JP2627236B2 - 紫外線センサ及びフォトクロミック組成物 - Google Patents
紫外線センサ及びフォトクロミック組成物Info
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Description
測定する紫外線センサに関する。
領域によって赤外線、可視光線、紫外線に分けられる。
太陽の全放射エネルギーからみると、赤外線が42%、
可視光線が52%、紫外線が6%であるが、光のエネル
ギーの観点から紫外線は赤外線や可視光線に比べて生体
への影響が大きい。紫外線の種類は生物学的作用によっ
て、長波長紫外線(紫外線A 320〜400nm)、中
波長紫外線(紫外線B 280〜320nm)、短波長紫
外線(紫外線C 190〜280nm)の3種類に分類さ
れている。この中で、紫外線Cは地球を取巻くオゾン層
によって吸収され地表には届かず、紫外線Aと紫外線B
だけが地表に届き、いろいろな作用を及ぼすことが知ら
れている〔化学と工業、第40巻、第6号、第467頁
(1987)〕。紫外線は、生物学的に人体に「日焼
け」を起こすが、この「日焼け」も紫外線の種類によっ
て起こり方が異なり、以下の2種に分類できる。すなわ
ち、波長の長い紫外線Aは、肌の色が黒くなるサンタン
現象だけを起こすが、波長の短い紫外線Bは、火照りや
水痘をつくるサンバーン現象を起こし、厄介なことに、
この「日焼け」は特別に紫外線の強い海岸などに行かな
くても、極く日常的に起こる。紫外線量は特に春から夏
にかけて大きく増加し、最低値(12月)の2〜3倍に
も達し、一日のうちでも午前11時から午後2時頃まで
が最大になる。また、晴れた日でなくても紫外線は地表
に届いており、A紫外線量は曇りの時も快晴時と変わら
ないので、光の明暗のように紫外線量を直接推定するこ
とは困難である。「日焼け」防止対策として用いられる
サンプロテクト製剤、いわゆる日焼け防止用化粧品に
は、したがって2種類存在し、一つはサンタンとサンバ
ーンの両方を防ぐタイプと、サンバーンだけを防いで美
しいサンタンを得るタイプとがある。後者に使用されて
いるものは紫外線Bだけを吸収し、紫外線Aは透過する
ものでUV−Bサンプロテクト製剤と呼ばれている。前
者に使用されているものは、1種類で紫外線A、Bを吸
収するものもあるが、紫外線Aを主に吸収するUV−A
サンプロテクト製剤と呼ばれるものとUV−Bサンプロ
テクト製剤を組合せてサンタンとサンバーンの両方を防
ぐタイプが多い。これら紫外線A、Bの光量を測定する
ことができれば、この様な2種類のサンプロテクト製剤
を的確に使用して、日焼け防止対策が取れることにな
る。紫外線の有無や強度を簡便に測定する手段として、
紫外線センサが最近売り出されるようになった。この紫
外線センサは、フォトクロミック化合物などのように紫
外線によって変化を起こす物質が紙などのバインダーに
染め込ませてあり、これを太陽の光にかざして、色や色
の濃度などの変化量で紫外線の有無や強度を測定するも
のである。
ら地表に届く紫外線には紫外線A、紫外線Bの2種類が
あることは先に述べたが、これら従来の紫外線センサ
は、紫外線Aと紫外線Bの区別ができず、測定した紫外
線の有無や強度が紫外線Aによるものか紫外線Bによる
ものか、あるいはその両方によるものかが分からないで
いた。したがって、サンタン現象が起こるのかサンバー
ン現象が伴ってしまうのかの判別がつかず、有効な紫外
線防止対策を決めることができないでいた。紫外線Aと
紫外線Bとを区別するには、これら簡便な従来の紫外線
センサでは不可能であり、回折格子や干渉フィルターな
どを光量メーターと組合せて用いなければならなかっ
た。したがって、大掛りな装置や装置を駆動させる電
気、更に専門的な知識が必要となり、また価格的にも高
価な装置となるため、紫外線Aと紫外線Bの区別のでき
る簡便な紫外線センサの開発が待ち望まれていた。本発
明の目的は、紫外線Aと紫外線Bの有無や両紫外線量の
判別を容易にし、専門的な知識や装置を必要としない簡
便な紫外線センサを提供することにある。
発明の第1の発明は紫外線センサに関する発明であっ
て、光の波長が280nm以上400nm以下の紫外線
によって発色するフォトクロミック化合物あるいはフォ
トクロミック組成物を用いた紫外線センサにおいて、紫
外線によって発色するフォトクロミック層の全体あるい
は一部が、波長が320nm未満の紫外線を吸収する色
素を含むことを特徴とする。本発明の第2の発明は、紫
外線センサに関する発明であって、光の波長が280n
m以上400nm以下の紫外線によって発色するフォト
クロミック化合物あるいはフォトクロミック組成物を用
いた紫外線センサにおいて、紫外線によって発色するフ
ォトクロミック層の全体あるいは一部が、波長が320
nm以上400nm以下の紫外線を吸収する色素を含む
ことを特徴とする。本発明の第3の発明は紫外線センサ
に関する発明であって、光の波長が280nm以上40
0nm以下の紫外線によって発色するフォトクロミック
化合物あるいはフォトクロミック組成物を用いた紫外線
センサにおいて、紫外線によって発色するフォトクロミ
ック層の全面あるいは一部が、波長320nm未満の紫
外線を吸収する色素を含む層で覆われていることを特徴
とする。本発明の第4の発明は紫外線センサに関する発
明であって、光の波長が280nm以上400nm以下
の紫外線によって発色するフォトクロミック化合物ある
いはフォトクロミック組成物を用いた紫外線センサにお
いて、紫外線によって発色するフォトクロミック層の全
面あるいは一部が、波長320nm以上400nm以下
の紫外線を吸収する色素を含む層で覆われていることを
特徴とする。本発明の第5の発明は、フォトクロミック
組成物に関する発明であって、波長280nm以上40
0nm以下の紫外線によって着色するフォトクロミック
組成物において、該組成物内に波長320nm未満の紫
外線を吸収する色素を含むことを特徴とする。本発明の
第6の発明は、フォトクロミック組成物に関する発明で
あって、波長280nm以上400nm以下の紫外線に
よって着色するフォトクロミック組成物において、該組
成物内に波長320nm以上400nm以下の紫外線を
吸収する色素を含むことを特徴とする。本発明の第7の
発明は、紫外線A、B識別センサに関する発明であっ
て、上記第1又は第3の発明における紫外線センサのう
ちの少なくとも1つと、上記第2又は第4の発明におけ
る紫外線センサのうちの少なくとも1つとを並べて配置
することを特徴とする。
の基板上にA、B両波長に感応するフォトクロミック化
合物層を配し、若しくは基板内部に混合し、フォトクロ
ミック化合物層の上若しくは同一層内に、紫外線Bを吸
収し、紫外線Aは吸収しない色素を配し、紫外線Aだけ
に応じた変化をする紫外線センサと、紫外線Aを吸収
し、紫外線Bは吸収しない色素を配し、若しくは基板内
部に混合し、紫外線Bの光量だけに応じた変化をする紫
外線センサと、更には必要に応じて色素を配していない
A、B両紫外線に感応する紫外線センサを紙やプラスチ
ック、ガラスなどの基板上若しくは基板内部に並べて配
置し、これらの紫外線センサの色の変化を比較すること
で、紫外線Aと紫外線Bの有無や両紫外線量の判別を容
易にすることを最も主要な特徴とする。
区別できることが異なる。更には、従来は紫外線Aと紫
外線Bとを区別するためには、回折格子や干渉フィルタ
ーなどを光量メーターと組合せて用いなければならなか
ったが、本発明を用いれば簡便な紫外線センサで駆動エ
ネルギーを必要としないことが異なる。
は、波長280nm以上400nm以下の紫外線によって着
色するものであれば、一般に知られているフォトクロミ
ック化合物を用いることができる〔例えば、G.H.
ブラウン(G.H.Brown ) 編、「フォトクロミズム」
( Photochromism ) 、1971年、ジョン ワイリーア
ンド サンズ インコーポレーテッド( John Willy & S
ons. Inc. ) (ニューヨーク)発行、H.ダル( H. D
urr ) 及びH.ボウアス−ローレン(H.Bouas-Lauren
t ) 編、「フォトクロミズム、分子及びシステムズ」(
Photochromism.Molecules and Systems ) 、1990
年、エルスビア( Elsevier )(アムステルダム)発行に
詳しい〕。
の代表的な例としては、以下の基本骨格を持つスピロピ
ラン類:スピロ〔2H−1−ベンゾピラン−2,2′−
インドリン〕、スピロインドリノナフトピラン、スピロ
〔2H−1−ベンゾピラン−2,2′−ベンゾチアゾリ
ン〕、スピロ〔2H−1−ベンゾピラン−2,2′−ベ
ンゾオキサゾリン〕、スピロベンゾチアゾリン−2,
3′−〔3H〕−ナフト〔2,1−b〕ピラン〕、スピ
ロ〔2H−1−ベンゾピラン−2,2′−ナフト〔2,
3−d〕オキサゾリン〕、スピロ〔2H−1−ベンゾピ
ラン−2,2′−ナフト〔2,1−d〕オキサゾリ
ン〕、スピロ〔インドリン−2,2′−ピラノ〔3,2
−H〕キノリン〕、スピロ〔インドリン−2,3′−
〔3H〕−ナフト〔2,1−b〕−1,4−オキサジ
ン)、スピロ〔インドリン−2,2′−〔2H〕−ピラ
ノ〔3,4−b〕ピリジン〕、スピロ〔インドリン−
2,2′−〔2H〕−ピラノ〔3,2−b〕ピリジン、
スピロ〔インドリン−2,2′−〔2H〕−ピラノ
〔3,2−c〕キノリン〕、スピロ〔2H−1,4−ベ
ンゾオキサジン−2,2′−インドリン〕、スピロ〔2
H−1−ベンゾピラン−2,2′−〔2H〕キノリ
ン〕、スピロ〔3H−ナフト〔2,1−b〕ピラン−
3,2′−〔2H〕ピリジン〕、スピロ〔インドリン−
2,2′−〔2H〕ピラノ〔2,3−b〕インドー
ル〕、スピロ〔2H−1−ベンゾチアノ〔2,3−b〕
ピラン−2,2′−インドリン〕、
持つフルギド類:
−R5 基(ここで、R5 は水素又はそれぞれ置換基を有
していてもよいアルキル基、アリール基を示す)、Yは
それぞれ置換基を有していてもよい2価の芳香族炭化水
素基又は2価の不飽和複素環基であり、下記式(化2)
で表される基:
ルボルニリデン基、又はアダマンチリデン基、R1 、R
2 、R3 、R4 、R6 は、それぞれ水素、アルキル基、
アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アリールオ
キシ基、アミノ基、ピロリル基、チエニル基、フリル
基、又はハロゲンを表す〕、
を持つジアリールエテン類:
の基でも異なる基でもよく、下記一般式(化4)で表さ
れる:
N−R17基(ここでR17は水素又はそれぞれ置換基を有
していてもよいアルキル基、アリール基を示す)を表
し、同一の原子又は基でも異なる原子又は基でもよい。
また、R7 、R10は、アルキル基、シアノ基、アルコキ
シ基を表すが、メチル基が望ましい。式(化3)及び
(化4)中、R8 、R9 、R11、R12、R13、R14、R
15、R16は水素、アルキル基、シアノ基、ハロゲンを表
し、nは2〜5の整数を表す〕が挙げられる。
て、塩化カリウム、塩化ナトリウム、臭化カリウムなど
のアルカリ金属塩類、La、Ce、Gd、Tb、CeO
2 をドープしたフッ化カルシウムなどのアルカリ土類金
属塩、三窒化カリウム(KN3 )、三窒化ナトウリム
(NaN3 )などのアルカリ金属アジド類、Cr、F
e、NiなどをドープしたTiO2 、MoO3 、W
O3 、Nb2 O5、Al2 O3 、ZnO、HfO2 、T
hO2 、SnO2 、Ta2 O5 、ZrO2 、BeO、G
eO2 、SiO2 、MgO、SrTiO3 、CaTiO
3 、BaTiO3 、MgTiO3 などの金属酸化物、若
しくはFe、Sb、V、Ag、Cu、Sn、Mg、Z
r、Coなどの不純物をこれら金属酸化物に導入したも
の、や各種の金属錯体を用いることができる。フォトク
ロミック化合物はこれらを組合せて使ってもよい。
としては、UV−Bサンプロテクト製剤に用いられてい
るものを中心にして、2′−エチルヘキシル−4−メト
キシ−桂皮酸エステル、2,4−ジニトロフェノールな
どを用いることができる。紫外線Aを吸収する色素とし
ては、UB−Aサンプロテクト製剤に用いられているも
のを中心にして、4−t−ブチル−4′−メトキシ−ジ
ベンゾイルメタンなどを用いることができる。
明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものでは
ない。
て、本発明による紫外線センサを表している。図1は断
面図を示しており、符号1はプラスチック基板、2はフ
ォトクロミズムを示すスピロナフトオキサジンと紫外線
を吸収する色素とを含むポリメチルメタクリレート(P
MMA)層である。図2は平面図を示しており、符号3
は紫外線Aに感応する紫外線センサ部、4は紫外線Bに
感応する紫外線センサ部である。
ピロナフトオキサジンの分子構造式及びフォトクロミズ
ムに伴う分子構造変化を示す。
−t−ブチル−4′−メトキシ−ジベンゾイルメタン、
式(化7)には紫外線Bを吸収する2′−エチルヘキシ
ル−4−メトキシ−桂皮酸エステルの分子構造式を示し
ている。
(UI−501C)に東芝硝子社製の色ガラスフィルタ
ーUVD−35を装着し、波長365、334、31
2、302、297、289nmの各輝線を、スピロナフ
トオキサジンに同時に照射した時のフォトクロミズム変
化を示す紫外可視吸収スペクトル図である。図3で実線
は紫外線を照射する前のスペクトルを示し、破線は上記
紫外線を照射して青く発色したときのスペクトルを示し
ている。なお図3において、縦軸は吸光度、横軸は波長
(nm)を意味する。
る色素の紫外可視吸収スペクトル図である。図4の破線
は4−t−ブチル−4′−メトキシ−ジベンゾイルメタ
ン、実線は2′−エチルヘキシル−4−メトキシ−桂皮
酸エステルの紫外可視吸収スペクトルを示している。な
お図4において、縦軸は吸光度、横軸は波長(nm)を意味
する。
製方法を説明する。1〜20wt%のPMMAを含むメチ
ルイソブチルケトン(MIBK)とクロロベンゼンの混
合溶液(MIBK:クロロベンゼン=1:1)中に、P
MMAに対して5〜20wt%のスピロナフトオキサジン
と、スピロナフトオキサジンに対して0.5〜5wt%の
紫外線B吸収色素(2′−エチルヘキシル−4−メトキ
シ−桂皮酸エステル)を可溶化して、紫外線Aに感応す
る紫外線センサ溶液を作製した。同様にして、1〜20
wt%のPMMAを含むMIBKとクロロベンゼンの混合
溶液(MIBK:クロロベンゼン=1:1)中に、PM
MAに対して5〜20wt%のスピロナフトオキサジン
と、スピロナフトオキサジンに対して2wt%以下の紫外
線A吸収色素(4−t−ブチル−4′−メトキシ−ジベ
ンゾイルメタン)を可溶化し、紫外線Bに感応する紫外
線センサ溶液を作製した。これらの溶液を図2のプラス
チック基板上に、図2の3に紫外線Aに感応する紫外線
センサ溶液を、図2の4に紫外線Bに感応する紫外線セ
ンサ溶液を並べて塗布し、本発明による紫外線センサを
作製した。
色ガラスフィルター(UV−D35)と、干渉フィルタ
ー(KL−36)を装着し、まず、紫外線Aに相当する
365nmの輝線を本発明による紫外線センサに照射し
た。その結果、図2の3の部分は、図3に示したフォト
クロミック変化と同じ青く発色したが、図2の4の部分
は全く変化が認められず、紫外線Aに相当する365nm
の紫外線には感応しなかった。
製の色ガラスフィルター(UV−D35)と、干渉フィ
ルター(KL−30)を装着し、紫外線Bに相当する3
12nmの輝線を本発明による紫外線センサに照射した。
その結果、図2の3の部分は、今度は全く発色せず、図
2の4の部分は青く発色し紫外線Bに相当する312nm
の紫外線に感応した。
3は、紫外線Bには感応しないが、紫外線Aには感応
し、図2の4は紫外線Aには感応しないが紫外線Bには
感応する。したがって、本発明による紫外線センサを用
いて、図2の3と4の発色の強さを比較することによ
り、紫外線Aと紫外線Bの有無や強度の区別が容易にで
きるようになった。以上のことから、紫外線A、Bを識
別することが本発明による紫外線センサによって可能と
なった。
用いて紫外線センサを作製した。酸化チタニウムは住友
化学社製の LUXELENを使用し、乳鉢の中に LUXELEN0.
2gと下記表1に示す組成のNCラッカー1.8gを精
秤し乳棒で1〜1.5分間混合し、塗布液を作製し
た。
して1〜10wt%となるように紫外線B吸収色素2′−
エチルヘキシル−4−メトキシ−桂皮酸エステルを混合
して、紫外線Aに感応する紫外線センサ溶液を作製し
た。次に、塗布液にNCラッカーの硝化綿に対して1
wt%以下となるように紫外線A吸収色素4−t−ブチル
−4′−メトキシ−ジベンゾイルメタンを混合して紫外
線Bに感応する紫外線センサ溶液を同様に作製した。作
製したこれらの溶液をスクリーン印刷機で両面アート紙
上に実施例1の図2と同様に2箇所並べてそれぞれ塗布
した。
実施例1と同様に紫外線A、Bを照射したところ、実施
例1と同様な結果が得られ、無機物のフォトクロミック
化合物を用いても紫外線Aと紫外線Bの有無や強度の区
別が容易にできるようになった。
明による紫外線センサの断面図を表している。図5中の
1はプラスチック基板、5はフォトクロミズムを示すス
ピロナフトオキサジンを含むPMMAスピンコート層、
6は280nm以上320nm以下の光を吸収する2,4−
ジニトロフェノール層、7は紫外部と可視部に吸収を持
たないMgF2 保護層である。下記式(化8)には、
2,4−ジニトロフェノールの分子構造式を示す。
可視吸収スペクトル図である。なお、図7において、縦
軸は吸光度、横軸は波長(nm)を意味する。
製方法を説明すると、PMMAに対して5〜20wt%と
なるように調整したスピロナフトオキサジンとPMMA
のMIBK溶液をプラスチック基板の上に、1000〜
5000rpmの条件でスピンコートし、その上に2,
4−ジニトロフェノールのエタノール溶液を同じ条件で
スピンコートした。更にその上に、紫外線を透過させ、
可視部に吸収を持たない保護層としてMgF2 を、1×
105 Torr、蒸着速度2〜20Å/秒の条件で蒸着し、
本発明による紫外線センサを作製した。本発明との比較
例として、2,4−ジニトロフェノール層を持たない紫
外線センサを、上記と同じ条件で作製した。
光を、ニコン社製モノクロメーター(G250)に通
し、紫外線Bに相当する312nmだけの輝線を本発明に
よる紫外線センサと比較例として作製した紫外線センサ
に照射した。
ンサは、図3に示したフォトクロミック変化と同じ青く
発色したが、フィルター層を持つ本発明による紫外線セ
ンサは全く変化が認められず、紫外線Bに相当する31
2nmの紫外線には感応しなかった。また、比較例として
作製した紫外線センサは紫外線照射を止めると直ちに無
色状態へ戻り、この変化は何度でも繰返すことができ
た。
明による紫外線センサを表している。図6中の21はプ
ラスチック基板、22は実施例3で作製した紫外線セン
サ部、23は比較例として作製した紫外線センサ部であ
る。本発明による紫外線センサに、500Wの超高圧水
銀灯とニコン社製モノクロメーター(G250)を組合
せて、紫外線Aに相当する365nmの輝線を照射した。
その結果、図6中の22と23は同じ濃度で青く発色し
た。次に、もう一つの光源から312nmの輝線を同時に
照射した。したがって、本発明による紫外線センサには
365nmと312nmの2種類の紫外光が照射される条件
である。この条件下では、比較例として作製した図6中
の23は22に比べてより青く発色した。また、紫外線
照射を止めると紫外線センサは直ちに無色状態へ戻り、
この変化は何度でも繰返すことができた。
は、実施例3で述べたように紫外線Bには感応せず、紫
外線Aには感応する。したがって、本発明による紫外線
センサを用いれば、比較例として作製した紫外線センサ
と発色の強さを比較することにより、紫外線Aと紫外線
Bの有無や強度の区別が容易にできるようになった。
て、本発明による紫外線センサを表している。図8は断
面図であって、符号31はホワイト・テレホン・カー
ド、32はフォトクロミズムを示す酸化チタニウム層、
33は紫外線を吸収する色素を含むPMMA層である。
図9は図8のセンサの平面図を示す図であって、34は
紫外線Bを吸収する2′−エチルヘキシル−4−メトキ
シ−桂皮酸エステルを含むPMMA層で覆われた酸化チ
タニウム層、35は紫外線Aを主に吸収する4−t−ブ
チル−4′−メトキシ−ジベンゾイルメタンを含むPM
MA層で覆われた酸化チタニウム層である。
の酸化チタニウムの塗布液をスクリーン印刷機でホワ
イト・テレホン・カード上に実施例1の図2と同様に2
箇所塗布した。2箇所塗布した内の左側にサンプロテク
ト製剤であり紫外線Bを吸収する2′−エチルヘキシル
−4−メトキシ−桂皮酸エステルをPMMAに対して
1.15wt%となるように配合しMIBKに溶解した溶
液を塗布し、酸化チタニウムを2箇所塗布した内の残り
の一方である右側には、紫外線Bの透過率が紫外線Aの
透過率の約3倍であり、紫外線Aを主に吸収するサンプ
ロテクト製剤である4−t−ブチル−4′−メトキシ−
ジベンゾイルメタンをPMMAに対して0.87wt%と
なるように配合しMIBKに溶解した溶液を塗布して、
紫外線A、Bを識別するセンサを並べて配置した紫外線
センサを作製した。
実施例1と同様に紫外線Aに相当する365nmの輝線を
照射した。その結果、紫外線Bを吸収する2′−エチル
ヘキシル−4−メトキシ−桂皮酸エステルを含むPMM
A溶液を塗布した部分は無色から灰青色となったが、紫
外線Aを主に吸収する4−t−ブチル−4′−メトキシ
−ジベンゾイルメタンを含むPMMA溶液を塗布した部
分には何らの変化も起きなかった。次に紫外線Bに相当
する312nmの輝線を照射したところ、紫外線Bを吸収
する色素を塗布した部分には何らの変化も起きなかった
が、紫外線Aを主に吸収する色素を塗布した部分は無色
から灰青色となり、紫外線A、Bを識別することができ
た。
れるE−α−(2,5−ジメチル−3−フリルエチリデ
ン)−(アダマンチリデン)−コハク酸無水物(略号;
AF)と、AFに対して0.5〜5wt%の紫外線B吸収
色素(2′−エチルヘキシル−4−メトキシ−桂皮酸エ
ステル)を混合して、ホット−メルト(Hot-Melt)法に
より紫外線Aに感応する紫外線センサを作製した。
%のAFと、AFに対して2wt%以下の紫外線A吸収色
素(4−t−ブチル−4′−メトキシ−ジベンゾイルメ
タン)を混合し、ホット−メルト法により紫外線Bに感
応する紫外線センサを作製した。
と同様に紫外線A、Bを照射したところ、実施例1と同
様な結果が得られ、紫外線Aと紫外線Bの有無や強度の
区別が容易にできるようになった。
フトオキサジンと、スピロナフトオキサジンに対して1
〜5wt%の紫外線B吸収色素(2′−エチルヘキシル−
4−メトキシ−桂皮酸エステル)をMIBKとクロロベ
ンゼンの混合溶媒(1:1)中に可溶化して、紫外線A
に感応する紫外線センサ溶液を作製した。
て5〜20wt%のAFと、AFに対して1wt%以下の紫
外線A吸収色素(4−t−ブチル−4′−メトキシ−ジ
ベンゾイルメタン)を上記混合溶媒に可溶化し、紫外線
Bに感応する紫外線センサ溶液を作製した。これらの溶
液を実施例1の図2と同様に2箇所並べてそれぞれ塗布
し、紫外線センサを作製した。
紫外線A及びBに相当する光をそれぞれ照射したとこ
ろ、紫外線Aを照射したときはスピロナフトオキサジン
が青く発色し、紫外線Bを照射したときはAFが赤く発
色し容易に紫外線A、Bを明りょうに区別することがで
きた。
線センサを用いれば、容易に紫外線Aと紫外線Bとを区
別することができ、紫外線A、Bの光量によって、例え
ば2種類あるサンプロテクト製剤の使い分けが的確にで
きるようになる。また、曇りや雨の日でも地表に届いて
いる紫外線A、Bの光量を知ることができ、日焼け対策
を的確に取ることが可能となる。
る断面図である。
る。
01C)に東芝硝子社製の色ガラスフィルターUVD−
35を装着し、波長365、334、312、302、
297、289nmの各輝線を、スピロナフトオキサジン
に同時に照射した時のフォトクロミズム変化を示す紫外
可視吸収スペクトル図である。
外可視吸収スペクトル図である。
面図である。
である。
ペクトル図である。
面図である。
る。
ピロナフトオキサジンと紫外線を吸収する色素とを含む
PMMA層、3:紫外線Aに感応する紫外線センサ部、
4:紫外線Bに感応する紫外線センサ部、5:フォトク
ロミズムを示すスピロナフトオキサジンを含むPMMA
スピンコート層、6:280nm以上320nm以下の光を
吸収する2,4−ジニトロフェノール層、7:紫外部と
可視部に吸収を持たないMgF2 保護層、21:プラス
チック基板、22:実施例3で作製した紫外線センサ
部、23:比較例として作製した紫外線センサ部、3
1:ホワイト・テレホン・カード、32:フォトクロミ
ズムを示す酸化チタニウム層、33:紫外線を吸収する
色素を含むPMMA層、34:紫外線Bを吸収する2′
−エチルヘキシル−4−メトキシ−桂皮酸エステルを含
むPMMA層で覆われた酸化チタニウム層、35:紫外
線Aを主に吸収する4−t−ブチル−4′−メトキシ−
ジベンゾイルメタンを含むPMMA層で覆われた酸化チ
タニウム層
Claims (7)
- 【請求項1】 光の波長が280nm以上400nm以
下の紫外線によって発色するフォトクロミック化合物あ
るいはフォトクロミック組成物を用いた紫外線センサに
おいて、紫外線によって発色するフォトクロミック層の
全体あるいは一部が、波長が320nm未満の紫外線を
吸収する色素を含むことを特徴とする紫外線センサ。 - 【請求項2】 光の波長が280nm以上400nm以
下の紫外線によって発色するフォトクロミック化合物あ
るいはフォトクロミック組成物を用いた紫外線センサに
おいて、紫外線によって発色するフォトクロミック層の
全体あるいは一部が、波長が320nm以上400nm
以下の紫外線を吸収する色素を含むことを特徴とする紫
外線センサ。 - 【請求項3】 光の波長が280nm以上400nm以
下の紫外線によって発色するフォトクロミック化合物あ
るいはフォトクロミック組成物を用いた紫外線センサに
おいて、紫外線によって発色するフォトクロミック層の
全面あるいは一部が、波長320nm未満の紫外線を吸
収する色素を含む層で覆われていることを特徴とする紫
外線センサ。 - 【請求項4】 光の波長が280nm以上400nm以
下の紫外線によって発色するフォトクロミック化合物あ
るいはフォトクロミック組成物を用いた紫外線センサに
おいて、紫外線によって発色するフォトクロミック層の
全面あるいは一部が、波長320nm以上400nm以
下の紫外線を吸収する色素を含む層で覆われていること
を特徴とする紫外線センサ。 - 【請求項5】 波長280nm以上400nm以下の紫
外線によって着色するフォトクロミック組成物におい
て、該組成物内に波長320nm未満の紫外線を吸収す
る色素を含むことを特徴とするフォトクロミック組成
物。 - 【請求項6】 波長280nm以上400nm以下の紫
外線によって着色するフォトクロミック組成物におい
て、該組成物内に波長320nm以上400nm以下の
紫外線を吸収する色素を含むことを特徴とするフォトク
ロミック組成物。 - 【請求項7】 請求項1又は請求項3に記載の紫外線セ
ンサのうち の少なくとも1つと、請求項2又は請求項4
に記載の紫外線センサのうちの少なくとも1つとを並べ
て配置することを特徴とする紫外線A、B識別センサ。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9497492A JP2627236B2 (ja) | 1991-05-08 | 1992-03-23 | 紫外線センサ及びフォトクロミック組成物 |
DE69219313T DE69219313T2 (de) | 1992-03-23 | 1992-11-06 | UV-A und UV-B trennender Sensor |
EP92403005A EP0562201B1 (en) | 1992-03-23 | 1992-11-06 | UV-A, UV-B discrimination sensor |
US08/194,627 US5387798A (en) | 1992-03-23 | 1994-02-09 | UV-A, UV-B discrimination sensor |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3-131633 | 1991-05-08 | ||
JP13163391 | 1991-05-08 | ||
JP9497492A JP2627236B2 (ja) | 1991-05-08 | 1992-03-23 | 紫外線センサ及びフォトクロミック組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05107112A JPH05107112A (ja) | 1993-04-27 |
JP2627236B2 true JP2627236B2 (ja) | 1997-07-02 |
Family
ID=26436196
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9497492A Expired - Lifetime JP2627236B2 (ja) | 1991-05-08 | 1992-03-23 | 紫外線センサ及びフォトクロミック組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2627236B2 (ja) |
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---|---|---|---|---|
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KR100481937B1 (ko) * | 2002-07-27 | 2005-04-13 | 동국내화 주식회사 | 자외광 검출소자 |
CN106537103B (zh) * | 2014-07-31 | 2019-03-01 | 富士胶片株式会社 | 紫外线感知片、紫外线感知套组及紫外线感知方法 |
EP3400062A4 (en) * | 2016-01-04 | 2020-03-25 | L'Oréal | DEVICE AND SYSTEM FOR INDIVIDUAL MEASUREMENTS OF UV EXPOSURE |
-
1992
- 1992-03-23 JP JP9497492A patent/JP2627236B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH05107112A (ja) | 1993-04-27 |
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