JP3182746B2 - 位置検出装置 - Google Patents
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- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
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- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Photo Coupler, Interrupter, Optical-To-Optical Conversion Devices (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば半導体素子等を
製造するための露光装置のオートフォーカス機構又はレ
ベリング機構に適用して好適な位置検出装置に関する。
製造するための露光装置のオートフォーカス機構又はレ
ベリング機構に適用して好適な位置検出装置に関する。
【0002】
【従来の技術】レチクル上に形成された回路パターンを
投影光学系を介してウエハ上に転写する投影露光装置に
おいては、投影光学系の焦点深度が比較的浅いと共にウ
エハには部分的に凹凸が存在することがあるため、ウエ
ハの各ショット領域に対して投影光学系に対する焦点ず
れの補正をそれぞれ行う必要がある。その場合の投影光
学系の光軸方向の位置の検出装置として、従来は例えば
ウエハ等の被検面上に斜めにスリットの像を投影する斜
め入射型オートフォーカスセンサが使用されている(例
えば特開昭56−42205号公報参照)。この方式で
は、被検面が上下すると、そのスリットの被検面上での
位置が斜め入射光学系の光軸にほぼ垂直な方向にずれる
ので、このずれ量を測定することにより被検面の高さを
検出することができる。
投影光学系を介してウエハ上に転写する投影露光装置に
おいては、投影光学系の焦点深度が比較的浅いと共にウ
エハには部分的に凹凸が存在することがあるため、ウエ
ハの各ショット領域に対して投影光学系に対する焦点ず
れの補正をそれぞれ行う必要がある。その場合の投影光
学系の光軸方向の位置の検出装置として、従来は例えば
ウエハ等の被検面上に斜めにスリットの像を投影する斜
め入射型オートフォーカスセンサが使用されている(例
えば特開昭56−42205号公報参照)。この方式で
は、被検面が上下すると、そのスリットの被検面上での
位置が斜め入射光学系の光軸にほぼ垂直な方向にずれる
ので、このずれ量を測定することにより被検面の高さを
検出することができる。
【0003】しかしながら、このように被検面上にスリ
ットの像等を投影する方式では被検面上の或る1点の位
置しか検出することができないため、ウエハのショット
領域内に凹凸が存在するような場合に、そのショット領
域の例えば平均的な面を投影光学系の最良結像面(ベス
トフォーカス面)に合わせることができない。なお、投
影露光装置には、ウエハの各ショット領域に例えば平行
光束を照射して、反射光の方向によりそのショット領域
の傾きを検出するレベリング光学系も設けられている
が、そのショット領域に凹凸が存在する場合には、レベ
リング光学系でも正確にショット領域の平均的な面の傾
きを検出することができない虞がある。
ットの像等を投影する方式では被検面上の或る1点の位
置しか検出することができないため、ウエハのショット
領域内に凹凸が存在するような場合に、そのショット領
域の例えば平均的な面を投影光学系の最良結像面(ベス
トフォーカス面)に合わせることができない。なお、投
影露光装置には、ウエハの各ショット領域に例えば平行
光束を照射して、反射光の方向によりそのショット領域
の傾きを検出するレベリング光学系も設けられている
が、そのショット領域に凹凸が存在する場合には、レベ
リング光学系でも正確にショット領域の平均的な面の傾
きを検出することができない虞がある。
【0004】これに関して、本出願人は特願平3−31
1758号において、被検面上に2次元的なパターンを
投影することにより、比較的簡単な構成でその被検面の
所定範囲の高さの分布を検出できる位置検出装置を提案
した。図11はその特願平3−311758号で提案さ
れている位置検出装置が適用された縮小投影型露光装置
を示し、この図11において、1はウエハであり、ウエ
ハ1の露光面が被検面1aである。2はウエハホルダ
ー、3はウエハステージよりなる保持機構を示し、ウエ
ハ1をウエハホルダー2上に保持し、ウエハホルダー2
を保持機構3上に例えば3個の支持点で支持する。保持
機構3は、ウエハ1を2次元的に位置決めするXYステ
ージ、ウエハ1を投影光学系の光軸方向に位置決めする
Zステージ及びウエハ1を微小角度回転するθステージ
等より構成されている。
1758号において、被検面上に2次元的なパターンを
投影することにより、比較的簡単な構成でその被検面の
所定範囲の高さの分布を検出できる位置検出装置を提案
した。図11はその特願平3−311758号で提案さ
れている位置検出装置が適用された縮小投影型露光装置
を示し、この図11において、1はウエハであり、ウエ
ハ1の露光面が被検面1aである。2はウエハホルダ
ー、3はウエハステージよりなる保持機構を示し、ウエ
ハ1をウエハホルダー2上に保持し、ウエハホルダー2
を保持機構3上に例えば3個の支持点で支持する。保持
機構3は、ウエハ1を2次元的に位置決めするXYステ
ージ、ウエハ1を投影光学系の光軸方向に位置決めする
Zステージ及びウエハ1を微小角度回転するθステージ
等より構成されている。
【0005】4は保持機構3を駆動する駆動手段、5は
ウエハ1の上方に位置する投影光学系を示し、図示省略
した照明光学系からの露光光のもとで、投影光学系5は
図示省略したレチクルのパターンをウエハ1の露光面に
転写する。保持機構3を駆動手段4を介して駆動するこ
とにより、ウエハ1は投影光学系5の光軸AX1に垂直
な平面内での平行移動及び微小回転並びにその光軸AX
1に平行な方向(フォーカシング方向)への移動を行
う。更に、駆動手段4からの指令により保持機構3が、
例えば3個の支持点の内の2点を突没させることによ
り、ウエハ1のレベリングが行われる。
ウエハ1の上方に位置する投影光学系を示し、図示省略
した照明光学系からの露光光のもとで、投影光学系5は
図示省略したレチクルのパターンをウエハ1の露光面に
転写する。保持機構3を駆動手段4を介して駆動するこ
とにより、ウエハ1は投影光学系5の光軸AX1に垂直
な平面内での平行移動及び微小回転並びにその光軸AX
1に平行な方向(フォーカシング方向)への移動を行
う。更に、駆動手段4からの指令により保持機構3が、
例えば3個の支持点の内の2点を突没させることによ
り、ウエハ1のレベリングが行われる。
【0006】図11において、6は光源、7はコンデン
サーレンズ、8は反射型位相格子を示し、この反射型位
相格子8の格子形成面8aに図11の紙面に平行な方向
にピッチQ1で凹凸の位相格子を形成する。ウエハ1の
被検面1aがレジスト等の薄膜で覆われた場合の干渉の
影響を低減するためには、その光源6は白色光源である
ことが望ましい。ただし、その光源6としてレジストに
対する感光性の弱い波長帯の光を射出する発光ダイオー
ド等を使用してもよい。その光源6からの照明光束をコ
ンデンサーレンズ7を介して平行光束に近づけ、この略
々平行な光束で回折格子8の格子形成面8aを照明す
る。
サーレンズ、8は反射型位相格子を示し、この反射型位
相格子8の格子形成面8aに図11の紙面に平行な方向
にピッチQ1で凹凸の位相格子を形成する。ウエハ1の
被検面1aがレジスト等の薄膜で覆われた場合の干渉の
影響を低減するためには、その光源6は白色光源である
ことが望ましい。ただし、その光源6としてレジストに
対する感光性の弱い波長帯の光を射出する発光ダイオー
ド等を使用してもよい。その光源6からの照明光束をコ
ンデンサーレンズ7を介して平行光束に近づけ、この略
々平行な光束で回折格子8の格子形成面8aを照明す
る。
【0007】9は集光レンズ、10は投射用対物レンズ
を示し、これら集光レンズ9と投射用対物レンズ10と
により投射光学系を構成し、この投射光学系の光軸AX
2を投影光学系5の光軸AX1に対して角度θで交差さ
せる。そして、回折格子形成面8aからの平均的な反射
角γの反射光(回折光を含む)をその投射光学系により
ウエハ1の被検面1a上に集束する。この際、被検面1
aが投影光学系5の結像面に合致している状態で、その
被検面1aと回折格子形成面8aとはその投射光学系に
関してシャインプルーフの条件を満たすようにしてお
く。従って、その状態では被検面1aの全面に回折格子
形成面8aの格子パターンの像が正確に結像している。
を示し、これら集光レンズ9と投射用対物レンズ10と
により投射光学系を構成し、この投射光学系の光軸AX
2を投影光学系5の光軸AX1に対して角度θで交差さ
せる。そして、回折格子形成面8aからの平均的な反射
角γの反射光(回折光を含む)をその投射光学系により
ウエハ1の被検面1a上に集束する。この際、被検面1
aが投影光学系5の結像面に合致している状態で、その
被検面1aと回折格子形成面8aとはその投射光学系に
関してシャインプルーフの条件を満たすようにしてお
く。従って、その状態では被検面1aの全面に回折格子
形成面8aの格子パターンの像が正確に結像している。
【0008】また、集光レンズ9と投射用対物レンズ1
0とよりなる投射光学系は所謂両側テレセントリックな
光学系を構成し、回折格子形成面8a上の各点と被検面
1a上の共役点とは全面でそれぞれ同じ倍率である。従
って、図11の装置ではその回折格子形成面8aの格子
パターンは図11の紙面に垂直な方向を長手方向とする
等間隔の格子状にしてあるので、被検面1a上に投影さ
れる像も図11の紙面に垂直な方向を長手方向とする等
間隔の格子状のパターンとなる。
0とよりなる投射光学系は所謂両側テレセントリックな
光学系を構成し、回折格子形成面8a上の各点と被検面
1a上の共役点とは全面でそれぞれ同じ倍率である。従
って、図11の装置ではその回折格子形成面8aの格子
パターンは図11の紙面に垂直な方向を長手方向とする
等間隔の格子状にしてあるので、被検面1a上に投影さ
れる像も図11の紙面に垂直な方向を長手方向とする等
間隔の格子状のパターンとなる。
【0009】そして、受光用対物レンズ11と集光レン
ズ(結像レンズ)12とより集光光学系を構成し、この
集光光学系の受光対物レンズ11の光軸AX3は投影光
学系の光軸AX1に関して投射光学系の光軸AX2と線
対称になるようにする。13はアオリ補正用プリズムを
示し、被検面1aからの反射光を受光用対物レンズ1
1、平面鏡14A及び集光レンズ12を介してアオリ補
正用プリズム13のプリズム入射面13a上に集束す
る。
ズ(結像レンズ)12とより集光光学系を構成し、この
集光光学系の受光対物レンズ11の光軸AX3は投影光
学系の光軸AX1に関して投射光学系の光軸AX2と線
対称になるようにする。13はアオリ補正用プリズムを
示し、被検面1aからの反射光を受光用対物レンズ1
1、平面鏡14A及び集光レンズ12を介してアオリ補
正用プリズム13のプリズム入射面13a上に集束す
る。
【0010】この際、被検面1aが投影光学系5の結像
面に合致している状態で、被検面1aとプリズム入射面
13aとはその集光光学系に関してシャインプルーフの
条件を満たすようにしておく。従って、その状態ではプ
リズム入射面13aの全面に被検面1a上の格子パター
ンの像が正確に再結像する。また、受光用対物レンズ1
1と集光レンズ12とよりなる集光光学系も両側テレセ
ントリックな光学系を構成し、被検面1a上の各点とプ
リズム入射面13a上の共役点とは全面でそれぞれ同じ
倍率である。従って、被検面1aが投影光学系5の結像
面に合致している状態では、プリズム入射面13a上に
投影される像も図11の紙面に垂直な方向を長手方向と
する等間隔の格子状のパターンとなる。
面に合致している状態で、被検面1aとプリズム入射面
13aとはその集光光学系に関してシャインプルーフの
条件を満たすようにしておく。従って、その状態ではプ
リズム入射面13aの全面に被検面1a上の格子パター
ンの像が正確に再結像する。また、受光用対物レンズ1
1と集光レンズ12とよりなる集光光学系も両側テレセ
ントリックな光学系を構成し、被検面1a上の各点とプ
リズム入射面13a上の共役点とは全面でそれぞれ同じ
倍率である。従って、被検面1aが投影光学系5の結像
面に合致している状態では、プリズム入射面13a上に
投影される像も図11の紙面に垂直な方向を長手方向と
する等間隔の格子状のパターンとなる。
【0011】即ち、図11において被検面1aが投影光
学系5の結像面に合致している状態では、回折格子形成
面8a、被検面1a及びプリズム入射角13aは各々シ
ャインブルーフの条件を満たす関係にあり、しかも各面
とも全面で各々倍率が等しい。
学系5の結像面に合致している状態では、回折格子形成
面8a、被検面1a及びプリズム入射角13aは各々シ
ャインブルーフの条件を満たす関係にあり、しかも各面
とも全面で各々倍率が等しい。
【0012】そのアオリ補正用プリズム13に入射した
光は屈折するが、その入射光の主光線がプリズム入射角
13aの法線方向に略々平行に屈折されるようにそのプ
リズムガラス材の屈折率を定めておく。そのプリズム入
射面13aからの光束をプリズム13の射出面、平面鏡
14B、レンズ15及びレンズ16を介して2次元電荷
結合型撮像デバイス(CCD)17の撮像面17a上に
集束させる。これによりプリズム入射面13a上の格子
状のパターンの像の更なる像が撮像面17a上に結像さ
れる。それらレンズ15とレンズ16とより構成される
リレー光学系も両側テレセントリックである。また、撮
像面17a上に形成される像は、反射型位相格子8の回
折格子形成面8a上のパターンによる被検面1a上の像
を2回リレーして得られた像であり、言い換えると被検
面1aに投影されたパターンの像を再々結像した像であ
る。
光は屈折するが、その入射光の主光線がプリズム入射角
13aの法線方向に略々平行に屈折されるようにそのプ
リズムガラス材の屈折率を定めておく。そのプリズム入
射面13aからの光束をプリズム13の射出面、平面鏡
14B、レンズ15及びレンズ16を介して2次元電荷
結合型撮像デバイス(CCD)17の撮像面17a上に
集束させる。これによりプリズム入射面13a上の格子
状のパターンの像の更なる像が撮像面17a上に結像さ
れる。それらレンズ15とレンズ16とより構成される
リレー光学系も両側テレセントリックである。また、撮
像面17a上に形成される像は、反射型位相格子8の回
折格子形成面8a上のパターンによる被検面1a上の像
を2回リレーして得られた像であり、言い換えると被検
面1aに投影されたパターンの像を再々結像した像であ
る。
【0013】この場合、プリズム13からの屈折光の主
光線はプリズム入射面13aに略々垂直か、又はその入
射角が小さいため、2次元CCD17に入射する光束の
主光線も撮像面17aに対して略々垂直か、又はその入
射角ρが小さくなっている。撮像面17aには被検面1
aに投影されたパターンの像が再々結像されているの
で、被検面1aの投影光学系5の光軸AX1に沿った上
下によりその撮像面17a上での格子状のパターンの像
は横ずれする。この横ずれ量を測定することにより、被
検面1a上の光軸AX1方向の面位置が測定できる。
光線はプリズム入射面13aに略々垂直か、又はその入
射角が小さいため、2次元CCD17に入射する光束の
主光線も撮像面17aに対して略々垂直か、又はその入
射角ρが小さくなっている。撮像面17aには被検面1
aに投影されたパターンの像が再々結像されているの
で、被検面1aの投影光学系5の光軸AX1に沿った上
下によりその撮像面17a上での格子状のパターンの像
は横ずれする。この横ずれ量を測定することにより、被
検面1a上の光軸AX1方向の面位置が測定できる。
【0014】具体的に、被検面1aが平面である場合に
は、2次元CCD17の撮像面には図12(a)に示す
ように明部20と暗部21とが所定ピッチで形成された
縞22が結像される。その縞22のピッチ方向の走査ラ
インに沿う撮像信号は、図12(b)に示すように明部
20に対応する領域で大きく暗部21に対応する領域で
小さい(0に近い)信号となる。また、被検面1a上で
縞状のパターンが投影されている領域を図13(a)の
領域23として、その領域23の中に部分的に凹部24
A及び凸部24Bが存在すると、図13(b)に示すよ
うに、2次元CCD17の撮像面上の縞22のそれぞれ
対応する領域25A及び25Bにおいては縞の位相が変
化する。従って、その縞22の各部の位相のずれ量(横
ずれ量)を検出することにより、被検面1aの全面の投
影光学系5の光軸方向の位置を検出することができる。
は、2次元CCD17の撮像面には図12(a)に示す
ように明部20と暗部21とが所定ピッチで形成された
縞22が結像される。その縞22のピッチ方向の走査ラ
インに沿う撮像信号は、図12(b)に示すように明部
20に対応する領域で大きく暗部21に対応する領域で
小さい(0に近い)信号となる。また、被検面1a上で
縞状のパターンが投影されている領域を図13(a)の
領域23として、その領域23の中に部分的に凹部24
A及び凸部24Bが存在すると、図13(b)に示すよ
うに、2次元CCD17の撮像面上の縞22のそれぞれ
対応する領域25A及び25Bにおいては縞の位相が変
化する。従って、その縞22の各部の位相のずれ量(横
ずれ量)を検出することにより、被検面1aの全面の投
影光学系5の光軸方向の位置を検出することができる。
【0015】図11において、その2次元CCD17か
ら出力される撮像信号を検出部18に供給し、この検出
部18はその撮像信号を処理して撮像面17a上の像の
パターンを求め、このパターン情報を補正量算出手段1
9に供給する。この補正量算出手段19はそのパターン
情報より、被検面1aの今回のショット領域の平均的な
面を求め、駆動手段4及び保持機構3を介してその被検
面1aの今回のショット領域の平均的な面を投影光学系
5の最良結像面に対して所定の許容範囲内で合致させ
る。これによりオートフォーカス動作及びレベリング動
作が行われる。
ら出力される撮像信号を検出部18に供給し、この検出
部18はその撮像信号を処理して撮像面17a上の像の
パターンを求め、このパターン情報を補正量算出手段1
9に供給する。この補正量算出手段19はそのパターン
情報より、被検面1aの今回のショット領域の平均的な
面を求め、駆動手段4及び保持機構3を介してその被検
面1aの今回のショット領域の平均的な面を投影光学系
5の最良結像面に対して所定の許容範囲内で合致させ
る。これによりオートフォーカス動作及びレベリング動
作が行われる。
【0016】また、被検面1aの光軸AX1方向の変位
がzであるときの2次元CCD17の撮像面17aにお
ける縞の像の横ずれ量yは次のようになる。即ち、被検
面1aに対する入射光の主光線の入射角はθであり、レ
ンズ11及び12よりなる集光光学系の横倍率をβ、被
検面1aからプリズム入射面13aへのアオリの結像面
に沿った倍率をβ′、レンズ15及び16よりなるリレ
ー光学系の横倍率をβ″とすると横ずれ量yは次のよう
になる。
がzであるときの2次元CCD17の撮像面17aにお
ける縞の像の横ずれ量yは次のようになる。即ち、被検
面1aに対する入射光の主光線の入射角はθであり、レ
ンズ11及び12よりなる集光光学系の横倍率をβ、被
検面1aからプリズム入射面13aへのアオリの結像面
に沿った倍率をβ′、レンズ15及び16よりなるリレ
ー光学系の横倍率をβ″とすると横ずれ量yは次のよう
になる。
【数1】 y=2・β″・β′・tanθ・z =2・β″(β2 sin2 θ+β4 sin4 θ/cos2 θ)1/2 ・z
【0017】次にアオリ補正用プリズム13の働きにつ
いて説明する。例えば集光光学系の横倍率βが0.5で
入射角θが85゜の場合、プリズム入射面13aに対す
る被検面1aからの反射光の主光線の入射角αは80゜
程度となる。このように大きな入射角の場合、プリズム
13の代わりに直接2次元CCD17を置くと入射する
光量が著しく低下する。何故ならば、CCDの光電変換
部分に入射する光がその回りの読み出し回路部分でケラ
レたり、更に光電変換部分やCCDのパッケージの窓ガ
ラスの表面反射が大きく光が有効に入らないためであ
る。そこでCCDへの入射角を小さくする光学素子が必
要となる。図11の装置ではアオリ補正用プリズム13
を使うことによりそれを達成している。
いて説明する。例えば集光光学系の横倍率βが0.5で
入射角θが85゜の場合、プリズム入射面13aに対す
る被検面1aからの反射光の主光線の入射角αは80゜
程度となる。このように大きな入射角の場合、プリズム
13の代わりに直接2次元CCD17を置くと入射する
光量が著しく低下する。何故ならば、CCDの光電変換
部分に入射する光がその回りの読み出し回路部分でケラ
レたり、更に光電変換部分やCCDのパッケージの窓ガ
ラスの表面反射が大きく光が有効に入らないためであ
る。そこでCCDへの入射角を小さくする光学素子が必
要となる。図11の装置ではアオリ補正用プリズム13
を使うことによりそれを達成している。
【0018】
【発明が解決しようとする課題】上記の本出願人の先願
に係る位置検出装置において、2次元CCD17の撮像
面17a上に結像する像を図13(b)に示す。この像
は一定ピッチPの周期的なパターンであるため、像のピ
ッチ方向であるD1方向の横ずれ(位相ずれ)量をδx
とすると、その横ずれ量δxの検出範囲は一例として以
下のようになる。 −P/2≦δx<P/2
に係る位置検出装置において、2次元CCD17の撮像
面17a上に結像する像を図13(b)に示す。この像
は一定ピッチPの周期的なパターンであるため、像のピ
ッチ方向であるD1方向の横ずれ(位相ずれ)量をδx
とすると、その横ずれ量δxの検出範囲は一例として以
下のようになる。 −P/2≦δx<P/2
【0019】仮にその横ずれ量δxが±P/2を越えた
場合には、横ずれ量Pに対応する投影光学系5の光軸方
向の位置ずれをZP とすると、その横ずれ量δxに対応
する高さの検出結果にnZP (nは整数)の誤差が生じ
る虞がある。これは図11の装置では検出できる高さ方
向の検出範囲が狭いことを意味する。従って、図11の
装置によりウエハ1の被検面1aの高さ検出を行うに際
しては、事前に別の手段、例えば空気式マイクロメータ
等によってその検出範囲内へ被検面1aの高さzを合わ
せてやる必要があり、検出系が複雑になるという不都合
があった。
場合には、横ずれ量Pに対応する投影光学系5の光軸方
向の位置ずれをZP とすると、その横ずれ量δxに対応
する高さの検出結果にnZP (nは整数)の誤差が生じ
る虞がある。これは図11の装置では検出できる高さ方
向の検出範囲が狭いことを意味する。従って、図11の
装置によりウエハ1の被検面1aの高さ検出を行うに際
しては、事前に別の手段、例えば空気式マイクロメータ
等によってその検出範囲内へ被検面1aの高さzを合わ
せてやる必要があり、検出系が複雑になるという不都合
があった。
【0020】ただし、例えば図13(b)の領域25B
で示す場合のように、2次元CCD17の撮像面におい
て再結像された縞22の位相が連続的に変化して、最大
の位相変化量が±P/2を超えたような場合には、連続
的に高さの変化量を求めることによって、その位相変化
量が最大の計測点に対応する高さをも正確に求めること
ができる。ただし、その縞22が全体として例えばD1
方向に±P/2を超えて横ずれしているような場合に
は、全ての検出結果に共通に或るオフセットが混入して
高さが不確定になる。
で示す場合のように、2次元CCD17の撮像面におい
て再結像された縞22の位相が連続的に変化して、最大
の位相変化量が±P/2を超えたような場合には、連続
的に高さの変化量を求めることによって、その位相変化
量が最大の計測点に対応する高さをも正確に求めること
ができる。ただし、その縞22が全体として例えばD1
方向に±P/2を超えて横ずれしているような場合に
は、全ての検出結果に共通に或るオフセットが混入して
高さが不確定になる。
【0021】本発明は斯かる点に鑑み、格子パターンの
ように或る方向への周期的なパターンを被検面に投影し
て、その周期的なパターンを撮像手段で結像して得られ
た繰り返しの間隔がPの像の位相ずれよりその被検面の
位置を検出する場合に、その再結像して得られた像の位
相ずれが±P/2を超えたようなときにも正確にその被
検面の位置を検出できる位置検出装置を提供することを
目的とする。
ように或る方向への周期的なパターンを被検面に投影し
て、その周期的なパターンを撮像手段で結像して得られ
た繰り返しの間隔がPの像の位相ずれよりその被検面の
位置を検出する場合に、その再結像して得られた像の位
相ずれが±P/2を超えたようなときにも正確にその被
検面の位置を検出できる位置検出装置を提供することを
目的とする。
【0022】
【課題を解決するための手段】本発明による位置検出装
置は、例えば図1〜図3に示す如く、繰り返し部(45
I)の中に非繰り返し部(46I)が形成された明暗の
パターン(42)を所定の軸(Z軸)に対して斜めの方
向から被検面(1)に投影する送光手段(33)と、こ
の投影された明暗のパターンの像を撮像する撮像手段
(17,34)と、この撮像された像のその繰り返し部
に対応する部分(45)の横ずれ量を検出する第1の処
理手段(37,38)と、この撮像された像のその非繰
り返し部に対応する部分(46)の位置を検出する第2
の処理手段(39)とを有し、その第2の処理手段(3
9)により検出されたその位置及びその第1の処理手段
(37,38)により検出された横ずれ量よりその被検
面(1)のその所定の軸(Z軸)の方向の位置を検出す
るものである。
置は、例えば図1〜図3に示す如く、繰り返し部(45
I)の中に非繰り返し部(46I)が形成された明暗の
パターン(42)を所定の軸(Z軸)に対して斜めの方
向から被検面(1)に投影する送光手段(33)と、こ
の投影された明暗のパターンの像を撮像する撮像手段
(17,34)と、この撮像された像のその繰り返し部
に対応する部分(45)の横ずれ量を検出する第1の処
理手段(37,38)と、この撮像された像のその非繰
り返し部に対応する部分(46)の位置を検出する第2
の処理手段(39)とを有し、その第2の処理手段(3
9)により検出されたその位置及びその第1の処理手段
(37,38)により検出された横ずれ量よりその被検
面(1)のその所定の軸(Z軸)の方向の位置を検出す
るものである。
【0023】この場合、その繰り返し部の中に非繰り返
し部が形成された明暗のパターン(42)の中のその非
繰り返し部を、その繰り返し部(45I)の一部を除去
して形成してもよい。また、その繰り返し部の中に非繰
り返し部が形成された明暗のパターン(42)の中のそ
の非繰り返し部は、その繰り返し部の端部(42a)で
あってもよい。また、その第2の処理手段(39)によ
り検出された位置がその撮像手段(17,34)の撮像
面の所定の領域内に来るようにその被検面(1)のその
所定の軸(Z軸)方向の位置を調整する位置調整手段
(3,4,39)を設けることが望ましい。
し部が形成された明暗のパターン(42)の中のその非
繰り返し部を、その繰り返し部(45I)の一部を除去
して形成してもよい。また、その繰り返し部の中に非繰
り返し部が形成された明暗のパターン(42)の中のそ
の非繰り返し部は、その繰り返し部の端部(42a)で
あってもよい。また、その第2の処理手段(39)によ
り検出された位置がその撮像手段(17,34)の撮像
面の所定の領域内に来るようにその被検面(1)のその
所定の軸(Z軸)方向の位置を調整する位置調整手段
(3,4,39)を設けることが望ましい。
【0024】
【作用】斯かる本発明によれば、第1の処理手段(3
7,38)により、その撮像された像の内のその繰り返
し部に対応する部分(45)の横ずれ量が検出される。
例えばその繰り返し部に対応する部分(45)がX方向
にピッチPの格子状パターンであり、この格子状パター
ンのX方向の横ずれ量δxのその被検面(1)のZ方向
の位置zに対する倍率がΩ(=δx/z)であるとする
と、その格子状パターンの全体としての横ずれ量δxが
±P/2(範囲でP)を超えない範囲では、その被検面
(1)の位置zはδx/Ωとして求めることができる。
7,38)により、その撮像された像の内のその繰り返
し部に対応する部分(45)の横ずれ量が検出される。
例えばその繰り返し部に対応する部分(45)がX方向
にピッチPの格子状パターンであり、この格子状パター
ンのX方向の横ずれ量δxのその被検面(1)のZ方向
の位置zに対する倍率がΩ(=δx/z)であるとする
と、その格子状パターンの全体としての横ずれ量δxが
±P/2(範囲でP)を超えない範囲では、その被検面
(1)の位置zはδx/Ωとして求めることができる。
【0025】また、その横ずれ量δxが範囲Pを超えて
いるかどうかを検出するために、その第2の処理手段
(39)によりその非繰り返し部の対応する部分(4
6)のX方向の位置x′を検出する。この場合、予め例
えばこの位置x′がその撮像手段(17,34)の撮像
面の所定の原点にある(x′=0)ときに、その被検面
(1)の位置zがほぼ0になるようにしておけば、その
位置x′はそのままその格子状パターンの全体としての
横ずれ量となる。そこで、位置調整手段(3,4,3
9)がその被検面(1)のZ方向の位置を調整して、そ
の非繰り返し部に対応する部分(46)の位置x′がそ
の原点から例えば±P/2の中に収まるようにする。こ
れによりその格子状パターンのX方向の横ずれ量δxか
らその被検面(1)のZ方向の位置zを正確に検出する
ことができる。
いるかどうかを検出するために、その第2の処理手段
(39)によりその非繰り返し部の対応する部分(4
6)のX方向の位置x′を検出する。この場合、予め例
えばこの位置x′がその撮像手段(17,34)の撮像
面の所定の原点にある(x′=0)ときに、その被検面
(1)の位置zがほぼ0になるようにしておけば、その
位置x′はそのままその格子状パターンの全体としての
横ずれ量となる。そこで、位置調整手段(3,4,3
9)がその被検面(1)のZ方向の位置を調整して、そ
の非繰り返し部に対応する部分(46)の位置x′がそ
の原点から例えば±P/2の中に収まるようにする。こ
れによりその格子状パターンのX方向の横ずれ量δxか
らその被検面(1)のZ方向の位置zを正確に検出する
ことができる。
【0026】なお、必ずしもその位置調整手段(3,
4,39)を介してその被検面(1)のZ方向の位置を
調整しなくとも、その部分(46)のX方向の位置x′
より被検面(1)のZ方向の位置zのおおまかな値は、
x′/Ωとして求めることができる。また、位置zのよ
り正確な値は(δx+nP)/Ω(nは整数)であり、
この中で値が最もx′/Ωに近くなる整数nの値n* を
求めれば、その位置zのより正確な値は(δx+n* ・
P)/Ωである。
4,39)を介してその被検面(1)のZ方向の位置を
調整しなくとも、その部分(46)のX方向の位置x′
より被検面(1)のZ方向の位置zのおおまかな値は、
x′/Ωとして求めることができる。また、位置zのよ
り正確な値は(δx+nP)/Ω(nは整数)であり、
この中で値が最もx′/Ωに近くなる整数nの値n* を
求めれば、その位置zのより正確な値は(δx+n* ・
P)/Ωである。
【0027】即ち、繰り返し部(45)とは異なる特徴
を持った非繰り返し部(46)が撮像手段(17,3
4)の撮像面内に入っている限りにおいて、その撮像さ
れた像の横ずれ量が前に示した範囲P(±P/2)を越
えても被検面(1)のZ方向の位置zを正確に検出する
ことができる。
を持った非繰り返し部(46)が撮像手段(17,3
4)の撮像面内に入っている限りにおいて、その撮像さ
れた像の横ずれ量が前に示した範囲P(±P/2)を越
えても被検面(1)のZ方向の位置zを正確に検出する
ことができる。
【0028】また、その繰り返し部の中に非繰り返し部
が形成された明暗のパターン(42)の中のその非繰り
返し部を、その繰り返し部(45I)の一部を除去して
形成した場合には、その非繰り返し部の形成が容易であ
る。更に、その繰り返し部の中に非繰り返し部が形成さ
れた明暗のパターン(42)の中のその非繰り返し部
が、その繰り返し部の端部(42a)である場合には、
その明暗のパターン(42)の形成が容易である。
が形成された明暗のパターン(42)の中のその非繰り
返し部を、その繰り返し部(45I)の一部を除去して
形成した場合には、その非繰り返し部の形成が容易であ
る。更に、その繰り返し部の中に非繰り返し部が形成さ
れた明暗のパターン(42)の中のその非繰り返し部
が、その繰り返し部の端部(42a)である場合には、
その明暗のパターン(42)の形成が容易である。
【0029】
【実施例】以下、本発明による位置検出装置の一実施例
につき図1〜図4を参照して説明する。本実施例は、縮
小投影型露光装置のオートフォーカス機構部及びレベリ
ング機構部の検出系に本発明を適用したものである。図
1は本実施例の縮小投影型露光装置の要部を示し、この
図1において、26はレチクルホルダー27に支持され
たレチクルである。図示省略した照明光学系からの露光
光ILがそのレチクル26に照射され、レチクル26の
回路パターンの像が投影光学系5を介してウエハホルダ
ー2に保持されたウエハ1の各ショット領域に転写され
る。ウエハホルダー2はウエハステージよりなる保持機
構3に載置されている。この保持機構3の一端には移動
鏡3aが装着され、レーザー干渉計28からのレーザー
ビームがその移動鏡3aで反射され、保持機構3の中の
XYステージの座標が常時計測されている。
につき図1〜図4を参照して説明する。本実施例は、縮
小投影型露光装置のオートフォーカス機構部及びレベリ
ング機構部の検出系に本発明を適用したものである。図
1は本実施例の縮小投影型露光装置の要部を示し、この
図1において、26はレチクルホルダー27に支持され
たレチクルである。図示省略した照明光学系からの露光
光ILがそのレチクル26に照射され、レチクル26の
回路パターンの像が投影光学系5を介してウエハホルダ
ー2に保持されたウエハ1の各ショット領域に転写され
る。ウエハホルダー2はウエハステージよりなる保持機
構3に載置されている。この保持機構3の一端には移動
鏡3aが装着され、レーザー干渉計28からのレーザー
ビームがその移動鏡3aで反射され、保持機構3の中の
XYステージの座標が常時計測されている。
【0030】29はアライメント系であり、このアライ
メント系からのアライメント光(ウエハ1の表面に塗布
された感光材に感光しない波長帯の光)がミラー30及
び投影光学系5を介して保持機構3側に照射される。ま
た、保持機構3の上部のウエハ1の近傍には基準マーク
31が配置され、レチクル26の上部の側方にアライメ
ント顕微鏡32が移動自在に配置されている。アライメ
ント系29を用いて基準マーク31の位置を投影光学系
5に対して所定の位置に設定し、且つアライメント顕微
鏡32を用いて基準マーク31に対してレチクル26の
位置決めを行うことにより、間接的にレチクル26とウ
エハ1との相対的な位置合わせが行われる。
メント系からのアライメント光(ウエハ1の表面に塗布
された感光材に感光しない波長帯の光)がミラー30及
び投影光学系5を介して保持機構3側に照射される。ま
た、保持機構3の上部のウエハ1の近傍には基準マーク
31が配置され、レチクル26の上部の側方にアライメ
ント顕微鏡32が移動自在に配置されている。アライメ
ント系29を用いて基準マーク31の位置を投影光学系
5に対して所定の位置に設定し、且つアライメント顕微
鏡32を用いて基準マーク31に対してレチクル26の
位置決めを行うことにより、間接的にレチクル26とウ
エハ1との相対的な位置合わせが行われる。
【0031】また、33は図11の光源6〜投射用対物
レンズ10までの光学素子よりなる投射光学系、34は
図11の受光用対物レンズ11〜レンズ16までの光学
素子よりなる集光光学系を示す。投射光学系33により
ウエハ1の現在のショット領域の上に非繰り返し部を含
む明暗の周期的なパターン(格子状のパターン)が投影
光学系5の光軸(これを「Z軸」とする)に対して斜め
に投影され、ウエハ1の上の明暗の周期的なパターンの
像が集光光学系34により2次元CCD17の撮像面に
再結像されている。
レンズ10までの光学素子よりなる投射光学系、34は
図11の受光用対物レンズ11〜レンズ16までの光学
素子よりなる集光光学系を示す。投射光学系33により
ウエハ1の現在のショット領域の上に非繰り返し部を含
む明暗の周期的なパターン(格子状のパターン)が投影
光学系5の光軸(これを「Z軸」とする)に対して斜め
に投影され、ウエハ1の上の明暗の周期的なパターンの
像が集光光学系34により2次元CCD17の撮像面に
再結像されている。
【0032】その2次元CCD17から出力される撮像
信号を検出部18に供給し、検出部18はその撮像信号
を順次メモリ35に書き込む。36は画像抽出手段を示
し、この画像抽出手段36はメモリ35からウエハ1の
露光対象のショット領域上の明暗の周期的なパターンの
像に対応する撮像信号を抽出して微分手段37に供給す
る。
信号を検出部18に供給し、検出部18はその撮像信号
を順次メモリ35に書き込む。36は画像抽出手段を示
し、この画像抽出手段36はメモリ35からウエハ1の
露光対象のショット領域上の明暗の周期的なパターンの
像に対応する撮像信号を抽出して微分手段37に供給す
る。
【0033】また、微分手段37は供給された撮像信号
を微分して得られた微分信号をゼロクロス点検出手段3
8に供給し、ゼロクロス点検出手段39は供給された微
分信号のゼロクロス点を検出して、このゼロクロス点の
座標を補正量算出手段39に供給する。補正量算出手段
39は、供給された情報からウエハ1の露光対象とする
ショット領域の平均的な面の高さ(Z方向の位置)及び
傾きを求め、そのショット領域の平均的な面が投影光学
系5の最良結像面に所定の許容範囲で合致するように、
駆動手段4及び保持機構3を介してウエハ1の高さ及び
傾きを調整する。
を微分して得られた微分信号をゼロクロス点検出手段3
8に供給し、ゼロクロス点検出手段39は供給された微
分信号のゼロクロス点を検出して、このゼロクロス点の
座標を補正量算出手段39に供給する。補正量算出手段
39は、供給された情報からウエハ1の露光対象とする
ショット領域の平均的な面の高さ(Z方向の位置)及び
傾きを求め、そのショット領域の平均的な面が投影光学
系5の最良結像面に所定の許容範囲で合致するように、
駆動手段4及び保持機構3を介してウエハ1の高さ及び
傾きを調整する。
【0034】次に、本例の位置検出動作につき図2〜図
4を参照して詳細に説明する。先ず、図2に示すよう
に、ウエハ1の表面には多数のショット領域よりなるパ
ターン転写領域40が形成され、その内のこれから露光
される正方形のショット領域41の上に非繰り返し部を
含む明暗の周期的なパターン42が斜めに投影される。
この明暗の周期的なパターン42は、ショット領域41
の各辺に対して45°で交差するR方向に所定ピッチの
格子パターン45I及びこの格子パターン45Iの中央
部に配置された短い直線パターン46Iより構成されて
いる。その短い直線パターン46Iが非繰り返し部であ
る。
4を参照して詳細に説明する。先ず、図2に示すよう
に、ウエハ1の表面には多数のショット領域よりなるパ
ターン転写領域40が形成され、その内のこれから露光
される正方形のショット領域41の上に非繰り返し部を
含む明暗の周期的なパターン42が斜めに投影される。
この明暗の周期的なパターン42は、ショット領域41
の各辺に対して45°で交差するR方向に所定ピッチの
格子パターン45I及びこの格子パターン45Iの中央
部に配置された短い直線パターン46Iより構成されて
いる。その短い直線パターン46Iが非繰り返し部であ
る。
【0035】ただし、後述のように格子パターン45I
の端のエッジ部42a等を非繰り返し部とみなすことも
できる。なお、格子パターン45Iのピッチ方向である
R方向をショット領域41の各辺に対して斜めに設定し
た場合には、ショット領域41にそれまでの露光で形成
されている回路パターンの影響を低減することができ
る。
の端のエッジ部42a等を非繰り返し部とみなすことも
できる。なお、格子パターン45Iのピッチ方向である
R方向をショット領域41の各辺に対して斜めに設定し
た場合には、ショット領域41にそれまでの露光で形成
されている回路パターンの影響を低減することができ
る。
【0036】図3(a)は2次元CCD17の撮像面に
再結像された図2の明暗の周期的なパターン42の像を
示し、この図3(a)において、その撮像面の一辺に平
行なX方向にピッチPで結像された明部43と暗部44
とより格子パターン像45が結像され、この格子パター
ン像45の中央部に短い直線パターン像46が結像され
ている。その格子パターン像45及び直線パターン像4
6は、それぞれ図2の格子パターン45I及び直線パタ
ーン46Iの共役像である。また、その撮像面のY方向
の一端には2本の細い暗い直線パターンの像よりなる指
標マーク像50Aが結像され、Y方向の他端にも2本の
細い暗い直線パターンの像よりなる指標マーク像50B
が結像されている。指標マーク像50A及び50Bはそ
れぞれ、図11のアオリ補正用プリズム13のプリズム
入射面13aの上に形成されているパターンの像であ
り、指標マーク像50A及び50Bはその撮像面に対し
て常に固定された位置に結像される。この指標マークは
ウエハからの反射光によって照明される。また、受光光
学系の1部(図11においてレンズ11〜プリズム13
までの間)にビームスプリッターを挿入し、そこからマ
ーク部分のみ照明する照明光学系を設けてやると、ウエ
ハ下地反射率の影響を受けずに指標マークの検出が行え
る。
再結像された図2の明暗の周期的なパターン42の像を
示し、この図3(a)において、その撮像面の一辺に平
行なX方向にピッチPで結像された明部43と暗部44
とより格子パターン像45が結像され、この格子パター
ン像45の中央部に短い直線パターン像46が結像され
ている。その格子パターン像45及び直線パターン像4
6は、それぞれ図2の格子パターン45I及び直線パタ
ーン46Iの共役像である。また、その撮像面のY方向
の一端には2本の細い暗い直線パターンの像よりなる指
標マーク像50Aが結像され、Y方向の他端にも2本の
細い暗い直線パターンの像よりなる指標マーク像50B
が結像されている。指標マーク像50A及び50Bはそ
れぞれ、図11のアオリ補正用プリズム13のプリズム
入射面13aの上に形成されているパターンの像であ
り、指標マーク像50A及び50Bはその撮像面に対し
て常に固定された位置に結像される。この指標マークは
ウエハからの反射光によって照明される。また、受光光
学系の1部(図11においてレンズ11〜プリズム13
までの間)にビームスプリッターを挿入し、そこからマ
ーク部分のみ照明する照明光学系を設けてやると、ウエ
ハ下地反射率の影響を受けずに指標マークの検出が行え
る。
【0037】図3(b)は図3(a)の直線パターン像
46の外の走査ラインmに沿った撮像信号を示し、この
撮像信号が図1の検出部18、メモリ35、画像抽出手
段36及び微分手段37を介してゼロクロス点検出手段
38に供給される。このゼロクロス点検出手段38では
図3(b)の撮像信号の凹部のピークのX方向の位置を
検出する。これら凹部のピークの位置の中で位置X1 及
びX2 は指標マーク像50Aの2本の暗線(縞)の位
置、位置X3 及びX4 は指標マーク像50Bの2本の縞
の位置、位置x1 〜x8 は格子パターン像45の暗線
(縞)の位置とみなすことができる。これらの位置X1
〜X4 及びx1 〜x8 が図1の補正量算出手段39に供
給される。
46の外の走査ラインmに沿った撮像信号を示し、この
撮像信号が図1の検出部18、メモリ35、画像抽出手
段36及び微分手段37を介してゼロクロス点検出手段
38に供給される。このゼロクロス点検出手段38では
図3(b)の撮像信号の凹部のピークのX方向の位置を
検出する。これら凹部のピークの位置の中で位置X1 及
びX2 は指標マーク像50Aの2本の暗線(縞)の位
置、位置X3 及びX4 は指標マーク像50Bの2本の縞
の位置、位置x1 〜x8 は格子パターン像45の暗線
(縞)の位置とみなすことができる。これらの位置X1
〜X4 及びx1 〜x8 が図1の補正量算出手段39に供
給される。
【0038】補正量算出手段39では、まず指標マーク
像の位置X1 〜X4 から次式より基準位置X0 を算出す
る。
像の位置X1 〜X4 から次式より基準位置X0 を算出す
る。
【数2】X0 =(X1 +X2 +X3 +X4 )/4 次に、その基準位置X0 に対して格子パターン像の各縞
の位置x1 〜x8 が決定される。具体的にその基準位置
X0 からの格子パターン像の各縞の位置をq1〜q8 と
すると、次式が成立する。
の位置x1 〜x8 が決定される。具体的にその基準位置
X0 からの格子パターン像の各縞の位置をq1〜q8 と
すると、次式が成立する。
【数3】 qi =xi −X0 (i=1,2,‥‥,8)
【0039】この(数3)で求められた位置q1 〜q8
を、ウエハ1のショット領域41の表面が投影光学系5
の最良結像面に合致しているときの基準位置(予め求め
られている)と比較することにより、その格子パターン
像の各縞のX方向の横ずれ量δxi が求められる。そし
て、その格子パターン像のX方向の横ずれ量δxのその
ウエハ1のZ方向の位置zに対する倍率がΩ(=δx/
z)であるとすると、その格子パターン像の全体として
の横ずれ量δxが±P/2(範囲でP)を超えない範囲
では、格子パターン像の各縞の位置xi に対応するショ
ット領域41上の計測点のZ方向の位置zi は、δxi
/Ωとして求めることができる。この演算は図1の補正
量算出手段39において実行される。
を、ウエハ1のショット領域41の表面が投影光学系5
の最良結像面に合致しているときの基準位置(予め求め
られている)と比較することにより、その格子パターン
像の各縞のX方向の横ずれ量δxi が求められる。そし
て、その格子パターン像のX方向の横ずれ量δxのその
ウエハ1のZ方向の位置zに対する倍率がΩ(=δx/
z)であるとすると、その格子パターン像の全体として
の横ずれ量δxが±P/2(範囲でP)を超えない範囲
では、格子パターン像の各縞の位置xi に対応するショ
ット領域41上の計測点のZ方向の位置zi は、δxi
/Ωとして求めることができる。この演算は図1の補正
量算出手段39において実行される。
【0040】また、本例では図3(a)に示すように明
暗縞の像の中心の一本の直線パターン像46がやや短く
作られている。従って走査ラインmにおいて直線パター
ン像46は存在せず、図3(b)に示すよう走査ライン
mの撮像信号の中心部には暗い部分に対応する凹部がな
い。この場合、位置qi と位置qj との間隔をdijを次
式で定義すると、間隔d45が他の間隔dijに比べて2倍
であること分かる。
暗縞の像の中心の一本の直線パターン像46がやや短く
作られている。従って走査ラインmにおいて直線パター
ン像46は存在せず、図3(b)に示すよう走査ライン
mの撮像信号の中心部には暗い部分に対応する凹部がな
い。この場合、位置qi と位置qj との間隔をdijを次
式で定義すると、間隔d45が他の間隔dijに比べて2倍
であること分かる。
【数4】dij=qj −qi (i=1,2,‥‥,7;j
=i+1)
=i+1)
【0041】従って、間隔が通常の間隔の2倍である2
本の縞の位置(位置q4 及び位置q5 )の中心を直線パ
ターン像46の位置x′であるとみなすことができる。
そして、予めウエハ1の露光面が投影光学系5の最良結
像面に合致している状態で、図3(a)において、直線
パターン像46が指標マーク像50Aと指標マーク像5
0Bとの間の中央に位置するように調整しておき、その
中央の位置を位置x′の原点(x′=0)にする。図3
(a)の場合にはその直線パターン像46の位置x′が
ほぼ0であるため、格子パターン像45の横ずれ量δx
から求めたショット領域41上の各計測点の高さzは正
確である。
本の縞の位置(位置q4 及び位置q5 )の中心を直線パ
ターン像46の位置x′であるとみなすことができる。
そして、予めウエハ1の露光面が投影光学系5の最良結
像面に合致している状態で、図3(a)において、直線
パターン像46が指標マーク像50Aと指標マーク像5
0Bとの間の中央に位置するように調整しておき、その
中央の位置を位置x′の原点(x′=0)にする。図3
(a)の場合にはその直線パターン像46の位置x′が
ほぼ0であるため、格子パターン像45の横ずれ量δx
から求めたショット領域41上の各計測点の高さzは正
確である。
【0042】次に、ウエハ1のショット領域41の高さ
が投影光学系5の最良結像面から大きく外れている場合
に、2次元CCD17の撮像面に結像される像の状態を
図4(a)に示し、図4(a)の走査ラインm上の撮像
信号を図4(b)に示す。その図4(a)において、格
子パターン像45及び非繰り返し部としての直線パター
ン像46はX方向に図3(a)の状態に対して±P/2
を超えて横ずれしているものとする。
が投影光学系5の最良結像面から大きく外れている場合
に、2次元CCD17の撮像面に結像される像の状態を
図4(a)に示し、図4(a)の走査ラインm上の撮像
信号を図4(b)に示す。その図4(a)において、格
子パターン像45及び非繰り返し部としての直線パター
ン像46はX方向に図3(a)の状態に対して±P/2
を超えて横ずれしているものとする。
【0043】この場合も、図4(b)の撮像信号を微分
してゼロクロス点を検出することにより、その撮像信号
が凹部で極小値を取る位置X1 〜X4 及びx1 〜x8 を
求める。そして、(数2)及び(数3)より指標マーク
像50A,50Bの位置を基準とした位置q1 〜q8 を
算出し、(数4)より位置qi と位置qj との間隔dij
を算出する。その結果、図4(b)より間隔d12が他の
間隔dijの2倍であることから、図1の補正量算出手段
39は位置q1 と位置q2とが直線パターン像46のそ
れぞれ左右の縞位置であることを認識する。この情報に
基づいて、補正量算出手段39は、駆動装置4及び保持
機構3を介してウエハ1をZ方向に上下させ、図4
(a)の直線パターン像46のX方向の位置x′を基準
位置X0 に対して±P/2以内の領域へ移動させる。そ
の後、再度計測を行うと、図3(a)のような像が撮像
されるので、格子パターン像45の各部の横ずれ量から
ショット領域41の各計測点の高さを正確に計測するこ
とができる。
してゼロクロス点を検出することにより、その撮像信号
が凹部で極小値を取る位置X1 〜X4 及びx1 〜x8 を
求める。そして、(数2)及び(数3)より指標マーク
像50A,50Bの位置を基準とした位置q1 〜q8 を
算出し、(数4)より位置qi と位置qj との間隔dij
を算出する。その結果、図4(b)より間隔d12が他の
間隔dijの2倍であることから、図1の補正量算出手段
39は位置q1 と位置q2とが直線パターン像46のそ
れぞれ左右の縞位置であることを認識する。この情報に
基づいて、補正量算出手段39は、駆動装置4及び保持
機構3を介してウエハ1をZ方向に上下させ、図4
(a)の直線パターン像46のX方向の位置x′を基準
位置X0 に対して±P/2以内の領域へ移動させる。そ
の後、再度計測を行うと、図3(a)のような像が撮像
されるので、格子パターン像45の各部の横ずれ量から
ショット領域41の各計測点の高さを正確に計測するこ
とができる。
【0044】また、このときのウエハ1のZ方向への移
動量は別途計測されて記憶されている。ただし、単にそ
のショット領域41の平均的な面をその投影光学系5の
最良結像面に合致させるのであれば、その記憶されてい
る移動量を使用する必要はない。
動量は別途計測されて記憶されている。ただし、単にそ
のショット領域41の平均的な面をその投影光学系5の
最良結像面に合致させるのであれば、その記憶されてい
る移動量を使用する必要はない。
【0045】このように、本例によれば、2次元CCD
17の撮像面上で非繰り返し部としての短い直線パター
ン像46の位置をその撮像面の中央付近に設定してから
位置検出を行うようにしているので、ウエハ1の計測対
象とするショット領域41のZ方向の高さが投影光学系
5の最良結像面から±P/(2Ω)を超えている場合に
も、そのショット領域41の高さの分布を正確に検出す
ることができる。
17の撮像面上で非繰り返し部としての短い直線パター
ン像46の位置をその撮像面の中央付近に設定してから
位置検出を行うようにしているので、ウエハ1の計測対
象とするショット領域41のZ方向の高さが投影光学系
5の最良結像面から±P/(2Ω)を超えている場合に
も、そのショット領域41の高さの分布を正確に検出す
ることができる。
【0046】なお、必ずしもその駆動手段4及び保持機
構4を介してそのウエハ1のZ方向の位置を調整しなく
とも、その直線パターン像46のX方向の位置x′か
ら、ショット領域41上のその直線パターン像46に対
応する位置のZ方向の位置zのおおまかな値は、x′/
Ωとして求めることができる。また、その直線パターン
像46に最も近い格子パターン像45の横ずれ量(例え
ば位置x1 に対応する横ずれ量)をxとすると、その位
置zのより正確な値は(δx+nP)/Ω(nは整数)
である。この中で値が最もx′/Ωに近くなる整数nの
値n* を求めれば、その位置zのより正確な値は(δx
+n* ・P)/Ωである。そして、格子パターン像45
の他の部分の横ずれ量から求めた位置をzi とすると、
この位置zi に(n* ・P)/Ωを加算して得られた値
がより正確なZ方向の位置である。
構4を介してそのウエハ1のZ方向の位置を調整しなく
とも、その直線パターン像46のX方向の位置x′か
ら、ショット領域41上のその直線パターン像46に対
応する位置のZ方向の位置zのおおまかな値は、x′/
Ωとして求めることができる。また、その直線パターン
像46に最も近い格子パターン像45の横ずれ量(例え
ば位置x1 に対応する横ずれ量)をxとすると、その位
置zのより正確な値は(δx+nP)/Ω(nは整数)
である。この中で値が最もx′/Ωに近くなる整数nの
値n* を求めれば、その位置zのより正確な値は(δx
+n* ・P)/Ωである。そして、格子パターン像45
の他の部分の横ずれ量から求めた位置をzi とすると、
この位置zi に(n* ・P)/Ωを加算して得られた値
がより正確なZ方向の位置である。
【0047】次に、上述の実施例において図1の投射光
学系33からウエハ1の露光面に投影される非繰り返し
部を含む明暗の周期的なパターンの種々の変形例につき
説明する。以下では便宜上、2次元CCD17の撮像面
に再結像されたパターンを用いて説明する。
学系33からウエハ1の露光面に投影される非繰り返し
部を含む明暗の周期的なパターンの種々の変形例につき
説明する。以下では便宜上、2次元CCD17の撮像面
に再結像されたパターンを用いて説明する。
【0048】[第1変形例]図5(a)は、本例の2次
元CCD17の撮像面に再結像された明暗のパターンの
像を示し、この図5(a)に示すように、その撮像面の
両端には指標マーク像50A及び50Bが結像され、こ
れら指標マーク像の間に格子パターン像45が再結像さ
れている。また、その格子パターン像45の中央部には
非繰り返し部としての中抜けの直線パターン像47が再
結像されている。また、ウエハ1上の対応するショット
領域上には図5(a)から指標マーク像50A及び50
Bを除いたパターンが投影されている。また、図5
(a)の走査ラインuに沿う撮像信号を図5(b)に示
す。
元CCD17の撮像面に再結像された明暗のパターンの
像を示し、この図5(a)に示すように、その撮像面の
両端には指標マーク像50A及び50Bが結像され、こ
れら指標マーク像の間に格子パターン像45が再結像さ
れている。また、その格子パターン像45の中央部には
非繰り返し部としての中抜けの直線パターン像47が再
結像されている。また、ウエハ1上の対応するショット
領域上には図5(a)から指標マーク像50A及び50
Bを除いたパターンが投影されている。また、図5
(a)の走査ラインuに沿う撮像信号を図5(b)に示
す。
【0049】本例でも図4(a)のパターンを使用する
場合と同様に、図5(b)の撮像信号から中抜けの直線
パターン像47の位置を検出することができ、この位置
をその撮像面の中央付近に設定することにより、対応す
るショット領域の正確な位置検出を行うことができる。
場合と同様に、図5(b)の撮像信号から中抜けの直線
パターン像47の位置を検出することができ、この位置
をその撮像面の中央付近に設定することにより、対応す
るショット領域の正確な位置検出を行うことができる。
【0050】[第2変形例]図6(a)は、本例の2次
元CCD17の撮像面に再結像された明暗のパターンの
像を示し、この図6(a)に示すように、その撮像面の
両端には指標マーク像50A及び50Bが結像され、こ
れら指標マーク像の間に格子パターン像45が再結像さ
れている。また、その格子パターン像45の中央部の暗
線を間引くことにより非繰り返し部としての幅が広い明
部48が形成されている。この場合、図6(a)の走査
線m又は走査線uの何れに沿った撮像信号も図6(b)
に示すようになる。その明部48がその撮像面の中央部
に来るようにウエハ1の高さを調整することにより、格
子パターン像45が±P/2を超えて横ずれしていて
も、正確にウエハ1の高さの分布を検出できる。
元CCD17の撮像面に再結像された明暗のパターンの
像を示し、この図6(a)に示すように、その撮像面の
両端には指標マーク像50A及び50Bが結像され、こ
れら指標マーク像の間に格子パターン像45が再結像さ
れている。また、その格子パターン像45の中央部の暗
線を間引くことにより非繰り返し部としての幅が広い明
部48が形成されている。この場合、図6(a)の走査
線m又は走査線uの何れに沿った撮像信号も図6(b)
に示すようになる。その明部48がその撮像面の中央部
に来るようにウエハ1の高さを調整することにより、格
子パターン像45が±P/2を超えて横ずれしていて
も、正確にウエハ1の高さの分布を検出できる。
【0051】[第3変形例]図7(a)は、本例の2次
元CCD17の撮像面に再結像された明暗のパターンの
像を示し、この図7(a)に示すように、その撮像面の
両端には指標マーク像50A及び50Bが結像され、こ
れら指標マーク像の間に格子パターン像45が再結像さ
れている。また、その格子パターン像45の左右両端部
に非繰り返し部として互いに反対側が短くされた直線パ
ターン像49A及び49Bが形成されている。その左端
の直線パターン像49Aは、格子パターン像45全体が
図7(a)において右方向にずれた場合の基準として使
用され、その右端の直線パターン像49Bは、格子パタ
ーン像45全体が図7(a)において左方向にずれた場
合の基準として使用される。また、図7(a)の走査ラ
インu及び走査ラインmに沿う撮像信号をそれぞれ図7
(b)及び(c)に示す。
元CCD17の撮像面に再結像された明暗のパターンの
像を示し、この図7(a)に示すように、その撮像面の
両端には指標マーク像50A及び50Bが結像され、こ
れら指標マーク像の間に格子パターン像45が再結像さ
れている。また、その格子パターン像45の左右両端部
に非繰り返し部として互いに反対側が短くされた直線パ
ターン像49A及び49Bが形成されている。その左端
の直線パターン像49Aは、格子パターン像45全体が
図7(a)において右方向にずれた場合の基準として使
用され、その右端の直線パターン像49Bは、格子パタ
ーン像45全体が図7(a)において左方向にずれた場
合の基準として使用される。また、図7(a)の走査ラ
インu及び走査ラインmに沿う撮像信号をそれぞれ図7
(b)及び(c)に示す。
【0052】この場合、パターン全体が左方向にずれる
と、図8(a)に示すように、直線パターン像49Aは
視野から外れるが、直線パターン像49Bは視野内に収
まっている。図8(a)の走査ラインu及び走査ライン
mに沿う撮像信号をそれぞれ図8(b)及び(c)に示
し、この図8(b)の走査線uに沿った撮像信号によ
り、直線パターン像49Bの位置が上述実施例と同様に
検出できる。一方、パターン全体が右方向にずれると、
図9(a)に示すように、直線パターン像49Bは視野
から外れるが、直線パターン像49Aは視野内に収まっ
ている。図9(a)の走査ラインu及び走査ラインmに
沿う撮像信号をそれぞれ図9(b)及び(c)に示し、
この図9(c)の走査線mに沿った撮像信号により、直
線パターン像49Aの位置が上述実施例と同様に検出で
きる。
と、図8(a)に示すように、直線パターン像49Aは
視野から外れるが、直線パターン像49Bは視野内に収
まっている。図8(a)の走査ラインu及び走査ライン
mに沿う撮像信号をそれぞれ図8(b)及び(c)に示
し、この図8(b)の走査線uに沿った撮像信号によ
り、直線パターン像49Bの位置が上述実施例と同様に
検出できる。一方、パターン全体が右方向にずれると、
図9(a)に示すように、直線パターン像49Bは視野
から外れるが、直線パターン像49Aは視野内に収まっ
ている。図9(a)の走査ラインu及び走査ラインmに
沿う撮像信号をそれぞれ図9(b)及び(c)に示し、
この図9(c)の走査線mに沿った撮像信号により、直
線パターン像49Aの位置が上述実施例と同様に検出で
きる。
【0053】この第3変形例においては、非繰り返し部
を格子パターン像45の左右に分けて配置することによ
り、非繰り返し部を格子パターン像45の中心に配置し
た場合に比べて2倍の横ずれ量を正確に検出できる。ま
た、図2及び図7(a)から明かなように、非繰り返し
部の直線パターン像49A及び49Bに対応する投影パ
ターンはウエハ1のショット領域41の外側に配置され
るため、そのショット領域41の全面の位置検出を行う
ことができる。
を格子パターン像45の左右に分けて配置することによ
り、非繰り返し部を格子パターン像45の中心に配置し
た場合に比べて2倍の横ずれ量を正確に検出できる。ま
た、図2及び図7(a)から明かなように、非繰り返し
部の直線パターン像49A及び49Bに対応する投影パ
ターンはウエハ1のショット領域41の外側に配置され
るため、そのショット領域41の全面の位置検出を行う
ことができる。
【0054】[第4変形例]以上の実施例及び変形例で
は投影されたパターン像の明部を広くして他の部分と区
別しているが、投影されたパターン像の暗部を広くして
他の部分と区別することも考えられる。即ち、図10
(a)は、本例の2次元CCD17の撮像面に再結像さ
れた明暗のパターンの像を示し、この図10(a)に示
すように、その撮像面の両端には指標マーク像50A及
び50Bが結像され、これら指標マーク像の間に格子パ
ターン像45が再結像されている。また、その格子パタ
ーン像45の中央部で明部よりなる直線パターン像の中
央部を暗部で塗りつぶすことにより、非繰り返し部とし
てのパターン像51が形成されている。その図10
(a)の走査ラインuに沿った撮像信号は図10(b)
に示すようになり、この撮像信号からそのパターン像5
1の位置を検出することができる。同様に、先に述べた
その他の変形例でも明部の一部を塗りつぶして非繰り返
し部を形成することができる。
は投影されたパターン像の明部を広くして他の部分と区
別しているが、投影されたパターン像の暗部を広くして
他の部分と区別することも考えられる。即ち、図10
(a)は、本例の2次元CCD17の撮像面に再結像さ
れた明暗のパターンの像を示し、この図10(a)に示
すように、その撮像面の両端には指標マーク像50A及
び50Bが結像され、これら指標マーク像の間に格子パ
ターン像45が再結像されている。また、その格子パタ
ーン像45の中央部で明部よりなる直線パターン像の中
央部を暗部で塗りつぶすことにより、非繰り返し部とし
てのパターン像51が形成されている。その図10
(a)の走査ラインuに沿った撮像信号は図10(b)
に示すようになり、この撮像信号からそのパターン像5
1の位置を検出することができる。同様に、先に述べた
その他の変形例でも明部の一部を塗りつぶして非繰り返
し部を形成することができる。
【0055】また、図2において周期的なパターン42
の両端部のエッジ42a及び42bを非繰り返し部とみ
なしてもよい。そして、ウエハ1の表面1aが投影光学
系5の最良結像面に合ったときに、図3(a)の2次元
CCD17の撮像面において、そのエッジ42a及び4
2bに対応する像がそれぞれ指標マーク像50A及び5
0Bの内側に収まるように回折格子8の位置を調整すれ
ば、その周期的なパターン42の像の横ずれ量から対応
するショット領域41の位置を正確に検出することがで
きる。
の両端部のエッジ42a及び42bを非繰り返し部とみ
なしてもよい。そして、ウエハ1の表面1aが投影光学
系5の最良結像面に合ったときに、図3(a)の2次元
CCD17の撮像面において、そのエッジ42a及び4
2bに対応する像がそれぞれ指標マーク像50A及び5
0Bの内側に収まるように回折格子8の位置を調整すれ
ば、その周期的なパターン42の像の横ずれ量から対応
するショット領域41の位置を正確に検出することがで
きる。
【0056】なお、図3(a)に示すように、上述実施
例では指標マーク像50A及び50Bが位置の基準とし
て使用されているが、その指標マーク50A及び50B
は必ずしも必要ない。指標マーク50A及び50Bを使
用しない場合には、例えば2次元CCD17の撮像エレ
メントの何れかを位置の基準としてもよい。また、上述
実施例では、格子パターン像45の各部の位相ずれを検
出するのに微分手段及びゼロクロス点検出手段が使用さ
れているが、それ以外に例えばフーリエ変換して直接に
位相成分を検出する手法を使用することもできる。
例では指標マーク像50A及び50Bが位置の基準とし
て使用されているが、その指標マーク50A及び50B
は必ずしも必要ない。指標マーク50A及び50Bを使
用しない場合には、例えば2次元CCD17の撮像エレ
メントの何れかを位置の基準としてもよい。また、上述
実施例では、格子パターン像45の各部の位相ずれを検
出するのに微分手段及びゼロクロス点検出手段が使用さ
れているが、それ以外に例えばフーリエ変換して直接に
位相成分を検出する手法を使用することもできる。
【0057】このように、本発明は上述実施例に限定さ
れず本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取り
得る。
れず本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取り
得る。
【0058】
【発明の効果】本発明によれば、被検面に投影される明
暗のパターンに非繰り返し部が形成されているので、撮
像された像のその非繰り返し部に対応する部分を撮像面
の所定範囲内に収めることにより、その明暗のパターン
の撮像された像が繰り返しの間隔を超えて横ずれした場
合でも、正確に被検面の位置を検出できる利点がある。
また、第2の処理手段により検出された位置が撮像手段
の撮像面の所定の領域内に来るようにその被検面のその
所定の軸方向の位置を調整する位置調整手段を設けた場
合には、非繰り返し部に対応する部分が撮像画面から外
れた場合でも、被検面を上下してその非繰り返し部に対
応する部分がその撮像画面に入るようにすればよく、こ
れを補う他のオートフォーカス機構等は不要である。
暗のパターンに非繰り返し部が形成されているので、撮
像された像のその非繰り返し部に対応する部分を撮像面
の所定範囲内に収めることにより、その明暗のパターン
の撮像された像が繰り返しの間隔を超えて横ずれした場
合でも、正確に被検面の位置を検出できる利点がある。
また、第2の処理手段により検出された位置が撮像手段
の撮像面の所定の領域内に来るようにその被検面のその
所定の軸方向の位置を調整する位置調整手段を設けた場
合には、非繰り返し部に対応する部分が撮像画面から外
れた場合でも、被検面を上下してその非繰り返し部に対
応する部分がその撮像画面に入るようにすればよく、こ
れを補う他のオートフォーカス機構等は不要である。
【0059】また、非繰り返し部を、繰り返し部の一部
を除去して形成した場合には、被検面に投影される明暗
のパターンが容易に形成でき、非繰り返し部が繰り返し
部の端部である場合にもその明暗のパターンが容易に形
成できる。
を除去して形成した場合には、被検面に投影される明暗
のパターンが容易に形成でき、非繰り返し部が繰り返し
部の端部である場合にもその明暗のパターンが容易に形
成できる。
【図1】本発明による位置検出装置の一実施例が適用さ
れた縮小投影型露光装置の要部を示す構成図である。
れた縮小投影型露光装置の要部を示す構成図である。
【図2】図1のウエハ1の露光面に投影された明暗のパ
ターンを示す平面図である。
ターンを示す平面図である。
【図3】(a)は図1の2次元CCD17の撮像面の像
を示す線図、(b)は図3(a)の走査ラインmに沿っ
た撮像信号を示す波形図である。
を示す線図、(b)は図3(a)の走査ラインmに沿っ
た撮像信号を示す波形図である。
【図4】(a)は図1の2次元CCD17の撮像面の像
が横ずれした場合を示す線図、(b)は図4(a)の走
査ラインmに沿った撮像信号を示す波形図である。
が横ずれした場合を示す線図、(b)は図4(a)の走
査ラインmに沿った撮像信号を示す波形図である。
【図5】(a)は図1の2次元CCD17の撮像面の像
の第1変形例を示す線図、(b)は図5(a)の走査ラ
インuに沿った撮像信号を示す波形図である。
の第1変形例を示す線図、(b)は図5(a)の走査ラ
インuに沿った撮像信号を示す波形図である。
【図6】(a)は図1の2次元CCD17の撮像面の像
の第2変形例を示す線図、(b)は図6(a)の走査ラ
インu又は走査ラインmに沿った撮像信号を示す波形図
である。
の第2変形例を示す線図、(b)は図6(a)の走査ラ
インu又は走査ラインmに沿った撮像信号を示す波形図
である。
【図7】(a)は図1の2次元CCD17の撮像面の像
の第3変形例を示す線図、(b)は図7(a)の走査ラ
インuに沿った撮像信号を示す波形図、(c)は図7
(a)の走査ラインmに沿った撮像信号を示す波形図で
ある。
の第3変形例を示す線図、(b)は図7(a)の走査ラ
インuに沿った撮像信号を示す波形図、(c)は図7
(a)の走査ラインmに沿った撮像信号を示す波形図で
ある。
【図8】(a)は図7(a)の像が左方向にずれた場合
を示す線図、(b)は図8(a)の走査ラインuに沿っ
た撮像信号を示す波形図、(c)は図8(a)の走査ラ
インmに沿った撮像信号を示す波形図である。
を示す線図、(b)は図8(a)の走査ラインuに沿っ
た撮像信号を示す波形図、(c)は図8(a)の走査ラ
インmに沿った撮像信号を示す波形図である。
【図9】(a)は図7(a)の像が右方向にずれた場合
を示す線図、(b)は図9(a)の走査ラインuに沿っ
た撮像信号を示す波形図、(c)は図9(a)の走査ラ
インmに沿った撮像信号を示す波形図である。
を示す線図、(b)は図9(a)の走査ラインuに沿っ
た撮像信号を示す波形図、(c)は図9(a)の走査ラ
インmに沿った撮像信号を示す波形図である。
【図10】(a)は図1の2次元CCD17の撮像面の
像の第4変形例を示す線図、(b)は図10(a)の走
査ラインuに沿った撮像信号を示す波形図である。
像の第4変形例を示す線図、(b)は図10(a)の走
査ラインuに沿った撮像信号を示す波形図である。
【図11】本出願人の先願に係る縮小投影型露光装置の
要部を示す構成図である。
要部を示す構成図である。
【図12】(a)は図11の2次元CCD17の撮像面
の像を示す線図、(b)は図12(a)の或る走査ライ
ンに沿った撮像信号を示す波形図である。
の像を示す線図、(b)は図12(a)の或る走査ライ
ンに沿った撮像信号を示す波形図である。
【図13】(a)は図11のウエハの被検面1aの要部
を示す拡大平面図、(b)は図13(a)に対応して図
11の2次元CCD17の撮像面に結像される像を示す
線図である。
を示す拡大平面図、(b)は図13(a)に対応して図
11の2次元CCD17の撮像面に結像される像を示す
線図である。
1 ウエハ 2 ウエハホルダー 3 保持機構 4 駆動装置 5 投影光学系 17 2次元電荷結合型撮像デバイス(2次元CCD) 26 レチクル 29 アライメント系 32 アライメント用の顕微鏡 33 投射光学系 34 集光光学系 36 画像抽出手段 37 微分手段 38 ゼロクロス点検出手段 39 補正量算出手段 41 ショット領域 42 明暗の周期的なパターン 43 明部 44 暗部 45 格子パターン像 46 短い直線パターン像 50A,50B 指標マーク像
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−201516(JP,A) 特開 平2−207521(JP,A) 特開 平3−220714(JP,A) 実開 平4−45913(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/027 G03F 9/00 H01L 31/16
Claims (4)
- 【請求項1】 繰り返し部の中に非繰り返し部が形成さ
れた明暗のパターンを所定の軸に対して斜めの方向から
被検面に投影する送光手段と、 該投影された明暗のパターンの像を撮像する撮像手段
と、 該撮像された像の前記繰り返し部に対応する部分の横ず
れ量を検出する第1の処理手段と、 該撮像された像の前記非繰り返し部に対応する部分の位
置を検出する第2の処理手段とを有し、 前記第2の処理手段により検出された位置及び前記第1
の処理手段により検出された横ずれ量より前記被検面の
前記所定の軸の方向の位置を検出することを特徴とする
位置検出装置 - 【請求項2】 前記繰り返し部の中に非繰り返し部が形
成された明暗のパターンの中の前記非繰り返し部を、前
記繰り返し部の一部を除去して形成したことを特徴とす
る請求項1記載の位置検出装置。 - 【請求項3】 前記繰り返し部の中に非繰り返し部が形
成された明暗のパターンの中の前記非繰り返し部は、前
記繰り返し部の端部であることを特徴とする請求項1記
載の位置検出装置。 - 【請求項4】 前記第2の処理手段により検出された位
置が前記撮像手段の撮像面の所定の領域内に収まるよう
に前記被検面の前記所定の軸方向の位置を調整する位置
調整手段を更に有することを特徴とする請求項1、2、
又は3記載の位置検出装置
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21345892A JP3182746B2 (ja) | 1992-07-17 | 1992-07-17 | 位置検出装置 |
US08/264,841 US5416562A (en) | 1992-03-06 | 1994-06-22 | Method of detecting a position and apparatus therefor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21345892A JP3182746B2 (ja) | 1992-07-17 | 1992-07-17 | 位置検出装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0697037A JPH0697037A (ja) | 1994-04-08 |
JP3182746B2 true JP3182746B2 (ja) | 2001-07-03 |
Family
ID=16639550
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21345892A Expired - Fee Related JP3182746B2 (ja) | 1992-03-06 | 1992-07-17 | 位置検出装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3182746B2 (ja) |
-
1992
- 1992-07-17 JP JP21345892A patent/JP3182746B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0697037A (ja) | 1994-04-08 |
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