ2膜表面に対して下式に示すような脱塩酸反応が起
こり、水酸基の存在する表面の反応に非常に有効であ
る。
【００１０】
【化１】
【００１１】本発明で用いるシラン化合物としては、ト
リメチルクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、メチ
ルトリクロロシラン、ジエチルジクロロシラン、トリク
ロロシラン、クロロメチルトリクロロシラン、メチルジ
クロロシラン、１，２−ジブロモエチルトリクロロシラ
ン、ビニルトリクロロシラン、１，２−ジクロロエチル
トリクロロシラン、１−クロロエチルトリクロロシラ
ン、２−クロロエチルトリクロロシラン、クロロメチル
メチルジクロロシラン、エチルトリクロロシラン、エチ
ルジクロロシラン、ジメチルクロロシラン、３，３，３
−トリフルオロプロピルトリクロロシラン、２−シアノ
エチルトリクロロシラン、アリルトリクロロシラン、３
−ブロモプロピルトリクロロシラン、メチルビニルジク
ロロシラン、３−クロロプロピロトリクロロシラン、ジ
クロロメチルジメチルクロロシラン、ｎ−プロピルトリ
クロロシラン、クロロメチルジメチルクロロシラン、エ
チルメチルジクロロシラン、エトキシメチルジクロロシ
ラン、ジメトキシメチルクロロシラン、ジビニルジクロ
ロシラン、３−シアノプロピルトリクロロシラン、メチ
ル−３，３，３，−トリフルオロプロピルジクロロシラ
ン、アリルメチルジクロロシラン、ジメチルビニルクロ
ロシラン、ｎ−ブチルトリクロロシラン、３−クロロプ
ロピルメチルジクロロシラン、イソブチルトリクロロシ
ラン、メチルプロピルジクロロシラン、ジエトキシジク
ロロシラン、３−シアノプロピルメチルジクロロシラ
ン、アリルジメチルクロロシラン、ペンチルトリクロロ
シラン、３−クロロプロピルジメチルクロロシラン、ブ
チルメチルジクロロシラン、ジメチルプロピルクロロシ
ラン、ジメチルイソプロピルクロロシラン、３，３，
４，４，５，５，６，６，６，−ノナフルオロヘキシル
トリクロロシラン、４−クロロフェニルトリクロロシラ
ン、フェニルトリクロロシラン、フェノキシトリクロロ
シラン、フェニルジクロロシラン、ジアリルジクロロシ
ラン、シクロヘキシルトリクロロシラン、３−シアノプ
ロピルジメチルクロロシラン、ヘキシルトリクロロシラ
ン、メチルペンチルジクロロシラン，ｔｅｒｔ−ブチル
ジメチルクロロシラン、トリエチルクロロシラン、３，
３，４，４，５，５，６，６，６−ノナフルオロヘキシ
ルメチルジクロロシラン、ベンジルトリクロロシラン、
ｐ−トリルトリクロロシラン、メチルフェニルジクロロ
シラン、メチルフェニルクロロシラン、６−トリクロロ
シリル−２−ノルボルネン、２−トリクロロシリルノル
ボルネン、シクロヘキシルメチルジクロロシラン、ヘプ
チルトリクロロシラン、ヘキシルメチルジクロロシラ
ン、フェニルビニルジクロロシラン、β−フェネチルト
リクロロシラン、ジメチルフェニルクロロシラン、２−
（４−シクロヘキセニルエチル）トリクロロシラン、２
−メチルジクロロシリルノルボルネン、３−メタクリル
オキシプロピルメチルジクロロシラン、オクチルトリク
ロロシランン、ヘプチルメチルジクロロシラン、ジブチ
ルジクロロシラン、アニルフェニルジクロロシラン、ク
ロロメチルフェニルエチルトリクロロシラン、メチルフ
ェニルビニルクロロシラン、３−クロロプロピルフェニ
ルジクロロシラン、２−フェニルプロピルトリクロロシ
ラン、メチル−β−フェネチルジクロロシラン、ベンジ
ルジメチルクロロシラン、ノニルトリクロロシラン、メ
チルオクチルジクロロシラン、トリプロピルクロロシラ
ン、ｔｅｒｔ−ブチルフェニルジクロロシラン、デシル
トリクロロシラン、ジメチルオクチルクロロシラン、デ
シルメチルジクロロシラン、ジフェニルジクロロシラ
ン、ジフェニルジフルオロシラン、ジフェニルクロロシ
ラン、ドデシルトリクロロシラン、ジヘキシルジクロロ
シラン、トリブチルクロロシラン、ジフェニルメチルク
ロロシラン、ドデシルメチルジクロロシラン、ジフェニ
ルビニルクロロシラン、テトラデシルトリクロロシラ
ン、トリフェニルクロロシラン。トリヘキシルクロロシ
ラン、メチルオクタデシルジクロロシラン、エイコシル
トリクロロシラン、ジメチルオクタデシルクロロシラ
ン、トリベンジルクロロシラン、ドコシルトリクロロシ
ラン、ドコシルメチルジクロロシラン、１，２−ビス
（トリクロロシリル）エタン、１，２−ビス（メチルジ
クロロシリル）エタン、１，１，３，３，−テトラメチ
ル−１，３−ジクロロジシロキサン、１，２−ビス（ジ
メチルクロロシリル）エタン、１，４−ビス（ジメチル
クロロシリル）ベンゼン、１，３−ジクロロテトライソ
プロピルジシロキサン、１，１，３，３，５，５，−ヘ
キサメチル−１，５−ジクロロトリシロキサン、１，７
−ジクロロオクタメチルテトラシロキサン、などが挙げ
られる。
リメチルクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、メチ
ルトリクロロシラン、ジエチルジクロロシラン、トリク
ロロシラン、クロロメチルトリクロロシラン、メチルジ
クロロシラン、１，２−ジブロモエチルトリクロロシラ
ン、ビニルトリクロロシラン、１，２−ジクロロエチル
トリクロロシラン、１−クロロエチルトリクロロシラ
ン、２−クロロエチルトリクロロシラン、クロロメチル
メチルジクロロシラン、エチルトリクロロシラン、エチ
ルジクロロシラン、ジメチルクロロシラン、３，３，３
−トリフルオロプロピルトリクロロシラン、２−シアノ
エチルトリクロロシラン、アリルトリクロロシラン、３
−ブロモプロピルトリクロロシラン、メチルビニルジク
ロロシラン、３−クロロプロピロトリクロロシラン、ジ
クロロメチルジメチルクロロシラン、ｎ−プロピルトリ
クロロシラン、クロロメチルジメチルクロロシラン、エ
チルメチルジクロロシラン、エトキシメチルジクロロシ
ラン、ジメトキシメチルクロロシラン、ジビニルジクロ
ロシラン、３−シアノプロピルトリクロロシラン、メチ
ル−３，３，３，−トリフルオロプロピルジクロロシラ
ン、アリルメチルジクロロシラン、ジメチルビニルクロ
ロシラン、ｎ−ブチルトリクロロシラン、３−クロロプ
ロピルメチルジクロロシラン、イソブチルトリクロロシ
ラン、メチルプロピルジクロロシラン、ジエトキシジク
ロロシラン、３−シアノプロピルメチルジクロロシラ
ン、アリルジメチルクロロシラン、ペンチルトリクロロ
シラン、３−クロロプロピルジメチルクロロシラン、ブ
チルメチルジクロロシラン、ジメチルプロピルクロロシ
ラン、ジメチルイソプロピルクロロシラン、３，３，
４，４，５，５，６，６，６，−ノナフルオロヘキシル
トリクロロシラン、４−クロロフェニルトリクロロシラ
ン、フェニルトリクロロシラン、フェノキシトリクロロ
シラン、フェニルジクロロシラン、ジアリルジクロロシ
ラン、シクロヘキシルトリクロロシラン、３−シアノプ
ロピルジメチルクロロシラン、ヘキシルトリクロロシラ
ン、メチルペンチルジクロロシラン，ｔｅｒｔ−ブチル
ジメチルクロロシラン、トリエチルクロロシラン、３，
３，４，４，５，５，６，６，６−ノナフルオロヘキシ
ルメチルジクロロシラン、ベンジルトリクロロシラン、
ｐ−トリルトリクロロシラン、メチルフェニルジクロロ
シラン、メチルフェニルクロロシラン、６−トリクロロ
シリル−２−ノルボルネン、２−トリクロロシリルノル
ボルネン、シクロヘキシルメチルジクロロシラン、ヘプ
チルトリクロロシラン、ヘキシルメチルジクロロシラ
ン、フェニルビニルジクロロシラン、β−フェネチルト
リクロロシラン、ジメチルフェニルクロロシラン、２−
（４−シクロヘキセニルエチル）トリクロロシラン、２
−メチルジクロロシリルノルボルネン、３−メタクリル
オキシプロピルメチルジクロロシラン、オクチルトリク
ロロシランン、ヘプチルメチルジクロロシラン、ジブチ
ルジクロロシラン、アニルフェニルジクロロシラン、ク
ロロメチルフェニルエチルトリクロロシラン、メチルフ
ェニルビニルクロロシラン、３−クロロプロピルフェニ
ルジクロロシラン、２−フェニルプロピルトリクロロシ
ラン、メチル−β−フェネチルジクロロシラン、ベンジ
ルジメチルクロロシラン、ノニルトリクロロシラン、メ
チルオクチルジクロロシラン、トリプロピルクロロシラ
ン、ｔｅｒｔ−ブチルフェニルジクロロシラン、デシル
トリクロロシラン、ジメチルオクチルクロロシラン、デ
シルメチルジクロロシラン、ジフェニルジクロロシラ
ン、ジフェニルジフルオロシラン、ジフェニルクロロシ
ラン、ドデシルトリクロロシラン、ジヘキシルジクロロ
シラン、トリブチルクロロシラン、ジフェニルメチルク
ロロシラン、ドデシルメチルジクロロシラン、ジフェニ
ルビニルクロロシラン、テトラデシルトリクロロシラ
ン、トリフェニルクロロシラン。トリヘキシルクロロシ
ラン、メチルオクタデシルジクロロシラン、エイコシル
トリクロロシラン、ジメチルオクタデシルクロロシラ
ン、トリベンジルクロロシラン、ドコシルトリクロロシ
ラン、ドコシルメチルジクロロシラン、１，２−ビス
（トリクロロシリル）エタン、１，２−ビス（メチルジ
クロロシリル）エタン、１，１，３，３，−テトラメチ
ル−１，３−ジクロロジシロキサン、１，２−ビス（ジ
メチルクロロシリル）エタン、１，４−ビス（ジメチル
クロロシリル）ベンゼン、１，３−ジクロロテトライソ
プロピルジシロキサン、１，１，３，３，５，５，−ヘ
キサメチル−１，５−ジクロロトリシロキサン、１，７
−ジクロロオクタメチルテトラシロキサン、などが挙げ
られる。
【００１２】疎水性の基を有するシラン化合物を用いる
ことにより、水によるヤケの防止、膜の耐水性の向上、
水による密着性の低下の防止が期待できる。更に摩擦係
数の低下が伴えば、膜の耐摩耗性の向上が期待できる。
ことにより、水によるヤケの防止、膜の耐水性の向上、
水による密着性の低下の防止が期待できる。更に摩擦係
数の低下が伴えば、膜の耐摩耗性の向上が期待できる。
【００１３】有機シラン化合物を無機コート膜に反応さ
せるには、真空雰囲気中で有機シラン化合物ガスを無機
コート膜と反応させる方法を用いることが出来る。例え
ば真空槽内で無機コート膜を形成後、シラン化合物ガス
を導入し反応させてもよい。また、無機コート膜形成
後、Ａｒガス等のプラズマ雰囲気中にシラン化合物ガス
を導入し、反応性蒸着、反応性イオンプレーティング等
を行うことも可能である。
せるには、真空雰囲気中で有機シラン化合物ガスを無機
コート膜と反応させる方法を用いることが出来る。例え
ば真空槽内で無機コート膜を形成後、シラン化合物ガス
を導入し反応させてもよい。また、無機コート膜形成
後、Ａｒガス等のプラズマ雰囲気中にシラン化合物ガス
を導入し、反応性蒸着、反応性イオンプレーティング等
を行うことも可能である。
【００１４】シラン化合物との反応性を高めるために前
処理として、無機コート膜表面に、洗浄、薬品処理、プ
ラズマ処理を行うとより効果的である。反応に用いるシ
ラン化合物は、単体で用いても良いし、複数で用いるこ
とも可能である。
処理として、無機コート膜表面に、洗浄、薬品処理、プ
ラズマ処理を行うとより効果的である。反応に用いるシ
ラン化合物は、単体で用いても良いし、複数で用いるこ
とも可能である。
【００１５】今まで述べた処理は、ＳｉＯ2、を主とし
て含む無機コート膜表面に可能である。 以下、実施例
に基づき本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに
限定されるものではない。
て含む無機コート膜表面に可能である。 以下、実施例
に基づき本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに
限定されるものではない。
【００１６】
【実施例】（実施例１） ジエチレングリコールビス（アリルカーボネート）製樹
脂からなる合成樹脂製レンズをアセトンで洗浄し、その
後真空蒸着法により基板温度５０℃で合成樹脂製レンズ
表面に反射防止処理を行った。膜構成は、レンズ側から
ＳｉＯ2がλ0／４，ＺｒＯ2層とＳｉＯ2層の合計膜厚が
λ0／４，ＺｒＯ2層がλ0／４，最上層のＳｉＯ2層がλ
0／４とした。最上層のＳｉＯ2層を形成後、ＳｉＯ2表
面をアルゴンガスプラズマで１分間表面処理を行った後
にメチル−３，３，３，−トリフロロプロピルジクロロ
シランを５ｃｃ／分の割合で真空槽内へ２分間導入し
た。そのときの表面温度は５５℃であった。処理後の外
観は処理前とほとんど変化がなかった。
脂からなる合成樹脂製レンズをアセトンで洗浄し、その
後真空蒸着法により基板温度５０℃で合成樹脂製レンズ
表面に反射防止処理を行った。膜構成は、レンズ側から
ＳｉＯ2がλ0／４，ＺｒＯ2層とＳｉＯ2層の合計膜厚が
λ0／４，ＺｒＯ2層がλ0／４，最上層のＳｉＯ2層がλ
0／４とした。最上層のＳｉＯ2層を形成後、ＳｉＯ2表
面をアルゴンガスプラズマで１分間表面処理を行った後
にメチル−３，３，３，−トリフロロプロピルジクロロ
シランを５ｃｃ／分の割合で真空槽内へ２分間導入し
た。そのときの表面温度は５５℃であった。処理後の外
観は処理前とほとんど変化がなかった。
【００１７】得られたコート膜の評価方法は、以下に示
す方法を用いた。
す方法を用いた。
【００１８】 ヤケ性：水道水をコート膜表面にたら
し乾燥させた後、布で残留物を拭き取った。残留物が残
ればＣ、完全に拭き取れればＡ、一部残ればＢと評価し
た。
し乾燥させた後、布で残留物を拭き取った。残留物が残
ればＣ、完全に拭き取れればＡ、一部残ればＢと評価し
た。
【００１９】 耐摩耗性：コート膜表面を布で１ｋｇ
の荷重をかけ１０００回摩擦した。傷のついた度合を以
下の３段階に分けて評価した。
の荷重をかけ１０００回摩擦した。傷のついた度合を以
下の３段階に分けて評価した。
【００２０】Ａ： 全く傷がつかない。
【００２１】Ｂ： １〜１０本、細かい傷がつく。
【００２２】Ｃ： 細かく無数に傷がつく。
【００２３】 密着性：３０℃の純水に１週間浸漬し
た後、コート膜の密着性を調べた。コート膜の密着性
は、ＪＩＳＤ−０２０２に準じてクロスカットテープ試
験によって行った。即ち、ナイフを用い、レンズ表面に
１ｍｍ間隔に切れ目をいれ、１ｍｍ2のマス目を１００
個形成させる。次に、その上にセロファン粘着テープ
（日東化学（株）製”セロテープ”）を強く押し付けた
後、表面から９０゜方向へ、急に引っ張り剥離した後、
コート膜被膜の残っているマス目を持って密着性指標と
した。
た後、コート膜の密着性を調べた。コート膜の密着性
は、ＪＩＳＤ−０２０２に準じてクロスカットテープ試
験によって行った。即ち、ナイフを用い、レンズ表面に
１ｍｍ間隔に切れ目をいれ、１ｍｍ2のマス目を１００
個形成させる。次に、その上にセロファン粘着テープ
（日東化学（株）製”セロテープ”）を強く押し付けた
後、表面から９０゜方向へ、急に引っ張り剥離した後、
コート膜被膜の残っているマス目を持って密着性指標と
した。
【００２４】 接触角：接触角計（協和科学株式会社
製ＣＡ−Ｄ型）を用いて液滴法により測定した。
製ＣＡ−Ｄ型）を用いて液滴法により測定した。
【００２５】（実施例２）イソプロピルアルコールで洗
浄されたジエチレングリコールビス（アリルカーボネー
ト）製レンズを室温で５分間、５％水酸化ナトリウム水
溶液で処理を行い、以下に述べるコーティング液を、デ
ィッピング法により、液温５℃、引き上げ速度４０ｃｍ
／ｍｉｎの条件で塗布した。次に熱風乾燥炉中で８０℃
で３０分、１３０℃で２時間加熱硬化させた。
浄されたジエチレングリコールビス（アリルカーボネー
ト）製レンズを室温で５分間、５％水酸化ナトリウム水
溶液で処理を行い、以下に述べるコーティング液を、デ
ィッピング法により、液温５℃、引き上げ速度４０ｃｍ
／ｍｉｎの条件で塗布した。次に熱風乾燥炉中で８０℃
で３０分、１３０℃で２時間加熱硬化させた。
【００２６】コーティング液は次の様にして作製した。
【００２７】攪拌装置を備えた反応容器中にエタノール
２０６部、エタノール分散コロイダルシリカ３９６部
（触媒化成工業株式会社製”オスカル１２３２”固形分
３０％）、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ンの部分加水分解物 ３１２部、フローコントロール剤
０．２部（日本ユニカー（株）製”Ｌ−７６０４”）及
び０．０５Ｎ酢酸水溶液８６部を加え、室温で３時間攪
拌をし、コーティング液とした。
２０６部、エタノール分散コロイダルシリカ３９６部
（触媒化成工業株式会社製”オスカル１２３２”固形分
３０％）、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ンの部分加水分解物 ３１２部、フローコントロール剤
０．２部（日本ユニカー（株）製”Ｌ−７６０４”）及
び０．０５Ｎ酢酸水溶液８６部を加え、室温で３時間攪
拌をし、コーティング液とした。
【００２８】上記の様にして得られたレンズに実施例１
と同様に反射防止処理を行い、その後真空槽内に３，
３，４，４，５，５，６，６，６−ノナフルオロヘキシ
ルメチルジクロロシランを、１０ｃｃ／分の割合で真空
槽内へ１分間導入した。その後レンズを大気中に取り出
した。処理後の外観に特に変化はみられなかった。
と同様に反射防止処理を行い、その後真空槽内に３，
３，４，４，５，５，６，６，６−ノナフルオロヘキシ
ルメチルジクロロシランを、１０ｃｃ／分の割合で真空
槽内へ１分間導入した。その後レンズを大気中に取り出
した。処理後の外観に特に変化はみられなかった。
【００２９】（比較例１）実施例１で得られたメチル−
３，３，３−トリフロロプロピルジクロロシラン処理前
の反射防止付き合成樹脂製レンズを比較例１とした。
３，３，３−トリフロロプロピルジクロロシラン処理前
の反射防止付き合成樹脂製レンズを比較例１とした。
【００３０】実施例と比較例の評価結果はまとめて表１
に示した。
に示した。
【００３１】
【表１】
【００３２】本発明の光学物品の製造方法は、基材を真
空状態におき、この基材の上方に、光学特性を有する無
機コート膜を形成する第１の工程と、真空状態におかれ
た前記基材の無機コート膜の表面に、疎水性基を有する
気体状の有機シラン化合物を導入し、前記無機コート膜
表面と前記有機シラン化合物とを真空中で反応させる第
２の工程と、しかる後に、前記基材を大気中に取り出す
第３の工程と、をこの順序で有することを特徴とするの
で、無機コート膜及び表面の特性が変化し、従って、ヤ
ケ現象の防止、膜の耐水性、耐久性の向上、耐磨耗性の
向上などの効果があり、膜厚調整用の希釈溶媒、洗浄用
の溶媒（例えばフロン）を使用する必要がなくなり、地
球環境に優しい処理が可能となり、無機コート膜を形成
した基材を大気にさらすことなく処理することができ、
洗浄工程等の工程の削減が図れ、効率的であり、無機コ
ート膜表面上にゴミが付着するのを防止できるので、密
着性、耐久性に優れた表面処理を実現することが可能と
なり、無機コート膜の光学特性を損なうことなくヤケ現
象等を防止することが可能となる、という効果を有する
ものである。
空状態におき、この基材の上方に、光学特性を有する無
機コート膜を形成する第１の工程と、真空状態におかれ
た前記基材の無機コート膜の表面に、疎水性基を有する
気体状の有機シラン化合物を導入し、前記無機コート膜
表面と前記有機シラン化合物とを真空中で反応させる第
２の工程と、しかる後に、前記基材を大気中に取り出す
第３の工程と、をこの順序で有することを特徴とするの
で、無機コート膜及び表面の特性が変化し、従って、ヤ
ケ現象の防止、膜の耐水性、耐久性の向上、耐磨耗性の
向上などの効果があり、膜厚調整用の希釈溶媒、洗浄用
の溶媒（例えばフロン）を使用する必要がなくなり、地
球環境に優しい処理が可能となり、無機コート膜を形成
した基材を大気にさらすことなく処理することができ、
洗浄工程等の工程の削減が図れ、効率的であり、無機コ
ート膜表面上にゴミが付着するのを防止できるので、密
着性、耐久性に優れた表面処理を実現することが可能と
なり、無機コート膜の光学特性を損なうことなくヤケ現
象等を防止することが可能となる、という効果を有する
ものである。
【００３３】
【００３４】
【００３５】本発明は、眼鏡レンズ、カメラレンズ、表
示用パネル、時計用カバーガラス、窓ガラス等の基材、
特に合成樹脂基材上に無機コート膜を使用した製品に適
用できる。
示用パネル、時計用カバーガラス、窓ガラス等の基材、
特に合成樹脂基材上に無機コート膜を使用した製品に適
用できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 最上 隆夫 長野県諏訪市大和３丁目３番５号 セイ コーエプソン株式会社内 (56)参考文献 特開 昭58−172245（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−39714（ＪＰ，Ａ)
Claims (3)
- 【請求項１】 基材を真空状態におき、この基材の上方
に、光学特性を有する無機コート膜を形成する第１の工
程と、 真空状態におかれた前記基材の無機コート膜の表面に、
疎水性基を有する気体状の有機シラン化合物を導入し、
前記無機コート膜表面と前記有機シラン化合物とを真空
中で反応させる第２の工程と、 しかる後に、前記基材を大気中に取り出す第３の工程
と、 をこの順序で有することを特徴とする光学物品の製造方
法。 - 【請求項２】 請求項１に記載の光学物品の製造方法に
おいて、 前記無機コート膜は、主としてＳｉ０ 2 を含む層を最表
層として持つ単層膜又は多層膜であることを特徴とする
光学物品の製造方法。 - 【請求項３】 請求項１に記載の光学物品の製造方法に
おいて、 前記無機コート膜は、合成樹脂基材上、又はハードコー
ト層を有する合成樹脂基材上、に形成された反射防止性
を有する膜であることを特徴とする光学物品の製造方
法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61010468A JP2622541B2 (ja) | 1986-01-21 | 1986-01-21 | 光学物品の製造方法 |
| FR8700257A FR2598520B1 (fr) | 1986-01-21 | 1987-01-13 | Pellicule protectrice minerale |
| DE19873701654 DE3701654A1 (de) | 1986-01-21 | 1987-01-21 | Verfahren zur behandlung anorganischer ueberzuege |
| JP5007901A JP2655036B2 (ja) | 1986-01-21 | 1993-01-20 | 光学物品の製造方法 |
| US08/183,105 US5622784A (en) | 1986-01-21 | 1994-01-18 | Synthetic resin ophthalmic lens having an inorganic coating |
| US08/324,066 US5783299A (en) | 1986-01-21 | 1994-10-14 | Polarizer plate with anti-stain layer |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61010468A JP2622541B2 (ja) | 1986-01-21 | 1986-01-21 | 光学物品の製造方法 |
| JP5007901A JP2655036B2 (ja) | 1986-01-21 | 1993-01-20 | 光学物品の製造方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61010468A Division JP2622541B2 (ja) | 1986-01-21 | 1986-01-21 | 光学物品の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05341106A JPH05341106A (ja) | 1993-12-24 |
| JP2655036B2 true JP2655036B2 (ja) | 1997-09-17 |
Family
ID=26342287
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5007901A Expired - Lifetime JP2655036B2 (ja) | 1986-01-21 | 1993-01-20 | 光学物品の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2655036B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2865737A1 (fr) * | 2013-10-28 | 2015-04-29 | The Swatch Group Research and Development Ltd. | Produit noble épilame |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58172245A (ja) * | 1982-04-02 | 1983-10-11 | Asahi Glass Co Ltd | ガラスの表面処理剤 |
| JPS5939714A (ja) * | 1982-08-31 | 1984-03-05 | Matsumoto Seiyaku Kogyo Kk | 珪素酸化物被覆形成法 |
-
1993
- 1993-01-20 JP JP5007901A patent/JP2655036B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05341106A (ja) | 1993-12-24 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |