JP2622135B2 - インデン誘導体及びその製造方法 - Google Patents

インデン誘導体及びその製造方法

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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は一般式(I) (式中R1は a) 場合によりハロゲン原子、低級アルキル基、低級
アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスル
ホニル基、ジ低級アルキルアミノ基、アセチルアミノ
基、シアノ基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメ
トキシ基、ピロール基及びジ低級アルキルピロール基よ
り成る群から選ばれた基1又は数種で置換されたフエニ
ル基、 b) ナフタレン残基、 c) チオフエン−、ピリジン−又はピロール残基であ
り、これは場合によりハロゲン原子、低級アルキル基、
低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、トリフルオロ
メチル基又はトリフルオロメトキシ基より成る群から選
ばれた基1又は数種で置換されており、 R2はH、ハロゲン原子、低級アルキル基、メトキシ
基、ベンジル基、低級アルキルチオ基、低級アルキルス
ルホニル基、ジ低級アルキルスルフアモイル基、アセチ
ルアミノ基、ベンジルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ
基、シアノ基、ピロール基、ジ低級アルキルピロール
基、トリフルオロメチル基及びトリフルオロメトキシ基
より成る群から選ばれ、 R3は−CN、−COOR4、−CON(R4又は−COR4であ
り、 R4は低級アルキル基であり、 nは1〜3の整数である。) なるインデン誘導体に関する。
一般式(I)なるインデン誘導体は、R1がa)に於け
る意味を有する場合薬理学的に有効なインダン及びイン
デン誘導体の製造に有用である。これはたとえば米国特
許第4,443,448号及び第4,525,360号明細書から公知であ
る。
更に本発明は一般式(I)なる化合物の製造方法及び
次式(IV) (式中、R1,R2及びnは上述の意味を有する。) なる化合物を製造する方法に関する。
式(IV)なる化合物(式中R1はa)に於ける意味を有
する。)は米国特許第4,443,448号及び第4,525,360号明
細書から公知であり、それ自体上記米国特許から公知の
薬理学的に活性なインダン及びインデンである。
新規式(I)なるインデンはまた中間体(IV)を、良
好な収率で及び前記米国特許に記載された方法よりも広
い範囲の種々の置換基R1を有して製造することができ
る。
本発明によれば驚くべきことに、2−ハロゲノベンゾ
ニトリルを極めて容易にアリール−及びヘテロアリール
アセトニトリルから生じるカルバニオンでハロゲンの求
核芳香族置換し、それによって次の反応式中の一般式
(II)なる化合物を生じることを見い出した。式(II)
なる化合物を良好な収率で単離するあるいは更にその場
でハロゲノ酢酸誘導体と又は低級アルキル−ハロゲノメ
チルケトンと反応させることができる。この様にして製
造された生成物を自発閉環し、それによって式(I)な
る化合物を生じる。
反応の順序は次の反応式で表わされる: (式中Xはハロゲン原子、好ましくはF、Cl又はBr、Y
はCl,Br又はIであり、R1,R2,R3及びnは上述の意味を
有する。) 式(I)なる化合物は選択的に2−ハロゲノベンゾニ
トリルと3−シアノ−3−アリールプロピオン酸誘導体
又は3−シアノ−3−ヘテロアリールプロピオン酸誘導
体とを、あるいは4−(低級アルキル)−4−オキソ−
2−アリールブチロニトリルと又は4−(低級アルキ
ル)−4−オキソ−2−ヘテロアリールブチロニトリル
とを次の反応式に従って反応させることによって製造す
ることができる: 本発明によれば式(I)なる化合物は容易に式(IV)
なる化合物に変えることができる。この変化は次の反応
式によって表わされる: 本発明の方法は、 a) 式(V) (式中R2,X及びnは上述の意味を有する。) なる2−ハロゲノベンゾニトリルと式R1CH2CN(式中R1
は上述の意味を有する。)なる化合物とを反応させ、式
(II) (式中R1,R2及びnは上述の意味を有する。) なる化合物を製造し、 (1)単離し、更に有機溶剤中で式YCH2R3(式中Y及び
R3は上述の意味を有する。)なる化合物と反応させ、そ
れによって前記式(I)なる化合物を製造する又は (2)更にその場で式YCH2R3なる化合物と反応させ、そ
れによって前記式(I)なる化合物を製造するあるいは b) 一般式(V)なる2−ハロゲノベンゾニトリルと
式R1−CHCN−CH2R3(式中R1及びR2は上述の意味を有す
る。)なる化合物とを反応させ、その後得られた式
(I)なる化合物を単離することから成る。
方法a)及びb)は非プロトン性有機溶剤、たとえば
N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルスルホキ
シド(DMSO)、N−メチルピロリドン(NMP)、1,2−ジ
メトキシエタン(DME)、テトラヒドロフラン(THF)等
々中無水条件下で不活性雰囲気中でアルカリ物質、たと
えばカリウムt−ブトオキサイド、水素化ナトリウム、
ナトリウムアミド又はアルカリ金属の炭酸塩、たとえば
炭酸カリウム又はセシウムの存在下15℃〜60℃の温度で
実施するのが好ましい。
更に本発明は一般式(IV)なる化合物の製造方法を提
供する。これは式(I) (式中R1,R2,R3及びnは上述の意味を有する。) なる化合物を加水分解条件下で、場合により酸化条件下
で加熱し、一般式(III) (式中R1,R2及びnは上述の意味を有する。) なる化合物を単離し、次いで式(III)なる化合物を塩
基性有機溶剤中で加熱し、その後式(IV)なるインダン
を単離することから成る。
式(III)なるインダンのこの製造方法によれば、式
(I)なる化合物〔式中R3は−CN、−COOR4又は−CON
(R4(式中R4は上述の意味を有する。)である。〕
を、好ましくは酢酸、硫酸及び水から成る混合物中、メ
タンスルホン酸と水との混合物中又は酢酸と濃塩酸との
混合物中で約100℃〜120℃の温度で加熱して、加水分解
及び脱カルボキシル化し、それによって式(III)なる
化合物を生じる。式(I)なる化合物〔式中R3は−COR4
(式中R4は上述の意味を有する。)である。〕に酸化性
バイヤー・ビリガー転位を行う。これはたとえばジエリ
ーマーチ(Jerry March):“最新有機化学(Advanced
Organic Chemistry)”第3版、ウイリーインターサイ
エンス(Wiley−Intersience)ニユーヨーク1985年から
公知であり、パーオキシカルボン酸、たとえばトリフル
オロパーオキシ酢酸又はメタ−クロロパーオキシ安息香
酸(MCPBA)で不活性有機溶剤中で処理して行われる。
得られた化合物を次いでR3が−CN、−COOR4又は−CON
(R4である式(I)なる化合物に関して上述した様
に加水分解し、脱カルボキシル化し、それによって式
(III)なる化合物を生じる。
式(III)なる化合物の式(IV)なるインダンへの次
の変化を場合により不活性溶剤、たとえばトルエンで希
釈された弱塩基性有機溶剤、たとえばピリジン、キノリ
ン及びN−メチルピロリドン(NMR)中で約60℃〜120℃
の温度で実施するのが好ましい。
本文及び特許請求の範囲中に記載された“低級”なる
言葉は、炭素原子数1〜6、好ましくは1〜4を意味す
る。
新規の式(I)なるインデン誘導体に於て、R1は場合
によりクロロ原子、フルオロ原子、メチル基、メトキシ
基、アセチルアミノ基及びトリフルオロメチル基より成
る群から選ばれた基1又は2種で置換されたフエニル
基、場合によりメチル基又はメトキシ基で置換されたピ
ロール基、場合によりメチル基、クロロ原子又はフルオ
ロ原子で置換されたチオフエン環、場合によりメチル基
又はフルオロ原子で置換されたピリジン環あるいはナフ
タレン環であり、R2はH、Cl,Br,F,CH3,CH3O又はCF3
あり、R3は−COOCH3,−CN又は−CON(CH3であり、
nは1つである。
次に本発明の方法を例によって詳述するが、本発明は
これによって限定されるものではない。
参考例 下記化合物は本発明の化合物に類似する化合物であ
り、その製造法は本発明の化合物を製造する際に適用す
ることができる。
1−アミノ−3−シアノ−3−(4−フルオロフエニ
ル)−6−ニトロ−1−インデン−2−カルボン酸メチ
ルエステル N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)200ml中に3−シ
アノ−4−(4−フルオロフエニル)−プロピオン酸メ
チルエステル43.0g、2−クロロ−5−ニトロベンゾニ
トリル40.0g、炭酸カリウム34.5g及び硫酸水素テトラブ
チルアンモニウム7.5gを含有する懸濁液を90時間50℃で
撹拌する。
混合物を冷却し、トルエン200ml中に注加する。希塩
酸500mlを徐々に加え、混合物を2時間室温で撹拌す
る。結晶化した生成物を過によって単離し、冷いトル
エンで精製する。
収量:46.0g(理論量を62%) 融点(エタノールから):286−289℃ 分析:C18H12FN3O4 要求値:C:61.18% H:3.43% N:11.90% 測定値:C:60.72% H:3.21% N:11.66% 例1 1−アミノ−3−シアノ−3−(4−フルオロフエニ
ル)−6−トリフルオロメチル−1−インデン−2−カ
ルボン酸メチルエステル 次の処理を乾燥窒素下に行う。
1,2−ジメトキシエタン(DME)30中にカリウムt−
ブトオキサイド10.25kgを含有する、十分に撹拌された
懸濁液に徐々にDME15中に4−フルオロベンジルシア
ニド6kg及び2−クロロ−5−トリフルオロメチルベン
ゾニトリル9.6kgを含有する溶液を加え、約20℃の内部
温度で維持する。次いで反応混合物を1時間室温で撹拌
する。メチルクロロアセタート9.7kgを徐々に加え、混
合物を一晩室温で撹拌する。
翌日反応混合物を60℃に加熱し、3時間撹拌する。反
応混合物を冷却し、希酢酸で冷やす。溶剤(DME)の大
部分を減圧で除去し、引き続きの常法での処理で生成物
1−アミノ−3−シアノ−3−(4−フルオロフエニ
ル)−6−トリフルオロメチル−1−インデン−2−カ
ルボン酸メチルエステルが得られる。
収量:13.84g(理論量を83%) 融点(エタノールから):178−179℃ 分析:C18H12F4N2O2 要求値:C:60.64% H:3.22% N:7.45% 測定値:C:60.50% H:3.19% N:7.37% 例2 1−アミノ−3−シアノ−3−(4−フルオロフエニ
ル)−1−インデン−2−カルボン酸メチルエステル 次の処理を乾燥窒素下に行う。
N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)800ml中にカリウ
ムt−ブトオキサド234.6gを含有する。撹拌された溶液
に徐々にDMF 400ml中に4−フルオロベンジルシアニド1
35.1g及び2−クロロベンゾニトリル144.5gを含有する
溶液を加え、25〜30℃の内部温度で維持する(氷浴)。
次いで反応混合物を1時間室温で撹拌する。メチルクロ
ロアセタート115mlを徐々に加え、反応混合物を一晩室
温で撹拌する。
翌日反応混合物を50℃に加熱し、2時間撹拌し、冷却
し、希塩酸3.5、n−ヘプタン500ml及びトルエン250m
lから成る混合物中に注加する。生成物を1時間以内に
結晶化し、懸濁液の過によって単離する。結晶性生成
物に水(2×500ml)、トルエン(2×100ml)及びn−
ヘプタン(2×250ml)を添加して精製する。生成物を6
0℃で一晩減圧乾燥する。
収量:260.6g(理論量を84.5%) 融点:198−202℃ 分析:C18H13FN2O2 要求値:C:70.11% H:4.26% N:9.09% 測定値:C:69.80% H:4.17% N:8.83% 例3 1−アミノ−6−クロロ−3−シアノ−3−(チエン−
3−イル)−1−インデン−2−カルボン酸メチルエス
テル 次の処理を乾燥窒素下に行う。
無水1,2−ジメトキシエタン(DME)75ml中にカリウム
t−ブトオキサイド18.9gを含有する、撹拌された懸濁
液に徐々に無水DME150ml中に2,5−ジクロロベンゾニト
リル15.0g及びチオフエン−3−アセトニトリル10.0gを
含有する溶液を加え、15℃〜20℃の内部温度で維持する
(氷浴)。次いで反応混合物を15分、20℃で撹拌し、10
℃に冷却する。メチルクロロアセタート25mlを徐々に加
え、反応混合物を一晩室温で撹拌する。
翌日反応混合物を希塩酸で冷やす。常法でジエチルエ
ーテルを用いて抽出処理して結晶性生成物20.0g(理論
量の74%)が得られる。
融点(エタノールからの再結晶):199−201℃ 分析:C16H11ClN2O2S 要求値:C:58.09% H:3.36% N:8.47% 測定値:C:57.71% H:3.16% N:8.20% 例4 2−シアノ−4′−フルオロヘンズヒドリルシアニド 次の処理を乾燥窒素下に行う。
N,N−ジエチルホルムアミド(DMF)3.6中にカリウ
ムt−ブトオキサイド700gを含有する、撹拌された溶液
に徐々にDMF1.2中に4−フルオロベンジルシアニド40
1.4g及び2−クロロベンゾニトリル429.2gを含有する溶
液を加え、25℃〜30℃の内部温度を維持する(氷浴)。
次いで反応混合物を1時間室温で撹拌し、希塩酸で冷や
す。ジエチルエーテルで抽出処理して、生成物2−シア
ノ−4′−フルオロベンズヒドリルシアニドが得られ
る。
収量:602.1g(理論量の85.8%) 融点:87−89℃ 分析:C15H9FN2 要求値:C:76.25% H:3.85% N:11.86% 測定値:C:76.05% H:3.74% N:11.55% 例5 1−アミノ−2−アセチル−3−シアノ−3−(4−フ
ルオロフエニル)−1−インデン 次の処理を乾燥窒素下に行う。
2−シアノ−4′−フルオロベンズヒドリルシアニド
5.0gをDMF 25ml中に無水炭酸カリウム4.4gを含有する、
十分に撹拌された懸濁液に加える。反応混合物を十分に
30分撹拌し、クロロアセトン5.0gを徐々に冷却しながら
加える。生じた反応混合物を48時間室温で撹拌する。ジ
エチルエーテルで引き続き抽出処理して、生成物1−ア
ミノ−2−アセチル−3−シアノ−3−(4−フルオロ
フエニル)−1−インデンが得られる。
収量:4.9g(理論量の79%) 融点:190−192℃ 分析:C18H13FN2O 要求値:C:73.95% H:4.49% N:9.59% 測定値:C:73.77% H:4.53% N:9.42% 例6 3−カルボキシ−3−(4−フルオロフエニル)−イン
ダン−1−オン 1−アミノ−3−シアノ−3−(4−フルオロフエニ
ル)−1−インデン−2−カルボン酸メチルエステル5
0.0gと氷酢酸250mlとの混合物を約90℃に加熱し、均一
溶液が生じるまで約15分間撹拌する。濃硫酸80mlと水40
mlとの混合物を徐々に加え、90−100℃の内部温度に維
持する。次いで温度を110℃に上げ、反応混合物をこの
温度で4時間撹拌し、砕かれた氷中に注加する。トルエ
ンで抽出処理して、生成物3−カルボキシ−3−(4−
フルオロフエニル)−インダン−1−オンが得られる。
収量:40.0g(理論量の91.0%) 融点:106−108℃ 分析:C16H11FO3 要求値:C:71.10% H:4.11% 測定値:C:71.01% H:4.22% 例7 3−(4−フルオロフエニル)−インダン−1−オン 次の処理を乾燥窒素下に行う。
N−メチル−ピロリドン50ml中に3−カルボキシ−3
−(4−フルオロフエニル)−インダン−1−オン40.0
gを含有する溶液を100℃に加熱し、2時間この温度で撹
拌する。反応混合物を冷却し、水250ml中に注加する。
引き続きの抽出処理で生成物3−(4−フルオロフエニ
ル)−インダン−1−オンが得られる。
収量:28.5g(理論量の85.0%) 融点:120−121℃ 分析:C15H11FO 要求値:C:79.62% H:4.91% 測定値:C:79.43% H:5.05% 例1〜4に記載した条件と同等の条件下で製造される
式(I)なる化合物を次表に挙げる。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07D 213/57 C07D 213/57 333/24 333/24

Claims (10)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一般式(I) (式中R1は a)場合によりハロゲン原子、低級アルキル基、低級ア
    ルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルホ
    ニル基、ジ低級アルキルアミノ基、アセチルアミノ基、
    シアノ基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキ
    シ基、ピロール基及びジ低級アルキルピロール基より成
    る群から選ばれた基1又は数種で置換されたフエニル
    基、 b)ナフタレン残基、 c)チオフエン−、ピリジン−又はピロール残基であ
    り、これは場合によりハロゲン原子、低級アルキル基、
    低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、トリフルオロ
    メチル基又はトリフルオロメトキシ基より成る群から選
    ばれた基1又は数種で置換されており、 R2はH、ハロゲン原子、低級アルキル基、メトキシ基、
    ベンジル基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルホ
    ニル基、ジ低級アルキルスルフアモイル基、アセチルア
    ミノ基、ベンジルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、
    シアノ基、ピロール基、ジ低級アルキルピロール基、ト
    リフルオロメチル基及びトリフルオロメトキシ基より成
    る群から選ばれ、 R3は−CN、−COOR4、−CON(R4又は−COR4であり、 R4は低級アルキル基であり、 nは1〜3の整数である。) なるインデン誘導体。
  2. 【請求項2】R1は場合によりクロロ原子、フルオロ原
    子、メチル基、メトキシ基、アセチルアミノ基及びトリ
    フルオロメチル基より成る群から選ばれた基1又は2個
    で置換されたフエニル基、場合によりメチル基又はメト
    キシ基で置換されたピロール基、場合によりメチル基、
    クロロ原子又はフルオロ原子で置換されたチオフエン
    環、場合によりメチル基又はフルオロ原子で置換された
    ピリジン環あるいはナフタレン環であり、R2は水素原
    子、クロロ原子、ブロモ原子、フルオロ原子、メチル
    基、メトキシ基又はトリフルオロメチル基であり、R3
    −COOCH3、−CN又は−CON(CH3であり、nは1であ
    る特許請求の範囲第1項記載のインデン誘導体。
  3. 【請求項3】R1は場合によりクロロ原子、フルオロ原子
    又はトリフルオロメチル基で置換されたフエニル基であ
    り、R2は6−位で水素原子、クロロ原子、フルオロ原
    子、メチル基、メトキシ基又はトリフルオロメチル基で
    あり、R3は−COOCH3、−CN又は−CON(CH3であり、
    nは1である特許請求の範囲第1項又は第2項記載のイ
    ンデン誘導体。
  4. 【請求項4】R1は場合によりメチル基又はフルオロ原子
    で置換されたチオフエン環であり、R26−位で水素原
    子、クロロ原子、フルオロ原子、メチル基、メトキシ基
    又はトリフルオロメチル基であり、R3は−COOCH3、−CN
    又は−CON(CH3であり、nは1である特許請求の範
    囲第1項又は第2項記載のインデン誘導体。
  5. 【請求項5】1−アミノ−3−シアノ−3−(3,4−ジ
    クロロフエニル)−1−インデン−2−カルボン酸メチ
    ルエステルである特許請求の範囲第1項記載のインデン
    誘導体。
  6. 【請求項6】1−アミノ−3−シアノ−3−(4−フル
    オロフエニル)−6−クロロ−1−インデン−2−カル
    ボン酸メチルエステルである特許請求の範囲第1項記載
    のインデン誘導体。
  7. 【請求項7】1−アミノ−3−シアノ−3−(4−フル
    オロフエニル)−1−インデン−2−カルボン酸メチル
    エステルである特許請求の範囲第1項記載のインデン誘
    導体。
  8. 【請求項8】1−アミノ−3−シアノ−3−(チエニル
    −3)−6−クロロ−1−インデン−2−カルボン酸メ
    チルエステルである特許請求の範囲第1項記載のインデ
    ン誘導体。
  9. 【請求項9】1−アミノ−3−シアノ−3−(チエニル
    −3)−1−インデン−2−カルボン酸メチルエステル
    である特許請求の範囲第1項記載のインデン誘導体。
  10. 【請求項10】a)一般式(V) (式中、 R2はH、ハロゲン原子、低級アルキル基、メトキシ基、
    ベンジル基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルホ
    ニル基、ジ低級アルキルスルフアモイル基、アセチルア
    ミノ基、ベンジルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、
    シアノ基、ピロール基、ジ低級アルキルピロール基、ト
    リフルオロメチル基及びトリフルオロメトキシ基より成
    る群から選ばれ、 nは1〜3の整数であり、 Xはハロゲン原子である。) なる2−ハロゲノベンゾニトリルと式 R1CH2CN (式中R1は a)場合によりハロゲン原子、低級アルキル基、低級ア
    ルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルホ
    ニル基、ジ低級アルキルアミノ基、アセチルアミノ基、
    シアノ基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキ
    シ基、ピロール基及びジ低級アルキルピロール基より成
    る群から選ばれた基1又は数種で置換されたフエニル
    基、 b)ナフタレン残基、 c)チオフエン−、ピリジン−又はピロール残基であ
    り、これは場合により、ハロゲン原子、低級アルキル
    基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、トリフル
    オロメチル基又はトリフルオロメトキシ基より成る群か
    ら選ばれた基1又は数種で置換されている。)なる化合
    物と反応させ、一般式(II) (式中、R1,R2及びnは上述の意味を有する。) なる化合物を製造し、 (1)単離し、更に有機溶剤中で式 YCH2R3 (式中YはCl,Br又はIであり、R3は−CN、−COOR4、−
    CON(R4又は−COR4である。) なる化合物と反応させ、又は (2)更にその場で式YCH2R3(式中Y及びR3は上述の意
    味を有する。)なる化合物と反応させ、 一般式(I) (式中R1,R2,R3及びnは上述の意味を有する。) なるインデン誘導体を製造する、あるいは b)上記一般式(V)なる2−ハロゲノベンゾニトリル
    と式R1−CHCN−CH2R3(式中R1及びR3は上述の意味を有
    する。)なる化合物と反応させ、その後得られた上記一
    般式(I)なるインデン誘導体を単離することを特徴と
    する、上記インデン誘導体の製造方法。
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