JP2638356B2 - 集光スポット同軸度測定装置 - Google Patents
集光スポット同軸度測定装置Info
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- JP2638356B2 JP2638356B2 JP26575491A JP26575491A JP2638356B2 JP 2638356 B2 JP2638356 B2 JP 2638356B2 JP 26575491 A JP26575491 A JP 26575491A JP 26575491 A JP26575491 A JP 26575491A JP 2638356 B2 JP2638356 B2 JP 2638356B2
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は円筒形のワークから軸方
向に出射される集光スポットのワークに対する同軸度を
測定する集光スポット同軸度測定装置に関し、特に光通
信の分野で用いられるレーザダイオードモジュールの集
光スポット同軸度測定装置に関する。
向に出射される集光スポットのワークに対する同軸度を
測定する集光スポット同軸度測定装置に関し、特に光通
信の分野で用いられるレーザダイオードモジュールの集
光スポット同軸度測定装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の集光スポット同軸度測定装置は、
図3に示すようにベース1に顕微鏡台23が固定され、
顕微鏡台23に固定された顕微鏡21と、顕微鏡21の
像面上におかれ顕微鏡21に固定されるカメラ22と、
カメラ22に接続され顕微鏡21により拡大される円筒
形状ワーク20の外形の中心位置と対象点の中心位置を
算出する画像処理装置26と、顕微鏡21にとりつけら
れる対物レンズ24と、ベース1に固定され顕微鏡21
の光軸とワーク20の軸が平行かつ同軸にそしてワーク
20の端面が対物レンズ24の焦点面上にくるようにワ
ーク20を保持するチャック25とを有している。
図3に示すようにベース1に顕微鏡台23が固定され、
顕微鏡台23に固定された顕微鏡21と、顕微鏡21の
像面上におかれ顕微鏡21に固定されるカメラ22と、
カメラ22に接続され顕微鏡21により拡大される円筒
形状ワーク20の外形の中心位置と対象点の中心位置を
算出する画像処理装置26と、顕微鏡21にとりつけら
れる対物レンズ24と、ベース1に固定され顕微鏡21
の光軸とワーク20の軸が平行かつ同軸にそしてワーク
20の端面が対物レンズ24の焦点面上にくるようにワ
ーク20を保持するチャック25とを有している。
【0003】対物レンズ24はワーク20の端面の像す
べてがカメラ22の視野内に入る低い倍率の対物レンズ
である。顕微鏡21と対物レンス24でワーク20の端
面の拡大しその像をカメラ22がとらえ、光電変換す
る。カメラ22がとらえた像のデータは画像処理装置2
6に送られワーク20の端面の外径の像より端面外形の
中心を算出し、一方同軸度の測定対象となる部分の中心
位置を算出し、外径と対象点の同軸度を算出する。
べてがカメラ22の視野内に入る低い倍率の対物レンズ
である。顕微鏡21と対物レンス24でワーク20の端
面の拡大しその像をカメラ22がとらえ、光電変換す
る。カメラ22がとらえた像のデータは画像処理装置2
6に送られワーク20の端面の外径の像より端面外形の
中心を算出し、一方同軸度の測定対象となる部分の中心
位置を算出し、外径と対象点の同軸度を算出する。
【0004】ここで対象点とは例えば光通信用レーザダ
イオードモジュールの光ファイバとの結合点すなわちレ
ーザダイオード光の集光スポットである。図3の装置は
この結合点位置と光通信用レーザダイオードモジュール
外径との同軸を測定する用途に用いられる。
イオードモジュールの光ファイバとの結合点すなわちレ
ーザダイオード光の集光スポットである。図3の装置は
この結合点位置と光通信用レーザダイオードモジュール
外径との同軸を測定する用途に用いられる。
【0005】図4は光通信用レーザダイオードモジュー
ル端面を示す平面図である。ワーク20の外径27の中
心にLD光の集光スポット28が配置されるように製造
されている。
ル端面を示す平面図である。ワーク20の外径27の中
心にLD光の集光スポット28が配置されるように製造
されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】この従来の集光スポッ
ト同軸度測定装置では、同軸度の基準となるワーク外径
と対象点を顕微鏡およびカメラにより同一の画像でとら
えて処理する必要性から対象点より大きいワークの外径
にあわせて顕微鏡の倍率を決めるため、低倍率の対物レ
ンズとなりカメラの解像度の制限から1ミクロン以下、
0.1ミクロン台の測定制度がえられないという問題点
があった。
ト同軸度測定装置では、同軸度の基準となるワーク外径
と対象点を顕微鏡およびカメラにより同一の画像でとら
えて処理する必要性から対象点より大きいワークの外径
にあわせて顕微鏡の倍率を決めるため、低倍率の対物レ
ンズとなりカメラの解像度の制限から1ミクロン以下、
0.1ミクロン台の測定制度がえられないという問題点
があった。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の集光スポット同
軸度測定装置は、ベース上に取り付けられたチャック
と、このチャックに保持された円筒形のワークの先端か
ら出射される光の集光スポットを横切るように移動する
ナイフエッジと、このナイフエッジの位置を計測する位
置計測手段と、前記ワークから出射され前記集光スポッ
トを通過後の光を受光する光センサと、前記ワークの一
の方向における径および側面の位置を検出する第1のレ
ーザ外径測定器と、前記ワークの前記一の方向と直角の
方向における径および側面の位置を検出する第2のレー
ザ外径測定器と、前記第1のレーザ外径測定器および前
記第2のレーザ外径測定器に接続され前記ワークの中心
位置を算出するレーザ外径測定器コントローラと、前記
光センサの受光量の変化が極大となる時に前記位置計測
手段が検出する前記ナイフエッジの位置から求める前記
集光スポットの位置を前記レーザ外径測定器コントロー
ラが算出した前記ワークの中心位置と比較して前記集光
スポットの同軸度を算出する演算手段とを備えている。
軸度測定装置は、ベース上に取り付けられたチャック
と、このチャックに保持された円筒形のワークの先端か
ら出射される光の集光スポットを横切るように移動する
ナイフエッジと、このナイフエッジの位置を計測する位
置計測手段と、前記ワークから出射され前記集光スポッ
トを通過後の光を受光する光センサと、前記ワークの一
の方向における径および側面の位置を検出する第1のレ
ーザ外径測定器と、前記ワークの前記一の方向と直角の
方向における径および側面の位置を検出する第2のレー
ザ外径測定器と、前記第1のレーザ外径測定器および前
記第2のレーザ外径測定器に接続され前記ワークの中心
位置を算出するレーザ外径測定器コントローラと、前記
光センサの受光量の変化が極大となる時に前記位置計測
手段が検出する前記ナイフエッジの位置から求める前記
集光スポットの位置を前記レーザ外径測定器コントロー
ラが算出した前記ワークの中心位置と比較して前記集光
スポットの同軸度を算出する演算手段とを備えている。
【0008】本発明の集光スポット同軸度測定装置は、
ベース上に取り付けられたチャックと、このチャックに
保持された円筒形のワークの先端から出射される光の集
光スポットを横切るように移動するナイフエッジと、こ
のナイフエッジの位置を計測する位置計測手段と、前記
ワークから出射され前記集光スポットを通過後の光を受
光する光センサと、前記ワークの側面の第1の点の位置
を検出する第1の測長手段と、前記ワークの側面の前記
第1の点を含む周上の第2の点の位置を検出する第2の
測長手段と、前記ワークの側面の前記第1の点および前
記第2の点を含む周上の第3の点の位置を検出する第3
の測長手段と、前記光センサの受光量の変化が極大とな
る時に前記位置計測手段が検出する前記ナイフエッジの
位置から求める前記集光スポットの位置を前記第1ない
し第3の測長手段が求める前記第1ないし第3の点から
得る前記ワークの中心位置と比較して前記集光スポット
の同軸度を算出する演算手段とを備えている。
ベース上に取り付けられたチャックと、このチャックに
保持された円筒形のワークの先端から出射される光の集
光スポットを横切るように移動するナイフエッジと、こ
のナイフエッジの位置を計測する位置計測手段と、前記
ワークから出射され前記集光スポットを通過後の光を受
光する光センサと、前記ワークの側面の第1の点の位置
を検出する第1の測長手段と、前記ワークの側面の前記
第1の点を含む周上の第2の点の位置を検出する第2の
測長手段と、前記ワークの側面の前記第1の点および前
記第2の点を含む周上の第3の点の位置を検出する第3
の測長手段と、前記光センサの受光量の変化が極大とな
る時に前記位置計測手段が検出する前記ナイフエッジの
位置から求める前記集光スポットの位置を前記第1ない
し第3の測長手段が求める前記第1ないし第3の点から
得る前記ワークの中心位置と比較して前記集光スポット
の同軸度を算出する演算手段とを備えている。
【0009】
【実施例】次に、本発明について図面を参照して説明す
る。
る。
【0010】図1は本発明の一実施例の集光スポット同
軸度測定装置の構成図、第2図は図1の主要部を拡大し
た側面図である。
軸度測定装置の構成図、第2図は図1の主要部を拡大し
た側面図である。
【0011】本実施例はベース1と、ベース1上に固定
された回転ステージ2と、回転ステージ2上に固定され
ワーク20を保持するチャック3と、光を透過する部分
と光を透過しない部分とからなり透過する部分と透過し
ない部分の境界が直線であるナイフエッジ4と、ナイフ
エッジ4を保持しチャック3により保持されるワーク2
0より出射された光の集光スポットを横切るようにガイ
ドする直線ガイド5と、ベース1状に固定されナイフエ
ッジ4を直線ガイド5のガイドに従って直線駆動するモ
ータ6と、ベース1上に固定されナイフエッジ4の位置
を検出しかつ原点出力をもつリニアスケール7と、チャ
ック3により保持されるワーク20より出射された光の
うちナイフエッジ4を通った光を受光する光センサ8
と、チャック3により保持されるワーク20の側面に計
測光を投光する第1のレーザ外径測定器投光ユニット9
と、第1のレーザ外径測定器投光ユニット9と電気的に
接続されワーク20を挟んで向い合いワーク20の径お
よび側面の位置を検出する第1のレーザ外径測定器受光
ユニット10と、光軸が第1のレーザ外径測定器投光ユ
ニット9の光軸に対し垂直でチャック3により保持され
るワーク20の側面に計測光を投光する第2のレーザ外
径測定器投光ユニット11と、第2のレーザ外径測定器
投光ユニット11と電気的に接続されワーク20を挟ん
で向い合いワーク20の径および側面の位置を検出する
第2のレーザ外径測定器受光ユニット12と、第1のレ
ーザ外径測定器投光ユニット9と第1のレーザ外径測定
器受光ユニット10と第2のレーザ外径測定器投光ユニ
ット11と第2のレーザ外径測定器受光ユニット12を
ベース1上に固定するサブベース13と、リニアスケー
ル7をコントロールしナイフエッジが一定距離動くごと
にパルスを出力し原点位置で原点出力をするリニアスケ
ールコントローラ14と、光センサ8の信号を増幅して
出力する光センサアンプ15と、リニアスケールコント
ローラ14および光センサアンプ15と接続しリニアス
ケールコントローラ14からのパルス信号をトリガとし
て光センサアンプ15からの入力をA/D変換して出力
するA/D変換器29と、第1のレーザ外径測定器投光
ユニット9とこのレーザ光を受光する第1のレーザ外径
測定器受光ユニット10と第2のレーザ外径測定器投光
ユニット11(第1のレーザ外径測定器投光ユニット9
の光軸30と第2のレーザ外径測定器投光ユニット11
の光軸は互いにほぼ直交するように配置する)とこのレ
ーザ光を受光する第2のレーザ外径測定器受光ユニット
12と電気的に接続されそれぞれをコントロールしチャ
ック3により保持されるワーク20に径および側面の位
置からワーク20の中心位置を算出するレーザ外径測定
器コントローラ16と、回転ステージ2をコントロール
する回転ステージコントローラ17と、モータ6をコン
トロールするモータコントローラ18と、モータコント
ローラ18に指令してナイフエッジ4を往復運動させA
/D変換器29からリニアスケール7が定距離動くごと
の光センサ8が受光する光量のデータをとりこみ一方リ
ニアスケールコントローラ14からリニアスケール7の
原点信号をもらいチャック3により保持されるワーク2
0から出射される光の集光点の一軸方向の位置を算出
し、さらに回転ステージコントローラ17に指令してワ
ーク20を90°回転させ集光スポットの他の軸方向の
位置を算出しレーザ外径測定器コントローラ16にて算
出されるワーク20の中心位置に対するワーク20より
出射される光の集光点位置の同軸度を算出する演算装置
19とを含んで構成される。
された回転ステージ2と、回転ステージ2上に固定され
ワーク20を保持するチャック3と、光を透過する部分
と光を透過しない部分とからなり透過する部分と透過し
ない部分の境界が直線であるナイフエッジ4と、ナイフ
エッジ4を保持しチャック3により保持されるワーク2
0より出射された光の集光スポットを横切るようにガイ
ドする直線ガイド5と、ベース1状に固定されナイフエ
ッジ4を直線ガイド5のガイドに従って直線駆動するモ
ータ6と、ベース1上に固定されナイフエッジ4の位置
を検出しかつ原点出力をもつリニアスケール7と、チャ
ック3により保持されるワーク20より出射された光の
うちナイフエッジ4を通った光を受光する光センサ8
と、チャック3により保持されるワーク20の側面に計
測光を投光する第1のレーザ外径測定器投光ユニット9
と、第1のレーザ外径測定器投光ユニット9と電気的に
接続されワーク20を挟んで向い合いワーク20の径お
よび側面の位置を検出する第1のレーザ外径測定器受光
ユニット10と、光軸が第1のレーザ外径測定器投光ユ
ニット9の光軸に対し垂直でチャック3により保持され
るワーク20の側面に計測光を投光する第2のレーザ外
径測定器投光ユニット11と、第2のレーザ外径測定器
投光ユニット11と電気的に接続されワーク20を挟ん
で向い合いワーク20の径および側面の位置を検出する
第2のレーザ外径測定器受光ユニット12と、第1のレ
ーザ外径測定器投光ユニット9と第1のレーザ外径測定
器受光ユニット10と第2のレーザ外径測定器投光ユニ
ット11と第2のレーザ外径測定器受光ユニット12を
ベース1上に固定するサブベース13と、リニアスケー
ル7をコントロールしナイフエッジが一定距離動くごと
にパルスを出力し原点位置で原点出力をするリニアスケ
ールコントローラ14と、光センサ8の信号を増幅して
出力する光センサアンプ15と、リニアスケールコント
ローラ14および光センサアンプ15と接続しリニアス
ケールコントローラ14からのパルス信号をトリガとし
て光センサアンプ15からの入力をA/D変換して出力
するA/D変換器29と、第1のレーザ外径測定器投光
ユニット9とこのレーザ光を受光する第1のレーザ外径
測定器受光ユニット10と第2のレーザ外径測定器投光
ユニット11(第1のレーザ外径測定器投光ユニット9
の光軸30と第2のレーザ外径測定器投光ユニット11
の光軸は互いにほぼ直交するように配置する)とこのレ
ーザ光を受光する第2のレーザ外径測定器受光ユニット
12と電気的に接続されそれぞれをコントロールしチャ
ック3により保持されるワーク20に径および側面の位
置からワーク20の中心位置を算出するレーザ外径測定
器コントローラ16と、回転ステージ2をコントロール
する回転ステージコントローラ17と、モータ6をコン
トロールするモータコントローラ18と、モータコント
ローラ18に指令してナイフエッジ4を往復運動させA
/D変換器29からリニアスケール7が定距離動くごと
の光センサ8が受光する光量のデータをとりこみ一方リ
ニアスケールコントローラ14からリニアスケール7の
原点信号をもらいチャック3により保持されるワーク2
0から出射される光の集光点の一軸方向の位置を算出
し、さらに回転ステージコントローラ17に指令してワ
ーク20を90°回転させ集光スポットの他の軸方向の
位置を算出しレーザ外径測定器コントローラ16にて算
出されるワーク20の中心位置に対するワーク20より
出射される光の集光点位置の同軸度を算出する演算装置
19とを含んで構成される。
【0012】回転ステージ2にはエアベアリング等の高
精度回転ガイドが使われる。ナイフエッジ4によるワー
ク20の集光点位置検出はナイフエッジを1つしか使わ
ないため一度には一の径の方向のみの位置検出でありこ
の方向に直交する他の径方向の位置検出を行うため検出
方向切替え用としてワーク20を回転させるために回転
ステージ2が必要となる。ナイフエッジ4が2方向分の
2組用意されれば回転ステージ2は必要ない。
精度回転ガイドが使われる。ナイフエッジ4によるワー
ク20の集光点位置検出はナイフエッジを1つしか使わ
ないため一度には一の径の方向のみの位置検出でありこ
の方向に直交する他の径方向の位置検出を行うため検出
方向切替え用としてワーク20を回転させるために回転
ステージ2が必要となる。ナイフエッジ4が2方向分の
2組用意されれば回転ステージ2は必要ない。
【0013】図5(a)および(b)はナイフエッジ4
がワーク20より出射された光の集光スポットを横切る
とき光センサ8に受光される光量の変化およびその微分
値を示したグラフである。光量変化が最大になる位置、
すなわち微分値が極大となる位置が集光スポットの中心
である。図1に示される本実施例ではリニアスケール7
が一定距離動くごとにパルスを出し、そのパルス信号を
トリガとして光センサ8の受光光量をA/D変換して離
散化し、これを数値微分して極大値をとる位置を集光点
の中心位置としている。この集光点の中心位置はリニア
スケール7の原点信号を使い絶対位置として求める。
がワーク20より出射された光の集光スポットを横切る
とき光センサ8に受光される光量の変化およびその微分
値を示したグラフである。光量変化が最大になる位置、
すなわち微分値が極大となる位置が集光スポットの中心
である。図1に示される本実施例ではリニアスケール7
が一定距離動くごとにパルスを出し、そのパルス信号を
トリガとして光センサ8の受光光量をA/D変換して離
散化し、これを数値微分して極大値をとる位置を集光点
の中心位置としている。この集光点の中心位置はリニア
スケール7の原点信号を使い絶対位置として求める。
【0014】ナイフエッジ4は例えばガラス面上にクロ
ム蒸着パターンを形成したものである。
ム蒸着パターンを形成したものである。
【0015】レーザ外径測定器投光ユニットと受光ユニ
ットは対になっており1セットでレーザ外径測定器とな
り、例えばアンリツ(株)製レーザ外径測定器KL15
Xシリーズ等でありワークの径および側面の位置を0.
1ミクロン台の精度で測定できる。
ットは対になっており1セットでレーザ外径測定器とな
り、例えばアンリツ(株)製レーザ外径測定器KL15
Xシリーズ等でありワークの径および側面の位置を0.
1ミクロン台の精度で測定できる。
【0016】図6は本発明の他の実施例の構成図であ
る。
る。
【0017】この実施例で回転ステージ2,チャック
3,ナイフエッジ4,直線ガイド5,モータ6,リニア
スケール7,光センサ8,光センサアンプ15,回転ス
テージコントローラ17,モータコントローラ18およ
び演算装置19は図1に示すものと同じである。
3,ナイフエッジ4,直線ガイド5,モータ6,リニア
スケール7,光センサ8,光センサアンプ15,回転ス
テージコントローラ17,モータコントローラ18およ
び演算装置19は図1に示すものと同じである。
【0018】図6に示す実施例は、これらの外にチャッ
ク3により保持される円筒形状ワーク20の側面の一点
の位置を検出する第1の光マイクロメータ31と円筒形
状ワーク20の側面の第1の光マイクロメータ31が位
置を計測する点を含む周上の他の点の位置を検出する第
2の光マイクロメータ32と、円筒形状ワーク20の側
面の第1の光マイクロメータ9および第2の光マイクロ
メータ32が位置を計測する点を含む周上のさらに他の
点の位置を検出する第3の光マイクロメータ33と第1
の光マイクロメータ31、第2の光マイクロメータ32
および第3の光マイクロメータ33をベース1と接続し
相対位置を固定するサブベース34と、第1の光マイク
ロメータ31と第2の光マイクロメータ32と第3の光
マイクロメータ33に電気的に接続されておりそれぞれ
をコントロールし、また3つの光マイクロメータ31〜
33にて測定された円筒形状ワーク20の外形の位置3
点を出力するコントローラ14と、モータコントローラ
18に指令してナイフエッジ4を往復運動させA/D変
換器16からリニアスケール7が定距離動くごとの光セ
ンサ8が受光する光量のデータをとりこみ、一方リニア
スケールコントローラ15からリニアスケール7の原点
信号をもらいチャック3により保持される円筒形状ワー
ク20から出射される光の集光点の一軸方向の位置を算
出しさらに回転ステージコントローラ17に指令して円
筒形状ワーク20を90°回転させ集光点の他の軸方向
の位置を算出し、コントローラ14から出力される円筒
形状ワーク20の外形位置3点から円筒形状ワーク20
の中心位置を円の方程式に3点の位置を代入し方程式を
解くことによって算出し、集光スポット位置と円筒形状
ワーク20の中心位置から同軸度を算出する演算装置1
9とを有する。
ク3により保持される円筒形状ワーク20の側面の一点
の位置を検出する第1の光マイクロメータ31と円筒形
状ワーク20の側面の第1の光マイクロメータ31が位
置を計測する点を含む周上の他の点の位置を検出する第
2の光マイクロメータ32と、円筒形状ワーク20の側
面の第1の光マイクロメータ9および第2の光マイクロ
メータ32が位置を計測する点を含む周上のさらに他の
点の位置を検出する第3の光マイクロメータ33と第1
の光マイクロメータ31、第2の光マイクロメータ32
および第3の光マイクロメータ33をベース1と接続し
相対位置を固定するサブベース34と、第1の光マイク
ロメータ31と第2の光マイクロメータ32と第3の光
マイクロメータ33に電気的に接続されておりそれぞれ
をコントロールし、また3つの光マイクロメータ31〜
33にて測定された円筒形状ワーク20の外形の位置3
点を出力するコントローラ14と、モータコントローラ
18に指令してナイフエッジ4を往復運動させA/D変
換器16からリニアスケール7が定距離動くごとの光セ
ンサ8が受光する光量のデータをとりこみ、一方リニア
スケールコントローラ15からリニアスケール7の原点
信号をもらいチャック3により保持される円筒形状ワー
ク20から出射される光の集光点の一軸方向の位置を算
出しさらに回転ステージコントローラ17に指令して円
筒形状ワーク20を90°回転させ集光点の他の軸方向
の位置を算出し、コントローラ14から出力される円筒
形状ワーク20の外形位置3点から円筒形状ワーク20
の中心位置を円の方程式に3点の位置を代入し方程式を
解くことによって算出し、集光スポット位置と円筒形状
ワーク20の中心位置から同軸度を算出する演算装置1
9とを有する。
【0019】3台の光マイクロメータ31〜33により
円筒形状ワーク20の外周上の3点を求めるが、これは
3点を通る円は一意に定まるため円筒形状ワーク20の
位置が求められるからである。ここで光マイクロメータ
とは例えばアンリツ(株)製光マイクロKL13Xシリ
ーズ等であり、円筒形状ワーク12の側面の位置を0.
1ミクロン台の精度で測定できる。
円筒形状ワーク20の外周上の3点を求めるが、これは
3点を通る円は一意に定まるため円筒形状ワーク20の
位置が求められるからである。ここで光マイクロメータ
とは例えばアンリツ(株)製光マイクロKL13Xシリ
ーズ等であり、円筒形状ワーク12の側面の位置を0.
1ミクロン台の精度で測定できる。
【0020】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、ワークの
外形の中心位置をレーザ外形測定器または測長手段によ
り求め、一方集光スポットをナイフエッジにて走査しナ
イフエッジを通る光量の変化から集光スポット位置を求
めワークの外径と集光点の同軸度を高精度(0.1ミク
ロン台)で測定できるという効果を有する。
外形の中心位置をレーザ外形測定器または測長手段によ
り求め、一方集光スポットをナイフエッジにて走査しナ
イフエッジを通る光量の変化から集光スポット位置を求
めワークの外径と集光点の同軸度を高精度(0.1ミク
ロン台)で測定できるという効果を有する。
【図1】本発明の一実施例の構成図である。
【図2】図1に示す実施例の主要部分の拡大側面図であ
る。
る。
【図3】従来の集光スポット同軸度測定装置の構成図で
ある。
ある。
【図4】光通信用レーザダイオードモジュールの端面を
示す平面図である。
示す平面図である。
【図5】(a)および(b)はそれぞれ図1中のナイフ
エッジ4がワーク20の集光スポットを横切るとき光セ
ンサ8に受光される光量の変化およびその微分値を示す
図である。
エッジ4がワーク20の集光スポットを横切るとき光セ
ンサ8に受光される光量の変化およびその微分値を示す
図である。
【図6】本発明の他の実施例の構成図である。
1 ベース 2 回転ステージ 3 チャック 4 ナイフエッジ 5 直線ガイド 6 モータ 7 リニアスケール 8 光センサ 9 第1のレーザ外径測定器投光ユニット 10 第1のレーザ外径測定器受光ユニット 11 第2のレーザ外径測定器投光ユニット 12 第2のレーザ外径測定器受光ユニット 13 サブベース 14 リニアスケールコントローラ 15 光センサアンプ 16 レーザ外径測定器コントローラ 17 回転ステージコントローラ 18 モータコントローラ 19 演算装置 20 ワーク 21 顕微鏡 22 カメラ 23 顕微鏡台 24 対物レンズ 25 チャック 26 画像処理装置 27 ワーク外径 28 LD光の集光スポット 29 A/D変換器 30 光軸 31 第1の光マイクロメータ 32 第2の光マイクロメータ 33 第3の光マイクロメータ 34 サブベース 35 コントローラ
Claims (4)
- 【請求項1】 ベース上に取り付けられたチャックと、
このチャックに保持された円筒形のワークの先端から出
射される光の集光スポットを横切るように移動するナイ
フエッジと、このナイフエッジの位置を計測する位置計
測手段と、前記ワークから出射され前記集光スポットを
通過後の光を受光する光センサと、前記ワークの一の方
向における径および側面の位置を検出する第1のレーザ
外径測定器と、前記ワークの前記一の方向と直角の方向
における径および側面の位置を検出する第2のレーザ外
径測定器と、前記第1のレーザ外径測定器および前記第
2のレーザ外径測定器に接続され前記ワークの中心位置
を算出するレーザ外径測定器コントローラと、前記光セ
ンサの受光量の変化が極大となる時に前記位置計測手段
が検出する前記ナイフエッジの位置から求める前記集光
スポットの位置を前記レーザ外径測定器コントローラが
算出した前記ワークの中心位置と比較して前記集光スポ
ットの同軸度を算出する演算手段とを含むことを特徴と
する集光スポット同軸度測定装置。 - 【請求項2】 ベース上に取り付けられたチャックと、
このチャックに保持された円筒形のワークの先端から出
射される光の集光スポットを横切るように移動するナイ
フエッジと、このナイフエッジの位置を計測する位置計
測手段と、前記ワークから出射され前記集光スポットを
通過後の光を受光する光センサと、前記ワークの側面の
第1の点の位置を検出する第1の測長手段と、前記ワー
クの側面の前記第1の点を含む周上の第2の点の位置を
検出する第2の測長手段と、前記ワークの側面の前記第
1の点および前記第2の点を含む周上の第3の点の位置
を検出する第3の測長手段と、前記光センサの受光量の
変化が極大となる時に前記位置計測手段が検出する前記
ナイフエッジの位置から求める前記集光スポットの位置
を前記第1ないし第3の測長手段が求める前記第1ない
し第3の点から得る前記ワークの中心位置と比較して前
記集光スポットの同軸度を算出する演算手段とを含むこ
とを特徴とする集光スポット同軸度測定装置。 - 【請求項3】 ナイフエッジを一つ備え、チャックを回
転可能とし、前記ナイフエッジを集光スポットを横切る
ように移動させてワークの端面における一の径の方向の
前記集光スポットの位置を求めた後に前記チャックを回
転してから再び前記ナイフエッジを前記集光スポットを
横切るように移動させて前記ワークの端面における他の
径の方向の前記集光スポットの位置を求める請求項1ま
たは2記載の集光スポット同軸度測定装置。 - 【請求項4】 集光スポットを互いに異る方向で横切る
ように移動する2つのナイフエッジを備えた請求項1ま
たは2記載の集光スポット同軸度測定装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26575491A JP2638356B2 (ja) | 1991-10-15 | 1991-10-15 | 集光スポット同軸度測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26575491A JP2638356B2 (ja) | 1991-10-15 | 1991-10-15 | 集光スポット同軸度測定装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05107026A JPH05107026A (ja) | 1993-04-27 |
JP2638356B2 true JP2638356B2 (ja) | 1997-08-06 |
Family
ID=17421551
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26575491A Expired - Fee Related JP2638356B2 (ja) | 1991-10-15 | 1991-10-15 | 集光スポット同軸度測定装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2638356B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111975448A (zh) * | 2020-09-03 | 2020-11-24 | 珠海格力智能装备有限公司 | 对刀装置、加工设备及对刀控制方法 |
-
1991
- 1991-10-15 JP JP26575491A patent/JP2638356B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
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JPH05107026A (ja) | 1993-04-27 |
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Date | Code | Title | Description |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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