JP2606662B2 - フォーカス位置検出装置 - Google Patents
フォーカス位置検出装置Info
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- JP2606662B2 JP2606662B2 JP5329142A JP32914293A JP2606662B2 JP 2606662 B2 JP2606662 B2 JP 2606662B2 JP 5329142 A JP5329142 A JP 5329142A JP 32914293 A JP32914293 A JP 32914293A JP 2606662 B2 JP2606662 B2 JP 2606662B2
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- Japan
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- objective lens
- laser
- light
- laser beam
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Lens Barrels (AREA)
- Automatic Focus Adjustment (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はフォーカス位置検出装置
に関し、特にパターン付き半導体ウエーハ等のフォーカ
スをかける対象面に傾きはないがサブミクロンオーダの
微小な段差があったり反射率に微細なむらがある対象面
に対して対物レンズのフォーカス位置を高速で検出する
フォーカス位置検出装置に関する。
に関し、特にパターン付き半導体ウエーハ等のフォーカ
スをかける対象面に傾きはないがサブミクロンオーダの
微小な段差があったり反射率に微細なむらがある対象面
に対して対物レンズのフォーカス位置を高速で検出する
フォーカス位置検出装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】この種のフォーカス位置検出の従来の技
術としては、株式会社トリケップス、昭和６１年１１月
２８日発行の最新光学ヘッドの設計と組立・評価技術の
２３頁に示されるようなビーム偏心法がある。
術としては、株式会社トリケップス、昭和６１年１１月
２８日発行の最新光学ヘッドの設計と組立・評価技術の
２３頁に示されるようなビーム偏心法がある。
【０００３】図３は、従来のビーム偏心法によるフォー
カス位置検出装置の構成図である。図３に示すフォーカ
ス位置検出装置は、対象面１４を観察する顕微鏡の対物
レンズ２と、対物レンズ２にフォーカス検出用のレーザ
光１０を対物レンズ２の光軸と平行にかつ対物レンズ２
の中心軸からやや外して入射するレーザ発振器１と、対
物レンズ２に入射し対象面１４で反射され再度対物レン
ズ２を通ったレーザ光１０が入射する半導体位置検出素
子（以下ＰＳＤという）４と、ＰＳＤ４の信号をＰＳＤ
４上にあたるレーザ光の光強度重み付き重心位置の出力
に変換するＰＳＤアンプ６とで構成される。
カス位置検出装置の構成図である。図３に示すフォーカ
ス位置検出装置は、対象面１４を観察する顕微鏡の対物
レンズ２と、対物レンズ２にフォーカス検出用のレーザ
光１０を対物レンズ２の光軸と平行にかつ対物レンズ２
の中心軸からやや外して入射するレーザ発振器１と、対
物レンズ２に入射し対象面１４で反射され再度対物レン
ズ２を通ったレーザ光１０が入射する半導体位置検出素
子（以下ＰＳＤという）４と、ＰＳＤ４の信号をＰＳＤ
４上にあたるレーザ光の光強度重み付き重心位置の出力
に変換するＰＳＤアンプ６とで構成される。
【０００４】レーザ発振器１から出射されたレーザ光１
０は、対物レンズ２に対物レンズ２の中心軸からやや外
れて入射し、対物レンズ２を通って対象面１４にあた
る。対象面１１が面１１，１２，１３に示すように変化
すると対物レンズ２と対象面１４の距離により、対象面
１４により反射されたレーザ光は対物レンズ２に入射す
る位置が変わり、対物レンズ２から出たレーザ光の傾き
が変わり、これによってＰＳＤ４にあたるレーザ光の位
置が変わる。これからＰＳＤ４の出力を見ることによっ
て対物レンズ２と対象面１４の相対位置、すなわち対物
レンズ２のフォーカス位置が対象面１４に対しどこにあ
るかが分かることになる。
０は、対物レンズ２に対物レンズ２の中心軸からやや外
れて入射し、対物レンズ２を通って対象面１４にあた
る。対象面１１が面１１，１２，１３に示すように変化
すると対物レンズ２と対象面１４の距離により、対象面
１４により反射されたレーザ光は対物レンズ２に入射す
る位置が変わり、対物レンズ２から出たレーザ光の傾き
が変わり、これによってＰＳＤ４にあたるレーザ光の位
置が変わる。これからＰＳＤ４の出力を見ることによっ
て対物レンズ２と対象面１４の相対位置、すなわち対物
レンズ２のフォーカス位置が対象面１４に対しどこにあ
るかが分かることになる。
【０００５】図２はＰＳＤ４によるフォーカス位置検出
原理を示す説明図である。図２（ｂ）のようにフォーカ
ス面１２で反射されたレーザ光は入射光と対物レンズ２
の中心光軸に関し対称となるため、再度対物レンズ２を
通ったレーザ光は入射光とほぼ平行になる。図２（ａ）
のようにフォーカス位置より対物レンズ２に近い面１１
で反射されたレーザ光は再度対物レンズ２を通ると、対
物レンズ２の中心光軸に関し光軸が拡散方向となる。図
２（ｃ）のようにフォーカス位置より対物レンズ２から
遠い面１３で反射されたレーザ光は再度対物レンズ２を
通ると、対物レンズ２の中心光軸に関し光軸が収束方向
となる。従って対物レンズ２からの出射光の角度変化が
ＰＳＤ４の検出範囲を越えない程度に対物レンズ２から
離した位置にＰＳＤ４をおき、ＰＳＤ４にレーザ光があ
たる位置で対象面１４の位置のフォーカス面からのズレ
量を検出する。
原理を示す説明図である。図２（ｂ）のようにフォーカ
ス面１２で反射されたレーザ光は入射光と対物レンズ２
の中心光軸に関し対称となるため、再度対物レンズ２を
通ったレーザ光は入射光とほぼ平行になる。図２（ａ）
のようにフォーカス位置より対物レンズ２に近い面１１
で反射されたレーザ光は再度対物レンズ２を通ると、対
物レンズ２の中心光軸に関し光軸が拡散方向となる。図
２（ｃ）のようにフォーカス位置より対物レンズ２から
遠い面１３で反射されたレーザ光は再度対物レンズ２を
通ると、対物レンズ２の中心光軸に関し光軸が収束方向
となる。従って対物レンズ２からの出射光の角度変化が
ＰＳＤ４の検出範囲を越えない程度に対物レンズ２から
離した位置にＰＳＤ４をおき、ＰＳＤ４にレーザ光があ
たる位置で対象面１４の位置のフォーカス面からのズレ
量を検出する。
【０００６】ここで、ＰＳＤ４にあたるレーザ光は集光
されているとは限らず、対物レンズ２とウェーハ表面９
との距離によって径が変化する。ＰＳＤ４は表面にあた
っているレーザ光の光強度を重みとした重心を出力する
ため、フォーカスが大きくずれてレーザビーム径がＰＳ
Ｄ４の受光面に対し大きすぎなければ、あたっているレ
ーザ光の重心位置を検出する。従ってＰＳＤ４にあたる
レーザ光が多少ぼけても正確に対物レンズ２のフォーカ
ス位置とのズレ量を検出できる。
されているとは限らず、対物レンズ２とウェーハ表面９
との距離によって径が変化する。ＰＳＤ４は表面にあた
っているレーザ光の光強度を重みとした重心を出力する
ため、フォーカスが大きくずれてレーザビーム径がＰＳ
Ｄ４の受光面に対し大きすぎなければ、あたっているレ
ーザ光の重心位置を検出する。従ってＰＳＤ４にあたる
レーザ光が多少ぼけても正確に対物レンズ２のフォーカ
ス位置とのズレ量を検出できる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来のフォー
カス位置検出装置は、パターン付き半導体ウエーハ等の
フォーカスをかける対象面に傾きはないがサブミクロン
オーダの微小な段差があったり反射率に微細なむらがあ
る場合、対象面で反射されたレーザ光の光量分布は、全
体的にはフラットな対象面の場合の反射光と変わらない
ものの微視的には光量分布に乱れを生ずる。フラットな
対象面での反射光の場合のガウシアン分布から崩れ、微
細パターンの回折や反射率のむらにより光軸中心に関し
て対称でなくなり重心位置がずれ、結果的に対物レンズ
の正確なフォーカス位置が検出できなくなるという欠点
があった。
カス位置検出装置は、パターン付き半導体ウエーハ等の
フォーカスをかける対象面に傾きはないがサブミクロン
オーダの微小な段差があったり反射率に微細なむらがあ
る場合、対象面で反射されたレーザ光の光量分布は、全
体的にはフラットな対象面の場合の反射光と変わらない
ものの微視的には光量分布に乱れを生ずる。フラットな
対象面での反射光の場合のガウシアン分布から崩れ、微
細パターンの回折や反射率のむらにより光軸中心に関し
て対称でなくなり重心位置がずれ、結果的に対物レンズ
の正確なフォーカス位置が検出できなくなるという欠点
があった。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明のフォーカス位置
検出装置は、対象面を観察する顕微鏡の対物レンズと、
前記対物レンズにフォーカス検出用のレーザ光を前記対
物レンズの光軸と平行にかつ前記対物レンズの中心軸か
らやや外して入射するレーザ発振器と、前記対物レンズ
に入射し対象面で反射され再度前記対物レンズを通った
レーザ光を分割するビームスプリッタと、前記ビームス
プリッタで分割されたレーザ光の一方が入射する光位置
検出素子と、前記ビームスプリッタで分割されたレーザ
光のもう一方が入射する撮像カメラと、前記光位置検出
素子の信号を前記光位置検出素子上にあたるレーザ光の
光強度重み付き重心位置の出力に変換する光位置検出素
子アンプと、前記撮像カメラからの映像信号より前記撮
像カメラ上のレーザ光の光強度重み付き重心位置および
一定の光量レベルで２値化した場合のレーザ光を受ける
範囲の面積重心位置を出力する画像処理装置と、前記光
位置検出素子アンプの出力から検出した前記対象面に対
する前記対物レンズのフォーカス位置を前記画像処理装
置が出力するレーザ光の光強度重み付き重心位置と面積
重心位置との差で補正する補正装置とを含んで構成され
る。
検出装置は、対象面を観察する顕微鏡の対物レンズと、
前記対物レンズにフォーカス検出用のレーザ光を前記対
物レンズの光軸と平行にかつ前記対物レンズの中心軸か
らやや外して入射するレーザ発振器と、前記対物レンズ
に入射し対象面で反射され再度前記対物レンズを通った
レーザ光を分割するビームスプリッタと、前記ビームス
プリッタで分割されたレーザ光の一方が入射する光位置
検出素子と、前記ビームスプリッタで分割されたレーザ
光のもう一方が入射する撮像カメラと、前記光位置検出
素子の信号を前記光位置検出素子上にあたるレーザ光の
光強度重み付き重心位置の出力に変換する光位置検出素
子アンプと、前記撮像カメラからの映像信号より前記撮
像カメラ上のレーザ光の光強度重み付き重心位置および
一定の光量レベルで２値化した場合のレーザ光を受ける
範囲の面積重心位置を出力する画像処理装置と、前記光
位置検出素子アンプの出力から検出した前記対象面に対
する前記対物レンズのフォーカス位置を前記画像処理装
置が出力するレーザ光の光強度重み付き重心位置と面積
重心位置との差で補正する補正装置とを含んで構成され
る。
【０００９】
【実施例】次に、本発明について図面を参照して詳細に
説明する。
説明する。
【００１０】図１は、本発明の一実施例を示す構成図で
ある。図１に示すフォーカス位置検出装置は、パターン
付き半導体ウエーハ表面９を観察する顕微鏡の対物レン
ズ２と、対物レンズ２にフォーカス検出用のレーザ光１
０を対物レンズ２の光軸と平行にかつ対物レンズ２の中
心軸からやや外して入射するレーザ発振器１と、対物レ
ンズ２に入射し半導体ウエーハ表面９で反射され再度対
物レンズ２を通ったレーザ光を分割するビームスプリッ
タ３と、ビームスプリッタ３で分割されたレーザ光の一
方が入射するＰＳＤ４と、ビームスプリッタ３で分割さ
れたレーザ光のもう一方が入射する二次元電荷結合素子
（以下ＣＣＤカメラという）５と、ＰＳＤ４の信号をＰ
ＳＤ４上にあたるレーザ光の光強度重み付き重心位置の
出力に変換するＰＳＤアンプ６と、ＣＣＤカメラ５から
の映像信号よりＣＣＤカメラ５上にあたるレーザ光の光
強度重み付き重心位置、およびレーザ光以外の外乱を完
全にカットする必要最小限の光量レベルで２値化したと
きの受光部分の面積重心位置を出力する画像処理装置７
と、ＰＳＤアンプ６の出力から対物レンズ２の観察対象
の半導体ウエーハ表面９に対するフォーカス位置を検出
し、この状態で画像処理装置７より光強度重み付き重心
と面積重心の位置を受け取りその差から半導体ウエーハ
のパターンにより乱れたレーザ光の光量分布によるズレ
を補正して正しい対物レンズ２のフォーカス位置を検出
する補正装置８とを含んで構成される。
ある。図１に示すフォーカス位置検出装置は、パターン
付き半導体ウエーハ表面９を観察する顕微鏡の対物レン
ズ２と、対物レンズ２にフォーカス検出用のレーザ光１
０を対物レンズ２の光軸と平行にかつ対物レンズ２の中
心軸からやや外して入射するレーザ発振器１と、対物レ
ンズ２に入射し半導体ウエーハ表面９で反射され再度対
物レンズ２を通ったレーザ光を分割するビームスプリッ
タ３と、ビームスプリッタ３で分割されたレーザ光の一
方が入射するＰＳＤ４と、ビームスプリッタ３で分割さ
れたレーザ光のもう一方が入射する二次元電荷結合素子
（以下ＣＣＤカメラという）５と、ＰＳＤ４の信号をＰ
ＳＤ４上にあたるレーザ光の光強度重み付き重心位置の
出力に変換するＰＳＤアンプ６と、ＣＣＤカメラ５から
の映像信号よりＣＣＤカメラ５上にあたるレーザ光の光
強度重み付き重心位置、およびレーザ光以外の外乱を完
全にカットする必要最小限の光量レベルで２値化したと
きの受光部分の面積重心位置を出力する画像処理装置７
と、ＰＳＤアンプ６の出力から対物レンズ２の観察対象
の半導体ウエーハ表面９に対するフォーカス位置を検出
し、この状態で画像処理装置７より光強度重み付き重心
と面積重心の位置を受け取りその差から半導体ウエーハ
のパターンにより乱れたレーザ光の光量分布によるズレ
を補正して正しい対物レンズ２のフォーカス位置を検出
する補正装置８とを含んで構成される。
【００１１】レーザ発振器１から出射されたレーザ光１
０は、対物レンズ２に対物レンズ２の中心軸からやや外
れて入射し対物レンズ２を通ってパターン付き半導体ウ
エーハ表面９にあたる。ウエーハ表面９の位置が面１
１，１２，１３のように変化すると対物レンズ２とウエ
ーハ表面９の距離により、ウエーハ表面９により反射さ
れたレーザ光は対物レンズ２に入射する位置が変わり、
対物レンズ２からでたレーザ光の傾きが変わり、これに
よってＰＳＤ４にあたるレーザ光の位置が変わる。これ
からＰＳＤ４の出力を見ることによって対物レンズ２と
対象面であるウエーハ表面９の相対位置、すなわち対物
レンズ２のフォーカス位置が対象面に対しどこにあるか
が分かることになる。
０は、対物レンズ２に対物レンズ２の中心軸からやや外
れて入射し対物レンズ２を通ってパターン付き半導体ウ
エーハ表面９にあたる。ウエーハ表面９の位置が面１
１，１２，１３のように変化すると対物レンズ２とウエ
ーハ表面９の距離により、ウエーハ表面９により反射さ
れたレーザ光は対物レンズ２に入射する位置が変わり、
対物レンズ２からでたレーザ光の傾きが変わり、これに
よってＰＳＤ４にあたるレーザ光の位置が変わる。これ
からＰＳＤ４の出力を見ることによって対物レンズ２と
対象面であるウエーハ表面９の相対位置、すなわち対物
レンズ２のフォーカス位置が対象面に対しどこにあるか
が分かることになる。
【００１２】ここで、ＰＳＤ４にあたるレーザ光は集光
されているとは限らず、対物レンズ２とウエーハ表面９
との距離によって径が変化する。ＰＳＤ４は表面にあた
っているレーザ光の光強度を重みとした重心を出力する
ため、フォーカスが大きくずれてレーザビーム径がＰＳ
Ｄ４の受光面に対し大きすぎなければ、あたっているレ
ーザ光の重心位置を検出する。従ってＰＳＤ４にあたる
レーザ光が多少ぼけても正確に対物レンズ２のフォーカ
ス位置とウエーハ表面９のズレ量を検出できる。
されているとは限らず、対物レンズ２とウエーハ表面９
との距離によって径が変化する。ＰＳＤ４は表面にあた
っているレーザ光の光強度を重みとした重心を出力する
ため、フォーカスが大きくずれてレーザビーム径がＰＳ
Ｄ４の受光面に対し大きすぎなければ、あたっているレ
ーザ光の重心位置を検出する。従ってＰＳＤ４にあたる
レーザ光が多少ぼけても正確に対物レンズ２のフォーカ
ス位置とウエーハ表面９のズレ量を検出できる。
【００１３】パターン付き半導体ウエーハ等のフォーカ
スをかける対象面に傾きはないがサブミクロンオーダの
微小な段差があったり反射率に微細なむらがある対象面
の場合、対象面で反射されタレーザ光の光量分布は、全
体的にはフラットな対象面の場合の反射光と変わらない
ものの微視的には光量分布に乱れを生ずる。フラットな
対象面における反射光でのガウシアン分布から崩れ、光
軸中心軸に対して対称でなくなり重心位置がずれる。こ
の光量分布の乱れ分だけフォーカス位置の検出にズレを
生ずる。そこで、本実施例ではＰＳＤアンプ６の出力か
らウエーハ表面９に対する対物レンズ２のフォーカス位
置を検出し、この状態で画像処理装置７より光強度重み
付き重心と面積重心の位置を受け取り、その差からウエ
ーハ表面９のパターンにより乱れたレーザ光の光量分布
によりズレを補正してウエーハ表面９に対する正しい対
物レンズ２のフォーカス位置を検出する。
スをかける対象面に傾きはないがサブミクロンオーダの
微小な段差があったり反射率に微細なむらがある対象面
の場合、対象面で反射されタレーザ光の光量分布は、全
体的にはフラットな対象面の場合の反射光と変わらない
ものの微視的には光量分布に乱れを生ずる。フラットな
対象面における反射光でのガウシアン分布から崩れ、光
軸中心軸に対して対称でなくなり重心位置がずれる。こ
の光量分布の乱れ分だけフォーカス位置の検出にズレを
生ずる。そこで、本実施例ではＰＳＤアンプ６の出力か
らウエーハ表面９に対する対物レンズ２のフォーカス位
置を検出し、この状態で画像処理装置７より光強度重み
付き重心と面積重心の位置を受け取り、その差からウエ
ーハ表面９のパターンにより乱れたレーザ光の光量分布
によりズレを補正してウエーハ表面９に対する正しい対
物レンズ２のフォーカス位置を検出する。
【００１４】
【発明の効果】本発明のフォーカス位置検出装置は、レ
ーザビームを照射し反射点の位置ズレをＰＳＤを用いて
検出するフォーカス位置検出装置の他に、反射点の中心
と光強度で重み付けした重心位置のズレを検出し補正す
る補正装置を設けているため、測定対象面にパターンが
ある場合でも微細な段差や反射率のむらなどの影響によ
るズレを補正できるので、高精度のフォーカス位置の検
出ができるという効果がある。ＰＳＤで検出したフォー
カス位置の誤差を画像処理装置を用いて補正するのであ
るが、まず高速のＰＳＤを用いて検出し次に画像処理装
置を用いて補正することにより高速に高精度のフォーカ
ス位置を検出することができる。
ーザビームを照射し反射点の位置ズレをＰＳＤを用いて
検出するフォーカス位置検出装置の他に、反射点の中心
と光強度で重み付けした重心位置のズレを検出し補正す
る補正装置を設けているため、測定対象面にパターンが
ある場合でも微細な段差や反射率のむらなどの影響によ
るズレを補正できるので、高精度のフォーカス位置の検
出ができるという効果がある。ＰＳＤで検出したフォー
カス位置の誤差を画像処理装置を用いて補正するのであ
るが、まず高速のＰＳＤを用いて検出し次に画像処理装
置を用いて補正することにより高速に高精度のフォーカ
ス位置を検出することができる。
【図１】本発明の一実施例の構成図である。
【図２】図１に示すＰＳＤ４によるフォークス位置検出
原理を示す説明図である。
原理を示す説明図である。
【図３】従来のフォーカス位置検出装置の構成図であ
る。
る。
１ レーザ発振器 ２ 対物レンズ ３ ビームスプリッタ ４ ＰＳＤ（半導体位置検出素子） ５ ＣＣＤカメラ（二次元電荷結合素子） ６ ＰＳＤアンプ ７ 画像処理装置 ８ 補正装置 ９ ウエーハ表面 １０ レーザ光 １４ 対象面
Claims (2)
- 【請求項１】 対象面を観察する顕微鏡の対物レンズ
と、前記対物レンズにフォーカス検出用のレーザ光を前
記対物レンズの光軸と平行にかつ前記対物レンズの中心
軸からやや外して入射するレーザ発振器と、前記対物レ
ンズに入射し対象面で反射され再度前記対物レンズを通
ったレーザ光を分割するビームスプリッタと、前記ビー
ムスプリッタで分割されたレーザ光の一方が入射する光
位置検出素子と、前記ビームスプリッタで分割されたレ
ーザ光のもう一方が入射する撮像カメラと、前記光位置
検出素子の信号を前記光位置検出素子上にあたるレーザ
光の光強度重み付き重心位置の出力に変換する光位置検
出素子アンプと、前記撮像カメラからの映像信号より前
記撮像カメラ上のレーザ光の光強度重み付き重心位置お
よび一定の光量レベルで２値化した場合のレーザ光を受
ける範囲の面積重心位置を出力する画像処理装置と、前
記光位置検出素子アンプの出力から検出した前記対象面
に対する前記対物レンズのフォーカス位置を前記画像処
理装置が出力するレーザ光の光強度重み付き重心位置と
面積重心位置との差で補正する補正装置とを含むことを
特徴とするフォーカス位置検出装置。 - 【請求項２】 光位置検出素子が半導体位置検出素子で
あり、撮像カメラが二次元電荷結合素子である請求項１
記載のフォーカス位置検出装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5329142A JP2606662B2 (ja) | 1993-12-24 | 1993-12-24 | フォーカス位置検出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5329142A JP2606662B2 (ja) | 1993-12-24 | 1993-12-24 | フォーカス位置検出装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07183197A JPH07183197A (ja) | 1995-07-21 |
| JP2606662B2 true JP2606662B2 (ja) | 1997-05-07 |
Family
ID=18218111
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5329142A Expired - Fee Related JP2606662B2 (ja) | 1993-12-24 | 1993-12-24 | フォーカス位置検出装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2606662B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104197847A (zh) * | 2014-09-19 | 2014-12-10 | 孙维 | 一种传感器 |
| CN104977779B (zh) * | 2015-07-23 | 2017-10-20 | 中国科学院广州生物医药与健康研究院 | 一种自动对焦的装置及方法 |
| US10989528B2 (en) * | 2019-08-27 | 2021-04-27 | Raytheon Company | High speed beam component-resolved profile and position sensitive detector |
-
1993
- 1993-12-24 JP JP5329142A patent/JP2606662B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07183197A (ja) | 1995-07-21 |
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