JP2602384B2 - 熱処理炉の雰囲気制御方法と装置 - Google Patents
熱処理炉の雰囲気制御方法と装置Info
- Publication number
- JP2602384B2 JP2602384B2 JP3346405A JP34640591A JP2602384B2 JP 2602384 B2 JP2602384 B2 JP 2602384B2 JP 3346405 A JP3346405 A JP 3346405A JP 34640591 A JP34640591 A JP 34640591A JP 2602384 B2 JP2602384 B2 JP 2602384B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- value
- carbon potential
- atmosphere
- heat treatment
- treatment furnace
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Control Of Heat Treatment Processes (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は鋼材等の雰囲気熱処理炉
におけるＰＦ（カーボンポテンシャル）値を変動なく一
定範囲内に制御する方法に関するものである。
におけるＰＦ（カーボンポテンシャル）値を変動なく一
定範囲内に制御する方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】鋼材熱処理炉において、炉内雰囲気ガス
の成分組成は、ＰＦ値で管理するのが一般的であり、Ｐ
Ｆ値ＰＦは、(1)式で表わされる。
の成分組成は、ＰＦ値で管理するのが一般的であり、Ｐ
Ｆ値ＰＦは、(1)式で表わされる。
【０００３】 ＰＦ＝（ＣＯ）2／ＣＯ2 ・・・(1) その制御方法は、鋼材毎に決定されるＰＦ値に従い、そ
の目標値に一致させる様に、炉内へ供給するガス量を制
御することにより行われている。この場合、炉内ガス成
分のＣＯ，ＣＯ2 濃度より、ＰＦ演算器を用いてＰＦ値
を求め、この演算値と予め設定された目標ＰＦ値との偏
差（△ＰＦ）がなくなるように、調節器でＰＩ（比例・
積分）制御されている。
の目標値に一致させる様に、炉内へ供給するガス量を制
御することにより行われている。この場合、炉内ガス成
分のＣＯ，ＣＯ2 濃度より、ＰＦ演算器を用いてＰＦ値
を求め、この演算値と予め設定された目標ＰＦ値との偏
差（△ＰＦ）がなくなるように、調節器でＰＩ（比例・
積分）制御されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、ＰＦ値は、そ
の演算式からも判る様に、ＣＯ2 濃度が減少してくると
値が極端に大きくなる為、ＰＦ制御にハンチングが発生
し、その結果炉内鋼材の脱炭・侵炭が目標値以上に変化
してしまう場合が発生するが、これを防止する為に、特
開昭63-162820号公報にみられる様に、ＣＯ2 濃度が低
下してきた場合、そのＰＦ調節ゲインをあるパターンに
沿って変化させることにより、ＰＦ値のハンチングを防
止する方法があるが、この場合、ＰＦ調節ゲインはＣＯ
2 濃度と正の相関関係にあるように規制する為、その関
係を逸脱した場合には、ＰＦ値にハンチングが発生して
しまう問題があった。即ち、この場合ＣＯ2 濃度起因に
よるＰＦ値変動に対しては有効であるが、ＣＯ濃度変
動，炉内温度変動等その他の要因による変動は考慮され
ていない為、狭義の意味でしか、最適ＰＦ制御ができな
いという問題があった。
の演算式からも判る様に、ＣＯ2 濃度が減少してくると
値が極端に大きくなる為、ＰＦ制御にハンチングが発生
し、その結果炉内鋼材の脱炭・侵炭が目標値以上に変化
してしまう場合が発生するが、これを防止する為に、特
開昭63-162820号公報にみられる様に、ＣＯ2 濃度が低
下してきた場合、そのＰＦ調節ゲインをあるパターンに
沿って変化させることにより、ＰＦ値のハンチングを防
止する方法があるが、この場合、ＰＦ調節ゲインはＣＯ
2 濃度と正の相関関係にあるように規制する為、その関
係を逸脱した場合には、ＰＦ値にハンチングが発生して
しまう問題があった。即ち、この場合ＣＯ2 濃度起因に
よるＰＦ値変動に対しては有効であるが、ＣＯ濃度変
動，炉内温度変動等その他の要因による変動は考慮され
ていない為、狭義の意味でしか、最適ＰＦ制御ができな
いという問題があった。
【０００５】本発明は、ＰＦ制御をＣＯ2 濃度如何に係
わらず、多数要因によるものも含めて、あらゆる範囲に
わたって目標範囲にＰＦ値を抑えることを目的とする。
わらず、多数要因によるものも含めて、あらゆる範囲に
わたって目標範囲にＰＦ値を抑えることを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、ＰＦ値自身の
変動状況を直接・連続的に演算し変動範囲がある一定値
以上を越えた場合ＰＦ調整ゲインを調整するという新し
いＰＦ調節ゲインコントロール方法を提供する。又、Ｐ
Ｆ値の変動範囲が一定値以下になった場合は、ＰＦ調節
ゲインを逆に調整することにより応答性を高める。以下
に、その具体的手段について示す。
変動状況を直接・連続的に演算し変動範囲がある一定値
以上を越えた場合ＰＦ調整ゲインを調整するという新し
いＰＦ調節ゲインコントロール方法を提供する。又、Ｐ
Ｆ値の変動範囲が一定値以下になった場合は、ＰＦ調節
ゲインを逆に調整することにより応答性を高める。以下
に、その具体的手段について示す。
【０００７】熱処理炉においては、雰囲気ガスの組成変
動は非常に重要な指標である。その変動は(1)式すなわ
ちＰＦ値の演算式からも判る様に、ＣＯ，ＣＯ2 濃度の
変動により決定され、その変動状態は連続的であり且
つ、滑らかな曲線を描く。そこで、このＰＦ値の変動状
況を演算式により捉える為には、ＰＦ値を△ｔ秒間毎に
サンプリングし、サンプリング値をＰＦ1 ，ＰＦ2 ，‥
‥‥‥‥，ＰＦn とすると、ＰＦ値の連続的な変動は、
△ｔ秒間の離散的な値に変換され、演算処理が容易とな
る。この値を用いて、まず、次式により△ｔ秒間でのＰ
Ｆ値の変動量△ＰＦn を演算する。
動は非常に重要な指標である。その変動は(1)式すなわ
ちＰＦ値の演算式からも判る様に、ＣＯ，ＣＯ2 濃度の
変動により決定され、その変動状態は連続的であり且
つ、滑らかな曲線を描く。そこで、このＰＦ値の変動状
況を演算式により捉える為には、ＰＦ値を△ｔ秒間毎に
サンプリングし、サンプリング値をＰＦ1 ，ＰＦ2 ，‥
‥‥‥‥，ＰＦn とすると、ＰＦ値の連続的な変動は、
△ｔ秒間の離散的な値に変換され、演算処理が容易とな
る。この値を用いて、まず、次式により△ｔ秒間でのＰ
Ｆ値の変動量△ＰＦn を演算する。
【０００８】 △ＰＦn ＝（ＰＦn −ＰＦn-1 ）／△ｔ ・・・(2) ここで、△ＰＦn は、ｎ時点のサンプリング値とｎ＋１
時点のサンプリング値の間の変化量すなわち△ｔ秒間の
ＰＦ値の変化量である。
時点のサンプリング値の間の変化量すなわち△ｔ秒間の
ＰＦ値の変化量である。
【０００９】この△ＰＦを逐次演算すると、△ＰＦ1 、
△ＰＦ2 ‥‥‥‥‥△ＰＦn がもとめられる。次に、こ
の△ＰＦn を隣接する値で、逐次符号照合し、符号変化
があった場合の点を極大値または極小値すなわちピ−ク
値とし、その時点でのＰＦ値をＰＦn ’としてメモリす
る。以降、順次△ＰＦn 演算，符号照合およびピ−ク検
出を行い、変曲点毎のＰＦ値をメモリする。これを、Ｐ
Ｆ1 ’、ＰＦ2 ’‥‥‥ＰＦ’n-1 、ＰＦ’n とする
と、 △ＰＦn ’＝ＰＦn ’−ＰＦn-1 ’ ・・・(3) が求められる。そして、この△ＰＦn ’と予め決めてお
いた△ＰＦa との絶対値比較を行い変動判定を行う。そ
して、 △ＰＦa ＜△ＰＦn ’でありかつ△ＰＦn ’＞△Ｐ
Ｆn-1 ’＞△ＰＦn-2’の場合は、ＰＦ値がハンチング
していると判断し、ＰＦ調節ゲインをＸ倍（Ｘ＜１）変
化させることによりＰＦゲインを落とし、ハンチングを
抑制する。又、 △ＰＦa ＜△ＰＦn ’でありかつ△ＰＦn ’≒△Ｐ
Ｆn-1 ’≒ＰＦn-2 ’の場合は、ＰＦ値がサイクリング
していると判断し、ＰＦ調節ゲインをＹ倍（Ｙ＜１）変
化させることによりＰＦゲインを落とし、サイクリング
を抑制する。
△ＰＦ2 ‥‥‥‥‥△ＰＦn がもとめられる。次に、こ
の△ＰＦn を隣接する値で、逐次符号照合し、符号変化
があった場合の点を極大値または極小値すなわちピ−ク
値とし、その時点でのＰＦ値をＰＦn ’としてメモリす
る。以降、順次△ＰＦn 演算，符号照合およびピ−ク検
出を行い、変曲点毎のＰＦ値をメモリする。これを、Ｐ
Ｆ1 ’、ＰＦ2 ’‥‥‥ＰＦ’n-1 、ＰＦ’n とする
と、 △ＰＦn ’＝ＰＦn ’−ＰＦn-1 ’ ・・・(3) が求められる。そして、この△ＰＦn ’と予め決めてお
いた△ＰＦa との絶対値比較を行い変動判定を行う。そ
して、 △ＰＦa ＜△ＰＦn ’でありかつ△ＰＦn ’＞△Ｐ
Ｆn-1 ’＞△ＰＦn-2’の場合は、ＰＦ値がハンチング
していると判断し、ＰＦ調節ゲインをＸ倍（Ｘ＜１）変
化させることによりＰＦゲインを落とし、ハンチングを
抑制する。又、 △ＰＦa ＜△ＰＦn ’でありかつ△ＰＦn ’≒△Ｐ
Ｆn-1 ’≒ＰＦn-2 ’の場合は、ＰＦ値がサイクリング
していると判断し、ＰＦ調節ゲインをＹ倍（Ｙ＜１）変
化させることによりＰＦゲインを落とし、サイクリング
を抑制する。
【００１０】更に、ＰＦ調節ゲインを変化させた後、Ｐ
Ｆ値の変動が、△ＰＦb 以内にはいっている場合には、
つまり △ＰＦm ’＜△ＰＦb であり、△ＰＦm ’≒△ＰＦ
m-1 ≒△ＰＦm-2 で、しかも、ＰＦ設定値を変更するこ
とが生じた場合は、ＰＦ調節ゲインをＺ倍（Ｚ＞１）変
化させることにより、従来の、ＰＦ値に戻し、設定値変
更時の応答性を回復させる。
Ｆ値の変動が、△ＰＦb 以内にはいっている場合には、
つまり △ＰＦm ’＜△ＰＦb であり、△ＰＦm ’≒△ＰＦ
m-1 ≒△ＰＦm-2 で、しかも、ＰＦ設定値を変更するこ
とが生じた場合は、ＰＦ調節ゲインをＺ倍（Ｚ＞１）変
化させることにより、従来の、ＰＦ値に戻し、設定値変
更時の応答性を回復させる。
【００１１】そして、以上の判定を行う場合、一定の観
測時間を設け、その観測時間の中でゲイン変更ロジック
を動作させるようにしている。
測時間を設け、その観測時間の中でゲイン変更ロジック
を動作させるようにしている。
【００１２】以上のように、ＰＦ値の変動を常時把握
し、各種の演算を施すことでオンラインでダイナミック
にＰＦゲインを変更することができる。
し、各種の演算を施すことでオンラインでダイナミック
にＰＦゲインを変更することができる。
【００１３】
【実施例】図１に、本発明の熱処理炉ＰＦ制御装置の全
体構成を示す。図において１は熱処理炉であり、炉内の
加熱及び雰囲気ガス供給の為、バーナ等必要装置が装備
されている。２は雰囲気ガス分析計で、炉内雰囲気のＣ
Ｏ，ＣＯ2 を分析するものであり、炉内のサンプリング
点は炉内代表点をとるように複数設定される。３はＰＦ
演算回路で、ＣＯ，ＣＯ2 の濃度によりＰＦ値を演算す
る。４はＰＦ調節器で、３で演算されたＰＦ値にもとず
き、処理される鋼材毎に予め設定器８で設定された値と
なるようにＰ１制御するもので、その操作出力は、雰囲
気ガス調節弁５に出力され雰囲気ガス量を制御する。６
はＰＦ値変動判定回路で、ＰＦ値のサンプリング処理，
変化率演算処理，ピーク判定処理、などをおこなうもの
である。７はＰＦ調節ゲイン補正回路で、ＰＦ変動量に
応じて、ＰＦ調節器４の制御ゲインを変更できる機能を
備えている。
体構成を示す。図において１は熱処理炉であり、炉内の
加熱及び雰囲気ガス供給の為、バーナ等必要装置が装備
されている。２は雰囲気ガス分析計で、炉内雰囲気のＣ
Ｏ，ＣＯ2 を分析するものであり、炉内のサンプリング
点は炉内代表点をとるように複数設定される。３はＰＦ
演算回路で、ＣＯ，ＣＯ2 の濃度によりＰＦ値を演算す
る。４はＰＦ調節器で、３で演算されたＰＦ値にもとず
き、処理される鋼材毎に予め設定器８で設定された値と
なるようにＰ１制御するもので、その操作出力は、雰囲
気ガス調節弁５に出力され雰囲気ガス量を制御する。６
はＰＦ値変動判定回路で、ＰＦ値のサンプリング処理，
変化率演算処理，ピーク判定処理、などをおこなうもの
である。７はＰＦ調節ゲイン補正回路で、ＰＦ変動量に
応じて、ＰＦ調節器４の制御ゲインを変更できる機能を
備えている。
【００１４】図２に、従来法によって鋼材を熱処理する
場合の時間経過に従ったＰＦ値の変化を示す。先ず、炉
温を一定温度になるまで除々に高くすると、ＰＦ値も炉
内温度の上昇に伴って除々に上昇して行く。ここでは、
ＰＦ値の応答性を向上させる為、一般的にはＰＦ調節器
の制御ゲインはやや高めに調整されている。次に、炉温
がある一定値に落ち着き、均熱状態を保持としている状
態では、ＰＦ値も同様に一定値に保持される。この均熱
状態を一定時間経過した後、徐冷却状態に入る。ＰＦ値
の変動は、炉内ガス組成変動が主因であり、ＰＦ調節ゲ
イン補正がない従来の場合は、炉内ガス組成の変動がＰ
Ｆ値の変動としてそのまま発生してしまう。 図３に、
本発明のＰＦ値ゲイン制御を行った場合のＰＦ値の変化
を示す。温度パターンは、昇熱から除々に上昇させて行
き、均熱状態を保持し、徐冷状態にはいるのは従来法と
同じであるが、ＰＦ値の変動を常時演算しており、ＰＦ
値が基準ＰＦ範囲を越える変動が発生した場合は、ＰＦ
値変動判定回路６で変動の発生を検知し、ＰＦ調節ゲイ
ン補償が行われる為、ＰＦ値の変動を一定の許容範囲以
内に抑制することができている。ＰＦ基準値を２５０に
設定した場合、従来法の変動幅は±２０であったが、本
発明法では±１０以内に収った。尚、△ｔ秒は、プロセ
スの状況によって変化させるのが好ましく、０．５〜数
秒の範囲が現在のところ適切である。図３に示す例では
１秒とした。
場合の時間経過に従ったＰＦ値の変化を示す。先ず、炉
温を一定温度になるまで除々に高くすると、ＰＦ値も炉
内温度の上昇に伴って除々に上昇して行く。ここでは、
ＰＦ値の応答性を向上させる為、一般的にはＰＦ調節器
の制御ゲインはやや高めに調整されている。次に、炉温
がある一定値に落ち着き、均熱状態を保持としている状
態では、ＰＦ値も同様に一定値に保持される。この均熱
状態を一定時間経過した後、徐冷却状態に入る。ＰＦ値
の変動は、炉内ガス組成変動が主因であり、ＰＦ調節ゲ
イン補正がない従来の場合は、炉内ガス組成の変動がＰ
Ｆ値の変動としてそのまま発生してしまう。 図３に、
本発明のＰＦ値ゲイン制御を行った場合のＰＦ値の変化
を示す。温度パターンは、昇熱から除々に上昇させて行
き、均熱状態を保持し、徐冷状態にはいるのは従来法と
同じであるが、ＰＦ値の変動を常時演算しており、ＰＦ
値が基準ＰＦ範囲を越える変動が発生した場合は、ＰＦ
値変動判定回路６で変動の発生を検知し、ＰＦ調節ゲイ
ン補償が行われる為、ＰＦ値の変動を一定の許容範囲以
内に抑制することができている。ＰＦ基準値を２５０に
設定した場合、従来法の変動幅は±２０であったが、本
発明法では±１０以内に収った。尚、△ｔ秒は、プロセ
スの状況によって変化させるのが好ましく、０．５〜数
秒の範囲が現在のところ適切である。図３に示す例では
１秒とした。
【００１５】
【効果】以上のように、本発明ではＰＦ値の変動を逐次
演算することにより、常時変動状況を把握し、その変動
がある設定範囲を越えた場合、ＰＦ調節ゲインを抑制
し、ＰＦの変動発生を抑えることができる為に、常にＰ
Ｆ値を最適なある一定範囲に抑制することができるとい
う利点がもたらされる。このことは、熱処理鋼材に対
し、脱炭・浸炭を起すことなく、適正な熱処理が可能で
あり、ひいては良質な鋼材が製造でき、産業上非常に大
きい効果を発揮することができる。
演算することにより、常時変動状況を把握し、その変動
がある設定範囲を越えた場合、ＰＦ調節ゲインを抑制
し、ＰＦの変動発生を抑えることができる為に、常にＰ
Ｆ値を最適なある一定範囲に抑制することができるとい
う利点がもたらされる。このことは、熱処理鋼材に対
し、脱炭・浸炭を起すことなく、適正な熱処理が可能で
あり、ひいては良質な鋼材が製造でき、産業上非常に大
きい効果を発揮することができる。
【図１】 本発明の一実施例の構成を示すブロック図で
ある。
ある。
【図２】 従来の制御によるＰＦ値の変化を示すタイム
チャ−トである。
チャ−トである。
【図３】 本発明の制御によるＰＦ値の変化を示すタイ
ムチャ−トである。
ムチャ−トである。
【図４】 本発明のＰＦ値のサンプリング値ＰＦ1等と
演算結果ΔＰＦn，ＰＦ1 ’，ΔＰＦ1 ’等を示すタイ
ムチャ−トであり、横軸が時間である。
演算結果ΔＰＦn，ＰＦ1 ’，ΔＰＦ1 ’等を示すタイ
ムチャ−トであり、横軸が時間である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 進 藤 信 博 室蘭市仲町12番地 ニッテツ北海道制御 システム株式会社内 (56)参考文献 特開 昭63−162820（ＪＰ，Ａ) 特公 昭57−61097（ＪＰ，Ｂ２)
Claims (2)
- 【請求項１】熱処理炉内雰囲気中のカーボンポテンシャ
ルを測定し、その測定値と予め定められたカーボンポテ
ンシャルの基準値との差値に制御ゲインを加味して得ら
れる投入ガス量変更信号をガス量調整手段に与えて雰囲
気制御を行う熱処理炉の雰囲気制御方法において、測定
したカーボンポテンシャルの変動振幅と予め定められた
変動振幅の制御範囲基準との大小関係と、前記測定した
変動振幅の増減傾向で変化する制御ゲインを用いて前記
雰囲気制御を行うことを特徴とする熱処理炉の雰囲気制
御方法。 - 【請求項２】熱処理炉内雰囲気中のカーボンポテンシャ
ルを測定し、その測定値と予め入力されたカーボンポテ
ンシャルの基準値との差値に制御ゲインを加味して得ら
れる投入ガス量変更信号をガス量調整手段に与えて雰囲
気制御を行うカーボンポテンシャル調節計を具備する熱
処理炉の雰囲気制御装置において、測定したカーボンポ
テンシャルを一定周期で読み取り且つ記憶し、前回測定
値と今回測定値の差値から時々刻々変動するカーボンポ
テンシャルの極大値と極小値を演算且つ記憶し、該極大
値と極小値からカーボンポテンシャルの変動振幅を演算
する演算手段と、該変動振幅と予め入力された変動振幅
の制御範囲基準との大小関係および前記演算した変動振
幅の増減傾向によりカーボンポテンシャル調節計の制御
ゲインを補正する補正手段を設けたことを特徴とする熱
処理炉の雰囲気制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3346405A JP2602384B2 (ja) | 1991-12-27 | 1991-12-27 | 熱処理炉の雰囲気制御方法と装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3346405A JP2602384B2 (ja) | 1991-12-27 | 1991-12-27 | 熱処理炉の雰囲気制御方法と装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05179365A JPH05179365A (ja) | 1993-07-20 |
| JP2602384B2 true JP2602384B2 (ja) | 1997-04-23 |
Family
ID=18383204
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3346405A Expired - Lifetime JP2602384B2 (ja) | 1991-12-27 | 1991-12-27 | 熱処理炉の雰囲気制御方法と装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2602384B2 (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2651436A1 (de) * | 1976-11-11 | 1978-05-18 | Degussa | Kristallines zeolithpulver des typs a iii |
| JPH075958B2 (ja) * | 1986-12-26 | 1995-01-25 | 大同特殊鋼株式会社 | 熱処理炉の雰囲気制御方法 |
-
1991
- 1991-12-27 JP JP3346405A patent/JP2602384B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05179365A (ja) | 1993-07-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2553783C2 (ru) | Способ и устройство управления давлением в печи отжига непрерывного действия | |
| JP2647217B2 (ja) | 複合制御方法 | |
| EP0518651B1 (en) | Process control system | |
| US4396478A (en) | Method of control of chemico-thermal treatment of workpieces in glow discharge and a device for carrying out the method | |
| JP2602384B2 (ja) | 熱処理炉の雰囲気制御方法と装置 | |
| JP3384330B2 (ja) | リバース圧延機における板厚制御方法 | |
| KR20020004801A (ko) | 연속압연기의 판두께 제어방법 패스스케줄 산출방법 및판두께 제어장치 | |
| US6955730B2 (en) | Method for enhancing the metallurigcal quality of products treated in a furnace | |
| JPH0280511A (ja) | 炉内雰囲気ガスの露点制御方法 | |
| JP2970264B2 (ja) | タンデム圧延機の板厚制御装置 | |
| JPH01184233A (ja) | 連続焼鈍炉の板温制御方法 | |
| JPH07138658A (ja) | 連続熱処理炉の露点制御装置 | |
| JPH075958B2 (ja) | 熱処理炉の雰囲気制御方法 | |
| RU2068006C1 (ru) | Способ управления нагревом металла в пламенной нагревательной печи | |
| JPH05222503A (ja) | 移動する製品に行われる冶金学的処理のための調整方法及びそれを実施するための装置 | |
| JPH0233785B2 (ja) | ||
| SU827569A1 (ru) | Способ регулировани электромагнитныхСВОйСТВ ТРАНСфОРМАТОРНОй СТАли | |
| JP5316765B2 (ja) | 熱処理炉の雰囲気制御方法 | |
| RU2152446C1 (ru) | Способ управления нагревом металла в колпаковой печи | |
| JP2000336433A (ja) | 連続焼鈍炉内ヘルパロール制御装置 | |
| JPH04168232A (ja) | 板温制御方法 | |
| JPH11123427A (ja) | 圧延材の形状制御方法および装置 | |
| JP2001011520A (ja) | 転炉吹錬制御方法及び転炉吹錬制御装置 | |
| JPH03265001A (ja) | プロセスの制御方法 | |
| JPH0580804A (ja) | 調節計 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19961119 |