JP2610865B2 - 原子吸光分析装置 - Google Patents
原子吸光分析装置Info
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- JP2610865B2 JP2610865B2 JP62071096A JP7109687A JP2610865B2 JP 2610865 B2 JP2610865 B2 JP 2610865B2 JP 62071096 A JP62071096 A JP 62071096A JP 7109687 A JP7109687 A JP 7109687A JP 2610865 B2 JP2610865 B2 JP 2610865B2
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- light source
- atomization
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Description
【発明の詳細な説明】 （１）産業上の利用分野 この発明は，大気汚染・水質汚濁などの環境分析，医
薬品・食品中の重金属の分析，金属材料分析，生体中の
微量金属の分析などに利用される原子吸光分析装置に関
するもので，とくに原子吸光分析におけるバックグラン
ド吸収の補正をより適確に行なうためのものである。
薬品・食品中の重金属の分析，金属材料分析，生体中の
微量金属の分析などに利用される原子吸光分析装置に関
するもので，とくに原子吸光分析におけるバックグラン
ド吸収の補正をより適確に行なうためのものである。
（２）従来の技術 原子吸光分析では，第４図に示すように原子吸収を測
定するための輝線スペクトルをもつ主光源HCL（普通ホ
ロカソードランプ）の外に，系全体のバックグランド吸
収をみるために連続スペクトルをもつ補正用光源D2（普
通重水素ランプ）を設け，両光源の光をハーフミラーな
どの光合成器Ｍを介して同一光路上に導いて試料原子化
部Ａに投射し，各光源の光の吸収の差を計測することに
よって，バックグランド吸収を補正することが行われ
る。
定するための輝線スペクトルをもつ主光源HCL（普通ホ
ロカソードランプ）の外に，系全体のバックグランド吸
収をみるために連続スペクトルをもつ補正用光源D2（普
通重水素ランプ）を設け，両光源の光をハーフミラーな
どの光合成器Ｍを介して同一光路上に導いて試料原子化
部Ａに投射し，各光源の光の吸収の差を計測することに
よって，バックグランド吸収を補正することが行われ
る。
即ち，両光源の点灯周期を互に逆相的にしておき，出
力側でこれを同期弁別して差引くことによりバックグラ
ンドを補正するもので，このための光合成器としては，
下記公報に示されるように各種のハーフミラーないしセ
クタミラー方式のものが知られている。
力側でこれを同期弁別して差引くことによりバックグラ
ンドを補正するもので，このための光合成器としては，
下記公報に示されるように各種のハーフミラーないしセ
クタミラー方式のものが知られている。
特許出願公開 昭54-43792号 〃 昭55-58419号 〃 昭55-58439号 実用新案出願公開 昭53-70279号 （３）発明が解決しようとする問題点 一般に各光源の発光特性に違いがあるため，試料原子
化部例えばフレーム原子吸光分析では原子化炎部での各
光束に垂直な断面における光の強度分布は，第５図に示
すようにそれぞれ曲線の形が同一でない。第５図におい
てＸ軸は光束断面上の位置をＹ軸は光の強度を示し，D2
は重水素ランプ,HCLはホロカソードランプのそれぞれ光
の強度分布曲線を示す。
化部例えばフレーム原子吸光分析では原子化炎部での各
光束に垂直な断面における光の強度分布は，第５図に示
すようにそれぞれ曲線の形が同一でない。第５図におい
てＸ軸は光束断面上の位置をＹ軸は光の強度を示し，D2
は重水素ランプ,HCLはホロカソードランプのそれぞれ光
の強度分布曲線を示す。
このように両光源の光強度分布に違いがあるため，こ
の部分でのバックグランド吸収が不均一であれば，両光
束に対する吸収の度合いが異なることになり，両光路の
吸光度出力の差をとってもこの違いは相殺されない。
の部分でのバックグランド吸収が不均一であれば，両光
束に対する吸収の度合いが異なることになり，両光路の
吸光度出力の差をとってもこの違いは相殺されない。
また，両光源の光束断面における光の強度分布曲線の
ピークの位置をできるだけ一致させないと前記バックグ
ランド吸収の不一致が大きくなる。（第５図は両者のピ
ーク位置を完全に一致させた状態を示す。）このため
に，ハーフミラーＭ等の光合成器への両光源の入射光軸
を点Ｐの位置に正確に一致させる必要があり，そのため
には各光源の位置を精密に微調整しなければならない。
しかしながら，この位置調整はきわめて精密微細な操作
が必要であり，多くの手間と時間を要するなど装置の生
産性向上を阻害する要因となっている。
ピークの位置をできるだけ一致させないと前記バックグ
ランド吸収の不一致が大きくなる。（第５図は両者のピ
ーク位置を完全に一致させた状態を示す。）このため
に，ハーフミラーＭ等の光合成器への両光源の入射光軸
を点Ｐの位置に正確に一致させる必要があり，そのため
には各光源の位置を精密に微調整しなければならない。
しかしながら，この位置調整はきわめて精密微細な操作
が必要であり，多くの手間と時間を要するなど装置の生
産性向上を阻害する要因となっている。
以上のように各光源の光束に垂直な断面における光強
度分布のピーク位置を一致させるための操作が煩雑であ
ること，この光強度分布曲線の不同にもとづくバックグ
ランド吸収の違いを補正できないことが，高精度の分析
を行なう上で問題となる。
度分布のピーク位置を一致させるための操作が煩雑であ
ること，この光強度分布曲線の不同にもとづくバックグ
ランド吸収の違いを補正できないことが，高精度の分析
を行なう上で問題となる。
（４）問題点を解決するための手段 この発明は前述の問題点を解決するために，各光源の
光合成手段（ビームコンバイナー機構）に，積分球また
はオプチカルファイバー群など両光源からの光を一旦散
乱させて合成する手段を提供するものである。これによ
り原子化部への入射光路上では，その光束断面上におけ
る強度分布が平均化されるためバックグランド吸収の前
記光源のロカリティによる不均一性がなくなり，高精度
のバックグランド補正が可能となる。
光合成手段（ビームコンバイナー機構）に，積分球また
はオプチカルファイバー群など両光源からの光を一旦散
乱させて合成する手段を提供するものである。これによ
り原子化部への入射光路上では，その光束断面上におけ
る強度分布が平均化されるためバックグランド吸収の前
記光源のロカリティによる不均一性がなくなり，高精度
のバックグランド補正が可能となる。
（５）実施例 第１図はビームコンバイナーとして積分球方式の光合
成手段を用いる実施例で，D2は重水素ランプ,HCLはホロ
カソードランプ，（１）は積分球で，入射孔（２）
（３）から入った光は球の内面で散乱混合されて出射孔
（４）から原子化部（５）への入射光路（６′）上に投
射される。各光源HCL・D2は第３図に示すようにランプ
駆動回路（６）によってそれぞれ一定の周波数をもって
逆相的に点灯制御される。試料原子化部（５）はフレー
ム原子吸光分析では炎光バーナー部，フレームレス原子
吸光の場合はグラファイト炉などで構成される。（７）
は分光器，（８）は検出器，（９）は光源の点灯周期と
同期して信号出力を切換える同期切換器，（10）（11）
は吸光度変換器で，（10）はHCL側光束に対応するも
の，（11）はD2側光束に対応するものである。（12）は
両吸光度信号の引算回路，（13）は出力表示部である。
成手段を用いる実施例で，D2は重水素ランプ,HCLはホロ
カソードランプ，（１）は積分球で，入射孔（２）
（３）から入った光は球の内面で散乱混合されて出射孔
（４）から原子化部（５）への入射光路（６′）上に投
射される。各光源HCL・D2は第３図に示すようにランプ
駆動回路（６）によってそれぞれ一定の周波数をもって
逆相的に点灯制御される。試料原子化部（５）はフレー
ム原子吸光分析では炎光バーナー部，フレームレス原子
吸光の場合はグラファイト炉などで構成される。（７）
は分光器，（８）は検出器，（９）は光源の点灯周期と
同期して信号出力を切換える同期切換器，（10）（11）
は吸光度変換器で，（10）はHCL側光束に対応するも
の，（11）はD2側光束に対応するものである。（12）は
両吸光度信号の引算回路，（13）は出力表示部である。
以上のように構成することにより,HCL,D2両光源の光
は積分球内で散乱されて出射孔（４）から射出するの
で，光源から発射されたとき，その発光位置による強度
のバラツキがあったとしても，光路（６）′上ではその
光束に垂直な断面上における光強度はほゞ均整化され，
原子化部で生ずる不均一なバックグランド吸収を正確に
補正することが可能となる。
は積分球内で散乱されて出射孔（４）から射出するの
で，光源から発射されたとき，その発光位置による強度
のバラツキがあったとしても，光路（６）′上ではその
光束に垂直な断面上における光強度はほゞ均整化され，
原子化部で生ずる不均一なバックグランド吸収を正確に
補正することが可能となる。
また積分球に入射するD2ランプおよびHCLランプの光
束は効率よく入射しさえすれば若干の入射軸ないし位置
のずれがあっても積分球内での散乱によってそのロカリ
ティのずれは完全に平準化され，出射孔（４）からは光
束断面内で均一な強度分布の投射光が得られる。従って
各光源位置の微細な調節も不要となる。
束は効率よく入射しさえすれば若干の入射軸ないし位置
のずれがあっても積分球内での散乱によってそのロカリ
ティのずれは完全に平準化され，出射孔（４）からは光
束断面内で均一な強度分布の投射光が得られる。従って
各光源位置の微細な調節も不要となる。
第２図はビームコンバイナーとしてオプチカルファイ
バー群（14）を用いる実施例で，一端入射面（15）での
各ファイバー素線の並び方と他端出射面（16）での素線
の並び方は，互に共軛的な位置関係にならないようラン
ダムに集約されている。これに図に示すようにD2ランプ
の光束とHCLランプの光束とを交互に同じ入射面に投射
すると各光はファイバー内で散乱しながら出射面に達す
るが、各ファイバーの入射面における位置関係と出射面
での位置関係は全くランダムに配置されているので，出
射側では前述と同様に光源のロカリテイの影響は均整化
され，出射光の光束断面での強度分布は均一な分布とな
る。
バー群（14）を用いる実施例で，一端入射面（15）での
各ファイバー素線の並び方と他端出射面（16）での素線
の並び方は，互に共軛的な位置関係にならないようラン
ダムに集約されている。これに図に示すようにD2ランプ
の光束とHCLランプの光束とを交互に同じ入射面に投射
すると各光はファイバー内で散乱しながら出射面に達す
るが、各ファイバーの入射面における位置関係と出射面
での位置関係は全くランダムに配置されているので，出
射側では前述と同様に光源のロカリテイの影響は均整化
され，出射光の光束断面での強度分布は均一な分布とな
る。
尚，図において他の符号は第１図と同一部分を示し，
原子化部以降の分光器，検出器，測光回路は第１図と同
様であるので省略した。
原子化部以降の分光器，検出器，測光回路は第１図と同
様であるので省略した。
（６）効果 この発明は，以上のようにバックグランド補正用連続
スペクトル光源と分析線測定用輝線スペクトル光源のそ
れぞれの光を，光路合成部の所で一旦散乱させたり，位
置的にランダムに集光して合成するようにしたので，各
光源の位置的な強度分布の違いは略完全に均整化され，
バックグランド吸収の補正をきわめて高精度に行なうこ
とができる。
スペクトル光源と分析線測定用輝線スペクトル光源のそ
れぞれの光を，光路合成部の所で一旦散乱させたり，位
置的にランダムに集光して合成するようにしたので，各
光源の位置的な強度分布の違いは略完全に均整化され，
バックグランド吸収の補正をきわめて高精度に行なうこ
とができる。
また，光源の微調整などのための手間と時間も節減で
きるので装置製造コストや分析操作のコストも低減でき
る。
きるので装置製造コストや分析操作のコストも低減でき
る。
第１図・第２図は本発明実施例の構成を示し，第３図は
両光源HCL・D2の点灯位相を説明したもので，第４図は
従来の光路合成手段の一例を示し第５図は従来の装置の
試料原子化部Ａにおける光束に垂直な断面での両光源の
光の強度分布を示したものである。 １……積分球、２・３……積分球の入射孔、４……積分
球の出射孔、５……原子化部、７……分光器、８……検
出器、10・11……吸光度変換器、12……引算回路、14…
…オプチカルファイバー群
両光源HCL・D2の点灯位相を説明したもので，第４図は
従来の光路合成手段の一例を示し第５図は従来の装置の
試料原子化部Ａにおける光束に垂直な断面での両光源の
光の強度分布を示したものである。 １……積分球、２・３……積分球の入射孔、４……積分
球の出射孔、５……原子化部、７……分光器、８……検
出器、10・11……吸光度変換器、12……引算回路、14…
…オプチカルファイバー群
Claims (1)
- 【請求項１】輝線スペクトル光を放射する光源と、 連続スペクトル光を放射する光源と、 両光源を時間的に異なる位相をもって点灯させる装置と
をそれぞれ備え、 さらに、前記両光源と前記原子化部との間に設けられ、 各光源からの光を下記（ａ）、（ｂ）の何れか一方の手
段を介して同一光路上に導き、原子化部へ投射すること
を特徴とする原子吸光分析装置。 （ａ）二ヶ所から採光し一ヶ所から出射させる積分球方
式の光合成手段。 （ｂ）入射面と出射面とが位置的に共軛関係をもたない
ようにランダムに集約した光ファイバ群からなる光合成
手段。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62071096A JP2610865B2 (ja) | 1987-03-25 | 1987-03-25 | 原子吸光分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62071096A JP2610865B2 (ja) | 1987-03-25 | 1987-03-25 | 原子吸光分析装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63236944A JPS63236944A (ja) | 1988-10-03 |
| JP2610865B2 true JP2610865B2 (ja) | 1997-05-14 |
Family
ID=13450663
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62071096A Expired - Lifetime JP2610865B2 (ja) | 1987-03-25 | 1987-03-25 | 原子吸光分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2610865B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6011592B2 (ja) * | 2014-10-16 | 2016-10-19 | セイコーエプソン株式会社 | 分光測定装置 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS526586A (en) * | 1975-07-04 | 1977-01-19 | Hitachi Ltd | Atom extinction analyzer |
| JPS5419357A (en) * | 1977-07-14 | 1979-02-14 | Nec Corp | Production of semiconductor device |
| DE3162122D1 (en) * | 1980-08-25 | 1984-03-08 | Gretag Ag | Illumination means for a photographic copying machine |
| JPS57153250A (en) * | 1981-03-18 | 1982-09-21 | Shimadzu Corp | Measuring apparatus of spectral transmissivity of polarizable sample |
| JPS60135028A (ja) * | 1983-12-26 | 1985-07-18 | 住友電気工業株式会社 | 光フアイバセンサ |
-
1987
- 1987-03-25 JP JP62071096A patent/JP2610865B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63236944A (ja) | 1988-10-03 |
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