JP2620502B2 - Electrical interconnects and assemblies with helical contacts - Google Patents

Electrical interconnects and assemblies with helical contacts

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JP2620502B2
JP2620502B2 JP5248272A JP24827293A JP2620502B2 JP 2620502 B2 JP2620502 B2 JP 2620502B2 JP 5248272 A JP5248272 A JP 5248272A JP 24827293 A JP24827293 A JP 24827293A JP 2620502 B2 JP2620502 B2 JP 2620502B2
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electrical
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conductor
electrical circuit
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01RELECTRICALLY-CONDUCTIVE CONNECTIONS; STRUCTURAL ASSOCIATIONS OF A PLURALITY OF MUTUALLY-INSULATED ELECTRICAL CONNECTING ELEMENTS; COUPLING DEVICES; CURRENT COLLECTORS
    • H01R12/00Structural associations of a plurality of mutually-insulated electrical connecting elements, specially adapted for printed circuits, e.g. printed circuit boards [PCB], flat or ribbon cables, or like generally planar structures, e.g. terminal strips, terminal blocks; Coupling devices specially adapted for printed circuits, flat or ribbon cables, or like generally planar structures; Terminals specially adapted for contact with, or insertion into, printed circuits, flat or ribbon cables, or like generally planar structures
    • H01R12/70Coupling devices
    • H01R12/71Coupling devices for rigid printing circuits or like structures
    • H01R12/712Coupling devices for rigid printing circuits or like structures co-operating with the surface of the printed circuit or with a coupling device exclusively provided on the surface of the printed circuit
    • H01R12/714Coupling devices for rigid printing circuits or like structures co-operating with the surface of the printed circuit or with a coupling device exclusively provided on the surface of the printed circuit with contacts abutting directly the printed circuit; Button contacts therefore provided on the printed circuit
    • HELECTRICITY
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    • H01R12/50Fixed connections
    • H01R12/51Fixed connections for rigid printed circuits or like structures
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K7/00Constructional details common to different types of electric apparatus
    • H05K7/02Arrangements of circuit components or wiring on supporting structure
    • H05K7/10Plug-in assemblages of components, e.g. IC sockets
    • H05K7/1053Plug-in assemblages of components, e.g. IC sockets having interior leads
    • H05K7/1061Plug-in assemblages of components, e.g. IC sockets having interior leads co-operating by abutting
    • H05K7/1069Plug-in assemblages of components, e.g. IC sockets having interior leads co-operating by abutting with spring contact pieces

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は電気的相互接続子に関
し、特に、プリント回路基板或いはモジュールなどのそ
れぞれの電気回路メンバ対上または内に配置されるそれ
ぞれの導体対間において、いくつかの接続が同時に提供
される高密度配列タイプの接続子に関する。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to electrical interconnects, and more particularly, to a number of connections between each pair of conductors located on or within each pair of electrical circuits, such as a printed circuit board or module. Are provided at the same time.

【0002】[0002]

【従来の技術】審査中の出願の相互参照: G.F.Walker等による米国特許第5299939号"Spr
ing Array Connector"(1992年3月5日出願)は、弾力性のスプリン
グ・コアを含むスプリング配列接続子を示し、電気的絶
縁層がこのコアに平行に配置され、電気的導電セグメン
トが絶縁層上のロケーションに配置され、複数の電気接
点が導電セグメントに電気的に接続される。配列状の複
数のスプリングの各々は独立に屈曲可能であり、実施例
ではシート状及びワイヤ状の正弦、らせん、片持ちば
り、及び座屈ビームのそれぞれの形状のスプリングが示
されている。
BACKGROUND OF THE INVENTION Cross Reference of Applications Under Examination: F. U.S. Pat. No. 5,299,939 "Spr by Walker et al.
"ing Array Connector" (filed March 5, 1992) shows a spring array connector including a resilient spring core, wherein an electrically insulating layer is disposed parallel to the core, and an electrically conductive segment is formed of the insulating layer. A plurality of electrical contacts are electrically connected to the conductive segments, located at the upper location, each of the plurality of springs in the array being independently bendable, in embodiments, sheet and wire sine, spiral. , Cantilevered and buckled beam shaped springs are shown.

【0003】本明細書において示されるように、本発明
は特に、高密度接続が標準とされる情報処理システム
(コンピュータ)分野に適用可能である。こうした使用
においては、形成される相互接続は、信頼性に関する高
い基準を満足しなければならない。更に、例えばアップ
グレードなどを目的として、効果的な修復及び置換を保
証するために、こうした接続子が最終製品内のフィール
ドにおいて、分離可能であり且つ再接続可能であること
がしばしば要望される。こうした分離性は、これらの接
続子を、製品テストの容易化のために使用する様々な製
品の組立においても要望される。更に、こうした相互接
続子の最終構造は、接続のライフ期間に堆積する可能性
があるほこり及び他の破片などに対して、寛容でなけれ
ばならない。プリント回路基板とモジュール間などの2
つの回路メンバを相互接続するとき、導体表面(及びこ
うした導体を含む構造)の非平面性が存在する可能性が
あり、こうした非平面性はメンバ間の効果的、且つ信頼
性のある接続を保証するために、補正されねばならな
い。
[0003] As shown herein, the present invention is particularly applicable to the field of information processing systems (computers) where high density connections are standard. In such use, the interconnects formed must meet high standards for reliability. Further, it is often desired that such connectors be separable and reconnectable in the field within the final product to ensure effective repair and replacement, eg, for upgrades and the like. Such separability is also required in the assembly of various products that use these connectors to facilitate product testing. In addition, the final structure of such interconnects must be tolerant of dust and other debris that can accumulate during the life of the connection. 2 between printed circuit board and module
When interconnecting two circuit members, there may be non-planarities of the conductor surface (and the structure containing such conductors), which assures an effective and reliable connection between the members. Must be corrected in order to do so.

【0004】種々の相互接続を提供する周知の方法に、
ワイヤ・ボンド技術がある。これは金などのソフト・メ
タル・ワイヤを、ある回路から別の回路へ機械的及び熱
的に接続する。しかしながら、こうしたボンディング
は、ワイヤ断線の可能性及びワイヤの取扱いの機械的な
困難性により、高密度接続が容易でない。別の技術に、
はんだボールなどを、パッドなどのそれぞれの回路要素
間に配置し、はんだをリフローして、効果的に相互接続
する方法がある。この技術は種々の構造において、高密
度相互接続を提供することに極めて成功を収めたが、容
易な分離及びそれに続く再接続を可能としない。更に別
の技術では、相互接続を提供するために、例えば導電材
料の小径ワイヤまたはコラムなどによる複数の導電性パ
スを含むエラストーマが使用される。こうしたエラスト
ーマ材料を使用する周知の技術は、典型的には、以下の
ような欠点を有する。(1)接点当たり、通常、強い力
が要求される。(2)パッドなどの関連回路要素間の相
互接続を通じる電気的抵抗が比較的高い。(3)ほこ
り、破片及び健全な接続に悪影響を及ぼす他の環境要素
に対して敏感である。(4)特定の接続子設計の物理的
制限などにより、密度が制限される。
[0004] Known methods of providing various interconnects include:
There is wire bond technology. This mechanically and thermally connects a soft metal wire, such as gold, from one circuit to another. However, such bonding does not facilitate high density connections due to the possibility of wire breakage and the mechanical difficulties in handling the wires. To another technology,
There is a method in which solder balls and the like are arranged between respective circuit elements such as pads, and the solder is reflowed so as to be effectively interconnected. Although this technique has been very successful in providing high density interconnects in various structures, it does not allow for easy disconnection and subsequent reconnection. Yet another technique uses an elastomer that includes multiple conductive paths, such as by small diameter wires or columns of conductive material, to provide the interconnect. Known techniques using such elastomeric materials typically have the following disadvantages. (1) A strong force is usually required per contact. (2) The electrical resistance through the interconnection between related circuit elements such as pads is relatively high. (3) Sensitive to dust, debris and other environmental factors that adversely affect a sound connection. (4) The density is limited due to physical limitations of a specific connector design or the like.

【0005】様々な電気回路メンバに対する電気的相互
接続を提供する種々の技術として、米国特許第3173
732号、同第3960424号、同第4161346
号、同第4655519号、同第4295700号、同
第4664458号、同第4688864号、及び同第
4971565号が参照される。これらの特許を読むと
これらの技術が、例えば潜在的な位置ずれ、並びに低密
度などの前述された数多くの欠点の他に、比較的複雑な
設計、高価な製造コストなどの別の欠点も含むことが理
解される。
[0005] Various techniques for providing electrical interconnection to various electrical circuit members are disclosed in US Pat.
No. 732, No. 3960424, No. 4161346
Nos. 4,655,519, 4,295,700, 4,664,458, 4,688,864, and 4,971,565. Reading these patents, these techniques include, besides the many disadvantages mentioned above, such as potential misalignment, and low density, as well as other disadvantages, such as relatively complex designs, expensive manufacturing costs, etc. It is understood that.

【0006】効果的で信頼性のある接続を提供できる高
密度な電気的相互接続子が、意味深い利点を提供するも
のと思われる。(こうした接続は、接続及び再接続を容
易化するために繰返しが可能であり、以下の説明から理
解される他の有益な機構を提供する。)
It is believed that high density electrical interconnects that can provide effective and reliable connections provide significant benefits. (Such connections are repeatable to facilitate connection and reconnection, and provide other useful mechanisms that will be understood from the description below.)

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の主な
目的は、電気的相互接続子の技術を改良するものであ
る。
Accordingly, a primary object of the present invention is to improve the technology of electrical interconnects.

【0008】本発明の別の目的は、必要に際し容易に分
離及び繰返し接続が可能であり、高信頼性の改良された
特性を有する、高密度の相互接続を提供する電気的相互
接続子を提供することである。
It is another object of the present invention to provide an electrical interconnect that provides a high density of interconnects that can be easily separated and repeated when needed and has improved characteristics of high reliability. It is to be.

【0009】本発明の別の目的は、製造コストがそれ程
高価でなく、比較的単純な設計の相互接続子を提供する
ことである。
Another object of the present invention is to provide an interconnect with a relatively simple design, which is less expensive to manufacture.

【0010】本発明の更に別の目的は、本明細書におい
て示される相互接続子を使用する電気的アセンブリを提
供することである。
[0010] Yet another object of the present invention is to provide an electrical assembly that uses the interconnects shown herein.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明の第1の側面によ
れば、ある回路メンバ上の電気導体を、第2の回路メン
バ上の電気導体に電気的に相互接続する相互接続子が示
される。この相互接続子は、両方の回路メンバと少なく
とも1つの電気的導電要素との間に配置される絶縁シー
トを含む。電気的導電要素は、絶縁シート上或いは内の
比較的平坦なベース部分と、その平坦なベース部分及び
絶縁シートから遠ざかる方向に伸びるらせん部分とを含
む。このらせん部分はある回路メンバの電気導体の1つ
に接続されるように適応される。
According to a first aspect of the present invention, there is shown an interconnect for electrically interconnecting an electrical conductor on one circuit member to an electrical conductor on a second circuit member. It is. The interconnect includes an insulating sheet disposed between both circuit members and at least one electrically conductive element. The electrically conductive element includes a relatively flat base portion on or within the insulating sheet, and a helical portion extending away from the flat base portion and the insulating sheet. This helical portion is adapted to be connected to one of the electrical conductors of a circuit member.

【0012】本発明の第2の側面によれば、第1及び第
2の回路メンバと、上記メンバ上の導体を電気的に相互
接続する相互接続子を含む電気的アセンブリが提供され
る。この相互接続子は前述された機構を有する。
In accordance with a second aspect of the present invention, there is provided an electrical assembly including first and second circuit members and an interconnect for electrically interconnecting conductors on said members. This interconnect has the mechanism described above.

【0013】本発明の第3の側面によれば、前述の電気
的アセンブリを含む情報処理システムが提供される。
According to a third aspect of the present invention, there is provided an information processing system including the above-described electrical assembly.

【0014】[0014]

【実施例】図6を参照すると、本発明の実施例による電
気的相互接続子15が示されている。相互接続子15
は、本明細書では、第1及び第2の電気回路メンバを電
気的に相互接続するように特に設計され、コンピュータ
業界において強く要望されるような、こうした回路メン
バ間の高密度な相互接続を提供する。本発明により相互
接続される適切な回路メンバの例として、プリント回路
基板、電子回路モジュールなどが含まれる。このような
基板、モジュールなどを、コンピュータ内でプロセッサ
・ケージ(cage)構造の一部として使用することはよく
知られている。本明細書において使用される用語"プリ
ント回路基板"は、1つ以上の導電層(例えば信号、パ
ワー及びグランド)を含む多層回路構造を含んで意味す
る。こうしたプリント回路基板は、しばしば"プリント
配線基板"とも称される。本明細書において使用される
用語"回路モジュール"は、それらの構成要素である種々
の電気的要素(例えば半導体チップ、導電性回路、導電
性ピンなど)を有する基板或いは同様なメンバなどを含
んでいることを意味する。こうしたモジュールの例が、
米国特許第4688151号及び第4912772号に
述べられており、図7に表されている(後述)。こうし
たモジュールに関するこれ以上の説明は必要ないものと
思われるため、ここでは省略する。
Referring to FIG. 6, there is shown an electrical interconnect 15 according to an embodiment of the present invention. Interconnector 15
Is specifically designed herein to electrically interconnect the first and second electrical circuit members, providing a high density interconnection between such circuit members as is strongly desired in the computer industry. provide. Examples of suitable circuit members interconnected according to the present invention include printed circuit boards, electronic circuit modules, and the like. It is well known to use such boards, modules, etc. as part of a processor cage structure in a computer. As used herein, the term "printed circuit board" is meant to include a multilayer circuit structure that includes one or more conductive layers (eg, signal, power, and ground). Such printed circuit boards are often referred to as "printed wiring boards". As used herein, the term "circuit module" includes a substrate or similar members having various electrical components (eg, semiconductor chips, conductive circuits, conductive pins, and the like) that are components thereof. Means that Examples of such modules are
These are described in U.S. Pat. Nos. 4,688,151 and 4,912,772 and are shown in FIG. 7 (described below). No further explanation of these modules is deemed necessary and will be omitted here.

【0015】相互接続子15は本明細書において示され
るように、いくつかの有利な機構を有する。特に、本発
明は、接続される回路メンバのそれぞれの導体に対し、
均一な接触力を提供することが可能である。本発明はま
た、近接する導電要素間の最小インダクタンス及び最小
キャパシタンスを保証することにより(こうした要素の
大規模な配列が使用される場合)、高速な電気的構造に
適応できる。従って、本発明の相互接続子は、多くのコ
ンピュータ・システムにおいて本質的な最小の信号劣化
を保証する。更に、本発明の相互接続子は、比較的低コ
ストで生成可能であり、比較的単純な方式で操作され
る。更に、本明細書において示される相互接続は、隣接
する回路メンバ間、或いはそれ上の導体間の非平面性を
容易に克服することが可能であり、全ての操作条件にお
いて、こうしたメンバ間の効果的な接続を保証する。ま
た別に示されるように、本発明の一実施例では、こうし
た接続を害する可能性がある破片或いは他の物質を除去
することにより、それぞれの導体に対する効果的な接続
を提供する。
The interconnect 15 has several advantageous features, as shown herein. In particular, the present invention provides for each conductor of a circuit member to be connected,
It is possible to provide a uniform contact force. The present invention is also adaptable to high speed electrical structures by ensuring a minimum inductance and a minimum capacitance between adjacent conductive elements (when a large arrangement of such elements is used). Thus, the interconnect of the present invention guarantees essentially minimal signal degradation in many computer systems. Further, the interconnects of the present invention can be produced at relatively low cost and operate in a relatively simple manner. Further, the interconnects shown herein can easily overcome non-planarities between adjacent circuit members or between conductors thereon, and the effect between such members under all operating conditions. Secure connection. As further shown, one embodiment of the present invention provides for an effective connection to each conductor by removing debris or other materials that may impair such connections.

【0016】図6に示されるように、相互接続子15
は、第1及び第2の電気回路メンバ19及び21(図
7)間に配置される絶縁シート17を含む。図7におい
て、メンバ19はモジュールとして表され、その下面2
7に沿って複数の導体25を有する基板23を含む。各
導体は比較的平坦な構造を有する金属パッド(例えば
銅)が好適であるが、従来より知られている他の構造で
も良い。腐食を回避し、また本発明における高信頼性の
接続を提供するために、導体(25)をニッケル及び金
でオーバープレートすることが望ましい。回路メンバ1
9はまた、複数の半導体チップ29(図7では1個だけ
が示されている)を含み、これは基板23内の内部回路
(図示せず)を通じて導体25に電気的に接続される。
追加のカバー31などが、基板の上面33に提供され
る。回路メンバ19に対応する典型的な基板材料はセラ
ミックであるが、他の材料ももちろん使用可能である。
As shown in FIG.
Includes an insulating sheet 17 disposed between the first and second electrical circuit members 19 and 21 (FIG. 7). In FIG. 7, the member 19 is represented as a module and its lower surface 2
7 includes a substrate 23 having a plurality of conductors 25. Each conductor is preferably a metal pad (for example, copper) having a relatively flat structure, but may be another structure known in the art. It is desirable to overplate conductor (25) with nickel and gold to avoid corrosion and provide a reliable connection in the present invention. Circuit member 1
9 also includes a plurality of semiconductor chips 29 (only one is shown in FIG. 7), which is electrically connected to conductors 25 through internal circuits (not shown) in substrate 23.
An additional cover 31 or the like is provided on the upper surface 33 of the substrate. A typical substrate material corresponding to circuit member 19 is ceramic, but other materials can of course be used.

【0017】図7において、下方に位置する回路メンバ
21はプリント回路基板として示されており、これは周
知の材料(例えば強化ファイバグラス・エポキシ樹脂)
で構成され、上述のように複数の導電プレーン(例えば
信号、パワー或いはグランド)を内部に含んだりする基
板部分35を含む。回路基板の上面には、複数の電気導
体37が配置され、これらは種々の内部プレーンにおい
て受諾可能な手段(例えば導電性バイアまたはめっきス
ルーホール)を通じて電気的に接続される。導体37
(例えば銅)は導体25と類似であり、好適には上述の
理由によりニッケル及び金がオーバープレートされる。
In FIG. 7, the underlying circuit member 21 is shown as a printed circuit board, which is a known material (eg, reinforced fiberglass epoxy resin).
And includes a substrate portion 35 that contains a plurality of conductive planes (eg, signal, power, or ground) therein as described above. A plurality of electrical conductors 37 are disposed on the top surface of the circuit board and are electrically connected in various internal planes through acceptable means (eg, conductive vias or plated through holes). Conductor 37
(Eg, copper) is similar to conductor 25 and is preferably overplated with nickel and gold for the reasons described above.

【0018】図6及び図7を比較すると、絶縁シート1
7は回路メンバ19と21の間に所定の配列で配置され
る。こうした配列は複数の配列ピン41(図7では1本
のみ示される)を使用して達成され、各ピンは回路メン
バ21及び19内に配置されるそれぞれのアパーチャ4
3及び45に適合される。絶縁シート17の配列は、絶
縁体内に開口47を提供し、ピン41の1つをそれに貫
通することにより達成される。本発明の実施例では、合
計2個のピン41が使用され、各々は全体的に矩形形状
の構造のそれぞれ対角コーナに配置される。しかしなが
ら、これは本発明を制限するものではなく、更に追加の
ピンを使用することも可能である。
6 and 7 show that the insulating sheet 1
7 are arranged in a predetermined arrangement between the circuit members 19 and 21. Such an arrangement is achieved using a plurality of arrangement pins 41 (only one is shown in FIG. 7), with each pin having a respective aperture 4 located in circuit members 21 and 19.
3 and 45. The arrangement of the insulation sheet 17 is achieved by providing an opening 47 in the insulation and passing one of the pins 41 therethrough. In an embodiment of the present invention, a total of two pins 41 are used, each located at a respective diagonal corner of a generally rectangular structure. However, this is not a limitation of the present invention, and additional pins may be used.

【0019】図6において、絶縁シート17は上下層5
1及び53を含むように示されている。各層は好適には
ポリマ材料により構成され、こうした材料はポリイミド
であり、相互接続15の電気的導電部分を表す中間電気
的導電要素55の外部表面上にラミネートされる。各ポ
リイミド層51及び53は、好適には約0.001イン
チ(0.025mm)乃至約0.003インチ(0.0
75mm)の厚みを有する。図6ではこうした導電要素
が1つだけしか示されてないが、本発明を使用する最終
アセンブリにおける操作要求に依存して、いくつかのこ
うした要素が使用可能なことが理解されよう。一例で
は、合計625のこうした要素55が使用される。
In FIG. 6, the insulating sheet 17 includes upper and lower layers 5.
1 and 53 are shown. Each layer is preferably comprised of a polymeric material, such as polyimide, which is laminated on the outer surface of the intermediate electrically conductive element 55 representing the electrically conductive portion of the interconnect 15. Each polyimide layer 51 and 53 is preferably between about 0.001 inch (0.025 mm) to about 0.003 inch (0.025 mm).
75 mm). Although only one such conductive element is shown in FIG. 6, it will be appreciated that several such elements may be used depending on the operational requirements in the final assembly using the present invention. In one example, a total of 625 such elements 55 are used.

【0020】導電要素55は比較的平坦なベース部分5
9を含み、これは図6に示されるように、外側を囲む層
51と53の間に配置される。これとは別に、比較的平
坦なベース部分59を含むこの導体が、ポリイミドなど
の単一の絶縁層の外部に配置され、本発明のこの部分が
2重層構造により構成されることも、本発明の範中に含
まれる。更に、導体要素55は、平坦なベース部分59
から遠ざかる方向に伸びる少なくとも1個の弾力性のら
せん部分61を含む。図6の実施例では、2個のらせん
部分が示され、各々は比較的平坦なベース部分55であ
る中央部分から反対の方向(上方及び下方)に伸びる。
各らせん部分は理解されるように、それぞれの電気導体
25或いは37を接続するように設計される。図6の実
施例では、上方に伸びるらせん部分61は、メンバ19
上の導体25を接続するように設計され、一方、下方に
伸びるらせん部分61は、下方の回路メンバ21上の導
体37を接続するように設計される。このように、相互
接続子15は、第1の導体25と、関連する第2の導体
37との間の電気的な接続を提供する。
The conductive element 55 has a relatively flat base portion 5
9 which is located between the outer surrounding layers 51 and 53, as shown in FIG. Alternatively, the conductor, including the relatively flat base portion 59, may be located outside of a single insulating layer, such as polyimide, and the portion of the present invention may comprise a double layer structure. Included in the scope of. In addition, the conductor element 55 has a flat base portion 59
And at least one elastic helical portion 61 extending away from the helical portion. In the embodiment of FIG. 6, two helical portions are shown, each extending in opposite directions (up and down) from a central portion that is a relatively flat base portion 55.
Each helical portion is designed to connect a respective electrical conductor 25 or 37, as will be appreciated. In the embodiment of FIG. 6, the spiral portion 61 extending upward has the member 19
The spiral portion 61 extending downward is designed to connect the upper conductor 25, while the spiral portion 61 extending downward is designed to connect the conductor 37 on the lower circuit member 21. Thus, the interconnect 15 provides an electrical connection between the first conductor 25 and the associated second conductor 37.

【0021】2つの反対方向を向くらせん部分61が図
6に示されているが、別の実施例もまた本発明の範中に
含まれることが理解されよう。例えば、本明細書におい
て示されるように、単一のらせん部分を使用して、他の
導体に接続する別の手段を提供することも可能である。
こうした実施例が図9及び図11に示されており、以降
で詳しく説明される。また、相互接続子の一方の側に2
個のらせん部分を提供し、2重の接続を保証することも
可能である。こうした機構は特に意味深く、また要望さ
れるものと思われる。
Although two oppositely oriented helix portions 61 are shown in FIG. 6, it will be appreciated that alternative embodiments are also within the scope of the present invention. For example, as shown herein, a single helix may be used to provide another means of connecting to other conductors.
Such an embodiment is shown in FIGS. 9 and 11 and will be described in detail hereinafter. Also, one side of the interconnect
It is also possible to provide two helical parts and to guarantee a double connection. Such a mechanism would be particularly meaningful and desirable.

【0022】図1乃至図5において、本発明の実施例に
よる相互接続子15を生成する様々な工程が示される。
図1では、平坦な導電材料の単一のシート71が提供さ
れる。本発明の導電要素を実際に形成するこのシートの
好適な導電材料として、ベリリウム銅がある。他の金属
材料についても受諾可能であり、例えば燐青銅が含まれ
る。一例では、約0.005インチ(0.125mm)
厚を有するシート71が使用され、そのサイズは約1.
5インチ平方である。合計625個の導電要素がこのサ
イズのシート内に形成可能であり、これは本発明が極め
て高密度を達成可能なことを示している。
Referring to FIGS. 1-5, various steps for creating an interconnect 15 according to an embodiment of the present invention are shown.
In FIG. 1, a single sheet 71 of flat conductive material is provided. A preferred conductive material for this sheet that actually forms the conductive elements of the present invention is beryllium copper. Other metallic materials are acceptable and include, for example, phosphor bronze. In one example, about 0.005 inches (0.125 mm)
A thick sheet 71 is used, the size of which is about 1.
5 inches square. A total of 625 conductive elements can be formed in a sheet of this size, indicating that the invention can achieve extremely high densities.

【0023】所定形状のらせん部分73及び矩形"パッ
ド"77(各々が1要素に関連する)が、図1におい
て、好適にはエッチング処理などを使用して形成され
る。こうした処理は周知であるため、ここではこれ以上
の説明は省略する。形成される各々の曲線要素が、図6
に示される本発明のそれぞれの導電要素55の伸長する
らせん部分を構成することは理解されよう。更に、開口
75が図示のように好適には提供され、配列ピン41
(図7)を受入れるように適合される。図1に示される
曲線要素及びパッドのエッチングを可能とするために必
要なパターンは、多くのプリント回路基板の製造オペレ
ーションにおいて使用される周知の写真印刷工程により
提供される。従って、これに関する説明はここでは省略
する。
A helical portion 73 and a rectangular "pad" 77 (each associated with an element) of a predetermined shape are formed in FIG. 1, preferably using an etching process or the like. Since such processing is well known, further description is omitted here. Each of the formed curve elements is shown in FIG.
It is to be understood that this constitutes an extending helical portion of each conductive element 55 of the present invention shown in FIG. Further, openings 75 are preferably provided as shown, and the alignment pins 41 are provided.
(FIG. 7). The patterns required to allow etching of the curved elements and pads shown in FIG. 1 are provided by well-known photographic printing processes used in many printed circuit board manufacturing operations. Therefore, the description of this is omitted here.

【0024】図2は形成されるらせん部分73及びパッ
ド77を示す。各らせん部分73は矩形パッド77の内
部に形成され、各パッド77はシート71の隣接するパ
ッド或いは周囲の境界(周辺)部分79に、接続タブ8
1を通じて接続される。各パッド77はその4辺の各々
が、これらのタブの1つにより接続される。本発明の一
例では、各タブは僅か約0.005インチ(0.125
mm)乃至0.010インチ(0.25mm)の幅を有
する。エッチングがシート71からの材料除去の好適な
手段として示されたが、レーザ除去及びスタンピングな
どの別の手段についても本発明の範中に含まれる。
FIG. 2 shows the spiral portion 73 and the pad 77 to be formed. Each helical portion 73 is formed inside a rectangular pad 77, and each pad 77 is connected to an adjacent pad or peripheral boundary (peripheral) portion 79 of the sheet 71 by a connection tab 8
1 are connected. Each pad 77 is connected on each of its four sides by one of these tabs. In one example of the invention, each tab measures only about 0.005 inches (0.125 inches).
mm) to 0.010 inches (0.25 mm). Although etching has been shown as a preferred means of material removal from sheet 71, other means, such as laser removal and stamping, are within the scope of the invention.

【0025】図3に示されるように、図2と同じ構成の
シート71は、その両面に、絶縁材料51及び53(上
述)層が覆われる。好適にはこの絶縁材料はラミネーシ
ョン技術を使用して付加され、いくつかのこうした方法
が知られており、ここではこれに関する説明は省略す
る。ウィンドウ91が1つの要素73に関連する各層内
に提供される。このウィンドウは好適には矩形であり、
矩形のパッド部分77の対応する幅よりも僅かに小さ
い。この僅かなオーバーラップが図6の断面図に示され
る。各層51及び53は、図6に関連して上述された厚
みを有する。各ウィンドウ91は好適には正方形であ
り、その辺寸法が各々約0.035インチ(0.875
mm)であり、一方、パッド77は0.045インチ平
方(1.14mm平方)の僅かに大きな寸法を有する。
2つの絶縁層と中間金属シート71を含む図3の構造の
全体的厚みは、約0.010インチ(0.25mm)で
ある。図3に示されるように複数のウインドウ91が行
列状に配列される。絶縁層に対しても図示のように前述
の開口47が設けられ、これらはシート71内のそれぞ
れの開口75と位置整合される。
As shown in FIG. 3, the sheet 71 having the same configuration as that of FIG. 2 is covered on both sides with insulating materials 51 and 53 (described above). Preferably, the insulating material is applied using lamination techniques, and several such methods are known and need not be described herein. A window 91 is provided in each layer associated with one element 73. This window is preferably rectangular,
It is slightly smaller than the corresponding width of the rectangular pad portion 77. This slight overlap is shown in the cross-sectional view of FIG. Each layer 51 and 53 has the thickness described above in connection with FIG. Each window 91 is preferably square and has a side dimension of about 0.035 inch (0.875 inch) each.
mm), while pad 77 has a slightly larger dimension of 0.045 inch square (1.14 mm square).
The overall thickness of the structure of FIG. 3 including the two insulating layers and the intermediate metal sheet 71 is about 0.010 inches (0.25 mm). As shown in FIG.
They are arranged in rows. The openings 47 are also provided for the insulating layer as shown, and these are aligned with the respective openings 75 in the sheet 71.

【0026】本発明の実施例によれば、本発明の次の製
造工程において、らせん部分73の曲線の終端部分に複
数の樹枝状の要素93が提供される。図4の実施例で
は、これらの要素93はこれらの曲線終端部の一方にの
み示されており、遠景図では上方に向けて突出してい
る。この特定のセグメントが、図6に示されるように、
下側にも反対に突出する導電要素を形成する場合、近接
する曲線終端部分に対しても、同様にこうした樹枝状の
要素が提供される。樹枝状要素の形成はカナダ特許第1
121011号に示されており、本発明においても参照
される。しかしながら、これは本発明を制限するもので
はなく、こうした要素に適合する他の技術についても使
用可能である。本特許で述べられるように、これらの要
素は好適には、パラジウム、プラチナ、ロジウム、ルテ
ニウム、オスミウム、イリジウム、及びタングステンを
含むグループから選択される導電材料により構成され
る。こうした要素は金属(ベリリウム銅)基板上に成長
され、その周囲には層51及び53を形成するポリイミ
ド絶縁材料が配置される。こうした成長が上記層に悪影
響を及ぼすことはない。樹枝状要素の使用は、前述の特
許において記載されるこれらの要素に関するいくつかの
利点に関連して、本発明の重要な側面を構成する。例え
ば、こうした要素は、接続されるそれぞれの表面から破
片除去をする上で有効である。上述のように、本発明の
導電要素は、平坦な表面(例えば銅パッド)を接続可能
であり、また本明細書で述べられる樹枝状或いは類似の
要素を有する導体を接続することもできる。どちらの場
合にも、樹枝状の要素93は確実で効果的な接続を提供
する。更に重要なことは、こうした接続は、本発明の導
電要素のらせん部分の形状、及びその接続時の圧縮性に
より、その接続が非ワイピング形式により実現される。
樹枝状の要素93はまた、図8乃至図11にも示されて
いる。本発明の一例では、合計約1000の樹枝状要素
93が、各曲線終端部分に形成される。
According to an embodiment of the present invention, a plurality of dendritic elements 93 are provided at the end of the curve of the spiral portion 73 in the next manufacturing step of the present invention. In the embodiment of FIG. 4, these elements 93 are only shown at one of the ends of the curve, and project upward in the perspective view. This particular segment, as shown in FIG.
In the case of forming a conductive element projecting in the opposite direction also on the lower side, such a dendritic element is likewise provided for the adjacent curved end portion. Dendritic Element Formation Canadian Patent No. 1
No. 121011, which is also referred to in the present invention. However, this is not a limitation of the present invention, and other techniques adapted to these factors can be used. As noted in this patent, these elements are preferably comprised of a conductive material selected from the group comprising palladium, platinum, rhodium, ruthenium, osmium, iridium, and tungsten. These elements are grown on a metal (beryllium copper) substrate, around which the polyimide insulating material forming layers 51 and 53 is placed. Such growth does not adversely affect the layer. The use of dendritic elements constitutes an important aspect of the present invention in connection with some of the advantages associated with these elements described in the aforementioned patents. For example, such elements are effective in removing debris from each connected surface. As mentioned above, the conductive elements of the present invention can connect flat surfaces (eg, copper pads), and can also connect conductors having dendritic or similar elements as described herein. In either case, the dendritic element 93 provides a secure and effective connection. More importantly, such a connection is achieved in a non-wiping manner due to the shape of the helical portion of the conductive element of the present invention and the compressibility of the connection.
Dendritic element 93 is also shown in FIGS. In one example of the invention, a total of about 1000 dendritic elements 93 are formed at each end of the curve.

【0027】図5では、矩形形状のセグメント77が、
隣接するセグメント及び中間シート71の境界(周辺)
部分79から電気的に孤立される。これはパンチング或
いはレーザ除去により達成され、アパーチャ95がコン
ポジット構造内に形成される。各アパーチャは、このコ
ンポジット構造の厚み全体を通じて広がる。このパンチ
ング或いは類似の除去オペレーションは、接続タブ81
の分離を生じさせ、それにより以前に形成されたパッド
部分を孤立させて、最終的に識別される導電要素55を
形成する。この工程はらせん伸長工程に先行するが、そ
の構成が図6において断面図で示されている。
In FIG. 5, a rectangular segment 77 is
Boundary (periphery) of adjacent segment and intermediate sheet 71
It is electrically isolated from the portion 79. This is accomplished by punching or laser ablation, and an aperture 95 is formed in the composite structure. Each aperture extends through the entire thickness of the composite structure. This punching or similar removal operation is performed by connecting tab 81
, Thereby isolating previously formed pad portions to form the ultimately identified conductive element 55. This step precedes the helical elongation step, the configuration of which is shown in cross-section in FIG.

【0028】本発明の次の工程では、本発明のらせん部
分が所定距離だけ外に向けて伸長される。こうした伸長
は好適にはダイス形成オペレーションにより達成され、
各々のらせん部分は所望の寸法に形成される。実施例で
は、各ヘリカル部分は、近接する絶縁層のそれぞれの外
部表面から約0.020インチ(0.5mm)の距離
(寸法"D")まで伸ばされる。しかしながら、これは本
発明を制限するものではなく、本発明を使用する構造の
対応する寸法制限に依存して、他の寸法にも伸長され
る。
In the next step of the invention, the helical portion of the invention is extended outward by a predetermined distance. Such elongation is preferably achieved by a die forming operation,
Each helical portion is formed to the desired dimensions. In an embodiment, each helical portion extends a distance (dimension "D") of about 0.020 inches (0.5 mm) from a respective outer surface of the adjacent insulating layer. However, this is not a limitation of the present invention, and may be extended to other dimensions, depending on the corresponding dimensional limitations of the structure using the present invention.

【0029】上述の厚み及び距離の相互接続子は、各ら
せん部分からの接触圧がおおよそ最小50グラムであ
る。
The above thickness and distance interconnects have a minimum contact pressure of approximately 50 grams from each helix.

【0030】樹枝状要素93の形成以前に、ベリリウム
銅の外部表面に、ニッケル層をめっきし、その後に貴金
属(金など)の超薄膜コーティングを提供することが好
ましい。この場合、ニッケルは拡散バリアとして機能す
る。示された樹枝状要素が、次にこの金属基板状に形成
される(例えば成長される)。本発明の一例では、約6
0ミクロン乃至80ミクロンの厚みを有するニッケル層
と、約50ミクロン乃至100ミクロンの厚みを有する
金の層が形成される。これら追加のめっき工程は、好適
にはポリイミド絶縁層のラミネーション以前に行われる
べきであるが、後に実施されて、示されたウィンドウ9
1内だけをめっきし、それにより材料及びコストを節約
することも可能である。
Prior to formation of dendritic element 93, it is preferred to plating the outer surface of beryllium copper with a layer of nickel, followed by providing an ultra-thin coating of a noble metal (such as gold). In this case, nickel functions as a diffusion barrier. The indicated dendritic element is then formed (eg, grown) on the metal substrate. In one example of the present invention, about 6
A nickel layer having a thickness of 0 to 80 microns and a gold layer having a thickness of about 50 to 100 microns are formed. These additional plating steps should preferably be performed prior to lamination of the polyimide insulation layer, but will be performed later and the window 9 shown
It is also possible to plate only one, thereby saving material and cost.

【0031】図8乃至図11は本発明の別の実施例を示
す。
FIGS. 8 to 11 show another embodiment of the present invention.

【0032】図8では、相互接続子15は2重のらせん
部分61を含むが、これら部分の各々は導電要素のベー
ス部分59から、単一の共通方向(図8の下方)に向け
て伸長されている。これは単に、示される両方のらせん
部分を、例えば図5の実施例では、下方に押し下げるこ
とにより達成される。この構造の利点は、接続されるそ
れぞれの導体37との2重の接続を保証する。これらの
らせん部分の各終端部分には、好適には前述された樹枝
状要素93が含まれる。図8にはまた、ベース部分59
と導体25との間の電気的接続を提供する手段97が存
在する。図8の実施例では、この手段は好適には、ベー
ス部分59の反対面上に形成される複数の樹枝状要素9
3'により構成され、この樹枝状要素93'は要素93と
類似の方法により形成される。こうした樹枝状要素9
3' は、要素93と同時に形成することが可能である。
樹枝状要素93' は、回路メンバ19と21を引付け、
それにより相互接続子15を圧縮する間に、導体25に
接続される。回路メンバのこうした圧縮は、様々な従来
的手段(例えば、外部クランプ構造)を用いて実施され
るが、ここでは触れないことにする。
In FIG. 8, the interconnect 15 includes double helical portions 61, each of which extends from the base portion 59 of the conductive element in a single common direction (downward in FIG. 8). Have been. This is achieved simply by pushing down both helical parts shown, for example in the embodiment of FIG. 5, downwards. The advantage of this structure guarantees a double connection with each conductor 37 to be connected. Each end of these helical portions preferably includes the dendritic element 93 described above. FIG. 8 also shows a base portion 59.
There is a means 97 for providing an electrical connection between and the conductor 25 . In the embodiment of FIG. 8, this means preferably comprises a plurality of dendritic elements 9 formed on the opposite side of the base portion 59.
3 ', this dendritic element 93' is formed in a manner similar to element 93. These dendritic elements 9
3 'can be formed simultaneously with element 93.
Dendritic element 93 'attracts circuit members 19 and 21,
Thereby, it is connected to the conductor 25 while compressing the interconnector 15. Such compression of the circuit members is performed using various conventional means (eg, external clamping arrangements), but will not be described here.

【0033】図9では、相互接続子15は下方に突出す
る単一のらせん部分61を含み、前例においてもう一方
のらせん部分が形成された領域は、ベース部分59と同
一平面に維持される。別の表面領域には樹枝状要素9
3' が追加され、これは導体25との電気的接続手段を
形成する。
In FIG. 9, the interconnect 15 includes a single helical portion 61 projecting downward, and the area where the other helical portion was formed in the previous example is maintained flush with the base portion 59. Dendritic elements 9 in another surface area
3 'is added, which forms an electrical connection with the conductor 25.

【0034】図8及び図9から理解されるように、これ
らの図では、それぞれの導体25及び37との接続はま
だ発生していない。これはこうした接続が行われる以前
における、本発明の種々のパーツの状態を観察する目的
で、このように表している。接続の際には、本発明のら
せん部分が所定の距離だけ圧縮され、それにより効果的
な接続が生成される。本発明の一例では、本発明のらせ
ん部分の各々が、図6に示される初期の高さ(寸法"
D")から約0.020インチ(0.5mm)圧縮され
る。
As can be seen from FIGS. 8 and 9, in these figures the connection with the respective conductors 25 and 37 has not yet occurred. This is so indicated for the purpose of observing the state of the various parts of the invention before such a connection is made. Upon connection, the helical portion of the present invention is compressed by a predetermined distance, thereby creating an effective connection. In one example of the present invention, each of the helical portions of the present invention has an initial height (dimensions) shown in FIG.
D ") from about 0.020 inch (0.5 mm).

【0035】図10では、相互接続子15は、図8の場
合と同様の2重のらせん部分61を含む。相互接続子の
ベース部分59と近接する導体25との間の電気的接続
を提供するために、手段97は好適にはある量のはんだ
99を含む。本発明の実施例では、はんだ99はすず対
鉛の比が63:37である。すなわち、すずがはんだ混
合の63%を占め、残りの37%を鉛が占める。他のは
んだももちろん使用可能であり、例えば、すず対鉛の比
が90:10、すなわちすずが90%を占め、残りの1
0%を鉛が占めるはんだなども使用可能である。これは
本発明の導体要素と、接続されるそれぞれの導体との間
の固定タイプの接続を提供する。
In FIG. 10, the interconnect 15 includes a double helical portion 61 as in FIG. Means 97 preferably includes an amount of solder 99 to provide an electrical connection between interconnect base portion 59 and adjacent conductor 25. In an embodiment of the present invention, the solder 99 has a tin to lead ratio of 63:37. That is, tin accounts for 63% of the solder mix, and lead accounts for the remaining 37%. Other solders can, of course, be used, for example, with a tin to lead ratio of 90:10, ie, tin accounts for 90% and the remaining 1%.
Solder or the like in which lead accounts for 0% can also be used. This provides a fixed type connection between the conductor element of the invention and the respective conductor to be connected.

【0036】図11に表される本発明の実施例は、はん
だ材料99を除いては図9の場合と類似であり、更に図
10の実施例にも類似する。これは導体25と導電要素
55との間の、比較的固定的な接続を形成するときに使
用される。図9の実施例で示された単一のらせん部分を
使用することにより、はんだを受けるより広い表面領域
が確保される。
The embodiment of the present invention shown in FIG. 11 is similar to that of FIG. 9 except for the solder material 99, and is also similar to the embodiment of FIG. This is used to form a relatively fixed connection between the conductor 25 and the conductive element 55. The use of a single helix as shown in the embodiment of FIG. 9 ensures a larger surface area for receiving solder.

【0037】[0037]

【発明の効果】相互接続子を2つの回路メンバ間に配置
するように設計することにより、1対の回路メンバを相
互接続する電気的相互接続子が提供される。重要な点
は、本発明により、非平面的なそれぞれの回路メンバ或
いはそれら上に配置される導体間の、効果的な接続が保
証されることである。上述されたように、本発明は生成
が簡単であり、比較的操作が簡単である。本発明はそれ
ぞれの導体対間の電気的接続を提供するための手段とし
て述べられてきたが、熱伝導(例えばモジュール間の熱
伝導)用の金属導体として使用することも可能である。
従って、本明細書において示された相互接続構造と、複
数のこうした熱伝導メンバとを組合わせて使用すること
により、結合構造内の指定ロケーションにおける熱的パ
ス及び電気的パスの両方を保証することが可能となる。
By designing the interconnect to be located between two circuit members, an electrical interconnect for interconnecting a pair of circuit members is provided. It is important to note that the invention ensures an effective connection between the non-planar respective circuit members or the conductors arranged thereon. As mentioned above, the present invention is simple to generate and relatively easy to operate. Although the invention has been described as a means for providing electrical connection between each pair of conductors, it can also be used as a metal conductor for thermal conduction (eg, thermal conduction between modules).
Thus, the use of the interconnect structure shown herein in combination with a plurality of such heat conducting members ensures both thermal and electrical paths at designated locations within the coupling structure. Becomes possible.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施例により相互接続子を生成する様
々な工程を表す図である。
FIG. 1 illustrates various steps of creating an interconnect according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施例により相互接続子を生成する様
々な工程を表す図である。
FIG. 2 illustrates various steps of creating an interconnect according to an embodiment of the present invention.

【図3】本発明の実施例により相互接続子を生成する様
々な工程を表す図である。
FIG. 3 illustrates various steps of creating an interconnect according to an embodiment of the present invention.

【図4】本発明の実施例により相互接続子を生成する様
々な工程を表す図である。
FIG. 4 illustrates various steps of creating an interconnect according to an embodiment of the present invention.

【図5】本発明の実施例により相互接続子を生成する様
々な工程を表す図である。
FIG. 5 illustrates various steps of creating an interconnect according to an embodiment of the present invention.

【図6】本発明の相互接続子の実施例を表す、図5の一
部の断面を拡大して示した側面図である。
FIG. 6 is an enlarged side view showing a cross section of a part of FIG. 5, showing an embodiment of the interconnector of the present invention.

【図7】1対の電気回路メンバ間に配置され、それぞれ
の電気導体対間の電気的接続を提供する、本発明の相互
接続子の部分的側面図を表す図である。
FIG. 7 illustrates a partial side view of an interconnect of the present invention disposed between a pair of electrical circuit members and providing electrical connection between respective pairs of electrical conductors.

【図8】本発明の様々な相互接続子の実施例を表す、図
7の一部の断面を拡大して示した側面図である。
FIG. 8 is an enlarged side view of a portion of FIG. 7 showing various interconnect embodiments of the present invention.

【図9】本発明の様々な相互接続子の実施例を表す、図
7の一部の断面を拡大して示した側面図である。
FIG. 9 is an enlarged side view of a portion of FIG. 7 showing various interconnect embodiments of the present invention.

【図10】本発明の様々な相互接続子の実施例を表す、
図7の一部の断面を拡大して示した側面図である。
FIG. 10 illustrates various interconnect embodiments of the present invention.
It is the side view which expanded and showed the one part cross section of FIG.

【図11】本発明の様々な相互接続子の実施例を表す、
図7の一部の断面を拡大して示した側面図である。
FIG. 11 illustrates various interconnect embodiments of the present invention.
It is the side view which expanded and showed the one part cross section of FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

15 相互接続子 17 絶縁シート 19、21 電気回路メンバ 29 半導体チップ 35 基板部分 37 電気導体 41 配列ピン 43、45、95 アパーチャ 47、75 開口 55 中間電気的導電要素 59 ベース部分 61 らせん部分 81 接続タグ 91 ウィンドウ 93 樹枝状要素 99 はんだ材料 DESCRIPTION OF SYMBOLS 15 Interconnector 17 Insulation sheet 19, 21 Electric circuit member 29 Semiconductor chip 35 Substrate part 37 Electric conductor 41 Arrangement pin 43, 45, 95 Aperture 47, 75 Opening 55 Intermediate electric conductive element 59 Base part 61 Spiral part 81 Connection tag 91 Window 93 Dendritic element 99 Solder material

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 フレサー・パトリック・ドンラン、ジュ ニア アメリカ合衆国13760、ニューヨーク州 エンディコット、モンロー・ストリート 1900 (72)発明者 ジェームズ・ラルフ・ペトロゼロ アメリカ合衆国13760、ニューヨーク州 エンディコット、ヒル・アベニュー 925 (56)参考文献 特開 平4−341772(JP,A) 特開 平4−262373(JP,A) 実開 平1−89487(JP,U) 実開 平1−64863(JP,U) ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (72) Inventor Fresa Patrick Donlan, Jr. 13760 in the United States of America, Endicott, NY, Monroe Street 1900 (72) Inventor James Ralph Petrozero United States of America 13760, Endicott, NY, Hill Avenue 925 (56) References JP-A-4-341772 (JP, A) JP-A-4-262373 (JP, A) JP-A-1-89487 (JP, U) JP-A-1-64863 (JP) , U)

Claims (10)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】第1の電気回路メンバ上の電気導体を第2
の電気回路メンバ上の電気導体に電気的に相互接続する
相互接続子であって、 前記第1及び第2の電気回路メンバ間に配置されるよう
に適合される絶縁シートであって、一辺が0.875m
m以下の方形のウインドウ91が行列状に複数個配列さ
れたものと、 前記絶縁シートの前記ウインドウの各々に配置された電
気的導電要素であって、各々が前記ウインドウ内にあり
互いに同一平面にある比較的平坦なベース部分と、前記
平坦なベース部分及び前記絶縁シートから遠ざかる方向
に伸びて、前記電気回路メンバの一方上の電気導体を非
ワイピング形式で接続する弾力性のらせん部分とを含む
電気的導電要素と、 を含む相互接続子。
An electric conductor on a first electric circuit member is connected to a second electric circuit member.
An interconnect that is electrically interconnected to an electrical conductor on an electrical circuit member of claim 1, wherein the insulating sheet is adapted to be disposed between the first and second electrical circuit members, wherein one side has 0.875m
m and a plurality of rectangular windows 91 arranged in rows and columns, and electrically conductive elements arranged in each of the windows of the insulating sheet, each being within the window and being flush with each other. A relatively flat base portion and a resilient helical portion extending away from the flat base portion and the insulating sheet to connect an electrical conductor on one of the electrical circuit members in a non-wiping manner. An electrically conductive element, and an interconnect comprising:
【請求項2】前記らせん部分上に配置されて、前記電気
導体に接続される複数の樹枝状の要素を含む、請求項1
記載の相互接続子。
2. The method according to claim 1, further comprising a plurality of dendritic elements disposed on said helical portion and connected to said electrical conductor.
The described interconnector.
【請求項3】前記樹枝状の要素が、パラジウム、プラチ
ナ、ロジウム、ルテニウム、オスミウム、イリジウム、
及びタングステンを含むグループから選択される材料に
より構成される、請求項2記載の相互接続子。
3. The method according to claim 2, wherein the dendritic elements are palladium, platinum, rhodium, ruthenium, osmium, iridium,
3. The interconnect of claim 2, wherein the interconnect is comprised of a material selected from the group comprising: and tungsten.
【請求項4】前記絶縁シートがポリイミドから構成され
る、請求項1記載の相互接続子。
4. The interconnect of claim 1 wherein said insulating sheet is comprised of polyimide.
【請求項5】前記電気的導電要素がベリリウム銅であ
る、請求項1記載の相互接続子。
5. The interconnect of claim 1, wherein said electrically conductive element is beryllium copper.
【請求項6】前記絶縁シートが、前記電気的導電要素の
前記ベース部分を上下から挟む第1及び第2のシートか
ら成る、請求項1記載の相互接続子。
6. An interconnect according to claim 1, wherein said insulating sheet comprises first and second sheets sandwiching said base portion of said electrically conductive element from above and below.
【請求項7】前記電気的導電要素の前記比較的平坦なベ
ース部分上に配置されて、前記第2の電気回路メンバ上
の電気導体を電気的に接触させる手段を含む、請求項1
記載の相互接続子。
7. The apparatus of claim 1, further comprising means disposed on said relatively flat base portion of said electrically conductive element for electrically contacting electrical conductors on said second electrical circuit member.
The described interconnector.
【請求項8】前記電気的導電要素が、前記ベース部分か
ら前記第1のらせん部分と反対方向に伸びて、前記第2
の電気回路メンバの電気導体を接続する第2の弾力性の
らせん部分を含む、請求項1記載の相互接続子。
8. The second electrically conductive element extends from the base portion in a direction opposite to the first helical portion, the second helical portion being connected to the second helical portion.
2. The interconnect of claim 1 including a second resilient helical portion connecting the electrical conductors of the electrical circuit members of the first and second electrical circuits.
【請求項9】前記電気的導電要素が、前記ベース部分か
ら前記第1のらせん部分と同一方向に伸びて、前記第1
のらせん部分と共に前記電気回路メンバの前記導体との
2重の接触手段を提供する第2の弾力性のらせん部分を
含む、請求項1記載の相互接続子。
9. The first helical portion extends from the base portion in the same direction as the first helical portion.
2. The interconnect of claim 1 including a second resilient helical portion that provides double contact with the conductor of the electrical circuit member with the helical portion of the electrical circuit member.
【請求項10】少なくとも1つの電気導体を含む第1の
電気回路メンバと、 少なくとも1つの電気導体を含む第2の電気回路メンバ
と、 前記第1の電気回路メンバ上の前記電気導体を、前記第
2の電気回路メンバ上の前記電気導体に電気的に相互接
続する相互接続子とを含む電気的アセンブリであって、
前記相互接続子が、 前記第1及び第2の電気回路メンバ間に配置されるよう
に適合される絶縁シートであって、一辺が0.875m
m以下の方形のウインドウ91が複数個行列状に配列さ
れたものと、 前記絶縁シート内または上に配置される比較的平坦なベ
ース部分と、前記平坦なベース部分及び前記絶縁シート
から遠ざかる方向に伸びて、前記電気回路メンバの一方
上の電気導体を非ワイピング形式で接続する弾力性のら
せん部分と、を含む少なくとも1つの電気的導電要素
と、 を含むアセンブリ。
10. A first electrical circuit member including at least one electrical conductor, a second electrical circuit member including at least one electrical conductor, and the electrical conductor on the first electrical circuit member, An electrical interconnect that electrically interconnects with the electrical conductor on the second electrical circuit member, the electrical assembly comprising:
An insulation sheet adapted to be disposed between the first and second electrical circuit members, the side being 0.875 m
m, a plurality of rectangular windows 91 having a width of not more than m, a relatively flat base portion disposed in or on the insulating sheet, and a direction away from the flat base portion and the insulating sheet. An elastic helical portion extending to connect an electrical conductor on one of the electrical circuit members in a non-wiping manner.
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