JP2648538B2 - ２次元の電子源を利用した検査装置 - Google Patents
２次元の電子源を利用した検査装置Info
- Publication number
- JP2648538B2 JP2648538B2 JP3279909A JP27990991A JP2648538B2 JP 2648538 B2 JP2648538 B2 JP 2648538B2 JP 3279909 A JP3279909 A JP 3279909A JP 27990991 A JP27990991 A JP 27990991A JP 2648538 B2 JP2648538 B2 JP 2648538B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- mcp
- measured
- electron
- pattern
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、２次元の分布を有する
電子パターンを発生することができる電子源を利用した
検査装置に関する。
電子パターンを発生することができる電子源を利用した
検査装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】図２は、２次元の電子源を利用した従来
の検査装置を示す。この検査装置は、蛍光面またはＭＣ
Ｐ（マイクロチャンネルプレート）を測定評価するため
のものである。真空容器３０内に配置された陰極３１ａ
とグリッド３１ｂとからなる電子銃からは電子が発生す
る。この電子は容器３０内の偏向電極３２、３３で２次
元的に走査されて蛍光面等の被測定面（被検査物）３４
に均質に照射される。容器３０外に設けられたカメラ３
６によって被測定面３４を観察すれば、その画質評価等
によって蛍光面等の均質性を判定することができる。な
お、電子銃３１ａ、３１ｂと偏向電極３２、３３とによ
って２次元の電子源が構成されている。
の検査装置を示す。この検査装置は、蛍光面またはＭＣ
Ｐ（マイクロチャンネルプレート）を測定評価するため
のものである。真空容器３０内に配置された陰極３１ａ
とグリッド３１ｂとからなる電子銃からは電子が発生す
る。この電子は容器３０内の偏向電極３２、３３で２次
元的に走査されて蛍光面等の被測定面（被検査物）３４
に均質に照射される。容器３０外に設けられたカメラ３
６によって被測定面３４を観察すれば、その画質評価等
によって蛍光面等の均質性を判定することができる。な
お、電子銃３１ａ、３１ｂと偏向電極３２、３３とによ
って２次元の電子源が構成されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の検査装置に
おける電子源は、主にタングステン陰極を用いた電子銃
を使用しているため、この電子銃から出射される電子が
電子線となる。したがって、被測定面に均一に電子を照
射するための手段として偏向電極やフォーカス電極を幾
つか用いる必要がある。この結果、走査むら、偏向電極
によるけられ等が生じ、被測定面が大きくなるほど均一
な電子照射が困難となっていた。また、被測定面への電
子の照射エネルギーをある程度高いものとすることが必
要なので、偏向幅をある程度大きくするためには、電子
銃と被照射面との距離を長くし、或いは偏向電界を大き
くする必要が生じ、必然的に検査装置全体が大きなもの
となってしまう。これにともなって、真空ポンプ系も大
きな容量が必要となり、排気時間も長いものとなってし
まう。
おける電子源は、主にタングステン陰極を用いた電子銃
を使用しているため、この電子銃から出射される電子が
電子線となる。したがって、被測定面に均一に電子を照
射するための手段として偏向電極やフォーカス電極を幾
つか用いる必要がある。この結果、走査むら、偏向電極
によるけられ等が生じ、被測定面が大きくなるほど均一
な電子照射が困難となっていた。また、被測定面への電
子の照射エネルギーをある程度高いものとすることが必
要なので、偏向幅をある程度大きくするためには、電子
銃と被照射面との距離を長くし、或いは偏向電界を大き
くする必要が生じ、必然的に検査装置全体が大きなもの
となってしまう。これにともなって、真空ポンプ系も大
きな容量が必要となり、排気時間も長いものとなってし
まう。
【０００４】そこで本発明は、均一パターンまたは所定
パターンの電子像を簡易にかつ精度よく形成することが
でき、小型にして良好な検査を行うことができる２次元
の電子源を利用した検査装置を提供することを目的とす
る。
パターンの電子像を簡易にかつ精度よく形成することが
でき、小型にして良好な検査を行うことができる２次元
の電子源を利用した検査装置を提供することを目的とす
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の２次元の電子源を利用した検査装置は、均
一または所定パターンのＵＶ光を照射するＵＶ光源と、
ＵＶ光源からの光を受光してＵＶ光源からの光パターン
に対応した電子パターンを結像するマイクロチャンネル
プレート（ＭＣＰ）と、ＭＣＰで発生した電子が入射さ
れる被検査物と、被検査物を観察する撮像装置とを備え
ている。
に、本発明の２次元の電子源を利用した検査装置は、均
一または所定パターンのＵＶ光を照射するＵＶ光源と、
ＵＶ光源からの光を受光してＵＶ光源からの光パターン
に対応した電子パターンを結像するマイクロチャンネル
プレート（ＭＣＰ）と、ＭＣＰで発生した電子が入射さ
れる被検査物と、被検査物を観察する撮像装置とを備え
ている。
【０００６】
【作用】本発明の２次元の電子源を利用した検査装置に
おいては、ＵＶ光源からの光パターンに対応した電子パ
ターンを電子源であるＭＣＰで結像するので、ＭＣＰに
均一または所定の強度分布を有する光パターンを照射す
るだけで、この光パターンに対応する所望の電子パター
ンを簡易にかつ精度よく得ることができる。ＭＣＰは、
簡単な電圧操作でエミッション電流を制御することがで
きる。さらに、偏向電極を用いないので、走査によるむ
らやけられがなく、比較的大きな被検査物に対しても容
易に均一な電子照射が可能となり、またＭＣＰは、ＵＶ
光に対して電子を発生し、増幅することができるので、
検査装置全体の小型化を図ることができる。電子源とし
てＭＣＰを用いているので、熱輻射が発生せず、真空中
におけるガス放出量が少なくなり、そのため、測定時に
超高真空を維持する必要がある場合であっても、その測
定状態の維持が容易である。
おいては、ＵＶ光源からの光パターンに対応した電子パ
ターンを電子源であるＭＣＰで結像するので、ＭＣＰに
均一または所定の強度分布を有する光パターンを照射す
るだけで、この光パターンに対応する所望の電子パター
ンを簡易にかつ精度よく得ることができる。ＭＣＰは、
簡単な電圧操作でエミッション電流を制御することがで
きる。さらに、偏向電極を用いないので、走査によるむ
らやけられがなく、比較的大きな被検査物に対しても容
易に均一な電子照射が可能となり、またＭＣＰは、ＵＶ
光に対して電子を発生し、増幅することができるので、
検査装置全体の小型化を図ることができる。電子源とし
てＭＣＰを用いているので、熱輻射が発生せず、真空中
におけるガス放出量が少なくなり、そのため、測定時に
超高真空を維持する必要がある場合であっても、その測
定状態の維持が容易である。
【０００７】
【実施例】以下、図面を参照しつつ本発明の実施例につ
いて説明する。
いて説明する。
【０００８】図１は、本実施例の２次元の電子源を利用
した検査装置を示す。ＵＶ光源２からのＵＶ光は、ガラ
ス製の真空容器３の左端に設けられたＵＶ透過性ガラス
４に照射される。ＵＶ透過性ガラス４の内面には必要に
応じてＡｕ蒸着膜を付加することもできる。真空容器３
内のＭＣＰ５は、ＵＶ透過性ガラス４を透過したＵＶ光
とここで発生した光電子との入射を受けて増倍された多
数の電子を発生する。これらの電子は、ＭＣＰ５に相対
する加速メッシュ電極６とこれに続いて配設されたフォ
ーカス電極７とを通過して蛍光面、ＭＣＰ等からなる被
測定面８に入射する。被測定面８は、不図示のチャンバ
ー等を介して真空容器３外に取り出すことができ、他の
被測定面に置き換えることができる。真空容器３外の右
端には、被測定面８を検査・観察等するためのＳＩＴカ
メラ９が設けられている。
した検査装置を示す。ＵＶ光源２からのＵＶ光は、ガラ
ス製の真空容器３の左端に設けられたＵＶ透過性ガラス
４に照射される。ＵＶ透過性ガラス４の内面には必要に
応じてＡｕ蒸着膜を付加することもできる。真空容器３
内のＭＣＰ５は、ＵＶ透過性ガラス４を透過したＵＶ光
とここで発生した光電子との入射を受けて増倍された多
数の電子を発生する。これらの電子は、ＭＣＰ５に相対
する加速メッシュ電極６とこれに続いて配設されたフォ
ーカス電極７とを通過して蛍光面、ＭＣＰ等からなる被
測定面８に入射する。被測定面８は、不図示のチャンバ
ー等を介して真空容器３外に取り出すことができ、他の
被測定面に置き換えることができる。真空容器３外の右
端には、被測定面８を検査・観察等するためのＳＩＴカ
メラ９が設けられている。
【０００９】図１の検査装置の動作について簡単に説明
する。ＵＶ光源２からのＵＶ光はＵＶ透過性ガラス４に
均一に照射される。このＵＶ光は、ＵＶ透過性ガラス４
を透過し、或いはここで光電子を発生させる。ＵＶ透過
性ガラス４を透過したＵＶ光とここで発生した光電子と
は、ＭＣＰ５に入射してここで増幅された電子を発生さ
せる。この電子はＭＣＰ５の直後に均一な電子パターン
を形成する。これらの電子は加速メッシュ電極６で加速
された後、フォーカス電極７で集束されて被測定面８上
に一様に入射する。２次元の電子パターンによって照明
された被測定面８の発光状態等はＳＩＴカメラ９によっ
て観察する。被測定面８の発光状態が均質でなければ、
その部分に欠陥が生じていることになる。
する。ＵＶ光源２からのＵＶ光はＵＶ透過性ガラス４に
均一に照射される。このＵＶ光は、ＵＶ透過性ガラス４
を透過し、或いはここで光電子を発生させる。ＵＶ透過
性ガラス４を透過したＵＶ光とここで発生した光電子と
は、ＭＣＰ５に入射してここで増幅された電子を発生さ
せる。この電子はＭＣＰ５の直後に均一な電子パターン
を形成する。これらの電子は加速メッシュ電極６で加速
された後、フォーカス電極７で集束されて被測定面８上
に一様に入射する。２次元の電子パターンによって照明
された被測定面８の発光状態等はＳＩＴカメラ９によっ
て観察する。被測定面８の発光状態が均質でなければ、
その部分に欠陥が生じていることになる。
【００１０】ＵＶ光源２からの光は、ＭＣＰ５に対して
散乱光として照射されるものであればよい。例えば、Ｕ
Ｖ光源２が、ＭＣＰ５の直径以上離れていれば、検査の
ために十分に均質な電子パターンを得ることができる。
照射の均一度を高めるために、ＵＶ光源２とＵＶ透過性
ガラス４との間にレンズ、拡散板等を介在させてもよ
い。また、ＵＶ透過性ガラス４の内面にＡｕ蒸着膜を設
けない場合には、ＵＶ光源２を真空容器３内に配置する
ことができる。ただし、ＵＶ光源２を真空容器３内外の
いずれに配置する場合にも、もれ光を防止するため、加
速メッシュ電極６、フォーカス電極７、被測定面８等に
対する遮光の必要がある。ＭＣＰ５は被測定面８の大き
さに対応した直径のものを使用するが、加速メッシュ電
極６、フォーカス電極７等の選定やそれらの配置、距離
等を適当に設定することで、ＭＣＰ５の数倍の被測定面
に均質で十分な密度の電子パターンを形成することがで
き、この被測定面の検査が可能になる。ＭＣＰ５が被測
定面８以上の面積を有する場合、加速メッシュ電極６、
フォーカス電極７等は、これらが同軸上に相対する限り
省略することもできる。例えば、ＭＣＰ５の後方の近接
した位置に被測定面８を配置するならば、ＭＣＰ５と被
測定面８との間にほぼ均質な電界が形成されることとな
り、一様な電子パターンが被測定面８上に結像される。
散乱光として照射されるものであればよい。例えば、Ｕ
Ｖ光源２が、ＭＣＰ５の直径以上離れていれば、検査の
ために十分に均質な電子パターンを得ることができる。
照射の均一度を高めるために、ＵＶ光源２とＵＶ透過性
ガラス４との間にレンズ、拡散板等を介在させてもよ
い。また、ＵＶ透過性ガラス４の内面にＡｕ蒸着膜を設
けない場合には、ＵＶ光源２を真空容器３内に配置する
ことができる。ただし、ＵＶ光源２を真空容器３内外の
いずれに配置する場合にも、もれ光を防止するため、加
速メッシュ電極６、フォーカス電極７、被測定面８等に
対する遮光の必要がある。ＭＣＰ５は被測定面８の大き
さに対応した直径のものを使用するが、加速メッシュ電
極６、フォーカス電極７等の選定やそれらの配置、距離
等を適当に設定することで、ＭＣＰ５の数倍の被測定面
に均質で十分な密度の電子パターンを形成することがで
き、この被測定面の検査が可能になる。ＭＣＰ５が被測
定面８以上の面積を有する場合、加速メッシュ電極６、
フォーカス電極７等は、これらが同軸上に相対する限り
省略することもできる。例えば、ＭＣＰ５の後方の近接
した位置に被測定面８を配置するならば、ＭＣＰ５と被
測定面８との間にほぼ均質な電界が形成されることとな
り、一様な電子パターンが被測定面８上に結像される。
【００１１】ＵＶ透過性ガラス４に付着させるＡｕ蒸着
膜は、電子パターンをＭＣＰ５に供給するが、被測定面
８により均一な電子を照射したい場合、或いはＵＶ透過
性ガラス４及びＭＣＰ５の間でＵＶ光を十分に遮蔽した
い場合に用いる。この場合、ＵＶ透過性ガラス４とＭＣ
Ｐ５との間に新たな電極を設けることもできる。更に、
ＵＶ光源２もＡｕ蒸着膜による光電効果を利用したもの
には限られない。
膜は、電子パターンをＭＣＰ５に供給するが、被測定面
８により均一な電子を照射したい場合、或いはＵＶ透過
性ガラス４及びＭＣＰ５の間でＵＶ光を十分に遮蔽した
い場合に用いる。この場合、ＵＶ透過性ガラス４とＭＣ
Ｐ５との間に新たな電極を設けることもできる。更に、
ＵＶ光源２もＡｕ蒸着膜による光電効果を利用したもの
には限られない。
【００１２】以上のような検査装置にあっては、２次元
電子源装置としてＵＶ光源２とＭＣＰ５とを使用したこ
とにより４００Ｖ〜１２００Ｖ位の電圧のコントロール
で、被測定面への電子量の微妙な調節が可能となる。ま
た、加速メッシュ電極６をＭＣＰ５に相対して配置する
ことで、必要なエネルギーを持った均一な電子流を得る
ことができる。更に、偏向電極を用いていないので、走
査によるむらやけられもなくなり、比較的大きな被測定
面に対しても容易に均一な電子照射が可能となる。この
結果、検査装置を小型化することができる。また、電子
源装置としてＭＣＰを利用しているので、通常の電子銃
のように熱輻射が発生せず、真空中におけるガス放出量
が少なくてすむ。このため、測定時に超高真空を維持す
る必要がある場合であっても、その測定状態の維持が容
易である。
電子源装置としてＵＶ光源２とＭＣＰ５とを使用したこ
とにより４００Ｖ〜１２００Ｖ位の電圧のコントロール
で、被測定面への電子量の微妙な調節が可能となる。ま
た、加速メッシュ電極６をＭＣＰ５に相対して配置する
ことで、必要なエネルギーを持った均一な電子流を得る
ことができる。更に、偏向電極を用いていないので、走
査によるむらやけられもなくなり、比較的大きな被測定
面に対しても容易に均一な電子照射が可能となる。この
結果、検査装置を小型化することができる。また、電子
源装置としてＭＣＰを利用しているので、通常の電子銃
のように熱輻射が発生せず、真空中におけるガス放出量
が少なくてすむ。このため、測定時に超高真空を維持す
る必要がある場合であっても、その測定状態の維持が容
易である。
【００１３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の２次元の
電子源を利用した検査装置においては、ＵＶ光源からの
光パターンに対応した電子パターンを電子源であるＭＣ
Ｐで結像するので、ＭＣＰに均一または所定の強度分布
を有する光パターンを照射するだけで、この光パターン
に対応する所望の電子パターンを簡易にかつ精度よく得
ることができる。ＭＣＰは、簡単な電圧操作でエミッシ
ョン電流を制御することができる。さらに、偏向電極を
用いないので、走査によるむらやけられがなく、比較的
大きな被検査物に対しても容易に均一な電子照射が可能
となり、またＭＣＰは、ＵＶ光に対して電子を発生し、
増幅することができるので、検査装置全体の小型化を図
ることができる。電子源としてＭＣＰを用いているの
で、熱輻射が発生せず、真空中におけるガス放出量が少
なくなり、そのため、測定時に超高真空を維持する必要
がある場合であっても、その測定状態の維持が容易であ
る。
電子源を利用した検査装置においては、ＵＶ光源からの
光パターンに対応した電子パターンを電子源であるＭＣ
Ｐで結像するので、ＭＣＰに均一または所定の強度分布
を有する光パターンを照射するだけで、この光パターン
に対応する所望の電子パターンを簡易にかつ精度よく得
ることができる。ＭＣＰは、簡単な電圧操作でエミッシ
ョン電流を制御することができる。さらに、偏向電極を
用いないので、走査によるむらやけられがなく、比較的
大きな被検査物に対しても容易に均一な電子照射が可能
となり、またＭＣＰは、ＵＶ光に対して電子を発生し、
増幅することができるので、検査装置全体の小型化を図
ることができる。電子源としてＭＣＰを用いているの
で、熱輻射が発生せず、真空中におけるガス放出量が少
なくなり、そのため、測定時に超高真空を維持する必要
がある場合であっても、その測定状態の維持が容易であ
る。
【図１】本発明の一実施例の２次元の電子源を利用した
検査装置を示す図である。
検査装置を示す図である。
【図２】２次元の電子源を利用した従来の検査装置を示
す図である。
す図である。
２…ＵＶ光源、５…ＭＣＰ、８…被測定面、９…ＳＩＴ
カメラ
カメラ
Claims (1)
- 【請求項１】 均一または所定パターンのＵＶ光を照射
するＵＶ光源と、前記ＵＶ光源からの光を受光して前記
ＵＶ光源からの光パターンに対応した電子パターンを結
像するマイクロチャンネルプレートと、前記マイクロチ
ャンネルプレートで発生した電子が入射される被検査物
と、前記被検査物を観察する撮像装置とを備える２次元
の電子源を利用した検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3279909A JP2648538B2 (ja) | 1991-10-25 | 1991-10-25 | ２次元の電子源を利用した検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3279909A JP2648538B2 (ja) | 1991-10-25 | 1991-10-25 | ２次元の電子源を利用した検査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05121021A JPH05121021A (ja) | 1993-05-18 |
| JP2648538B2 true JP2648538B2 (ja) | 1997-09-03 |
Family
ID=17617609
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3279909A Expired - Fee Related JP2648538B2 (ja) | 1991-10-25 | 1991-10-25 | ２次元の電子源を利用した検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2648538B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5294293B2 (ja) * | 2006-07-10 | 2013-09-18 | 株式会社 エックスネット | 電子線照射装置 |
| US9165742B1 (en) * | 2014-10-10 | 2015-10-20 | Kla-Tencor Corporation | Inspection site preparation |
| US10748737B2 (en) * | 2017-10-10 | 2020-08-18 | Kla-Tencor Corporation | Electron beam generation and measurement |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5943314B2 (ja) * | 1979-04-02 | 1984-10-20 | キヤノン株式会社 | 液滴噴射記録装置 |
| JPS59191244A (ja) * | 1983-04-15 | 1984-10-30 | Hamamatsu Photonics Kk | 像拡大装置 |
-
1991
- 1991-10-25 JP JP3279909A patent/JP2648538B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05121021A (ja) | 1993-05-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101113092B1 (ko) | 멀티 ｘ선 발생장치 및 멀티 ｘ선 촬영장치 | |
| JP4302316B2 (ja) | 走査形電子顕微鏡 | |
| JP2007265981A5 (ja) | ||
| JP4796791B2 (ja) | 荷電粒子線装置および荷電粒子線像生成方法 | |
| JP2002289129A (ja) | 低真空走査電子顕微鏡 | |
| JP2648538B2 (ja) | ２次元の電子源を利用した検査装置 | |
| JPH09106777A (ja) | 電子顕微鏡用電子増倍器 | |
| JPH0630235B2 (ja) | 高時間分解電子顕微鏡装置 | |
| EP1155419B1 (en) | "x-ray microscope having an x-ray source for soft x-rays | |
| JPH05135725A (ja) | 荷電粒子ビーム装置における有機ガス分子の除去方法 | |
| JP5312555B2 (ja) | マルチｘ線発生装置 | |
| JPH0843600A (ja) | Ｘ線観察装置 | |
| JP2000208089A (ja) | 電子顕微鏡装置 | |
| JP2020202167A (ja) | 光電子顕微鏡（ｐｅｅｍ）機能を備えた透過電子顕微鏡（ｔｅｍ） | |
| JP2003004668A (ja) | Ｘ線検査装置 | |
| JP3854751B2 (ja) | 電子顕微鏡装置 | |
| JP2000057987A (ja) | 形状観察用検出装置及び形状観察方法 | |
| JPH11307031A (ja) | 分析電子顕微鏡 | |
| JP2001110350A (ja) | 荷電粒子線装置 | |
| JPH0374039A (ja) | 光電子顕微鏡を備えた透過電子顕微鏡 | |
| JPH06289299A (ja) | 走査光電子顕微鏡 | |
| JP3765781B2 (ja) | Ｘ線顕微鏡の像調整装置と像調整方法 | |
| JPH082603Y2 (ja) | Ｘ線分析装置 | |
| JPH0374038A (ja) | 光電子顕微鏡を備えた透過電子顕微鏡 | |
| JPS59229519A (ja) | 走査光子顕微鏡 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313532 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080509 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090509 Year of fee payment: 12 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |