JP2622191B2

JP2622191B2 - チオフェンスルホニル尿素誘導体

Info

Publication number: JP2622191B2
Application number: JP4506420A
Authority: JP
Inventors: ダエファンキム; ドンユイェオン; サンスーンパク; イァエチュンウー; タエイュンキム
Original assignee: Korea Research Institute of Chemical Technology KRICT
Current assignee: Korea Research Institute of Chemical Technology KRICT
Priority date: 1991-03-14
Filing date: 1992-03-14
Publication date: 1997-06-18
Anticipated expiration: 2012-06-18
Also published as: AU6554696A; KR930009508B1; BR9205775A; AU1565592A; US5461024A; JPH06505734A; WO1992016525A1; EP0575435A1; CA2214041A1; AU693717B2; AU669658B2; CA2106195A1; KR920018048A

Description

【発明の詳細な説明】技術分野本発明は農芸上適当な除草活性を有する新規なチオフ
ェンスルホニル尿素誘導体に関する。

発明の背景スルホニル尿素誘導体が除草活性を有することは広く
よく知られている。以下にスルホニル尿素を表す式を示
す。

１）米国特許第4,370,480号明細書には次式で表される
化合物が開示されている。

式中、ＲはＨ、アルキル、アルケニル、アルキニルまたは１
〜４個のＦ、Cl、Br、OCH₃、CNもしくはCO₂R¹で置換さ
れたアルキル、１〜３個の原子のClで置換されたアルケ
ニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、CH₃、CH₂CH
₃、Cl、OCH₃、等で置換されたシクロアルキルまたはCO₂
R¹基を示し；ＸはＨ、Cl、CH₃、OCH₃基、等を示し；ＹはＨ、Cl、C₁〜C₄アルキル、ハロゲン、アルコキシ
またはCNで置換されたアルキル基、等を示し；ＺはCH基を示す。

２）米国特許第4,786,314号明細書には次式で表される
化合物が開示されている。

式中、 R¹はアルキル、アルケニル、ハロゲン、NO₂、ハロア
ルケニル、アルキニル、ハロアルキニル、アルコキシ、
ハロアルコキシ、アルコキシアルキル基、基等を示し； R²は基等を示し； R⁸はＨ、C₁〜C₄アルキル、アルケニル、アルキニル、
CH₂CH₂Cl、CH₂CH₂F、OMeもしくはSMeで置換されたC₁〜C
₂アルキル、またはシクロアルキル基を示し；３）米国特許第4,612,035号明細書には次式で表される
化合物が開示されている。

式中、Ｌはフェニル、ナフチル、ピリジンまたは置換基を有
するチオフェンを示し； R¹は基を示し； R²⁵はＨまたはアルキル基を示し； R²⁶はアルキル基を示す。

４）米国特許第4,659,369号明細書には次式で表される
化合物が開示されている。

式中、Ｑは次のＱ−１、Ｑ−２、Ｑ−３またはＱ−４を示
し；次に、 R¹は基を示し； R³はＨ、C₁〜C₃のアルキル、C₁〜C₃のアルコキシ基を
示し； R⁴およびR⁵はそれぞれC₁〜C₂のアルキル基を示し； R⁶およびR⁷はそれぞれＨまたはC₁〜C₂のアルキル基を
示し；ａはＯ、ＳまたはNCH₃基を示し； W₁はＯまたはＳを示し；Ａは基を示し；式中、X¹はCH₃、OCH₃、OEtまたはOCHF₂基を示し；Y¹は
ＯまたはCH₂基を示し；Y²はＨまたはCH₃基を示す。

５）特開昭61-22083号明細書には次式で表される化合物
が開示されている。

式中、ＲはＨまたはアルキル基を示し；ＸまたはＹはそれぞれメチルまたはメトキシ基を示
し；ＡはＮまたはCH基を示す。

上述の特許明細書に開示されているように、種々のス
ルホニル尿素除草剤が従来知られている。

これら除草剤を用いた場合でも、ますます多くの雑草
に、これら除草剤に対する免疫性が発現し、かつ望まし
くない植生が生じる。従って、良好な収穫を得るのに一
層有効な新規な除草剤を開発するために、途切れること
のない研究が必要とされている。

従って、本発明の目的は極めて顕著な除草活性と共に
種々の植生に対して良好な選択性を有する新規なチオフ
ェンスルフォニル尿素誘導体および発芽前および／発芽
後の処理に農芸上適当な除草剤、すなわち植物生長調製
剤を提供することにある。

発明の概説本発明は次の一般式（Ｉ）；〔式中、Ｐは次のＰ−１、Ｐ−２またはＰ−３であり、この式中、 R¹はＨ、C₁〜C₃アルキル、C₁〜C₃ハロアルキル、ハロ
ゲン、CN、NO₂、C₁〜C₃アルコキシ、C₁〜C₃ハロアルコ
キシ、SO₂NR^IR^II、C₁〜C₃アルキルチオ、C₁〜C₃アルキ
ルスルフィニル、C₁〜C₃アルキルスルフォニル、SCH
F₂、NH₂、NHCH₃、N(Me)₂、C₁〜C₂アルコキシ、C₁〜C₂ハ
ロアルコキシ、SH、SCH₃、CNもしくはOH基で置換された
C₁〜C₂アルキル基を示し；またはCO₂R^III基を示し；な
おR¹はＨ、C₁〜C₄アルキル、C₂〜C₃シアノアルキル、メ
トキシまたはエトキシ基を示し；R^IIはＨ、C₁〜C₄アル
キル、C₃〜C₄アルケニル基を示し；あるいはR^IとR^IIと
は相互に結合して、-(CH₂)₃-、-(CH₂)₄-、-(CH₂)₅-もし
くはCH₂CH₂OCH₂CH₂−を形成することができ；R^IIIはC₁
〜C₄アルキル、C₃〜C₄アルケニル、C₃〜C₄アルキニル
基、１〜３個のハロゲンまたはシアノ基で置換されたC₁
〜C₄アルキル基、C₅〜C₆シクロアルキル、C₄〜C₇シクロ
アルキルアルキルまたはC₂〜C₄アルコキシアルキル基を
示し；Ｒは基を示し；式中、ａはＯまたはＳを示し；R²は１〜３個のハロゲ
ンで置換されたC₁〜C₆アルキル基を示し；R⁴およびR⁵は
それぞれC₁〜C₄のアルキル基を示し；さらにR⁶およびR⁷
はそれぞれＨ、C₁〜C₃アルキル基またはC₁〜C₃ハロアル
キル基を示し； R³はＨまたはCH₃基を示し；ＷはＯまたはＳを示し；Ａは次のA1またはA2 （式中、ＸはＨ、C₁〜C₄アルキル、C₁〜C₄アルコキシ、
C₁〜C₄ハロアルコキシ、C₁〜C₄ハロアルコキシルチオ、
C₁〜C₄アルキルチオ、ハロゲン、C₂〜C₅アルコキシアル
キル、C₂〜C₅アルコキシアルコキシ、アミノ、C₁〜C₃ア
ルキルアミノ、ジ（C₁〜C₃アルキル）アミノまたはC₃〜
C₅シクロアルキル基を示し；ＹはＨ、C₁〜C₄アルキル、C₁〜C₄アルコキシ、C₁〜C₄
ハロアルコキシ、C₁〜C₄ハロアルコキシルチオ、C₁〜C₄
アルキルチオ、C₂〜C₅アルコキシアルキル、C₂〜C₅アル
コキシアルコキシ、アミノ、C₁〜C₃アルキルアミノ、ジ
（C₁〜C₃アルキル）アミノ、C₃〜C₄アルケニルオキシ、
C₃〜C₄アルキニルオキシ、C₂〜C₅アルキルチオアルキ
ル、C₁〜C₄ハロアルキル、C₂〜C₄アルキニル、アジド、
シアノ、C₂〜C₅アルキルスルフィニルアルキル、C₂〜C₅
アルキルスルホニルアルキル、CH₂OH、C₃〜C₅シクロア
ルキル、C₃〜C₅シクロアルコキシ、C₂〜C₅アルキルチオ
アルコキシ基、基を示し；式中、ｍは２または３を示し； L¹およびL²はそれぞれ独立にＯまたはＳを示し； R⁴およびR⁵はそれぞれ独立にC₁〜C₂アルキル基を示
し； R⁸はＨまたはCH₃基を示し；ＺはCH、Ｎ、CCH₃またはCC₂H₅基を示し； X¹はCH₃またはOCH₃基を示す）で表される基を示す。

〕で表わされる構造を有する新規なチオフェンスルフォ
ニル尿素誘導体またはその農芸上適当な塩である新規な
化合物に関する。

発明の詳説本発明の定義のうち、次の用語は下記の意味を有す。

ａ）”アルキル基”は単独あるいは合成語、例えば”ア
ルキルチオ基”または”ハロアルキル基”等として使用
されているが、直鎖または枝分かれ鎖のアルキル基、例
えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピルまた
はブチル基異性体を示す。

ｂ）”アルコキシ基”はメトキシ、エトキシ、ｎ−プロ
ポキシ、イソプロポキシまたはブトキシ基異性体を示
す。

ｃ）”アルケニル基”は直鎖または枝分かれ鎖のアルケ
ン基、例えば、ビニル、１−プロペニル、２−プロペニ
ル、またはブテニル、ペンテニル、ヘキセニルもしくは
ヘプテニル基異性体等を示す。

ｄ）”アルキニル基”はエチニル、１−プロピニル、２
−プロピニル、またはブチニル、ペンチニルもしくはヘ
キシニル基異性体のような直鎖または枝分かれ鎖のアル
ケンを示す。

ｅ）”ハロゲン”は単独あるいは合成語では”ハロ”と
して使用されるが、塩素、フッ素、臭素またはヨウ素を
示す。

上述の式（Ｉ）で表されるチオフェンスルホニル尿素
誘導体において、合成の容易さおよび除草活性の点から
好ましいのは下記のものである：（１）R³はH;WはO; （２）R¹はＨ、Ｆ、Cl、C₁〜C₂アルキル、C₁〜C₂ハロア
ルキル、C₁〜C₂アルコキシ、C₁〜C₂ハロアルコキシ、C₁
〜C₂アルキルチオ、CH₂OCH₃、CH₂SCH₃基；（３）ＸはCH₃、OCH₃、OCH₂CH₃、Cl、Ｆ、Br、OCHF₂、C
H₂F、OCH₂CH₂F、OCH₂CHF₂、OCH₂CF₃、CF₃、CH₂Clまたは
CH₂Br基；ＹはＨ、C₁〜C₃アルキル、OCH₃、OCH₂CH₃、CH₂OCH₃、
NHCH₃、NCH₃(OCH₃)、N(CH₃)₂、CF₃、SCH₃、OCH₂CH＝C
H₂、OCH₂C≡CH、CH₂OC₂H₅、OCH₂CH₂OCH₃、CH₂SCH₃、OCH
F₂、SCHF₂、シクロプロピル、Ｃ≡CH、またはＣ≡CCH₃
基；（４）R²はCH₂F、CHF₂、CHFCl、CH₂Cl、CH₂Br、CHFC
H₃、CH₂CH₂F、CH₂CH₂CH₂F、CH₂CH₂Cl、CHClCH₃、CHC
l₂、CHFCH₂F、CHClCH₂Cl、CHFCH₂Cl、CH₂CF₃またはCF(C
H₃)₂基；（５）ＡはA1基；ＸはCH₃、OCH₃、OCH₂CH₃、ClまたはOCHF₂基；ＹはCH₃、C₂H₅、OCH₃、CH₂OCH₃、CH(OCH₃)₂C、OCH
F₂、NHCH₃、N(Me)₂またはシクロプロピル基、さらにR¹
はＨ、CH₃またはOCH₃基。

上述の式（Ｉ）で表される新規な本発明の化合物は極
めて強い除草活性および有用な植生に対する良好な選択
性を示す。

本発明の化合物は以下に説明するような反応により調
製することができる。

一般式（Ｉ）の化合物は次式（II）で表される化合物
と次式（III）のアミン化合物との反応により得ること
ができる。

（方法１）式中、基を示す。

上記反応は塩化メチレン、ジクロロエタンまたはクロ
ロホルムのような溶媒中で実施することができ、次いで
溶媒はDABCO（1,4−ジアザビシクロ［5.4.0］ウンデカ
−７−エン）、DBU（1,4−ジアザビシクロ［5.4.0］ウ
ンデカ−７−エン）、等の触媒量の塩基と共に用いるこ
とができる。

一般式（Ｉ）の化合物は次式（IV）で表される化合物
と次式（Ｖ）のカルバメート化合物との反応により得る
ことができる。

（方法２）上述の式（II）の化合物はスルホンアミドとホスゲン
との反応により製造することができる。

（方法３）上述の式（IV）のチオフェンスルホンアミド化合物は
次の反応工程により調製することができる。

（方法４）上記反応において、ＬはOEt、NMe₂またはN(CH₃)OCH₃
基のような離脱基を示しＲ、R¹およびR²は上記定義によ
るものである。

次式（IV-b）の2,3−位置で置換されたスルホンアミ
ドは上記の方法４により得ることができるが、2,3−ジ
ブロモチオフェンを出発物質として用いる。

（方法５）次式（IV-c）のスルホンアミドは次の反応工程により
得ることができ、次いで３−ジブロモチオフェンを出発
物質として用いる。

（方法６）式（III）の複素環式アミン化合物は文献に開示され
た方法またはその単純な変更から当業者により調製され
ることができる。

例えば、欧州特許出願公開第84,244号（1983年７月27
日公開）明細書およびダブリュー．ブレーカー等の「ジ
ャーナルオブアメリカンケミカルソサイエテ
ィ」第69巻、3072頁（1947年）にはアミノピリミジンお
よびアセチル基で置換されたトリアジンを調製する方法
が開示されている。欧州特許第72,347号ならびに米国特
許第4,443,243号および第4,487,915号明細書にはアミノ
ピリミジンおよび／またはOCHF₂、SCHF₂、OCH₂CH₂Fおよ
びOCH₂CF₃等のようなハロアルキル基および置換基とし
てハロアルキルチオ基で置換されたトリアジンを調製す
る方法が開示されている。

欧州特許第108,708号、米国特許第4,515,626号および
第4,600,428号明細書にはシクロプロピルピリミジンお
よび／またはアルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハ
ロアルコキシ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノおよ
びアルコキシアルキル基等で置換されたトリアジンを開
示している。

ＡがA₆を示す式（VI）の化合物は欧州特許第94,260号
明細書に開示されている方法によって調製することがで
きる。ＡがA₇を示す式（VI）の化合物は欧州特許第125,
864号明細書に開示されている方法により製造すること
ができる。

アミノピリジンおよびトリアジン化合物を調製する通
常の方法は次の文献に開示されている。

「ザケミストリーアンドヘテロサイクリック
コンパウンズ」、シリーズ、インターサイエンスパブ
リッシャーズ、インコンポレーテッド、ニューヨークお
よびロンドン；「ピリミジンズ」、第16巻、ディー．ジ
ェー．ブラウン編；「エス−トリアジンアンドデリ
バティブズ」、第13巻、イー．エム．スモリン（E.M.Sm
olin）およびエル．ラパポート（L.Rapaport）著。トリ
アジン化合物の組成はエフ．シー．シェファー（F.C.Sc
haefer）の、米国特許第3,154,547号明細書ならびにケ
ー．アール．ホフマン（K.R.Huffman）およびエフ．シ
ー．シェファーの、「ジャーナルオブオルガニック
ケミストリー」、第28巻、1812頁（1963年）に開示さ
れている。

他方、上述の式（Ｉ）の化合物の塩は除草剤としても
有用であり、これらの塩は種々の従来方法により調製す
ることができる。

例えば、上記式（Ｉ）の化合物の金属塩は式（Ｉ）の
化合物と強塩基性陰イオン、例えばアルカリまたはアル
カリ土類金属の水酸化物、アルコキシドまたは炭酸塩あ
るいは第四アンモニウム塩等の溶液とを反応させること
により調製することができる。

式（Ｉ）の化合物の塩は陽イオン交換によっても得る
ことができる。陽イオン交換は交換陽イオンを含有する
溶液を式（Ｉ）の塩の溶液、例えば、アルカリ金属塩ま
たは第四アンモニウム塩の溶液との直接反応により製造
することができる。

この方法は所望の塩が水不溶性である場合有用であ
り、例えば、銅塩が濾過により分離される。

このイオン交換は式（Ｉ）の塩の溶液、例えば、アル
アリ金属塩または第四アンモニウム塩溶液を陽イオン交
換樹脂のカラムに通すことにより実施することができ
る。

この方法は所望の塩が水溶性である場合、特にナトリ
ウム塩、カリウム塩またはカルシウム塩の場合有用であ
る。

上記製造方法は簡単に要約されているが、これらの製
造方法は組成物およびスルホニル尿素または有機組成物
の製造という技術分野における通常の知識を有する者で
あれば容易に実施することができる。

上述の一般式（Ｉ）で表される本発明の化合物を次の
表１〜45に列挙する。

試験の結果、本発明の化合物は活性の高い発芽前もし
くは発芽後の除草剤、あるいは植物生長調整剤であるこ
とが分った。本発明の化合物の多くは、燃料貯蔵タン
ク、弾薬庫、工業用貯蔵区域、駐車場、ドライブイン劇
場、公告掲示板、高速道路および鉄道構造物の周囲のよ
うなすべての植生を完全に防除するのが望ましい区域に
おいて、広範囲の発芽前および／または発芽後の雑草防
除に有用である。本発明の化合物のうちあるものは、小
麦および大麦のような作物における選択的な雑草防除に
有用である。あるいはまた、本発明の化合物は植物の生
長を調整するのに有用である。

本発明の化合物の施用割合は、植物生長調剤または除
草剤という用途、必要とする作物の種類、防除しようと
する雑草の種類、天候および気象、選択した配合物、施
用法、存在する葉の量等を包含する多くの因子によって
決まる。

普通、本発明の化合物は約0.05〜10kg/ヘクタールの
レベルで施用する必要があり、軽質土壌および／または
有機物質含有量の低い土壌に使用する場合、植物の生長
を調整する場合、または短期間の持続性が必要であるに
すぎない場合には、低い使用割合が提案される。

配合物式（Ｉ）の化合物の有用な配合物は従来方法で製造す
ることができる。有用な配合物としては粉剤、顆粒剤、
ペレット剤、液剤、懸濁液、乳剤、水和剤、乳化性濃厚
物等がある。

噴霧できる配合物は適当な媒質中に希釈し、１ヘクタ
ール当り数リットルないし数百リットルの噴霧量で使用
することができる。高強度組成物は主としてさらに配合
物を作るための中間体として使用される。広義には、配
合物は、約0.1〜99重量％の活性成分と、（１）約0.1〜
20重量％の界面活性剤および（２）約１〜99.9重量％の
固体または液体の不活性希釈剤のうちの少なくとも一方
とを含有する。特に、これらの配合物は上述の成分を次
表に示す大約の割合で含有する：目的とする用途および化合物の物理的特性に応じて低
レベルまたは高レベルの活性成分を使用できるのは勿論
である。ある場合には活性成分に対する界面活性の比を
大きくするのが望ましいことがあり、これは配合物中へ
の混入あるいはタンク混合により達成される。

代表的な固体希釈剤は、ワトキンス（Watkins）等
「ハンドブック・オブ・インセクティサイド・ダスト・
ダイリュエンツ・アンド・キャリヤーズ（Handbook of
Insecticide Dust Diluents and Carriers）」第２版、
ドーランド・ブックス（Dorland Books）社、米国ニュ
ージャージー州コールドウェール中に記載されている
が、採掘または製造された他の固体物質も使用すること
ができる。水和剤には吸収性の大きい希釈剤が好まし
く、粉剤には密度の大きい希釈剤が好ましい。

代表的な液体希釈剤および溶媒は「マースデン（Mars
den）：「ソルベント・ガイド（Solvent Guide）」第２
版、インターサイエンス社、ニューヨーク、1950中に記
載されている。濃厚懸濁液には、溶解度が0.1％未満の
ものが好ましく、濃厚溶液は０℃において相分離に対し
て安定であるのが好ましい。

“McCutcheon's Detergents and Emulsifiers Annua
l",MC Pubkishing Corp.,Ridgewood,N.J.,ならびにSise
ly and Wood,“Encyclopedia of Surface Active Agent
s",Chemical Publishing Co.,Inc.,New York,1964に
は、界面活性剤および推奨する用途が列挙されている。

配合物はすべて発泡、ケーキング、腐食、微生物の生
長等を低下するために少量の添加剤を含有することがで
きる。

このような組成物を製造する方法はよく知られてい
る。液剤は諸成分を単に混合することにより製造され
る。微細固体組成物は混和により、普通ハンマーミルま
たは流体エネルギーミルにおけるように粉砕により製造
される。懸濁液は湿式ミルによって製造される（例え
ば、リトラー（Littler）の米国特許第3,060,084号明細
書参照）。顆粒剤およびベレット剤は予備形成した担体
に活性成分を噴霧することにより、あるいはアグロメレ
ーション技術により製造することができる。

なお、J.E.Browning,“Agglomeration",Chemical Eng
ineering,Dec.4,1967,pp,147ffおよび“Perry's Chemia
cl Engineer's Handbook",5th Ed.,McGraw-Hill,New Yo
rk,1973,pp.8-57ffを参照されたい。

配合技術に関する上述した以上の情報は例えば下記の
刊行物を参照されたい：エッチ．エム．ルークス（H.M.Loux）：米国特許第3,
235,361号明細書（1966年２月15日）第６欄第16行〜第
７欄第19行および例10〜41;アール．ダブリュー．ルケ
ンバウ（R.W.Luckenbaugh）：米国特許第3,309,192号明
細書（1967年３月14日）第５欄第43行〜第７欄第62行お
よび例8,12,15,39,41,52,53,58,132,138〜140,162〜16
4,166,167および169〜182;エッチ．ギシン（H.Gysin）
およびイー．クヌスリ（E.Knusli）：米国特許第2,891,
855号明細書（1959年６月23日）第３欄第66行〜第５欄
第17行および例１〜4;ジー．シー．クリングマン（G.C.
Klingman）「ウイード・コントロール・アズ・ア・サイ
エンス（Weed Control as a Science）」ジョンウイリ
ー（John Wiley）社；およびエス．エー．エバンス（S.
A.Evans）「ウイード・コントロール・ハンドブック（W
eed Control Handbook）」第５版、ブラックウエル・サ
イエンティフィック・パブリケーションス社，オックス
フォード,1968,第101〜103頁。

本発明の化合物は独立して使用することができ、また
他の商業的除草剤と組み合わせて使用することができ
る。組み合わせることのできる除草剤を以下に列挙す
る。

実施例1: ３−ブロモ−４−フルオロアセチルチオフェン 3,4−ジブロモチオフェン（10g、0.041モル）を無水
エーテル中で溶解しこの溶液を窒素雰囲気下−78℃に冷
却し、これに17mlの2.5Nn−ブチルリチウムを滴下し
た。

−78℃で10分間かき混ぜたこの溶液を−100℃に冷却
し、これにフルオロ酢酸エチル（4.8ml、0.05モル）を
滴下した。

40分かき混ぜた後、過剰の塩化アンモニウム飽和溶液
を添加しかき混ぜた。

反応混合物の温度を室温にまで上昇させ、これに過剰
のエーテルを添加し有機相を分離した。

有機相を硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過して濃縮
し、次いで得られた残留物を塩化メチレン／ヘキサン
（2:1）溶液を用いてシリカゲルに通してクロマトグラ
フィを行い6gの所望の生成物（白色固体、収率:65％）
を得た。

m.p.:76〜77℃¹ H NMR(CDCl₃)δ5.40（d,2H,J＝48Hz）、7.42（d,1H,J
＝4Hz） 8.37（d,1H,J＝4Hz）実施例2: ３−ブロモ−４−（２−フルオロメチル−1,3−ジオキ
サラン−２−イル）チオフェン３−ブロモ−４−フルオロアセチルチオフェン（10
g、0.045モル）をエチレングリコール中に添加し、これ
にトリメチルシリルクロライド（22.7ml、0.18モル）を
かき混ぜながら添加した。

12時間かき混ぜた後、この溶液を過剰の重炭酸ナトリ
ウム飽和溶液に注ぎかき混ぜ、次いで過剰のエーテルを
添加し振盪してエーテル相を分離した。

エーテル相を硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過して濃
縮し、10.4gの所望の生成物（淡褐色液体、収率:87％）
を得た。¹ H NMR(CDCl₃)δ4.1（m,4H）、4.7（d,2H,J＝48Hz）、
7.4（d,1H,J＝4Hz）、7.6（d,1H,J＝4Hz）実施例3: ３−（２−フルオロメチル−1,3−ジオキサラン−２−
イル）−４−チオフェン−スルホンアミド３−ブロモ−４−（２−フルオロメチル−1,3−ジオ
キサラン−２−イル）チオフェン（19g、0.07モル）を
無水エーテル中で溶解しこの溶液を窒素雰囲気下−78℃
に冷却し、これにｎ−ブチルリチウム（31ml、0.08モ
ル）を滴下した。

−78℃で10分間かき混ぜた後、過剰の二酸化硫黄ガス
を添加し、次にこの溶液を−75℃で30分間かき混ぜた。
反応混合物の温度を室温にまで上昇させ、溶液を濾過し
た。

得られた白色固体をエーテルで洗浄し、乾燥して40ml
の水と40mlのイソプロピルアルコールとを混合した溶液
中に溶解し、その後この溶液を０℃に冷却した。

Ｎ−クロロスクシンイミド（11.4g、0.085モル）を分
けて添加した後、この溶液を室温で２時間かき混ぜ、濾
過して白色固体を得た。

白色固体を水で洗浄し酢酸エチル溶液に溶解し、これ
に過剰のアンモニア水を添加した。

１時間かき混ぜた後、反応溶液を濃縮し、次いで得ら
れた固体を少量のエーテルで洗浄し13gの所望の生成物
（淡黄色固体、収率:68％）を得た。

m.p.:126〜130℃¹ H NMR(CDCl₃+DMSO-d₆)δ4.2（m,4H）、4.86（d,2H,J＝
48Hz） 6.6（brs,2H）、7.85（d,2H,J＝4Hz） 8.3（d,2H,J＝4Hz） IR（KBr）：ν（NH₂）3350,3250cm^-1 実施例4: ３−（２−フルオロメチル−1,3−ジオキサラン−２−
イル）−Ｎ−［（４−メトキシ−６−メチルトリアジン
−２−イル）アミノカルボニル］−４−チオフェンスル
ホンアミド３−（２−フルオロメチル−1,3−ジオキサラン−２
−イル）−４−チオフェンスルホンアミド（1g、0.0037
モル）を20mlのアセトニトリルに溶解しフェニル（４−
メトキシ−６−メチルトリアジン−２−イル）カルバメ
ート（0.86g、0.0037モル）を室温で添加し、これに0.8
mlのDBUを滴下した。

１時間かき混ぜた後、反応溶液を100mlの塩化メチレ
ンで希釈し、塩酸で洗浄した。

有機相を硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過して濃縮し
た。得られた固体を少量のエーテルで洗浄し1.3gの所望
の生成物（収率:84％）を得た。

m.p.:212〜214℃¹ H NMR(DMSO-d₆)δ2.51（s,3H）、3.7〜4.1（m,4H）、
4.05（s,3H）、4.7（d,2H,J＝48Hz）、7.8（d,2H,J＝4H
z）、8.5（d,2H,J＝4Hz）、11.1（brs,1H）、12.5（br
s,1H） IR（KBr）：ν（Ｃ＝Ｏ）1720cm^-1 実施例5: ３−ブロモ−２−フルオロアセチルチオフェン 2,3−ジブロモチオフェン（10g、0.041モル）を無水
エーテル中で溶解して窒素雰囲気下−78℃に冷却し、こ
れに17mlの2.5Nn−ブチルリチウムを滴下した。

−78℃で10分間かき混ぜた後、反応溶液の温度を−10
0℃に冷却し、これにフルオロ酢酸エチル（4.8ml、0.5
モル）を滴下した。

40分かき混ぜた後、過剰の塩化アンモニウム飽和溶液
を添加してかき混ぜ、温度を室温にまで上昇させた後、
過剰のエーテルを添加して有機相を分離した。

得られた有機相を硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し
て濃縮した。この残留物を塩化メチレンとヘキサン（2:
1）溶液を用いてシリカゲルに通してクロマトグラフィ
を行い6gの所望の生成物（白色固体、収率:65％）を得
た。¹ H NMR(CDCl₃)δ5.6（d,2H,J＝48Hz）、7.25（d,1H,J＝
5Hz） 7.75（d,1H,J＝5Hz）実施例6: ３−ブロモ−２−（２−フルオロメチル−1,3−ジオキ
サラン−２−イル）チオフェン３−ブロモ−２−フルオロアセチルチオフェン（10
g、0.045モル）をエチレングリコール中で溶解し、トリ
メチルシリルクロライド（22.7ml、0.18モル）をかき混
ぜながら添加した。

12時間かき混ぜた後、この溶液を過剰の重炭酸ナトリ
ウム飽和溶液に注ぎかき混ぜ、これに過剰のエーテルを
添加しかき混ぜてエーテル相を分離した。

得られたエーテル相を硫酸マグネシウムで乾燥し、濾
過して濃縮し11gの所望の生成物（淡褐色液体、収率:92
％）を得た。¹ H NMR(CDCl₃)δ4.1（m,4H）、4.7（d,2H,J＝48Hz）、
6.95（d,1H,J＝5Hz）、7.2（d,1H,J＝5Hz）実施例7: ２−（２−フルオロメチル−1,3−ジオキサラン−２−
イル）−３−チオフェンスルホンアミド３−ブロモ−２−（２−フルオロメチル−1,3−ジオ
キサラン−２−イル）チオフェン（19g、0.07モル）を
無水エーテル中で溶解しこの溶液を窒素雰囲気下−78℃
に冷却し、これにｎ−ブチルリチウム（31ml、0.08モ
ル）を滴下した。

−78℃で10分間かき混ぜた後、過剰の二酸化硫黄ガス
を添加し、−78℃の反応溶液の温度で30分間さらにかき
混ぜた後、固体物質を濾過した。

この固体を乾燥して40mlの水と40mlのイソプロピルア
ルコールとを混合した溶液中で溶解し、０℃に冷却した
後、これにＮ−クロロスクシンイミド（11.4g、0.085モ
ル）を分けて添加した。

室温で２時間かき混ぜ、濾過した後、得られた固体を
水で洗浄し酢酸エチル溶液に溶解し、これに過剰のアン
モニア水を添加するとともに１時間室温でかき混ぜた。

反応溶液を濃縮し、次いで得られた固体を少量のエー
テルで洗浄し14gの所望の生成物（収率:74％）を得た。

m.p.:120〜121℃¹ H NMR(CDCl₃+DMSO-d₆)δ4.1（m,4H）、4.75（d,2H,J＝
48Hz） 6.7（brs,2H）、7.4（s,2H） IR（KBr）：ν（NH₂）3380,3270cm^-1 実施例8: ２−（２−フルオロ−メチル−1,3−ジオキサラン−２
−イル）−Ｎ−［（４−メトキシ−６−メチルトリアジ
ン−２−イル）アミノカルボニル］−３−チオフェンス
ルホンアミド２−（２−フルオロメチル−1,3−ジオキサラン−２
−イル）−３−チオフェンスルホンアミド（1g、0.0037
モル）を20mlのアセトニトリルに溶解しフェニル（４−
メトキシ−６−メチルトリアジン−２−イル）カルバメ
ート（0.86g、0.0037モル）を室温で添加し、これに0.8
0mlのDBUを滴下した。

１時間かき混ぜた後、この溶液を100mlの塩化メチレ
ンで希釈し、５％塩酸で洗浄した。

分離した有機相を硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し
て濃縮し、次いで得られた固体をヘキサンまたは少量の
エーテルで洗浄し1.34gの所望の生成物（収率:87％）を
得た。

m.p.:186〜189℃¹ H NMR(DMSO-d₆)δ2.55（s,3H）、4.0（m,4H）、4.85
（d,2H,J＝48Hz）、7.6（q,2H）、10.9（brs,1H） IR（KBr）：ν（Ｃ＝Ｏ）1700cm^-1 実施例９３−フルオロアセチルチオフェン３−ブロモチオフェン（10g、0.061mol）を無水エー
テル中に溶解し、その溶液を窒素雰囲気下で−78℃に冷
却し、これに27mlの2.5Nn−ブチルリチウムを滴下し
た。

−78℃にて10分間攪拌後、溶液の温度を−100℃に冷
却し、これにエチルフルオロアセテート（7.1ml、0.074
mol）を滴下した。

この溶液を40分間攪拌し、過剰の塩化アンモニウムの
飽和溶液を添加した。

室温に昇温した後、反応混合物を過剰のエーテルで抽
出した。

得られた残留物を硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過
し、濃縮し、その後塩化メチレン／ヘキサンの2:1溶液
を用いてシリカゲルを通してクロマトグラフして6.4gの
所望の生成物を得た（収率:72％）。¹ H NMR(CDCl₃)δ 5.48（d,2H,J＝48Hz）,7.35〜8.4
（m,3H）実施例10 ３−（２−フルオロメチル−1,3−ジオキサラン−２−
イル）チオフェン３−フルオロアセチルチオフェン（10g、0.069mol）
をエチレングリコール中に溶解し、これに塩化トリメチ
ルシリルクロライド（35ml、0.275mol）を攪拌下に添加
した。

12時間攪拌後、溶液を重炭酸ナトリウムの飽和溶液中
に注入し、攪拌した。

反応混合物を過剰のエーテルで抽出し、その後得られ
た残留物を硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、濃縮し
て11gの所望の生成物を得た（収率:85％）。¹ H NMR(CDCl₃)δ 4.0（m,4H）,4.44（d,2H,J＝48Hz）,
7.0〜7.5（m,3H）実施例11 ３−（２−フルオロメチル−1,3−ジオキサラン−２−
イル）−２−チオフェンスルホンアミド３−（２−フルオロメチル−1,3−ジオキサラン−２
−イル）チオフェン（5g、0.026mol）を無水エーテル中
に溶解し、これに12mlのｎ−ブチルリチウムを窒素雰囲
気下で滴下した。

室温にて１時間攪拌後、溶液の温度を昇温して30分間
還流し、溶液を−78℃に冷却し、二酸化硫黄ガスを添加
した。

反応溶液を−78℃にて30分間攪拌し、温度を室温に昇
温した。得られた固体を濾過し、乾燥し、20mlの水に20
mlのイソプロピルアルコールを混合した溶液中に溶解
し、０℃に冷却した後、Ｎ−クロロスクシンイミド（3.
9g、0.029mol）を分割して添加した。

室温にて２時間攪拌した後、得られた固体を濾過し、
水で洗浄し、酢酸エチル中に溶解し、これに過剰のアン
モニア水溶液を添加した。

室温にて１時間攪拌後、反応混合物を濃縮し、その後
得られた固体を少量のエーテルで洗浄し、2gの所望の生
成物を得た（収率:92％）。¹ H NMR(CDCl₃+DMSO-d₆)δ 4.1（m,4H）,4.65（d,2H,J
＝48Hz）,6.7（brs,2H）,7.1（d,1H,J＝5Hz）,7.4（d,1
H,J＝5Hz）．実施例12 ３−（２−フルオロメチル−1,3−ジオキサラン−２−
イル）−Ｎ−［（４−メトキシ−６−メチルトリアジン
−２−イル）アミノカルボニル〕−２−チオフェンスル
ホンアミド３−（２−フルオロメチル−1,3−ジオキサラン−２
−イル）−２−チオフェンスルホンアミド（1g、0.0037
mol）を20mlのアセトニトリル中に溶解し、フェニル
（４−メトキシ−６−メチルトリアジン−２−イル）−
カルバメート（0.86g、0.0037mol）を室温にて添加し、
これに0.8mlのDBUを滴下した。

１時間攪拌後、溶液を塩化メチレンで希釈し、５％の
塩酸溶液で洗浄した。分離した有機層を硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、濾過し、濃縮し、その後得られた固体をヘ
キサン及びエーテルで洗浄し、1.3gの所望の生成物を得
た（収率:84％）。

m.p.:167〜170℃¹ H NMR(DMSO-d₆)δ 2.55（s,3H）,4.0（m,4H）,4.7
（d,2H,J＝48Hz）,7.3（d,1H,J＝5Hz）,7.8（d,1H,J＝5
Hz）,10.9（brs,1H） IR（KBr）：ν（Ｃ＝Ｏ）1700cm^-1 実施例13 ４−（1,1−ジエトキシ−２−フルオロエチル）−Ｎ−
［（４−メトキシ−６−メチル−ピリミジン−２−イ
ル）アミノカルボニル〕−３−チオフェンスルホンアミ
ド４−（1,1−ジエトキシ−２−フルオロエチル）−３
−チオフェンスルホンアミド（1g、0.0034mol）を20ml
のアセトニトリルに溶解し、フェニル（４−メチキシ−
６−メチルピリミジン−２−イル）カルバメート（0.87
g、0.0034mol）を室温にて添加し、これに0.8mlのDBUを
滴下した。

１時間攪拌後、溶液を100mlの塩化メチレンで希釈
し、５％の塩酸溶液で洗浄した。残留物を硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、濾過し、濃縮し、その後得られた固体を
ヘキサンとエーテルで洗浄し、1.2gの所望の生成物を得
た。

m.p.:145〜148℃ IR（KBr）：ν（Ｃ＝Ｏ）1710cm^-1 実施例14 ３−（２−フルオロメチル−1,3−ジオキサラン−２−
イル）−Ｎ−［（４−メトキシ−６−メチルピリミジン
−２−イル）アミノカルボニル）−４−チオフェンスル
ホンアミド３−（２−フルオロメチル−1,3−ジオキサラン−２
−イル）−４−チオフェンスルホンアミド（1g、0.0037
mol）を20mlのアセトニトリルで溶解し、フェニル（４
−メトキシ−６−メチルピリミジン−２−イル）カルバ
メート（0.86g、0.0037mol）を室温にて添加し、これに
0.8mlのDBUを滴下した。

１時間攪拌後、溶液を100mlの塩化メチレンで希釈
し、５％の塩酸溶液で洗浄した。分離した有機層を硫酸
マグネシウムで乾燥し、濾過し、濃縮し、その後得られ
た固体をヘキサンとエーテルで洗浄し、1.3gの所望の生
成物を得た（収率:84％）。

m.p.:185〜189℃ IR（KBr）：ν（Ｃ＝Ｏ）1709cm^-1 実施例15 湿潤性粉末（Wettable Powder）３−（２−フルオロメチル−1,3−ジオキサラン −２−イル）−Ｎ−［（４−メトキシ−６−メチるトリアジン−２−イル）アミノカルボニル］−４− チオフェンスルホンアミド 80 ％アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム 2 ％リグニンスルホン酸ナトリウム 2 ％合成アモルファスシリカ 3 ％カオリナイト 13 ％成分を混合し、ハンマーミルで粉砕し、すべての固体
を本質的に50ミクロン下にし、再混合し包装した。

実施例16 湿潤性粉末３−（２−フルオロメチル−1,3−ジオキサラン −２−イル）−−Ｎ−［（４−メトキシ−６−メチルトリアジン−２−イル）アミノカルボニル］−４− チオフェンスルホンアミド 50 ％アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム 2 ％低粘度メチルセルロース 2 ％珪藻土 46 ％成分を混合し、粗くハンマーミルで粉砕し、その後エ
アーミルで粉砕し、本質的にすべての粒子を直径10ミク
ロン以下にした。生成物を再混合し、包装した。

実施例17 顆粒実施例16の湿潤性粉末 5 ％アタパルジャイト顆粒（U.S.S.20-40メッシュ； 0.84〜0.42mm） 95 ％ 25％の固体を含む湿潤性粉末のスラリーをダブルコー
ンブレンダー中でアタパルジャイト顆粒の表面にスプレ
ーした。

顆粒を乾燥し包装した。

実施例18 押出ペレット３−（２−フルオロメチル−1,3−ジオキサラン −２−イル）−Ｎ−［（４−メトキシ−６−メチルトリアジン−２−イル）アミノカルボニル］−４− チオフェンスルホンアミド 25 ％無水硫酸ナトリウム 10 ％粗リグニンスルホン酸カルシウム 5 ％アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム 1 ％カルシウム／マグネシウムベンナイト 59 ％成分を混合し、ハンマーミルで粉砕し、その後約12％
の水で給湿した。混合物を直径約3mmの円筒に押出し、
これをカットして長さ約3mmのペレットを得た。これを
乾燥後、直接使用でき、あるいは乾燥ペレットを粉砕し
てU.S.S.No.20のふるい（0.84mm目開き）を通す。U.S.
S.No.40ふるい（0.42mm目開き）上の顆粒を使用のため
に包装して、細かいものはリサイクルする。

実施例19 オイルサスペンション３−（２−フルオロメチル−1,3−ジオキサラン −２−イル）−Ｎ−［（４−メトキシ−６−メチルトリアジン−２−イル）アミノカルボニル］−４− チオフェンスルホンアミド 25 ％ポリオキシエチレンソルビトールヘキサオレエート 5 ％高級脂肪族炭化水素オイル 70 ％成分を一緒にしてサンドミル中でひき、固体粒子を約
５ミクロン以下に砕いた。得られた濃いサスペンション
を直接使用できるが、オイルで増量した後あるいは水中
で乳化した後が好ましい。

実施例20 湿潤粉末（Wetting Powder）３−（２−フルオロメチル−1,3−ジオキサラン −２−イル）−Ｎ−［（４−メトキシ−６−メチルトリアジン−２−イル）アミノスルボニル］−４− チオフェンスルホンアミド 20 ％アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム 4 ％リグニンスルホン酸ナトリウム 4 ％低粘度メチルセルロース 3 ％アタパルジャイト 69 ％成分を完全に混合した。ハンマーミルで粉砕後、本質
的にすべての粒子を100ミクロン以下にし、材料を再混
合し、U.S.S.No.50ふるい（0.3mm目開き）を介してふる
い分けし、包装した。

実施例21 低強度顆粒３−（２−フルオロメチル−1,3−ジオキサラン −２−イル）−Ｎ−［（４−メトキシ−６−メチルトリアジン−２−イル）アミノカルボニル］−４− チオフェンスルホンアミド 1 ％ N,N−ジメチルホルムアミド 9 ％アタパルジャイト顆粒（U.S.S.20-40ふるい） 90 ％活性成分を溶媒中に溶解し、溶液をダブルコーンブレ
ンダ中で制塵顆粒上にスプレーした。

溶液のスプレーを完了した後、ブレンダを短期間作動
し、その後顆粒を包装した。

実施例22 水性サスペンション３−（２−フルオロメチル−1,3−ジオキサラン −２−イル）−Ｎ−［（４−メトキシ−６−メチルトリアジン−２−イル）アミノカルボニル］−４− チオフェンスルホンアミド 40 ％ポリアクリル酸増粘剤 0.3％ドデシルフェノールポリエチレングリコールエーテル 0.5％リン酸二ナトリウム 1 ％リン酸一ナトリウム 0.5％ポリビニルアルコール 1 ％水 56.7％成分を混合し、一緒にサンドミルで粉砕し、本質的に
すべての粒子を５ミクロン以下のサイズにした。

実施例23 溶液Ｎ−［（4,6−ジメトキシトリアジン−２−イル）アミノカルボニル］−３−（２−フルオロメチル −1,3−ジオキサラン−２−イル）−４−チオフェンスルホンアミドのアンモニウム塩 5 ％水 95 ％塩を攪拌しながら水に直接添加し、溶液を作り、これ
を使用のために包装した。

実施例24 低強度顆粒３−（２−フルオロメチル−1,3−ジオキサラン −２−イル）−Ｎ−［（４−メトキシ−６−メチルトリアジン−２−イル）アミノカルボニル］−４− チオフェンスルホンアミド 0.1％アタパルジャイト顆粒（U.S.S.No.20〜40メッシュ） 99.9％活性成分を溶媒に溶解し、溶液をダブルコーンブレン
ダ中で制塵顆粒にスプレーした。溶液のスプレー完了
後、材料を加温し、溶媒を蒸発させた。材料を冷却して
包装した。

実施例25 湿潤性粉末３−（２−フルオロメチル−1,3−ジオキサラン −２−イル）−Ｎ−［（４−メトキシ−６−メチルトリアジン−２−イル）アミノカルボニル］−４−チオフェンスルホンアミド 40 ％スルホンこはく酸ジオクチルナトリウム 1.5％リグニンスルホン酸ナトリウム 3 ％低粘度メチルセルロース 1.5％アタパルジャイト 54 ％成分を完全に混合し、エアーミルを通し、平均粒子サ
イズを15ミクロン以下にし、再混合し、U.S.S.No.50の
ふるい（0.3mm目開き）を介してふるい分けし、包装し
た。本発明の全化合物を同じ方法で配合する。

実施例26 顆粒実施例25の湿潤性粉末 15 ％セッコウ 69 ％硫酸カリウム 16 ％成分を回転ミキサ中で混合し、水をスプレーして造粒
した。ほとんどの材料が所望の範囲1.0〜0.42cm（U.S.
S.＃18〜40ふるい）に達すると、顆粒を取り出し、乾燥
し、ふるいにかけた。サイズを超えた材料を粉砕して所
望の範囲にし付加的材料を得た。この顆粒は活性成分％
を含む。

実施例27 高強度濃厚物３−（２−フルオロメチル−1,3−ジオキサラン −２−イル）−Ｎ−［（４−メトキシ−６−メチルトリアジン−２−イル）アミノカルボニル］−４− チオフェンスルホンアミド 99 ％シリカエーロゲル 0.5％合成アモルファスシリカ 0.5％成分を混合し、ハンマーミルで粉砕し、本質的にすべ
てがU.S.S.No.50のふるい（0.3mm目開き）を通る材料を
得た。必要であれば更に濃厚物を配合できる。

実施例28 湿潤性粉末３−（２−フルオロメチル−1,3−ジオキサラン −２−イル）−Ｎ−［（４−メトキシ−６−メチルトリアジン−２−イル）アミノカルボニル］−４− チオフェンスルホンアミド 90 ％スルホこはく酸ジオクチルナトリウム 0.1％合成微細シリカ 9.9％成分を混合し、ハンマーミルで粉砕し、本質的にすべ
てが100ミクロン以下の粒子を得た。材料をU.S.S.No.50
のふるいを介してふるい分けし包装した。

実施例29 湿潤性粉末３−（２−フルオロメチル−1,3−ジオキサラン −２−イル）−Ｎ−［（４−メトキシ−６−メチルトリアジン−２−イル）アミノカルボニル］−４− チオフェンスルホンミアド 40 ％リグニン硫酸ナトリウム 20 ％モントモリロナイトクレー 40 ％成分を完全に混合し、粗くハンマーミルで粉砕し、そ
の後エアーミルで粉砕して本質的にすべてが10ミクロン
以下のサイズの粒子を得た。材料を再混合し包装した。

実施例30 オイルサスペンション３−（２−フルオロメチル−1,3−ジオキサラン −２−イル）−Ｎ−［（４−メトキシ−６−メチルトリアジン−２−イル）アミノカルボニル］−４− チオフェンスルホンアミド 35 ％ポリアルコールカルボン酸エステル及びオイル溶解性石油スルホン酸塩の混合物 6 ％キシレン 59 ％成分を合わせて、一緒にサドルモルで粉砕し、本質的
にすべてが５ミクロン以下の粒子を得た。生成物を直接
に、オイルで増量して、又は水で乳化して使用できた。

実施例31 粉剤３−（２−フルオロメチル−1,3−ジオキサラン −２−イル）−Ｎ−［（４−メトキシ−６−メチルトリアジン−２−イル）アミノカルボニル〕−４−チオフェンスルホンアミド 10 ％アタパルジャイト 10 ％パイロフィライト 80 ％活性成分をアタパルジャイトで混合し、その後ハンマ
ーミルを経て、実質的にすべてが200ミクロン以下の粒
子を得た。粉砕した濃厚物を粉末のパイロフィライトで
混合し均一にした。

実施例32 乳化性濃厚物３−（２−フルオロメチル−1,3−ジオキサラン −２−イル）−Ｎ−［（４−メトキシ−６−メチルトリアジン−２−イル）アミノカルボニル］−４− チオフェンスルホンアミド 10 ％クロロベンゼン 84 ％ソルビタンモノステアリン酸エステル及びそのポリホキシエチレン縮合物 6 ％成分を合わせ攪拌し、溶液を得た。これを水で乳化し
て使用できた。

実施例33 発芽前試験活性化合物の適当な配合物を製造するために、１重量
部の活性化合物を５重量部のアセトンと混合し、これに
１重量部のアルキルアリールポリグリコールエーテル乳
化剤を添加し、生成した濃厚物を水で希釈して所望の濃
度にした。

試験植物の種子を正常な土壌中にまき、24時間後に活
性化合物の配合物と一緒に散水した。

便宜上、単位面積当りの水量を一定に維持した。配合
物中の活性化合物濃度は重要でなく、単位面積当りの活
性化合物施用量のみが決定的なものである。

３週間後に、植物における損傷程度を、未処理の対称
の発育状態と比較して、損傷％で評価した。

数値は次の損傷程度を示す： 0％＝作用なし（未処理の対称と同様） 20％＝僅かに作用あり 70％＝除草作用あり 100％＝完全に死滅この試験において、上述の配合例に使用した活性化合
物（Ｉ）は単子葉および双子葉の雑草に対して良好な除
草活性示した。

実施例34 発芽後試験活性化合物の適当な配合物を製造するために、１重量
部の活性化合物を５重量部のアセトンと混合し、これに
１重量部のアルキルアリールポリグリコールエーテル乳
化剤を添加し、生成した濃厚物を水で希釈して所望の濃
度にした。

高さ５〜15cmの試験植物に活性化合物の配合物を同様
に噴霧して、単位面積当り所定量の所望の活性化合物を
施用した。噴霧液の濃度は、所定量の所望の活性化合物
がヘクタール当り2,000lの水のなかに存在するように選
定した。３週間後に、植物における損傷程度を、未処理
の対称の発育状態と比較して、損傷％で評価した。

明細書および実施例は説明のためのものであって本発
明を限定するものではなく、また本発明の技術思想およ
び範囲内の他の例もこの技術分野における通常の知識を
有する者であれば容易に思いつくことである。

本発明の活性成分による除草効果は以下の表に示され
ている試験結果から明らかである。

以下に示す表は、下記の“供試化合物”の発芽前およ
び発芽後の除草活性を評価した結果を示す。

なお、表46-2〜表46-6の各表中に記載の植物名の略語
の詳細は以下の表46-7に示す通りである。

本発明にかかるNo.29の化合物と、市販されている周
知の２種のスルホニル尿素除草剤（メトスルフロンメチ
ルおよびアミドスルフロン）との除草効果を比較した例
を以下に示す。

上記表中に示す通り、３種の供試化合物を種々の量で
発芽後の３種の供試植物に適用した。これらの植物の学
術名は、それぞれTriticum aestivum L.（コムギ）、Al
opecurus myosuroides（ブラックグラス）、およびGali
um spurium L.（ヤエムグラ）である。

この結果によると、化合物No.29を13g/ヘクタールの
割合で適用した場合、ブラックグラスは100％、ヤエム
グラは90％防除されたにもかかわらず、コムギに損傷は
なかった。

また、比較のために用いたアミドスルフロンは、400g
/ヘクタールの割合で適用した場合でさえ、ブラックグ
ラスには100％の防除を達成することができず、加え
て、コムギには50％の損傷を与え、容認できないダメー
ジである。

同じく比較のために用いたメトスルフロンメチルは、
100g/ヘクタールの割合でブラックグラスには100％の防
除を示し、コムギには50％の損傷を与えた。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｃ０７Ｄ 409/12 ２３９Ｃ０７Ｄ 409/12 ２３９２４９２４９ 491/048 491/048 491/052 491/052 (72)発明者パクサンスーン大韓民国チュンチョンブク−ド 360 −101 チョンジュシティーサジク −１ドン 224−７ (72)発明者ウーイァエチュン大韓民国ダエイェオン 302−162 セオ−グドマ−２ドン 205 キュンナムアパートメント１−406 (72)発明者キムタエイュン大韓民国ダエイェオン 302−162 セオ−グドマ−２ドン 205 キュンナムアパートメント６−207 (56)参考文献特開昭61−93180（ＪＰ，Ａ) 特開昭61−22083（ＪＰ，Ａ) 特開昭62−155271（ＪＰ，Ａ) 特開昭62−16457（ＪＰ，Ａ) 米国特許4370480（ＵＳ，Ａ)

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】次の一般式（Ｉ）〔式中、Ｐは次のＰ−1,P−2,またはＰ−３｛式中、 R¹はH,C₁〜C₃アルキル，C₁〜C₃ハロアルキル，ハロゲ
ン,CN,NO₂,C₁〜C₃アルコキシ，C₁〜C₃ハロアルコキシ，
SO₂NR^IR^II,C₁〜C₃アルキルチオ，C₁〜C₃アルキルスルフ
ィニル，C₁〜C₃アルキルスルホニル，SCHF₂,NH₂,NHCH₃,
N(Me)₂基，C₁〜C₂アルコキシ，C₁〜C₂ハロアルコキシ,S
H,SCH₃,CNあるいはOHで置換されたC₁〜C₂アルキル基、
またはCO₂R^III基を示し、なお、R^IはH,C₁〜C₄アルキ
ル，C₂〜C₃シアノアルキル，メトキシまたはエトキシ基
を示し、R^IIはH,C₁〜C₄アルキル、C₃〜C₄アルケニル基
を示し、あるいはR^IとR^IIとは互いに結合して-(CH₂)₃-,
-(CH₂)₄-,-(CH₂)₅-，または-CH₂CH₂OCH₂CH₂-を形成する
ことができ、R^IIIはC₁〜C₄アルキル，C₃〜C₄アルケニ
ル，C₃〜C₄アルキニル基、１〜３個のハロゲンまたはシ
アノ基で置換されたC₁〜C₄アルキル、C₅〜C₆シクロアル
キル，C₄〜C₇シクロアルキルアルキル、またはC₂〜C₄ア
ルコキシアルキル基を示し、Ｒは（式中、ａはＯまたはＳを示し、R²は１〜３ハロゲンで置換され
たC₁〜C₆アルキル基を示し、R⁴及びR⁵はそれぞれC₁〜C₄
のアルキル基を示し、R⁶及びR⁷はそれぞれＨ、C₁〜C₃ア
ルキルまたはC₁〜C₃ハロアルキル基を示す。）で表わされる基を示す。で表わされる基を示し、 R³はＨまたはCH₃基を示し、ＷはＯまたはＳを示し、Ａは次のA1またはA2 ｛式中、ＸはH,C₁〜C₄アルキル，C₁〜C₄アルコキシ，C₁〜C₄ハロ
アルコキシ，C₁〜C₄ハロアルキル，C₁〜C₄ハロアルキル
チオ，C₁〜C₄アルキルチオ，ハロゲン，C₂〜C₅アルコキ
シアルキル，C₂〜C₅アルコキシアルコキシ，アミノ，C₁
〜C₃アルキルアミノ，ジ（C₁〜C₃アルキル）アミノ，ま
たはC₃〜C₅シクロアルキル基を示し、ＹはH,C₁〜C₄アルキル，C₁〜C₄アルコキシ，C₁〜C₄ハロ
アルコキシ，C₁〜C₄ハロアルキルチオ，C₁〜C₄アルキル
チオ，C₂〜C₅アルコキシアルキル，C₂〜C₅アルコキシア
ルコキシ，アミノ，C₁〜C₃アルキルアミノ，ジ（C₁〜C₃
アルキル）アミノ，C₃〜C₄アルケニルオキシ，C₃〜C₄ア
ルキニルオキシ，C₂〜C₅アルキルチオアルキル，C₁〜C₄
ハロアルキル，C₂〜C₄アルキニル，アジド，シアノ，C₂
〜C₅アルキルスルフィニルアルキル，C₂〜C₅アルキルス
ルホニルアルキル，CH₂OH,C₃〜C₅シクロアルキル，C₃〜
C₅シクロアルコキシ，C₂〜C₅アルキルチオアルコキシ，（式中、ｍは２または３を示し、 L¹及びL²は独立してＯまたはＳを示し、 R⁴及びR⁵は独立してC₁〜C₂アルキル基を示し、 R⁸はＨまたはCH₃基を示す。）基を示し、ＺはCH,N,CCH₃またはCC₂H₅基を示し、 X¹はCH₃，またはOCH₃基を示す。｝で表わされる基を示す。〕で表わされる構造を有するチオフェンスルホニル尿素誘
導体またはその農芸上適用な塩である化合物。
【請求項２】ＷがＯを示し、R³がＨを示すことを特徴と
する請求項１記載の化合物。
【請求項３】R¹はＨ、ハロゲン、C₁〜C₂アルキル、C₁〜
C₂アルコキシ、C₁〜C₂ハロアルキル、C₁〜C₂アルキルチ
オ、ハロアルコキシまたはCH₂CN基を示し;XはC₁〜C₂ア
ルキル、C₁〜C₂アルコキシ、Cl,F,Br,I,OCHF₂,CH₂F,C
F₃,OCH₂CH₂F,OCH₂CHF₂,OCH₂CF₃,CH₂ClまたはCH₂Br基を
示し;YはH,C₁〜C₂アルキル、C₁〜C₂アルコキシ、CH₂OCH
₃,CH₂OCH₂CH₃,NHCH₃,N(OCH₃)CH₃,N(CH₃)₂,CF₃,SCH₃,OCH
₂CH＝CH₂,OCH₂C≡CH,OCH₂CH₂OCH₃,CH₂SCH₃， OCHF₂,OCF₂Br,SCHF₂，シクロプロピル、Ｃ≡CHまたはＣ
≡Ｃ−CH₃基を示し；R⁴およびR⁵はC₁〜C₂アルキル基を
示し；R⁸はＨまたはCH₃基を示し；L¹およびL²はＯまた
はＳを示し;mは２または３を示すことを特徴とする請求
項１記載の化合物。
【請求項４】ＡはA₁基を示し、ＸはCH₃,C₂H₅,OCH₃,OCH₂
CH₃,ClまたはOCHF₂基を示し;YはCH₃,OCH₃,OC₂H₅,C₂H₅,C
H₂OCH₃,NHCH₃,CH(OCH₃)₂またはシクロプロピル基を示す
ことを特徴とする請求項１記載の化合物。
【請求項５】R²はCH₂F,CH₂CH₂F,CHFCH₃,CH₂Cl,CH₂Br,CH
Cl₂,CHFCl,CH₂CH₂Cl,CHClCH₃,CHF₂,CHClCH₂Cl,CHFCH₂C
l,CHFCH₂FまたはCH₂CHF₂基を示すことを特徴とする請求
項１記載の化合物。
【請求項６】前記一般式（Ｉ）で表わされる化合物は３
−（２−フルオロメチル−1,3−ジオキサラン−２−イ
ル）−Ｎ−〔（４−メトキシ−６−メチルトリアジン−
２−イル）アミノカルボニル〕４−チオフェンスルホン
アミドであることを特徴とする請求項１記載の化合物。
【請求項７】前記一般式（Ｉ）で表わされる化合物はＮ
−〔（4,6−ジメトキシトリアジン−２−イル）アミノ
カルボニル〕−３−（２−フルオロメチル−1,3−ジオ
キサラン−２−イル）−４−チオフェンスルホンアミド
であることを特徴とする請求項１記載の化合物。
【請求項８】前記一般式（Ｉ）で表わされる化合物は３
−（２−フルオロメチル−1,3−ジオキサラン−３−イ
ル）−Ｎ−〔（４−メトキシ−６−メチルピリミジン−
２−イル）アミノカルボニル〕４−チオフェンスルホン
アミドであることを特徴とする請求項１記載の化合物。
【請求項９】前記一般式（Ｉ）で表わされる化合物は２
−（２−フルオロメチル−1,3−ジオキサラン−２−イ
ル）−Ｎ−〔（４−メトキシ−６−メチルトリアジン−
２−イル）アミノカルボニル〕−３−チオフェンスルホ
ンアミドであることを特徴とする請求項１記載の化合
物。
【請求項１０】前記一般式（Ｉ）で表わされる化合物は
Ｎ−〔（4,6−ジメトキシトリアジン−２−イル）アミ
ノカルボニル〕−２−（２−フルオロメチル−1,3−オ
キサラン−２−イル）−３−チオフェンスルホンアミド
であることを特徴とする請求項１記載の化合物。
【請求項１１】前記一般式（Ｉ）で表わされる化合物は
４−（1,1−ジエトキシ−２−フルオロエチル）−Ｎ−
〔（４−メトキシ−６−メチルピリミジン−２−イル）
アミノカルボニル〕−３−チオフェンスルホンアミドで
あることを特徴とする請求項１記載の化合物。
【請求項１２】請求項１記載の一般式（Ｉ）で表わされ
る化合物の中間体化合物であって、次の一般式（IV）（式中、Ｐは請求項１記載のものと同一のものを示
す。）で表わされることを特徴とする化合物。
【請求項１３】前記一般式（IV）で表わされる化合物は
３−（２−フルオロエチル−1,3−ジオキサラン−２−
イル）−４−チオフェンスルホンアミドまたは２−（２
−フルロオメチル−1,3−ジオキサラン−２−イル）−
３−チオフェンスルホンアミドであることを特徴とする
請求項12記載の化合物。
【請求項１４】活性成分として、次の一般式（式中、P,W,RおよびＡはそれぞれ請求項１記載のもの
と同一のものを示す。）で表わされる少なくとも１種の
チオフェンスルホニル尿素誘導体を含有していることを
特徴とする除草剤。
【請求項１５】雑草を抑制するに当り、次の一般式（式中、P,W,RおよびＡはそれぞれ請求項１記載のもの
と同一のものを示す。）で表わされる少なくとも１種の
チオフェンスルホニル尿素誘導体を雑草の多い区域に有
効量施用することを特徴とする雑草の抑制方法。