JP2594118B2 - ベンゾジオキサンプロスタサイクリン類縁体 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 発明の目的 産業上の利用分野 本発明化合物は、医薬品の分野で抗潰瘍剤および抗血
栓剤として利用されうるベンゾジオキサンプロスタサイ
クリン類縁体に関する。さらに詳しくは、プロスタサイ
クリン［プロスタグランジン（以下PGと略す）I₂］様の
細胞保護作用および血小板凝集抑制作用を有する一般式
（Ｉ）で示される化合物またはその塩およびその中間体
に関する。

一般式： ［式中、R₁はアルキル、アルケニル、アルキニル、シク
ロアルキル、シクロアルキルアルキルまたはフェノキシ
アルキル;R₂は水素、低級アルキルまたはアラルキル;A
はエチレンまたはビニレン：波線はα配置もしくはβ配
置またはそれらの混合物を表わす］ 従来の技術 消化性潰瘍は、胃粘膜の局所的栄養障害によって抵抗
脆弱部位を生じ、そこに胃液が作用して生じると考えら
れている。しかし、消化性潰瘍の成因論は複雑で、機械
的刺激、化学的刺激、胃液消化、胃炎もしくは胃粘液分
泌障害などの種々の局所的要因またはストレス、自立神
経疾患、内分泌異常、全身栄養障害、アレルギーもしく
は体質異常などの全身的要因など複数の要因が関与して
いると考えられている。このような考え方は、シャイ
（Shay）ら防御因子と攻撃因子とのバランス説、すなわ
ち塩酸分泌亢進、ペプシン分泌亢進、迷走神経緊張、ガ
ストリン産生亢進、壁細胞総数増加またはゾリンジャー
−エリソン症候群（Zollinger−Ellison syndrome）な
どの粘膜攻撃因子と粘膜防壁、粘膜抵抗または十二指腸
性胃液分泌抑制などの粘膜防御因子とのアンバランスが
潰瘍発症に導くという説に集約されている。したがっ
て、潰瘍治療には、粘膜防御因子を助長し、攻撃因子か
ら粘膜を保護する手段がとられ、薬物療法として、
（１）精神安定剤、（２）副交感神経遮断剤、（３）制
酸剤、（４）抗ペプシン剤、（５）抗ガストリン剤、
（６）ムチン製剤などの胃粘膜保護剤または（７）胃組
織再生促進剤などのような薬物投与が行なわれてきた。

ロバート（Robert）らが、PGE₂やPGI₂などに、酸分泌
抑制作用および／または細胞保護作用（cytoprotectio
n）などがあることを発見して以来、これらのPGまたは
それらの誘導体の投与が、消化性潰瘍の治療に有用であ
ると注目されてきている。

抗潰瘍作用を有するPGI₂類縁体として、ニレプロスト
（Nileprost）（US 4,219,479）、Hoe−892［エス・ジ
ェイ・コントレックら（S.J.Konturek et al.）、プロ
スタグランジン（Prostaglandins）、第28巻、443頁、1
984年］、Ｕ−68215［エイ・ロバート（A.Robert et a
l.）、プロスタグランジン（Prostaglandins）、第30
巻、619頁、1985年］または特開昭58−164585記載の化
合物などがある。

発明が解決しようとする課題 PGI₂は、新たなアラキドン酸代謝物として発見されて
以来、胃粘膜保護作用（酸分泌抑制作用または細胞保護
作用）、血小板凝集抑制作用、血管拡張作用または気管
支平滑筋弛緩作用などさまざまな興味ある生物活性を有
することから注目されている。

PGI₂の酸分泌抑制作用または細胞保護作用（粘液産
生、分泌亢進、細胞膜安定化、ナトリウムポンプの維
持、重炭酸イオンの分泌、胃粘膜血流増加など）は、種
々の攻撃因子から胃腸粘膜を保護していると考えられ
る。しかしながら、天然PGI₂には、（１）代謝が早いた
めに経口投与で不活性であり、非経口的に投与したとき
に、作用持続時間が短いこと、（２）種々の薬理作用を
有すること、（３）化学的に不安定であることなどいく
つかの問題点があり、まだ十分に抗潰瘍剤として満足で
きるPGI₂類縁体は開発されていない。

課題を解決するための手段 本発明者らは、これらの問題点を解決する目的で研究
を行ない、一般式（Ｉ）で示されるベンゾジオキサンプ
ロスタサイクリン類縁体またはその塩を合成した。

一般式： ［式中、R₁はアルキル、アルケニル、アルキニル、シク
ロアルキル、シクロアルキルアルキルまたはフェノキシ
アルキル;R₂は水素、低級アルキルまたはアラルキル;A
はエチレンまたはビニレン：波線はα配置もしくはβ配
置またはそれらの混合物を表わす］ この新規化合物が、強い胃粘膜保護作用を有し、かつ
作用持続時間が長く化学的に安定な化合物であることを
見出し、本発明を完成した。

本明細書において、用いる語句の定義は、以下の通り
である。

「低級アルキル」とは、C₁〜C₆の直鎖状または分岐状
のアルキルを意味し、例えば、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、tert−ブチ
ル、ペンチルまたはヘキシルなどを挙げることができ
る。

「アルキル」とは、C₁〜C₁₀の直鎖状または分岐状の
アルキルを意味し、例えば、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、tert−ブチ
ル、ペンチル、１−メチルペンチル、1,1−ジメチルペ
ンチル、２−メチルペンチル、ヘキシル、１−メチルヘ
キシル、1,1−ジメチルヘキシル、２−メチルヘキシ
ル、ペプチル、オクチル、ノニルまたはデシルなどを挙
げることができる。

「アルケニル」とは、C₂〜C₁₀の直鎖状または分岐状
のアルケニルを意味し、例えば、ビニル、１−プロペニ
ル、２−プロペニル、２−ブチル−２−プロペニル、１
−ブテニル、２−ブテニル、２−ペンテニル、１−メチ
ル−３−ペンテニル、３−ヘキセニル、２−メチル−５
−ヘキセニル、2,6−ジメチル−５−ヘプテニル、３−
オクテニルまたは３−ノネニルなどを挙げることができ
る。

「アルキニル」とは、C₂〜C₁₀の直鎖状または分岐状
のアルキニルを意味し、例えば、エチニル、１−プロプ
ニル、２−プロピニル、１−ブチニル、２−ブチニル、
２−ペンチニル、２−メチル−３−ペンチニル、３−ヘ
キシニル、２−メチル−５−ヘプチニル、３−オクチニ
ルまたは３−ノニニルなどを挙げることができる。

「シクロアルキル」とは、C₃〜C₈のシクロアルキルを
意味し、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シク
ロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチルまたはシ
クロオクチルなどを挙げることができる。

「シクロアルキルアルキル」とは、C₃〜C₈のシクロア
ルキルによって置換されている低級アルキルを意味し、
例えば、シクロプロピルメチル、シクロブチルメチル、
シクロペンチルメチル、シクロペンチルエチル、シクロ
ヘキシルメチル、シクロヘキシルエチル、シクロヘプチ
ルメチルまたはシクロオクチルメチルなどを挙げること
ができる。

「フェノキシアルキル」とは、フェノキシによって置
換されている低級アルキルを意味し、例えば、フェノキ
シメチル、フェノキシエチル、１−フェノキシプロピ
ル、２−フェノキシプロピル、１−フェノキシ−２−メ
チルプロピル、１−フェノキシブチル、２−フェノキシ
ブチル、１−フェノキシペンチル、１−フェノキシヘキ
シル、１−フェノキシヘプチルまたは１−フェノキシオ
クチルなどを挙げることができる。

「アラルキル」とは、アリールで置換されている低級
アルキルを意味し、例えば、ベンジル、置換ベンジル
（2,4,6−トリメチルベンジル、４−ブロモベンジル、
４−メトキシベンジルなど）、ジフェニルメチル、トリ
フェニルメチル、ビス（２−ニトロフェニル）メチルま
たは９−アントリルメチルなどを挙げることができる。

一般式（Ｉ）において、より好ましいR₁として、アル
キル、例えば、ペンチル、１−メチルペンチル、1,1−
ジメチルペンチルもしくは２−メチルヘキシルなど、ア
ルケニル、例えば、2,6−ジメチル−５−ヘプテニル、
２−メチル−５−ヘキセニルもしくは２−ブチル−２−
プロペニルなど、アルキニル、例えば、１−メチル−３
−ペンチニルもしくは３−ヘキシニルなど、シクロアル
キル、例えば、シクロペンチルもしくはシクロヘキシル
など、シクロアルキルアルキル、例えば、シクロヘキシ
ルメチルなどまたはフェノキシアルキル、例えば、フェ
ノキシ−２−プロピル、フェノキシ−２−メチルプロピ
ルなどを挙げることができる。より好ましいR₂として、
水素、低級アルキル、例えばメチルなどまたはアラルキ
ル、例えば、９−アントリルメチルなどを挙げることが
できる。より好ましいＡとして、エチレンまたはビニレ
ン（トランス）を挙げることができる。

一般式（Ｉ）のR₂が水素のときの塩としては、アルカ
リ金属塩、例えば、リチウム塩、ナトリウム塩もしくは
カリウム塩など、アルカル土類金属塩、例えば、カルシ
ウム塩など、アンモニウム塩、有機塩基、例えば、トリ
エチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、ジシクロヘキシ
ルアミン、ピリジンもしくはトリメチルアミンとの塩ま
たはアミノ酸塩、例えば、グリシン、バリンもしくはア
ラニンなどとの塩を挙げることができる。

本発明化合物は、一般式（Ｉ）で一方の立体配置が示
されているラセミ体または光学活性体であるが、本発明
の技術範囲には、一般式（Ｉ）で示される化合物のすべ
ての立体異性体またはその混合物が含まれる。

本発明化合物は、以下に示す概要に従って製造するこ
とができる。

以下のスキーム中において、R₃は保護基を示し、例え
ば、トリメチルシリル、ジメチル−tert−ブチルシリ
ル、tert−ブチルジフェニルシリルなど通常用いられて
いる水酸基の保護基を用いる事ができる。

（工程Ａ） 本工程は、アルデヒドIIにグリニャール試薬を付加的
に反応させて、本発明化合物I a−ａおよびI c−ａを得
る工程である。

反応は、グリニャール反応の常法に従い、冷却下、エ
ーテル系のジエチルエーテル、テトラヒドロフランなど
の溶媒中、数十分から数時間で行なうことができる。反
応に用いるグリニャール試薬としては、縮合させたい側
鎖を有するマグネシウムハライド、例えばアルキルマグ
ネシウムハライド（ｎ−ペンチルマグネシウムブロミ
ド、１−メチルペンチルマグネシウムブロミド、1,1−
ジメチルペンチルマグネシウムクロリド、ｎ−ヘキシル
マグネシウムブロミド、２−メチルヘキシルマグネシウ
ムブロミドなど）、アルケニルマグネシウムハライド
（2,6−ジメチル−５−ペプテニルマグネシウムブロミ
ドなど）、アルキニルマグネシウムハライド（３−ヘキ
シニルマグネシウムブロミド、１−メチル−３−ペンチ
ニルマグネシウムブロミドなど）、シクロアルキルマグ
ネシウムハライド（シクロペンチルマグネシウムブロミ
ド、シクロヘキシルマグネシウムブロミドなど）または
シクロアルキルアルキルマグネシウムハライド（シクロ
ヘキシルメチルマグネシウムブロミドなど）を挙げるこ
とができる。

（工程Ｂ） 本工程は、エノンIIIを不飽和アルコールI a−ａおよ
びI c−ａに還元する工程である。

還元剤として、アルミニウムイソプロポキシド、ジイ
ソボルニルアルミニウムイソプロポキシド、水素化シア
ノホウ素ナトリウム、水素化トリ−sec−ブチルホウ素
カリウム、水素化ホウ素亜鉛、水素化ホウ素ナトリウ
ム、水素化ホウ素ナトリウムと塩化セリウム（III）と
の組合わせ、2,6−ジ−tert−ブチル−４−メチルフェ
ノキシドジイソブチルアルミニウム、水素化ヘキシルリ
モニルホウ素リチウムまたはBINAL−Ｈ［ビナフトー
ル、水素化アルミニウムリチウム、エタノールより調整
（ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサエテ
ィー、第106巻、6709頁、1984年）］などを用いること
ができる。

溶媒として、エーテル系のジエチルエーテル、テトラ
ヒドロフラン、アルコール系のメタノール、エタノー
ル、芳香族炭化水素系のベンゼン、トルエンまたは塩素
化炭化水素系のジクロロメタン、クロロホルムなどを試
薬の性質に応じて、単独でまたは混合して用いるとよ
い。反応は、冷却下または室温にて、数十分間で行なう
ことができる。

このようにして得られたアリルアルコールが、フェニ
ルセレニル基を含む場合には、酸化的に脱離してジエニ
ルアルコールとする。

フェニルセレニルアルコールをオゾン、過ヨウ素酸ナ
トリウム、過酸化物（例えば、過酸化水素、過酢酸、ｍ
−クロロ過安息香酸）などで酸化してセレノキシドと
し、続いて、塩素化炭化水素系溶媒（例えば、四塩化炭
素、クロロホルム、ジクロロメタンなど）中で、必要に
応じてジイソプロピルアミン存在下、還流することによ
りジエニルアルコールを得ることができる。

本工程で得られるアルコールは、エピマーの混合物で
ある。

本工程により、本発明化合物のうちのヒドロキシが保
護されたものI a−ａおよびI c−ａが得られる。

（工程Ｃ） 本工程は、化合物I a−ａまたはＩI c−ａのヒドロキ
シ保護基を除去して、それぞれ化合物I b−ａまたはI d
−ａを得る工程である。

反応は、必要に応じて、酢酸、塩酸、ｐ−トルエンス
ルホン酸、フッ化水素とピリジン、フッ化テトラブチル
アンモニウムなどの試薬を用い、溶媒としてアルコール
系のメタノール、エタノール、エーテル系のエチルエー
テル、テトラヒドロフランまたはアセトニトリル、水な
どを用い室温または加熱下数十分から数時間で達成する
ことができる。本工程で、カルボン酸メチルエステル
が、加水分解される場合があるので、必要に応じてジア
ゾメタンなどを用いてエステル化してもよい。

本工程により、本発明化合物のうちのヒドロキシ保護
基が除去された化合物I b−ａまたはI d−ａが得られ
る。

（工程Ｄ） 本工程は、化合物I a−ａを接触還元して、化合物I
e′−ａを得る工程である。

触媒としてパラジウム、白金、ニッケルなどの金属と
それらの任意の担体（例えば、活性反、アルミナ、硫酸
バリウム、炭酸カルシウム、炭酸ストロンチウムなど）
との混合物またはホウ化ニッケルもしくはクロロトリス
（トリフェニルホスフィン）ロジウムに常圧または加圧
下水素を吸収させたものを用いるとよい。

溶媒として、アルコール系のメタノール、エタノー
ル、エーテル系のジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサンまたはエステル系の酢酸エチルなどを単
独あるいは混合して用いるとよい。反応は、室温で数時
間から数十時間で行なうことができる。

（工程Ｅ） 本工程は、化合物I e′−ａのヒドロキシ保護基を除
去して、化合物I f−ａを得る工程である。

反応は、工程Ｃと同様に行なえばよい。

本工程により、本発明化合物のうちのヒドロキシ保護
基が除去された化合物I f−ａが得られる。

（工程Ｅ） 本工程は、化合物I b−ａ、I d−ａまたはI f−ａの
カルボン酸エステルを加水分解して、遊離のカルボン酸
I b−ｂ、I d−ｂまたはI f−ｂをそれぞれ得る工程で
ある。

反応は、加水分解反応の常法に従い行なうとよい。

本工程により、本発明化合物の遊離のカルボン酸I b
−ｂ、I d−ｂまたはI f−ｂを得ることができる。

（工程Ｇ） 本工程は、遊離のカルボン酸I b−ｂをエステル化し
てカルボン酸のアラルキルエステルI b−ａ′を得る工
程である。

エステル反応は、１）カルボン酸とアルコールによる
方法、２）酸クロリドとアルコールによる方法、３）カ
ルボン酸塩とハロゲン化物による方法または４）カルボ
ン酸とジアゾ化物による方法などを常法に従って行なう
とよい。

エステルを形成するアルコール、ハロゲン化物、ジア
ゾ化物のアラルキルとして、例えばベンジル、置換ベン
ジル（2,4,6−トリメチルベンジル、４−ブロモベンジ
ル、４−メトキシベンジル）、ジフェニルメチル、トリ
フェニルメチル、ビス（２−ニトロフェニル）メチルま
たは９−アントリルメチルなどを挙げることができる。

式中、R₁、R₂、R₃およびＡは、特に限定しない限り前
記と同義である。

波線は、αもしくはβ配置またはそれらの混合物を表
わす。

原料化合物（II）および（III）は、例えば次の反応
工程式に示される方法により製造することができる。

反応工程 （第１工程） 本工程は、アルコール１のヒドロキシを保護するため
に、ハロゲン化アルキルを用いて塩基存在下アルキル化
し、エーテル２を得る工程である。

反応は、ハロゲン化アルキルとして、メトキシメチル
クロリドまたはメトキシメチルブロミドなどを用い、溶
媒として、エーテル系のジエチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、塩素化炭化水素系のジクロロメタン、クロロ
ホルムまたはジメチルスルホキシド、ジメチルホルムア
ミドなどを用い冷却下ないしは室温にて数時間から数十
時間で行なうことができる。塩基として、例えばナトリ
ウムアミド、炭酸カリウム、トリエチルアミン、ジイソ
プロピルエチルアミン、水酸化ナトリウム、酸化バリウ
ム、酸化銀または水素化ナトリウムなどを用いるとよ
い。

（第２工程） 本工程は、スルフィド２をスルホキシド３に酸化する
工程である。

反応は酸化剤として、過酸化物、例えば過酸化水素、
tert−ブチルヒドロペルオキシド、過ギ酸、過酢酸、過
安息香酸、メタクロロ過安息香酸、パラニトロ過安息香
酸などを用い、アルコール系のメタノール、エタノー
ル、エーテル系のジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ンまたは塩素化炭化水素系のジクロロメタン、クロロホ
ルムなどの溶媒中、冷却下数十分から数時間で行なうこ
とができる。

（第３工程） 本工程は、スルホキシド３をスルフェン酸エステルに
転位させ、さらに得られたスルフェン酸エステルをエス
テル交換して、化合物４を得る工程である。

スルホキシド３とスルフェン酸エステルの間の平衡を
スルフェン酸エステル側に移動させるために、トリフェ
ニルホスフィンなどのホスフィン類またはトリメチルホ
スファイト、トリエチルホスファイトなどのホスファイ
ト類を用いるとよい。反応は、芳香族炭化水素系のベン
ゼン、トルエンなどおよびアルコール系のメタノール、
エタノールなどの混合溶媒中、加熱下、数十時間で行な
うことができる。

（第４工程） 本工程は、化合物４の二重結合を酸化して化合物５を
得る工程である。

反応は酸化剤として、過酸化物、例えば過酸化水素、
tert−ブチルヒドロペルオキシド、過ギ酸、過酢酸、過
安息香酸、メタクロロ過安息香酸、パラニトロ過安息香
酸などを用い、アルコール系のメタノール、エタノー
ル、エーテル系のジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ンなどまたは塩素化炭化水素系のジクロロメタン、クロ
ロホルムなどの溶媒中、冷却下数十分から数時間で行な
うことができる。

（第５工程） 本工程は、化合物６のヒドロキシを保護する工程であ
る。

保護基を形成する化合物として、メタンスルホニルク
ロリド、ｐ−トルエンスルホニルクロリドなどを挙げる
ことができる。反応は、水素化ナトリウム、トリエチル
アミン、ピリジンなどの塩基存在下、エーテル系のジエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、塩素化炭化水素系
のジクロロメタン、クロロホルムまたはジメチルスルホ
キシド、ジメチルホルムアミドなどを用い冷却下、数十
分から数時間で行なうことができる。

（第６工程） 本工程は、化合物７′のメチルを除去して、化合物
８′を得る工程である。

反応は、三塩化ホウ素または三臭化ホウ素などを用
い、塩素化炭化水素系のジクロロメタン、クロロホルム
などの溶媒中、冷却下数十分から数時間で行なうことが
できる。

別法として、メチルエーテルを三酸化クロム−酢酸に
よって酸化して相当するギ酸エステルに導いた後、これ
を加水分解してフェノールを得る方法またはヨウ化水素
酸もしくは臭化水素酸と加熱する方法などがある。

（第７工程） 本工程は、化合物８′のヒドロキシを保護するため
に、ハロゲン化アルキルを用いて、塩基存在下アルキル
化し、エーテル９′を得る工程である。

ハロゲン化アルキルとして、（２−トリメチルシリ
ル）エトキシメチルクロリドまたは（２−トリメチルシ
リル）エトキシメチルブロミドなどを用いるとよい。反
応は、第１工程に従って行なうとよい。

（第８工程） 本工程は、スルホン酸エステル９′をフェノール10に
変える工程である。

反応は求核試薬として、アルキルリチウム、例えばメ
チルリチウム、エチルリチウム、イソプロピルリチウ
ム、ｎ−ブチルリチウムなどまたはアルキルマグネシウ
ムハライド（グリニャール試験）、例えばメチルマグネ
シウムブロミド、エチルマグネシウムブロミド、イソプ
ロピルマグネシウムブロミド、ｎ−ブチルマグネシウム
ブロミドなどを用い、エーテル系のジエチルエーテル、
テトラヒドロフランなどの溶媒中、冷却下、数十分から
数時間反応させ、金属付加物を得たのち、水で分解する
ことにより行なうことができる。

（第９工程） 本工程は、化合物５と化合物10を縮合させる工程であ
る。

反応は化合物５を、例えばトリフェニルホスフィンと
アゾジカルボン酸ジエチルとの存在下に、酸性物質であ
る化合物10と冷却下または室温で数十分から数日間反応
させることにより行なわれる。溶媒として、芳香族炭化
水素系のベンゼン、塩素化炭化水素系のジクロロメタ
ン、クロロホルムまたはエーテル系のジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフランなど無水の溶媒を用いるとよ
い。

（第10工程） 本工程は、化合物11のヒドロキシ保護基を除去し、化
合物12を得る工程である。

反応は、通常シリル保護基を除去するときに用いられ
る方法によればよく、例えばフッ素水素−ピリジンまた
はフッ化テトラブチルアンモニウムなどの試薬を用い
て、エーテル系のジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ンなどの溶媒中、室温または加熱下、数時間から数日で
行なうことができる。化合物11は、ヒドロキシ保護基が
除去されると自動的に閉環して、化合物12となる。

（第11工程） 本工程は、化合物12のヒドロキシをアリル化して、化
合物14を得る工程である。

本工程は、テトラヘドロン（Tetrahedron）、第41
巻、4079頁〜4094頁、1985年記載の方法により行なうこ
とができる。

まず、化合物12を炭素ラジカルに対する前駆体、例え
ばチオアシル誘導体に変え、次に、得られた前駆体をア
リルスズ、例えばアリル−トリ−ｎ−ブチルスズととも
に光照射すればよい。

アシル化反応は、クロルチオノ炭酸フェニル、チオノ
炭酸ジイミダゾールまたは二硫化炭素−ヨウ化メチルな
どを用いて、エーテル系のジエチルエーテル、テトラヒ
ドロフランなどの溶媒中で行なうことができる。必要に
応じて、メチルリチウム、ｎ−ブチルリチウムなどの塩
基物質存在下反応を行なえばよい。

光照射反応は、アルゴン気流下、パイレックスフィル
ターを用いて、450W高圧水銀灯で数時間から数十時間光
照射することにより行なわれる。溶媒として、芳香族炭
化水素系のベンゼン、トルエンまたはエステル系の酢酸
エチルなどを単独または混合して用いるとよい。

（第12工程） 本工程は、メチルエーテル14を脱メチル化して、化合
物15を得る工程である。

試薬として、チオールのリチウムまたはナトリウムな
どの金属塩、例えば、リチウムメチルチオラート、ナト
リウムエチルチオラート、リチウムｎ−プロピルチオラ
ート、リチウムｎ−ブチルチオラートなどを用いるとよ
い。反応は、非プロトン性の極性溶媒、例えばジメチル
ホルムアミド、リン酸ヘキサメチルトリアミドまたはジ
メチルスルホキシドなどを用いて、数十分から数時間で
行なうことができる。

（第13工程） 本工程は、化合物15を、ハロゲン化アルキルを用い
て、塩基存在下アルキル化し、化合物16′を得る工程で
ある。

反応に用いるハロゲン化アルキルとしては、臭化酢酸
メチルまたはヨウ化酢酸メチルなどを挙げることができ
る。

本工程は、第１工程に従って行なうとよい。

（第14工程） 本工程は、化合物16′のヒドロキシ保護基を除去し、
化合物17′を得る工程である。

試薬は、ルイス酸とスルフィドまたはチオールを組み
合わせて用いるとよい。ルイス酸としては、三フッ化ホ
ウ素−ジエチルエーテル錯体、塩化アルミニウムまたは
臭化アルミニウムなどを挙げることができる。スルフィ
ドとして、ジメチルスルフィド、ジエチルスルフィドま
たはジフェニルスルフィドなどを、チオールとして、メ
タンチオール、エタンチオール、ベンゼンチオールなど
を挙げることができる。反応は、−10℃から室温で、必
要に応じて塩素化炭化水素系のジクロロメタン、クロロ
ホルムなど存在下行なえばよい。

また別法として、酸触媒（例えば、塩酸、酢酸など）
を用いた加水分解反応によっても行なうことができる。

（第15工程） 本工程は、化合物17′のヒドロキシを、以後の反応条
件から保護するために保護基を導入する工程である。反
応は、tert−ブチルジメチルシリルクロライド、tert−
ブチルジフェニルシリルクロライド、トリメチルシリル
クロライドなどを用い、トリエチルアミン、ピリジン、
４−ジメチルアミノピリジン、イミダゾールなどの塩基
存在下、室温または加温下にて数時間から数日間で達成
することができる。用いる溶媒としては、芳香族炭化水
素系のベンゼン、トルエン、塩化炭化水素系のクロロホ
ルム、ジクロロメタンまたはジメチルホルムアミドなど
を挙げることができる。あるいは反応は、ｐ−トルエン
スルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸・ピリジニウム
塩、アンバーリスト15［ローム・アンド・ハース社（Ro
hm ＆ Haas Co.）］などの酸性触媒の存在下、ジヒドロ
ピランと室温下に処理して達成することができる。用い
る溶媒としては、エーテル系のジエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、炭化水素系のヘキサン、芳香族炭化水
素系のベンゼン、トルエンまたは塩化炭化水素系のクロ
ロホルム、ジクロロメタンなどを挙げることができる。

（第16工程） 本工程は、化合物18′を二重結合の転位を伴うハロゲ
ン化反応に付し、化合物19′を得る工程である。

本工程は、テトラヘドロン・レターズ（Tetrahedoron
Letters）、第44巻、3909頁〜3912頁、1977年記載の方
法に従って行なうとよい。

化合物18′を、フェニルセレネニルクロライドまたは
ブロマイドと共に、四塩化炭素中で冷却下十数分間反応
させ、アンチ−マルコフニコフ付加体（anti−Markovni
kov adducts）を得る。得られた付加体をピリジンを含
む過酸化水素水を用いて、冷却下ないし室温にて、数時
間酸化することにより化合物19′を得ることができる。

（第17工程） 本工程は、化合物19′に対しカルボン酸塩による置換
反応を行って化合物20′を得る工程である。

カルボン酸塩としては、酢酸、トリフルオロ酢酸、ク
ロロ酢酸、メトキシ酢酸、フェノキシ酢酸または安息香
酸などのナトリウムまたはセシウム塩を挙げることがで
きる。

反応は、非極性溶媒の芳香族炭化水素系のベンゼン、
トルエンまたは極性溶媒のジメチルホルムアミド、リン
酸ヘキサメチルトリアミドまたはジメチルスルホキシド
などの溶媒中、数時間から数十時間加熱するとよい。非
極性溶媒を用いるときは、反応を促進させるために、ク
ラウンエーテル様の有機層−水層移動触媒、例えば18−
クラウン−６を加えてもよい。

（第18工程） 本工程は、エステル20′を加水分解してアルコール2
1′を得る工程である。

反応は、エステルの加水分解の常法に従って行なうと
よい。必要に応じて触媒として、酸（例えば、塩酸、硫
酸など）または塩基（水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、水酸化バリウムなど）を用いてもよい。溶媒とし
て、アルコール系のメタノール、エタノール、塩素化炭
化水素系のジクロロメタン、クロロホルムまたは水など
を必要に応じて混合して用いるとよい。

加水分解反応で、メチルエステルが一部カルボン酸に
加水分解された場合には、ジアゾメタンなどを用いてエ
ステル化するとよい。

（第19工程） 本工程は、アルコール21′をアルデヒドII′に酸化す
る工程である。

反応は酸化剤として、クロム酸系の酸化剤、例えばコ
リンズ試薬、ピリジニウム・クロロクロメートもしくは
ピリジニウム・ジクロメートなどを用いる方法、または
酸化剤としてジメチルスルホキシドと塩化オキサリル、
塩化スルフリルもしくはピリジン三酸化イオウをトリエ
チルアミン、４−ジメチルアミノピリジンなどの塩基と
共に組み合わせる方法によればよい。反応は試薬の性質
に応じて、芳香族炭化水素系のベンゼン、塩素化炭化水
素系のクロロホルム、ジクロロメタン、エーテル系のジ
エチルエーテルまたはアセトンなどの溶媒中で冷却から
加温下で数十分から数時間で達成できる。

（第20工程） 本工程は、化合物20′を酸化して、グリコール22′を
得る工程である。

酸化剤として、アルカリ性過マンガン酸カリウム水溶
液または四酸化オスミウムなどを用いるとよい。酸化剤
にアルカリ性過マンガン酸カリウム水溶液を用いる場合
には、硫酸マグネシウムなどを加えるとよい。酸化剤に
四酸化オスミウムを用いる場合には、ピリジンなどのア
ミン類を加えて環状オスミウムエステルの生成を促進さ
せ、これを亜硫酸ナトリウム、亜硫酸水素ナトリウムな
どにより処理するとよい。これらの反応に用いる溶媒と
しては、アルコール系のメタノール、エタノール、プロ
パノール、tert−ブタノールなど、エーテル系のジエチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなど、芳
香族炭化水素系のベンゼンなど、塩素化水素系のジクロ
ロメタン、クロロホルム、四塩化炭素またはアセトン、
酢酸エチルなどを試薬の性質に応じて用いるとよい。反
応は、室温で数時間から数日間で行なうことができる。

（第21工程） 本工程は、グリコール22′を開裂させてアルデヒド2
3′を得る工程である。

酸化剤として、例えば過ヨウ素塩酸（過ヨウ素酸ナト
リウムまたは過ヨウ素酸カリウム）または四酢酸鉛など
を用いるとよい。酸化剤として、過ヨウ素酸塩を用いる
場合には、溶媒としてアルコール系のメタノール、エタ
ノールなどまたはエーテル系のジエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサンなどの有機溶媒と水との混
合溶媒を用いる。酸化剤として、四酢酸鉛を用いる場合
には、芳香族炭化水素系のベンゼンなどの溶媒を用い、
必要に応じて、触媒としてトリクロロ酢酸などの酸を加
えるとよい。反応は室温で、数十分から数時間で行なう
ことができる。

（第22工程） 本工程は、アルデヒド23′をホスホン酸エステルと反
応させて不飽和ケトンIIIを得る工程である。

反応は、塩基として、水素化ナトリウム、ナトリウム
アミドなどの塩基を用い、1,2−ジメトキシエタンまた
はテトラヒドロフランなどの溶媒中、ホーナー−ワズワ
ース−エモンス（Horner−Wadsworth−Emmons）反応に
従って行なうとよい。

本反応で用いるホスホン酸エステルとしては、縮合さ
せたい側鎖を有するもの、即ち、２−オキソヘプチルホ
スホン酸ジメチル、２−オキソ−３−メチルヘプチルホ
スホン酸ジメチル、２−オキソ−3,3−ジメチルヘプチ
ルホスホン酸ジメチル、２−オキソ−４−メチルオクチ
ルホスホン酸ジメチル、２−オキソ−4,8−ジメチル−
７−ノニルホスホン酸ジメチル、２−オキソ−３−メチ
ル−５−ヘプチニルホスホン酸ジメチル、２−オキソ−
５−オクチニルホスホン酸ジメチル、２−オキソ−２−
シクロペンチルエチルホスホン酸ジメチルエステル、２
−オキソ−２−シクロヘキシルエチルホスホン酸ジメチ
ルエステル、２−オキソ−３−シクロヘキシルプロピル
ホスホン酸ジメチルエステル、２−オキソ−４−フェノ
キシペンチルホスホン酸ジメチルエステル、（Ｓ）−
（−）−２−オキソ−４−メチル−７−オクテニルホス
ホン酸ジメチルエステル、２−オキソ−４−（フェノキ
シメチル）ペンチルホスホン酸ジメチルエステルまたは
２−オキソ−４−（フェニルセレニルメチル）オクチル
ホスホン酸ジメチルエステルなどを挙げることができ
る。

例えば、２−オキソ−４−フェノキシペンチルホスホ
ン酸ジメチルは以下のように製造できる。

まず、１位のヒドロキシが保護されている1,3−ブタ
ンジオールを、第９工程の方法に従ってフェノール、ト
リフェニルホスフィンおよびアゾジカルボン酸ジエチル
と反応させ、対応する３−Ｏ−フェノールエステルにす
る。つぎに、１位のヒドロキシ保護基を除去し、得られ
たアルコールをクロム酸系酸化剤（例えば、ジョーンズ
試薬）などでカルボン酸に酸化し、エステル化するとよ
い。得られたエステルを、メチルホスホン酸ジメチルと
塩基物質より得られるアニオンと処理することにより目
的化合物を得ることができる。

２−オキソ−４−メチル−７−オクテニルホスホン酸
ジメチルは以下のように製造できる。

シトロネロールをクロル酸系酸化剤（例えば、ジョー
ンズ試薬）で酸化してカルボン酸とし、引き続いてエス
テル化し、シトロネル酸エステルを得る。次に、二重結
合を第４工程記載の方法に従い、過酸化物を用いてエポ
キシ化し、さらに過ヨウ素酸塩で酸化的に開裂させアル
デヒドを得る。このアルデヒドを、臭化トリメチルホス
ホニウムと塩基物質を用いてウィッティヒ反応に付し、
オレフィンを得る。このようにして得られた化合物を、
塩基物質存在下、メチルホスホン酸ジメチルと縮合させ
目的化合物を得ることができる。出発化合物として
（Ｓ）−（−）−シトロネロールなどの光学活性体を用
い、同様に反応を行なうと、（Ｓ）−２−オキソ−４−
メチル−７−オクテニルホスホン酸ジメチルなどの光学
活性体を得ることができる。

２−オキソ−４−（フェノキシメチル）ペンチルホス
ホン酸ジメチルは、上記と同様の方法により、４−フェ
ノキシ−３−メチルブタン酸とメチルホスホン酸ジメチ
ルとを、塩基物質存在下縮合させることにより得ること
ができる。

２−オキソ−４−（フェニルセレニルメチル）オクチ
ルホスホン酸ジメチルは以下のようにして得ることがで
きる。

２（5H）−フラノンを塩化トリメチルシリル存在下ジ
−ｎ−ブチル銅リチウム（臭化第Ｉ銅−ジメチルスルフ
ィド錯体およびｎ−ブチルリチウムより調整）を用いて
アルキル化する。次に、ラクトン環を、ジフェニルセレ
ニドを乾燥ジメチルホルムアミド中水素化ホウ素ナトリ
ウムで還元することにより得られたフェニルセレン酸ナ
トリウムで開環し、カルボン酸を得、エステル化する。
得られたエステルを塩基存在下、メチルホスホン酸ジメ
チルと縮合させることにより目的化合物を得ることがで
きる。

反応工程式中、R₁、R₂、R₃およびＡは、特に限定しな
い限り前記と同義である。

R₄はメタンスルホニル、ｐ−トルエンスルホニルなど
の置換スルホニルを意味する。

R₅は（メチルチオ）チオカルボニル、１−イミダゾリ
ルチオカルボニル、フェノキシチオカルボニルなどのチ
オアシルを意味する。

R₆は、アセチル、トリフルオロアセチル、クロロアセ
チル、メトキシアセチル、フェノキシアセチルなどのア
ルカノイルまたはベンゾイルなどのアロイルを意味す
る。

Halは塩素、臭素またはヨウ素などのハロゲンを意味
する。

SEMは（２−トリメチルシリル）エトキシメチル、TMS
は２−トリメチルシリル、Phはフェニルをそれぞれ表わ
す。

以下に参考例、実施例および物理恒数を示し、さらに
詳しく発明の態様を明らかにするが、本発明の範囲がこ
れらに限定されるものではない。

以下の参考例および実施例において、それぞれの化合
物は、それぞれの段階において、一方の鏡像異性体で表
わされている。化合物の相対配置または絶対配置は、そ
れぞれ化合物名のＲ、ＳまたはＲ^＊、Ｓ^＊表示によって
示されている。

波線は、αもしくはβ配置またはそれらの混合物を表
わす。

参考例−１ （３Ｒ ^＊,4Ｒ ^＊）−４−メトキシメトキシ−３−フエニ
ルチオ−１−シクロペンテン２の製造 アルコール１ 85.0g（0.443モル）とジイソプロピル
エチルアミン109ml（0.626モル）を乾燥ジクロロメタン
500mlに溶解し、氷冷下、メトキシメチルクロリド38.0m
l（0.500モル）のジクロロメタン100ml溶液を滴下す
る。滴下終了後、室温に戻し、更に23時間撹拌する。反
応液を、氷冷した1N塩酸150mlにあけ、ジクロロメタン
で２回抽出する。抽出液を、水、飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液、飽和食塩水で各１回洗浄後、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥する。減圧下溶媒を留去した後、減圧蒸留
し、目的とする２を98.6g（収率94.3％）油状物質とし
て得る。

・沸点98〜100℃（0.03mmHg） ・¹H−NMR:δ（CDCl₃）2.33（1H,m）,2.67（1H,m）,3.2
3（3H,s）,4.11〜4.23（1H,m）,4.23〜4.40（1H,m）,4.
50（1H,d,J＝9Hz）,4.52（1H,d,J＝9Hz）,5.64〜5.93
（2H,m）,7.13〜7.51（5H,m）ppm. ・IR:νmax（CHCl₃）3064,3004,2952,2828,1585,1482,1
439,1148,1098,1037,915cm^-1. ・MS:m/z M⁺236. 参考例−２ （３Ｒ ^＊,4Ｒ ^＊）−４−メトキシメトキシ−３−フエニ
ルスルフエニル−１−シクロペンテン 窒素気流下、スルフイド２（参考例−１）98.6g（0.4
18モル）の乾燥ジクロロメタン１溶液に、−60〜−70
℃に於いて、85％ｍ−クロロ過安息香酸108g（0.502モ
ル）の乾燥ジクロロメタン1.4溶液を1.5時間かけて滴
下する。滴下終了後、同温にて更に20分撹拌する。反応
液に、ジメチルスルフイド9.2ml（0.125モル）を加え、
反応を停止する。反応液を濾過し、濾液は減圧下溶媒を
留去する。残渣をエーテル1.2に溶解し、1N−水酸化
ナトリウム水溶液、水、飽和塩化アンモニウム水溶液で
洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下
溶媒を留去して、目的とするスルホキシド３の粗生成物
を106g油状物質として得る。このものは精製する事なく
次の反応に用いる。

参考例−３ （１Ｒ ^＊,4Ｒ ^＊）−４−メトキシメトキシ−２−シクロ
ペンテン−１−オール４の製造 窒素気流下、スルホキシド３（参考例−２）の粗生成
物106g及びトリフエニルホスフイン165g（0.623モル）
をトルエン１、メタノール300mlの混合溶媒に溶解
し、60℃に於いて、40時間撹拌する。減圧下溶媒を留去
した後、残渣をエーテル300mlに溶解し、氷冷下ｎ−ペ
ンタン300mlを滴下する。析出した結晶を濾過した後、
濾液は、減圧下濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラ
フイー精製（シリカゲル600g、酢酸エチル：ベンゼン＝
0:1〜1:0）を行い、更に減圧蒸留して、目的とするアル
コール４を48.3g（２工程通算収率80.2％）油状物質と
して得る。

・沸点80〜81℃（1mmHg） ・¹H−NMR:δ（CDCl₃）1.70〜2.35（3H,m）,3.35（3H,
s）,4.65（2H,s）,4.77〜5.20（2H,m）,5.94〜6.13（2
H,m）ppm. ・IR:νmax（CHCl₃）3608,3004,2944,2892,1360,1148,1
097,1033,914cm^-1. ・MS:mz（Ｍ−１）⁺143. 参考例−４ （１Ｒ ^＊,2Ｒ ^＊,3Ｓ ^＊,4Ｒ ^＊）−2,3−エポキシ−４−
メトキシメトキシ−１−シクロペンタノール５の製造 オレフイン４（参考例−３）27.0g（0.188モル）を乾
燥ジクロロメタン400mlに溶解し、室温に於いて、80％
ｍ−クロロ過安息香酸48.5g（0.225モル）を加え、終夜
撹拌を行う。ドライアイス−アセトン浴で冷却した反応
液にジメチルスルフイド4.1ml（0.056モル）を加え、同
温にて更に10分間撹拌する。反応液を濾過し、濾液は、
アルミナ（グレードII）150gで更に濾過する。アルミナ
をエーテル1.8で洗浄し、濾液及び洗浄液を合わせ、
減圧下濃縮する。残渣を、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフイー精製（シリカゲル450g、酢酸エチル:n−ヘキサ
ン＝1:2〜1:1）して、目的とするエポキシド５を25.9g
（収率86.3％）を油状物質として得る。

・¹H−NMR:δ（CDCl₃）1.45（1H,ddd,J＝6Hz,8Hz,15H
z）,2.07（1H,dd,J＝8Hz,15Hz）,2.27（1H,d,J＝8Hz,−
ＯＨ）,3.37（3H,s）,3.49〜3.60（2H,m）,4.25（1H,d,
J＝6Hz）,4.37〜4.60（1H,m）,4.64（2H,s）ppm. ・IR:νmax（CHCl₃）3588,3004,2952,2896,1397,1150,1
102,1042,915,869cm^-1. ・MS:m/z（Ｍ−１）⁺159. 参考例−５ ２−メタンスルホニルオキシ−1,3−ジメトキシベンゼ
ン７の製造 窒素気流下、60％水素化ナトリウム23.3g（0.583モ
ル）のジメチルホルムアミド（以下、DMFと略す）400ml
懸濁液に、氷冷下、2,6−ジメトキシフエノール［アル
ドリツチ製（Aldrich）］６、75g（0.486モル）のDMF13
0ml溶液を、30分間で滴下する。滴下終了後、25分間撹
拌を続けた後、メタンスルホニルクロリド54.3ml（0.68
0モル）のDMF130ml溶液を滴下し、更に同温にて30分撹
拌する。氷水1.8に反応液をあけ、ベンゼンで２回抽
出する。抽出液は、1N水酸化ナトリウム水溶液、水、飽
和塩化アンモニウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥する。減圧下、溶媒を留去して、目的とする
スルホン酸エステル７の粗結晶を、112g得る。このもの
は精製することなく次の反応に用いる。

参考例−６ ２−メタンスルホニルオキシ−３−メトキシフエノール
８の製造 窒化気流下、エチルエーテル７（参考例−５）の粗結
晶112gのジクロロメタン１溶液に、−60〜−70℃に於
いて、三臭化ホウ素125g（0.500モル）のジクロロメタ
ン500ml溶液を滴下する。滴下終了後、−40℃まで昇温
し、同温にて40分間撹拌する。反応液を水1.5にあ
け、ジクロロメタンで２回抽出する。抽出後は、希炭酸
水素ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥する。減圧下、溶媒を留去して、目的とするフエ
ノール８の粗結晶を94g得る。ベンゼンより再結晶し、
融点105〜106℃の８ 80.0g（２工程通算収率75.5％）
を得る。

・融点105〜106℃（ベンゼン） ・¹H−NMR:δ（CDCl₃）3.26（3H,s）,3.64（3H,s）,5.9
5（1H,br,s）,6.53（1H,dd,J＝2Hz,8Hz）,6.64（1H,dd,
J＝2Hz,8Hz）,7.09（1H,t,J＝8Hz）ppm. ・IR:νmax（CHCl₃）3568,3472,1609,1497,1483,1371,1
344,1146,1092,973,869cm^-1. ・MS:m/z M⁺218. 参考例−７ ２−メタンスルホニルオキシ−１−メトキシ−３−
［［（２−トリメチルシリル）エトキシ］メトキシ］ベ
ンゼン９の製造 窒素気流下、フェノール８（参考例−６）25.0g（0.1
15モル）及びジイソプロピルエチルアミン29.3ml（0.17
3モル）のジクロロメタン400ml溶液に、氷冷下、（２−
トリメチルシリル）エトキシメチル クロリド（SEM−C
l）25.0ml（0.141モル）のジクロロメタン125ml溶液を
滴下する。滴下終了後、室温に戻し、３時間撹拌した
後、乾燥メタノール（45ml）1.11モル）を加え、更に終
夜撹拌する。反応液は、1N塩酸、水、飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥する。減圧下溶媒を留去して、目的とするエ
ーテル９の粗生成物を44g油状物質として得る。このも
のは精製する事なく次の反応に用いる。

参考例−８ ２−メトキシ−６−［［（２−トリメチルシリル）エト
キシ］メトキシ］フエノール10の製造 窒素気流下、メタンスルホン酸エステル９（参考例−
７）の粗生成物44gの乾燥エーテル750ml溶液に、−60〜
−70℃に於いてｎ−ブチルリチウム（1.6N,n−ヘキサン
溶液）130ml（0.207モル）を滴下する。滴下終了後、同
温にて20分間撹拌し、反応液を低温のまま、飽和塩化ア
ンモニウム水溶液1.5に注ぎ、反応を停止する。エー
テルで２回抽出し、抽出液は水、飽和食塩水で洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下、溶媒を留去
した残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフイー精製
（シリカゲル700g、酢酸エチル:n−ヘキサン＝1:9）し
て、目的とするフエノール10を29.7g（２工程通算収率9
5.7％）油状物質として得る。

・¹H−NMR:δ（CDCl₃）0.0（9H,s）,0.94（2H,dd,J＝8H
z,9Hz）,3.78（2H,dd,J＝8Hz,9Hz）,3.74（3H,s）,5.21
（2H,s）,5.83（1H,br.s）,6.50〜6.80（3H,m）ppm. ・IR:νmax（CHCl₃）3544,2960,1619,1505,1481,1075,1
003,860,837cm^-1. ・MS:m/z M⁺270. 参考例−９ １−［［（１Ｒ ^＊,2Ｓ ^＊,3Ｒ ^＊,4Ｓ ^＊）−2,3−エポキ
シ−４−メトキシメトキシ−１−シクロペンチル］オキ
シ］−２−メトキシ−６−［（２−トリメチルシリルエ
トキシ）メトキシ］ベンゼン11の製造 窒素気流下、フエノール10（参考例−８）39.3g（0.1
46モル）、アルコール５（参考例−４）25.8g（0.161モ
ル）及びトリフエニルホスフイン49.6g（0.189モル）の
乾燥テトラヒドロフラン（以下、THFと略す。）750m溶
液に、氷冷下、アゾジカルボン酸ジエチル25.2ml（0.16
0モル）を徐々に滴下する。滴下終了後室温に戻し、３
日間撹拌の後、トリフエニルホスフイン11.4g（0.044モ
ル）及びアゾジカルボン酸ジエチル6.9ml（0.044モル）
を追加し、更に２日間撹拌する。減圧下、溶媒を留去し
た反応液残渣に、エーテル50mlを加え、ドライアイス−
アセトン浴で冷却する。析出した結晶を濾別し、濾液
を、減圧濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフイー
精製（シリカゲル1.5kg、酢酸エチル：ベンゼン＝1:50
〜1:9）して、目的とするエポキシエーテル11を51.8kg
（収率86.2％、化合物10より）油状物質として得る。

・¹H−NMR:δ（CDCl₃）0.0（9H,s）,0.92（2H,dd,J＝8H
z,9Hz）,1.76〜2.33（2H,m）,3.41（3H,s）,3.80（3H,
s）,3.65〜3.90（4H,m）,4.26（1H,d,J＝6Hz）,4.50（1
H,d,J＝6Hz）,4.73（2H,s）,5.20（2H,s）,6.57（1H,d
d,J＝2Hz,8Hz）,6.76（1H,dd,J＝2Hz,8Hz）,6.96（1H,
t,J＝8Hz）ppm. ・IR:νmax（CHCl₃）3004,2960,2896,2840,1598,1490,1
476,1249,1108,1073,1012,859,847,837cm^-1. ・MS:m/z M⁺412. 参考例−10 （１Ｒ ^＊,2Ｓ ^＊,3aＲ ^＊,9aＳ ^＊）−５−メトキシ−２−
メトキシメトキシ−2,3,3a,9a−テトラヒドロ−１Ｈ−
シクロペンタ［ｂ］［1,4］ベンゾジオキシン−１−オ
ール12の製造 窒素気流下、エポキシド11（参考例−９）51.8g（0.1
25モル）の乾燥THF190ml溶液に、フツ化テトラ−ｎ−ブ
チルアンモニウム（1M,THF溶液）251ml（0.250モル）を
加え、55℃、で３日間撹拌する。反応液を水にあけ、酢
酸エチルで２回抽出する。抽出液は、水、飽和塩化アン
モニウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
する。減圧下溶媒を留去した残渣を、シリカゲルカラム
クロマトグラフイー精製（シリカゲル700g、酢酸エチ
ル:n−ヘキサン＝1:2〜1:1）し、更にエーテル−ｎ−ヘ
キサン混合溶媒より結晶化を行つて、目的とするベンゾ
ジオキシン12を31.7g（収率89.6％）得る。

・融点69.0〜70.0℃（エーテル−ｎ−ヘキサン） ・¹H−NMR:δ（CDCl₃）2.13（1H,ddd,J＝2.5Hz,6Hz,15H
z）,2.62（1H,ddd,J＝6Hz,10Hz,15Hz）,3.37（3H,s）,
3.83（3H,s）,3.50〜3.95（2H,m）,4.05〜4.41（3H,
m）,4.67（2H,s）,6.47（1H,dd,J＝2Hz,8Hz）,6.57（1
H,dd,J＝2Hz,8Hz）,6.80（1H,t,J＝8Hz）ppm. ・IR:νmax（CHCl₃）3476,3004,2952,2896,2844,1603,1
499,1475,1280,1110,1082cm^-1. ・MS:m/z M⁺282. 参考例−11 （１Ｒ ^＊,2Ｓ ^＊,3aＲ ^＊,9aＲ ^＊）−５−メトキシ−２−
メトキシメトキシ−１−［［（フエノキシ）チオカルボ
ニル］オキシ］−2,3,3a,9a−テトラヒドロ−１Ｈ−シ
クロペンタ［ｂ］［1,4］ベンゾジオキシン13の製造 窒素気流下、アルコール12（参考例−10）15.0g（53.
2ミリモル）の乾燥THF150ml溶液に、−60〜−70℃に於
いて、ｎ−ブチルリチウム（1.6Nn−ヘキサン溶液）36.
6ml（58.6ミリモル）を滴下する。滴下終了後、20分間
撹拌し、クロロチオノ炭酸フエニル8.82ml（63.9ミリモ
ル）を加え、同温にて更に20分間撹拌する。30分間かけ
て０℃まで昇温し、同温にて更に１時間撹拌した後、飽
和塩化アンモニウム水溶液を加え反応を停止する。反応
液を酢酸エチルで２回抽出し、抽出液は、飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥する。減圧下溶媒留去した残渣を、シリ
カゲルカラムクロマトグラフイー精製（シリカゲル400
g、酢酸エチル:n−ヘキサン＝1:5〜1:2）して、目的と
するチオノ炭酸エステル13を20.4g（収率91.9％）結晶
として得る。

・融点100〜102℃（ベンゼン−ｎ−ヘキサン） ・¹H−NMR:δ（CDCl₃）2.17（1H,dt,J＝7Hz,15Hz）,2.6
6（1H,ddd,J＝6Hz,8Hz,15Hz）,3.33（3H,s）,3.85（3H,
s）,4.14〜4.75（5H,m）,5.82（1H,t,J＝4Hz）,6.43〜
6.88（3H,m）,7.03〜7.52（5H,m）ppm. ・IR:νmax（CHCl₃）3008,2956,1603,1500,1492,1477,1
290,1189,1111,1039cm^-1. ・MS:m/z M⁺418. 参考例−12 （１Ｒ ^＊,2Ｓ ^＊,3aＲ ^＊,9aＳ ^＊）−５−メトキシ−２−
メトキシメトキシ−１−（２−プロペニル）−2,3,3a,9
a−テトラヒドロ−１Ｈ−シクロペンタ［ｂ］［1,4］ベ
ンゾジオキシン14の製造 チオノ炭酸エステル（参考例−11）13、20.44g（48.9
ミリモル）と、アリル−トリ−ｎ−ブチル錫48.9g（148
ミリモル）を乾燥ベンゼン400mlに溶解し、アルゴンを
１時間通じ、完全に脱気を行う。アルゴン気流下、パイ
レツクスフイルターを通して450W高圧水銀灯で10時間光
照射を行う。反応液を、減圧濃縮後、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフイー精製［１）シリカゲル600g、
酢酸エチル:n−ヘキサン＝1:5〜1:3、２）シリカゲル70
0g、酢酸エチル：ジクロロメタン＝3:97］して、目的と
するオレフイン14を11.2g（収率74.8％）結晶として得
る。

・融点48.5〜49.5℃（ｎ−ペンタン） ・¹H−NMR:δ（CDCl₃）1.93〜2.57（5H,m）,3.33（3H,
s）,3.85（3H,s）,3.72〜4.23（2H,m）,4.26〜4.45（1
H,m）,4.59（2H,m）,4.98〜5.30（2H,m）,5.60〜6.13
（1H,m）,6.40〜6.65（2H,m）,6.78（1H,t,J＝8Hz）pp
m. ・IR:νmax（CHCl₃）3008,2948,2844,1642,1603,1499,1
477,1282,1254,1107,1037,918cm^-1. ・MS:m/z M⁺306. 参考例−13 （１Ｒ ^＊,2Ｓ ^＊,3aＲ ^＊,9aＳ ^＊）−２−メトキシメトキ
シ−１−（２−プロペニル）−2,3,3a,9a−テトラヒド
ロ−１Ｈ−シクロペンタ［ｂ］［1,4］ベンゾジオキシ
ン−５−オール15の製造 窒素気流下、ｎ−ブチルメルカプタン5.25ml（49ミリ
モル）のリン酸ヘキサメチルトリアミド（以下HMPAと略
す。）30ml溶液に、氷冷下、ｎ−ブチルリチウム（1.58
Nn−ヘキサン溶液）30ml（47ミリモル）を滴下する。滴
下終了後室温に戻し、減圧下ｎ−ヘキサンを留去する。
反応液に、メチルエーテル14（参考例−12）6.00g（19.
6ミリモル）のHMPA20ml溶液を加え、100℃に於て、30分
間撹拌を行う。反応液に、飽和塩化アンモニウム水溶液
を加え、酢酸エチルで３回抽出する。抽出液は、水、飽
和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。
減圧濃縮した残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフ
イー精製（シリカゲル150g、酢酸エチル:n−ヘキサン＝
1:3）して、目的とするフエノール15を5.64g（収率98.5
％）油状物質として得る。

・¹H−NMR:δ（CDCl₃）1.90〜2.56（5H,m）,3.33（3H,
S）,3.72〜4.36（3H,m）,4.57（2H,m）,4.96〜5.26（2
H,m）,5.43（1H,br.s）,5.62〜6.11（1H,m）,6.38〜6.5
7（2H,m）,6.72（1H,t,J＝8Hz）ppm. ・IR:νmax（CHCl₃）3552,3008,2948,1642,1610,1499,1
487,1272,1090,1040,917cm^-1. ・MS:m/z M⁺292. 参考例−14 ［（１Ｒ ^＊,2Ｓ ^＊,3aＲ ^＊,9aＳ ^＊）−２−メトキシメト
キシ−１−（２−プロペニル）−2,3,3a,9a−テトラヒ
ドロ−１Ｈ−シクロペンタ［ｂ］［1,4］ベンゾジオキ
シン−５−イル］オキシ酢酸メチル16の製造 窒素気流下、60％水素化ナトリウム850mg（21.2ミリ
モル）の乾燥ジメトキシエタン（以下DMEと略す。）50m
l懸濁液に、氷冷下、フエノール15（参考例−13）5.64g
（19.3ミリモル）のDME40ml溶液を滴下する。滴下終了
後室温に戻し、20分間撹拌を行い、臭化酢酸メチル3.65
ml（38.6ミリモル）を加えた後、終夜撹拌する。反応液
に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで３
回抽出する。抽出液は、水、飽和食塩水で洗浄後、減圧
濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイー精
製（シリカゲル150g、酢酸エチル:n−ヘキサン＝1:2）
して、目的とするメチルエステル16を6.32g（収率89.9
％）結晶として得る。

・融点65.0〜66.0℃（エーテル−ｎ−ヘキサン） ・¹H−NMR:δ（CDCl₃）1.94〜2.56（5H,m）,3.33（3H,
s）,3.76（3H,s）,3.75〜4.46（3H,m）,4.58（2H,s）,
4.67（2H,s）,4.98〜5.27（2H,m）,6.59〜6.14（1H,
m）,6.35〜6.85（3H,m）ppm. ・IR:νmax（CHCl₃）3012,2960,1764,1742,1643,1600,1
499,1476,1441,1287,1125,1037,917cm^-1. ・MS:m/z M⁺364. 参考例−15 ［（１Ｒ ^＊,2Ｓ ^＊,3aＲ ^＊,9aＳ ^＊）−２−ヒドロキシ−
１−（２−プロペニル）−2,3,3a,9a−テトラヒドロ−
１Ｈ−シクロペンタ［ｂ］［1,4］ベンゾジオキシン−
５−イル］オキシ酢酸メチル17の製造 窒素気流下、メトキシメチルエーテル16（参考例−1
4）6.32g（17.4ミリモル）及び、ジメチルスルフイド6.
38ml（86.8ミリモル）のジクロロメタン95ml溶液に、氷
冷下、三フツ化ホウ素−ジエチルエーテル錯体10.9ml
（86.8ミリモル）を滴下し、同温にて２時間撹拌する。
反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液600mlを加え、3
0分間激しく撹拌する。反応液をジクロロメタンで３回
抽出し、抽出液は、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽
和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。
減圧濃縮した残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイ
ー精製（シリカゲル150g、酢酸エチル:n−ヘキサン＝1:
2〜1:1）して、目的とするアルコール17を5.20g（収率9
3.6％）結晶として得る。

・融点101〜102℃（エーテル） ・¹H−NMR:δ（CDCl₃）1.91〜2.60（6H,m）,3.76（3H,
s）,3.84〜4.20（2H,m）,4.22〜4.43（1H,m）,4.67（2
H,m）,4.99〜5.28（2H,m）,5.65〜6.10（1H,m）,6.36〜
6.86（3H,m）ppm. ・IR:νmax（CHCl₃）3592,3012,2960,1763,1744,1642,1
600,1498,1476,1287,1271,1125cm^-1. ・MS:m/z M⁺320. 参考例−16 ［（１Ｒ ^＊,2Ｒ ^＊,3aＳ ^＊,9aＲ ^＊）−２−ｔ−ブチルジ
フエニルシリルオキシ−１（２−プロペニル）−2,3,3
a,9a−テトラヒドロ−１Ｈ−シクロペンタ［ｂ］［1.
4］ベンゾジオキシン−５−イル］オキシ酢酸メチル18
の製造 アルコール17（参考例−15）のN,N−ジメチルホルム
アミド（以下DMFと略す。）60ml溶液に、N,N−ジメチル
アミノピリジン3.97g（32.5ミリモル）及びｔ−ブチル
ジフエニルシリルクロリド6.34ml（24.4ミリモル）を加
え、３日間室温で撹拌する。反応液を水にあけ、酢酸エ
チルで３回抽出し、抽出液は、1N−塩酸、水、飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄する。無水硫
酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフイー精製（メルク社ローバーカ
ラム、サイズＣ（２本）、酢酸エチル:n−ヘキサン＝1:
5）して、目的とするシルエーテル18を8.82g（収率97.1
％）油状物質として得る。

・¹H−NMR:δ（CDCl₃）1.05（9H,s）,1.84〜2.53（5H,
m）,3.77（3H,s）,3.83〜4.03（2H,m）,4.13〜4.35（1
H,m）,4.68（2H,s）,4.75〜5.01（2H,m）,5.41〜5.88
（1H,m）,6.40〜6.87（3H,m）,7.30〜7.50（6H,m）,7.5
8〜7.78（4H,m）ppm. ・IR:νmax（CHCl₃）3076,2960,2936,2864,1764,1742,1
642,1600,1498,1476,1429,1287,1115,920,821,612cm^-1. ・MS:m/z M⁺558. 参考例−17 ［（１Ｒ ^＊,2Ｒ ^＊,3aＳ ^＊,9aＲ ^＊）−２−ｔ−ブチルジ
フエニルシリルオキシ−１−［（Ｅ）−３−クロロ−１
−プロペニル］−2,3,3a,9a−テトラヒドロ−１Ｈ−シ
クロペンタ［ｂ］［1,4］ベンゾジオキシン−５−イ
ル］オキシ酢酸メチル19の製造 窒素気流下、オレフイン18（参考例−16）8.82g（15.
8ミリモル）の四塩化炭素70ml溶液に、氷冷下、フエニ
ルセレネニルクロリド3.32g（17.4ミリモル）の四塩化
炭素50ml溶液を45分間で滴下する。滴下終了後更に15分
間撹拌し、同温に於て、ピリジン1.66ml（20.5ミリモ
ル）及び30％過酸化水素水20mlを加えて20分間撹拌す
る。室温に戻し、１時間30分撹拌した後、反応液を水に
あけ、ジクロロメタンで２回抽出する。抽出液は、1N−
塩酸、水、希炭酸水素ナトリウム水溶液は、飽和食塩水
で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧濃縮
後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイー精製
（メルク社ローバーカラム、サイズＣ（２本）、酢酸エ
チル:n−ヘキサン＝1:4）して、目的とするアリルクロ
リド19を7.20g（収率77.0％）結晶として得る。

・融点:127〜130℃（エーテル） ・¹H−NMR:δ（CDCl₃）1.03（9H,s）,2.04〜2.23（2H,
m）,2.91（1H,dt,J＝7Hz,9Hz）,3.77（3H,s）,3.87〜4.
28（5H,m）,4.70（2H,s）,5.46（1H,dd,J＝7Hz,16Hz）,
5.68（1H,dd,J＝6Hz,16Hz）,6.39〜6.86（3H,m）,7.30
〜7.50（6H,m）,7.56〜7.75（4H,m）ppm. ・IR:νmax（CHCl₃）3012,2960,2936,2864,1764,1744,1
601,1498,1476,1429,1289,1114,966,822,613cm^-1. ・MS:m/z M⁺592,594. 参考例−18 ［（１Ｒ ^＊,2Ｒ ^＊,3aＳ ^＊,9aＲ ^＊）−１−［（Ｅ）−３
−アセトキシ−１−プロペニル］−２−ｔ−ブチルジフ
エニルシリルオキシ−2,3,3a,9a−テトラヒドロ−１Ｈ
−シクロペンタ［ｂ］［1,4］ベンゾジオキシン−５−
イル］オキシ酢酸メチル20の製造 窒素気流下、アリルクロリド19（参考例−17）5.10g
（8.60ミリモル）のトルエン150ml溶液に、酢酸セシウ
ム4.95g（25.8ミリモル）及び18−クラウン−６ 2.27g
（8.60ミリモル）を加え、24時間加熱還流する。室温に
戻した反応液に、飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、
酢酸エチルで２回抽出する。抽出液は、水、飽和食塩水
で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下溶
媒を留去して、目的とする酢酸エステル20の粗結晶を得
る。このものを、酢酸エチル−ｎ−ヘキサン混合溶媒よ
り２回再結晶を行つて、融点132〜134℃の（Ｅ）−酢酸
エステル20を4.26g（収率80.4％）得る。

・融点:132〜134℃（酢酸エチル−ｎ−ヘキサン） ・¹H−NMR:δ（CDCl₃）1.03（9H,s）,2.03（3H,s）,2.0
0〜2.25（2H,m）,2.77〜3.06（1H,m）,3.76（3H,s）,3.
78〜4.28（3H,m）,4.44（2H,d,J＝5Hz）,4.72（2H,s）,
5.33〜5.82（2H,m）,6.40〜6.87（3H,m）,7.30〜7.48
（6H,m）,7.59〜7.80（4H,m）ppm. ・IR:νmax（CHCl₃）3012,2960,2936,2864,1763,1738,1
600,1498,1478,1240,1114,968,822,695,612cm^-1. ・MS:m/z M⁺616. 参考例−19 ［（１Ｒ ^＊,2Ｒ ^＊,3aＳ ^＊,9aＲ ^＊）−２−ｔ−ブチルジ
フエニルシリルオキシ−１−［（Ｅ）−３−ヒドロキシ
−１−プロペニル］−2,3,3a,9a−テトラヒドロ−１Ｈ
−シクロペンタ［ｂ］［1,4］ベンゾジオキシン−５−
イル］オキシ酢酸メチル21の製造 酢酸エステル20（参考例−18）6.12g（9.92ミリモ
ル）のジクロロメタン40ml、及びメタノール40ml溶液
に、炭酸カリウム1.65g（11.9ミリモル）を加え、室温
で２時間撹拌する。反応液に1N−塩酸26ml（26ミリモ
ル）を加え、減圧下、有機溶媒を留去後、飽和食塩水を
加えて酢酸エチルで３回抽出する。抽出液は、水、飽和
食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減
圧下溶媒を留去した残渣には、メチルエステルがけん化
されたカルボン酸が一部含まれるため、以下のようにジ
アゾメタンで処理し、エチルエステルへ戻す。上記得ら
れた反応物をメタノール100mlに溶解し、氷冷下、ジア
ゾメタンのエーテル溶液を反応液が黄色を呈するまで加
える。反応液を減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフイー精製（メルク社ローバーカラ
ム、サイズＣ（２本）、酢酸エチル:n−ヘキサン＝1:
1）して、目的とするアリルアルコール21を得る。この
ものを、エーテル−ｎ−ヘキサン混合溶媒より結晶化し
て、5.35g（収率93.7％）の結晶を得る。

・融点:102.5〜103.5℃（エーテル−ｎ−ヘキサン） ・¹H−NMR:δ（CDCl₃）1.03（9H,s）,1.51（1H,s,−Ｏ
Ｈ）,2.08〜2.27（2H,m）,2.75〜3.06（1H,m）,3.77（3
H,s）,3.87〜4.30（5H,m）,4.71（2H,s）,5.38（1H,dd,
J＝8Hz,16Hz）,5.66（1H,td,J＝5Hz,16Hz）,6.39〜6.85
（3H,m）,7.29〜7.48（6H,m）,7.58〜7.80（4H,m）ppm. ・IR:νmax（CHCl₃）3616,3012,2960,2936,2864,1764,1
743,1600,1498,1476,1429,1288,1113,971,822,696,612c
m^-1. ・MS:m/z M⁺574. 参考例−20 ［（１Ｒ ^＊,2Ｒ ^＊,3aＳ ^＊,9aＲ ^＊）−２−ｔ−ブチルジ
フエニルシリルオキシ−１−［（Ｅ）−３−オキソ−１
−プロペニル］−2,3,3a,9a−テトラヒドロ−１Ｈ−シ
クロペンタ［ｂ］［1,4］ベンゾジオキシン−５−イ
ル］−オキシ酢酸メチルIIの製造 アリルアルコール21（参考例−19）3.35g（5.83ミリ
モル）のジクロロメタン70ml溶液に、ピリジニウムクロ
ロクロメイト（PCC）2.51g（11.6ミリモル）を加え、室
温で３時間撹拌する。反応液にエーテル160mlを加え、
２分間撹拌した後、フロリジル34gを用いて反応液を濾
過する。フロリジルは、エーテル500mlで洗浄し、濾液
と、洗液を合わせ、減圧下溶媒を留去する。残渣を、エ
ーテル−ｎ−ヘキサン混合溶媒より結晶化して、目的と
するアルデヒドIIを3.19g（収率95.6％）結晶として得
る。

・融点:103.5〜104.8℃（エーテル−ｎ−ヘキサン） ・¹H−NMR:δ（CDCl₃）1.03（9H,s）,2.20〜2.37（2H,
m）,2.98〜3.36（1H,m）,3.78（3H,s）,4.00〜4.30（3
H,m）,4.71（2H,s）,6.15（1H,dd,J＝7Hz,16Hz）,6.33
（1H,dd,J＝7Hz,16Hz）,6.40〜6.85（3H,m）,7.28〜7.4
7（6H,m）,7.53〜7.72（4H,m）,9.23（1H,d,J＝7Hz）pp
m. ・IR:νmax（CHCl₃）3012,2960,2936,2864,1764,1743,1
692,1601,1499,1476,1429,1290,1113,974,823,697,612c
m^-1. ・MS:m/z M⁺572. 実施例−１ ［（１Ｒ ^＊,2Ｒ ^＊,3aＳ ^＊,9aＲ ^＊）−２−ｔ−ブチルジ
フエニルシリルオキシ−１−［（３Ｓ ^＊,1Ｅ）−３−ヒ
ドロキシ−１−オクテニル］−2,3,3a,9a−テトラヒド
ロ−１Ｈ−シクロペンタ［ｂ］［1,4］ベンゾジオキシ
ン−５−イル］オキシ酢酸メチルI aa−ａ及び［（１Ｒ
^＊,2Ｒ ^＊,3aＳ ^＊,9aＲ ^＊）−２−ｔ−ブチルジフエニル
シリルオキシ−１−［（３Ｒ ^＊,1Ｅ）−３−ヒドロキシ
−１−オクテニル］−2,3,3a,9a−テトラヒドロ−１Ｈ
−シクロペンタ［ｂ］［1,4］ベンゾジオキシン−５−
イル］オキシ酢酸メチルI ca−ａの製造 窒素気流下、アルデヒドII（参考例−20）962mg（1.6
8ミリモル）の乾燥THF20ml溶液に、−78℃に於いて、ｎ
−ペンチルマグネシウムブロミド（1.1N、THF溶液）1.8
3ml（2.01ミリモル）を滴下する。滴下終了後、同温に
て更に15分間撹拌した後、飽和塩化アンモニウム水溶液
を加え、反応を停止する。反応液は、酢酸エチルで３回
抽出し、抽出液は、水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥する。減圧下溶媒を留去した残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフイー精製（メルク社ロ
ーバーカラム、サイズＢ（２本）、酢酸エチル：トルエ
ン＝1:10〜1:6）して、目的とするアリルアルコールの
うち、低極性異性体I aa−ａを517mg（収率47.7％）油
状物質として、また、高極性異性体I ca−ａを252mg
（収率20.7％）結晶として得る。I aa−ａ ・¹H−NMR:δ（CDCl₃）0.87（3H,t,J＝6Hz）,1.03（9H,
s）,1.00〜1.90（9H,m）,2.05〜2.25（2H,m）,2.76〜3.
03（1H,m）,3.79（3H,s）,3.80〜4.30（4H,m）,4.72（2
H,s）,5.22〜5.70（2H,m）,6.40〜6.87（3H,m）,7.30〜
7.50（6H,m）,7.60〜7.80（4H,m）ppm. ・IR:νmax（CHCl₃）3608,3008,2960,2936,2864,1763,1
743,1600,1498,1475,1429,1292,1114,970,821,697,612c
m^-1. ・MS:m/z M⁺644.I ca−ａ ・融点:83〜84℃（エーテル−ｎ−ペンタン） ・¹H−NMR:δ（CDCl₃）0.87（3H,t,J＝6Hz）,1.03（9H,
z）,1.00〜1.90（9H,m）,2.05〜2.25（2H,m）,2.76〜3.
03（1H,m）,3.79（3H,s）,3.80〜4.30（4H,m）,4.72（2
H,s）,5.22〜5.70（2H,m）,6.40〜6.87（3H,m）,7.30〜
7.50（6H,m）,7.60〜7.80（4H,m）ppm. ・IR:νmax（CHCl₃）3608,3008,2960,2936,2864,1764,1
742,1600,1498,1476,1429,1289,1113,969,821,696,612c
m^-1. ・MS:m/z M⁺644. 実施例−２〜４ 実施例−１の方法に準じ、アリルアルコールI a−
ａ、I c−ａへ変換し、結果を表１に示す。実施例−４
については、ラセミ体のグリニヤール試験を用いて反応
を行い、４種のアリルアルコールI ad−ａ、I ae−ａ及
びI cd−ａ、I ce−ａを得る。

参考例−21 ［（１Ｒ ^＊,2Ｒ ^＊,3aＳ ^＊,9aＲ ^＊）−１−［（１RS,2R
S）−３−アセトキシ−1,2−ジヒドロキシプロピル］−
２−ｔ−ブチルジフエニルシリルオキシ−2,3,3a,9a−
テトラヒドロ−１Ｈ−シクロペンタ［ｂ］［1.4］ベン
ゾジオキシン−５−イル］オキシ酢酸メチル22の製造 窒素気流下、オレフイン20（参考例−18）6.00g（9.7
2モリモル）のアセトン120ml懸濁液に、トリメチルアミ
ン−Ｎ−オキシド（1N水溶液）19.4ml（19.4ミリモル）
及び、四酸化オスミウム（0.2N、THF溶液）4.86ml（0.9
7ミリモル）を加え、室温で３日間撹拌する。反応液
に、５％チオ硫酸ナトリウム水溶液120mlを加え、減圧
下、アセトンを留去する。反応液に、飽和食塩水を加
え、酢酸エチルで３回抽出する。抽出液は、水、飽和食
塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧
下、溶媒を留去して、目的とするジオール22の粗生成物
を6.60gあわ状物質として得る。このものは精製するこ
となく次の反応に用いる。

参考例−22 ［（１Ｒ ^＊,2Ｒ ^＊,3aＳ ^＊,9aＲ ^＊）−２−ｔ−ブチルジ
フエニルシリルオキシ−１−ホルミル−2,3,3a,9a−テ
トラヒドロ−１Ｈ−シクロペンタ［ｂ］［1,4］ベンゾ
ジオキシン−５−イル］オキシ酢酸メチル23の製造 窒素気流下、ジオール22（参考例−21）の粗生成物6.
60gをDME180ml、水60mlの混合溶媒に溶解し、室温に於
いて、過ヨウ素酸ナトリウム4.18g（19.4ミリモル）を
加え、２日間撹拌する。反応液に10％チオ硫酸ナトリウ
ム水溶液200mlを加え、酢酸エチルで３回抽出する。抽
出液は、水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。減圧下、溶媒を留去し、残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフイー精製（メルク社ローバーカ
ラム、サイズＣ（２本）、酢酸エチル：トルエン＝1:2
0）して、目的とするアルデヒド23を得る。このもの
を、エーテル−ｎ−ヘキサン混合溶媒より結晶化し、3.
38g（２工程通算収率、63.6％）の結晶を得る。

・融点:110.3〜111.0℃（エーテル−ｎ−ヘキサン） ・¹H−NMR:δ（CDCl₃）1.04（9H,s）,2.20（2H,t,J＝5H
z）,3.19〜3.44（1H,m）,3.76（3H,s）,4.12〜4.38（1
H,m）,4.40〜4.60（2H,m）,4.69（2H,s）,6.42〜6.90
（3H,m）,7.32〜7.50（6H,m）,7.56〜7.80（4H,m）,9.3
1（1H,d,J＝1.5Hz）ppm, ・IR:νmax（CHCl₃）2960,2936,2864,1763,1729,1601,1
499,1476,1429,1295,1114,821,694,612cm^-1. ・MS:m/z M⁺546. 参考例−23 ［（１Ｒ ^＊,2Ｒ ^＊,3aＳ ^＊,9aＲ ^＊）−２−ｔ−ブチルジ
フエニルシリルオキシ−１−［（Ｅ）−３−オキソ−１
−オクテニル］−2,3,3a,9a−テトラヒドロ−１Ｈ−シ
クロペンタ［ｂ］［1,4］ベンゾジオキシン−５−イ
ル］オキシ酢酸メチルIII a 窒素気流下、60％水素化ナトリウム15.2mg（0.381ミ
リモル）の乾燥THF2ml懸濁液に、ジメチル（２−オキソ
ヘプチル）ホスホネート95mg（0.430ミリモル）の乾燥T
HF1.5ml溶液を加え、室温で12分間撹拌する。反応液
に、アルデヒド23 181mg（0.331ミリモル）（参考例−2
2）の乾燥THF3ml溶液を加えて30分間撹拌した後、飽和
塩化アンモニウム水溶液を加え、反応を停止する。反応
液を酢酸エチルで２回抽出し、抽出液は水、飽和食塩水
で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下溶
媒を留去した残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフ
イー精製（メルク社ローバーカラム、サイズＢ、酢酸エ
チル：トルエン＝1:30）して、目的とするエノンIII a
を199mg（収率93.5％）油状物質として得る。

・¹H−NMR:δ（CDCl₃）0.89（3H,t,J＝7Hz）,1.03（9H,
s）,1.05〜1.80（6H,m）,2.10〜2.50（4H,m）,2.86〜3.
21（1H,m）,3.77（3H,s）,4.02〜4.26（3H,m）,4.71（2
H,s）,6.09（1H,d,J＝16Hz）,6.39〜6.88（4H,m）,7.29
〜7.48（6H,m）,7.53〜7.73（4H,m）ppm. ・IR:νmax（CHCl₃）3008,2960,2936,2864,1763,1743,1
696,1672,1630,1601,1498,1475,1429,1114,977,822,69
5,612cm^-1. ・MS:m/z M⁺642. 参考例−24〜29,37〜40 参考例−23の方法に準じ、エノンIIIへ変換し、結果
を表２に示す。参考例−24、26及び29については、ラセ
ミ体のホスホネートを用いる。

参考例−39に於ては、光学活性ホスホネート［（Ｓ）
−配置］を用いる。

（１）１−ｔ−ブチルカルボニルオキシ−３−ブタノー
ル25の製造 （±）−1,3−ブタンジオール24 13.2ml（0.15モル）
とピリジン17.8ml（0.23モル）の乾燥ジクロロメタン20
0ml溶液に、氷冷下、ピバロイルクロリド22.2ml（0.18m
ol）の乾燥ジメクロロメタン50ml溶液を、20分間で滴下
する。滴下終了後、室温に戻しながら、更に30分間撹拌
する。反応液に、氷水を加え、５分間撹拌した後、1N塩
酸を加え、ジクロロメタンで２回抽出する。抽出液を、
水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下溶媒を留
去した残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイー精製
（シリカゲル250g、酢酸エチル:n−ヘキサン＝1:9〜1:
4）して、目的とするモノピバロイルエステル25を油状
物質として20.4g（収率78.2％）得る。¹ H−NMR:δ（CDCl₃）1.21（9H,s）1.23（3H,d,J＝6Hz）
1.60〜1.95（2H,m）2.27（1H,br.s.−OH）3.72〜4.47
（3H,m）ppm. （２）１−ｔ−ブチルカルボニルオキシ−３−フエノキ
シブタン26の製造 アルコール25（参考例30（１））、3.47g（19.9ミリ
モル）、フエノール2.81g（29.9ミリモル）及び、トリ
フエニルホスフイン7.88g（29.9ミリモル）の乾燥THF10
0ml溶液に、氷冷下、アゾジカルボン酸ジエチル4.65ml
の乾燥THF40ml溶液を滴下する。滴下終了後、20分間同
温にて撹拌した後、室温に戻し、更に２時間半撹拌を続
ける。減圧下溶媒を留去した反応液残渣を、シリカゲル
カラムクロマトグラフイー精製（シリカゲル200g、酢酸
エチル:n−ヘキサン＝1:49〜1:19）して、目的のフエニ
ルエーテル26を油状物質として4.35g（収率87.4％）得
る。¹ H−NMR（200MHz）：δ（CDCl₃）1.10（9H,s）1.34（3
H,d,J＝6Hz）1.83〜2.16（2H,m）4.11〜4.31（2H,m）4.
42〜4.60（1H,m）6.85〜6.98（3H,m）7.21〜7.32（2H,
m）ppm. （３）３−フエノキシ−１−ブタノール27の合成 ビバロイルエステル26（参考例30（２））4.32g（17.
3mmol）の乾燥メタノール90ml溶液に、1Mナトリウムメ
トキシド−メタノール溶液17.3ml（17.3mmol）を加え、
55℃で９時間撹拌する。室温に戻した反応液に、イオン
交換樹脂IRC−50を35g加え、20分間撹拌する。イオン交
換樹脂を濾別し、減圧下溶媒を留去して、目的とするア
ルコール27の粗生成物を、油状物質として3.15g得る。
このものは精製する事なく次の反応に用いる。

（４）３−フエノキシ酪酸エチル28の製造 アルコール27（参考例30（３））の粗生成物3.15gの
アセトン80ml溶液に、20〜30℃に於いて、8Nジヨーンズ
試薬10mlを徐々に滴下する。滴下終了後、10分間撹拌し
た後、イソプロピルアルコール3mlを加え、更に10分間
撹拌する。減圧下、アセトンを留去した残渣に、水を加
え、酢酸エチルで２回抽出する。抽出した酢酸エチル溶
液を、水で洗浄した後、1N水酸化ナトリウム水溶液でカ
ルボン酸を抽出する。抽出した水酸化ナトリウム水溶液
を、塩酸でpH2とし、酢酸エチルで再び抽出する。抽出
した酢酸エチル溶液を、水、飽和食塩水で洗浄後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下、溶媒を留去した
残渣を、エーテル50mlで溶解し、０℃に於いて、ジアゾ
エタンのエーテル溶液を、反応液が橙色を呈するまで加
える。減圧下溶媒を留去した反応液残渣を、シリカゲル
カラムクロマトグラフイー精製（シリカゲル50g、酢酸
エチル−ｎ−ヘキサン＝1:19）して、目的とするエチル
エステル28を油状物質として2.35g（化合物26より通算
収率67.0％）得る。¹ H−NMR（200MHz）：δ（CDCl₃）1.24（3H,t,J＝7Hz）
1.37（3H,d,J＝6Hz）2.53（1H,dd,J＝15Hz,6.5Hz）2.79
（1H,dd,J＝15Hz,7Hz）4.14（2H,q,J＝7Hz）4.75〜4.92
（1H,m）6.88〜6.98（3H,m）7.22〜7.33（2H,m）ppm. （１）（Ｓ）−（−）−シトロネル酸メチル30の製造 （Ｓ）−（−）−シトロネロール29（アルドリツチ社
製、98％e.e.）10.0g（64.1ミリモル）の乾燥DMF150ml
溶液に、ピリジニウム・ジクロメート（PDC）84.4g（22
4ミリモル）を加え、終夜撹拌する。反応液を、水1.5
にあけ、トルエンで２回抽出する。抽出したトルエン溶
液を水で洗浄した後、1N水酸化ナトリウム水溶液で、カ
ルボン酸を抽出する。抽出した水酸化ナトリウム水溶液
を、5N塩酸で、pH2とし、酢酸エチルで再び抽出する。
抽出した酢酸エチル溶液を、水、飽和食塩水で洗浄後、
無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下溶媒を留去し
た残渣を、エーテル100mlに溶解し、ジアゾメタンのエ
ーテル溶液を、０℃に於いて、反応液が黄色を呈するま
で加える。減圧下溶媒を留去した反応液残渣を、減圧蒸
留して、目的とするメチルエステル30を油状物質として
7.53g（収率63.9％）得る。

沸点:78〜81℃（3mmHg） ［α］_Ｄ−7.4±0.1゜（Ｃ＝5.13,CHCl₃）¹ H−NMR:δ（CDCl₃）0.94（3H,d,J＝7Hz）1.10〜1.46
（2H,m）1.62（3H,s）1.68（3H,s）1.70〜2.50（5,m）
3,66（3H,s）4.93〜5.21（1H,m）ppm. （２）（Ｓ）−３−メチル−６−オキソヘキサン酸メチ
ル31の製造 80％ｍ−クロロ過安息香酸7.76g（36ミルモルの乾燥
ジクロロメタン200ml溶液に、（Ｓ）−シトロネル酸メ
チル30（参考例31（１））6.00g（32.6ミリモル）の乾
燥ジクロロメタン50ml溶液を加え、室温で１時間撹拌す
る。反応液に５％チオ硫酸ナトリウム水溶液、及び希炭
酸水素ナトリウム水溶液を加え、ジクロロメタンで２回
抽出する。抽出液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽
和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。
減圧下溶媒を留去した残渣を、THF80mlに溶解し、０℃
に於いて、過ヨウ素酸、２水和物8.90g（39ミリモル）
のTHF80ml溶液を加える。室温に戻しながら、20分間撹
拌後、反応後に水を加え、エーテルで２回抽出する。抽
出液を、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩
水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧
下、溶媒を留去して、目的とするアルデヒド31の粗生成
物を、油状物質として、5.2g得る。このものは、精製す
る事なく次の反応を用いる。

（３）（Ｓ）−（−）−３−メチル−６−ヘプテン酸メ
チル32の製造 窒素気流下、臭化メチルトリフエニルホスホニウム2
3.3g（65.2ミリモル）の乾燥THF120ml懸濁液に、氷冷
下、1.59N、ｎ−ブチルリチウム−ｎ−ヘキサン溶液36.
9ml（58.7ミリモル）を滴下する。滴下終了後、同温に
て10分間撹拌した後、−50℃に冷却し、アルデヒド31
（参考例31（２））の粗生成物5.2gの乾燥THF80ml溶液
を滴下する。滴下終了後、同温にて10分間撹拌した後、
１時間かけて室温に戻す。反応液に、飽和塩化アンモニ
ウム水溶液を加え、エーテルで２回抽出する。抽出液
を、水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで
乾燥する。常圧で溶媒を留去した残渣に、ｎ−ペンタン
400mlを加え、氷冷下30分間撹拌する。析出した、トリ
フエニルホスフインオキシドを、シリカゲル100gで濾過
する。シリカゲルは、エーテル:n−ペンタン＝1:9混合
溶媒500mlで洗浄し、濾液と洗浄液を合わせ、常圧濃縮
し、残渣を減圧蒸留して、目的とするオレフイン32を油
状物質として2.19g（化合物30より通算収率43.1％）得
る。

沸点:85〜86℃（23mmHg） ［α］_Ｄ−6.6±0.2゜（23℃,C＝2.06,CHCl₃）¹ H−NMR（200MHz）：δ（CDCl₃）0.95（3H,d,J＝6Hz）
0.97〜1.52（2H,m）1.88〜2.38（5H,m）3.67（3H,s）4.
90〜5.09（2H,m）5.70〜5.91（1H,m）ppm. IR:νmax（CHCl₃）2960,1734,1642,1439,1172,1006,916
cm^-1. （１）４−ブチル［ジヒドロ−２（3H）−フラノン］34
の製造 窒素気流下、臭化第１銅、ジメチルスルフイド錯体6.
17g（30ミリモル）の乾燥エーテル100ml懸濁液に、−50
℃に於いて、1.59Nn−ブチルリチウム−ｎ−ヘキサン溶
液38ml（60ミリモル）を30分間かけて滴下する。滴下終
了後、同温にて15分間撹拌した後、−78℃に冷却し、塩
化トリメチルシラン3.8ml（30mmol）の乾燥エチルエー
テル10ml溶液を加える。引き続き、２（5H）−フラノン
33 1.68g（20ミリモル）の乾燥エーテル20ml溶液を加
え、同温にて30分間撹拌した後、30分間かけて、−10℃
まで昇温する。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を
加え、反応を停止し、空気を30分間吹きこんだ後、セラ
イトで濾過する。濾液を、エーテルで２回抽出し、抽出
液を、水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥する。減圧下溶媒を留去した残渣を、THF150mlに
溶解し、2N水酸化ナトリウム水溶液20mlを加え、室温で
40分間撹拌する。反応液に、1N塩酸を加え、pH2とし、
エーテルで２回抽出する。抽出液を、水、飽和食塩水で
洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下溶媒
を留去した残渣を、無水ベンゼン30mlに溶解し、触媒量
のｐ−トルエンスルホン酸を加え、15分間、加熱還流す
る。室温に戻した反応液に、希炭酸水素ナトリウム水溶
液を加え、酢酸エチルで２回抽出する。抽出液を、水、
飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥す
る。減圧下溶媒を留去した残渣を、減圧蒸留して、目的
とするラクトン34を油状物質として2.19g（収率77.1
％）得る。

沸点:94〜95℃（2mmHg）¹ H−NMR:δ（CDCl₃）0.91（3H,t,J＝7Hz）1.12〜1.80
（6H,m）1.97〜2.83（3H,m）3.93（1H,dd,J＝9Hz,6Hz）
4.43（1H,dd,J＝9Hz,7Hz）ppm. （２）３−（フエニルセレニルメチル）ヘプタン酸35の
製造 窒素気流下、ジフエニルジセレニド2.40g（7.69ミリ
モル）の乾燥DMF30ml溶液に、氷冷下、水素化ホウ素ナ
トリウム655mg（17.3ミリモル）を徐々に加える。水素
の発生が終了した後、反応液を100℃で20分間撹拌す
る。同温で、ラクトン14（参考例32（１））1.68g（11.
8ミリモル）の乾燥DMF10ml溶液を加え、120℃で２時間
半撹拌する。反応液を、氷冷し、10％塩酸を徐々に滴下
してpH2とする。反応液を、エーテルで２回抽出し、抽
出液を、水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。減圧下溶媒を留去した残渣をエーテル30
mlに溶解し、ジアゾメタンのエーテル溶液を、０℃に於
いて、反応液が黄色を呈するまで加える。減圧下溶媒を
留去した反応液残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラ
フイー精製（メルク社ローバーカラム、サイズＣ、酢酸
エチル−ｎ−ヘキサン＝1:19）して目的とするメチルエ
ステル35を、油状物質として2.64g（収率71.5％）得
る。¹ H−NMR:δ（CDCl₃）0.86（3H,t,J＝7Hz）1.05〜1.63
（6H,m）2.00〜2.70（3H,m）2.98（2H,d,J＝5Hz）3.63
（3H,m）7.17〜7.33（3H,m）7.32〜7.62（2H,m）ppm. ２−オキソ−４−（フエニルセレニルメチル）オクチル
リン酸ジメチル36の製造 窒素気流下、メチルリン酸ジメチル1.35ml（12.5ミリ
モル）の乾燥THF25ml溶液に、−78℃に於いて1.64Nn−
ブチルリチウム−ｎ−ヘキサン溶液7.0ml（11.5ミリモ
ル）を滴下する。滴下終了後、同温にて１時間撹拌した
後、メチルエステル35（参考例32（32））1.57g（10.0
ミリモル）の乾燥THF10ml溶液を加える。更に30分間撹
拌を続けた後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加え反応
を停止する。反応液を、酢酸エチルで２回抽出し、抽出
液を、水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥する。減圧下溶媒を留去した残渣を、シリカゲル
カラムクロマトグラフイー精製（メルク社ローバーカラ
ム、サイズＢアセトン：ベンゼン＝1:4）して、目的と
するホスホン酸エステル36を、油状物質として1.42g
（収率70.0％）得る。¹ H−NMR:δ（CDCl₃）0.86（3H,t,J＝7Hz）1.02〜1.70
（6H,m）1.90〜3.05（5H,m）2.95（2H,d,J＝22Hz）3.77
（6H,d,J＝1Hz）7.15〜7.32（3H,m）7.40〜7.62（2H,
m）ppm. 参考例34〜36 参考例33に準じて反応を行ない、エステル28（参考例
−30（４））、32（参考例−31（３））36より、ジメチ
ルホスホン酸エステル37、38及び40を得る。但し、化合
物39は、ジー・エス・マークス（G.S.Marks）らの文献
（ジヤーナル・オブ・ケミカル・ソサエテイー（J.Che
m.Soc.）3851頁、（1955年）を参考に、ラセミ体を製造
する。

以下に、化合物37、38、40の物性を示す。

化合物37 ¹H−NMR（200MHz）：δ（CDCl₃）1.34（3H,d,J＝6Hz）
2.78〜3.29（4H,m）3.78（6H,d,J＝11Hz）4.80〜4.96
（1H,m）6.85〜7.00（3H,m）7.22〜7.33（2H,m）ppm. ▲［α］²³ _D▼−5.5±0.5゜（Ｃ＝0.98,CHCl₃）¹ H−NMR（200MHz）：δ（CDCl₃）0.92（3H,d,J＝7Hz）
1.16〜1.50（2H,m）1.97〜2.19（3H,m）2.46（1H,dd,J
＝17Hz,7Hz）2.59（1H,dd,J＝17Hz,6Hz）3.07（2H,d,J
＝22Hz）3.79（6H,d,J＝11Hz）4.90〜5.08（2H,m）5.69
〜5.90（1H,m）ppm. ¹H−NMR（200MHz）：δ（CDCl₃）1.06（3H,d,J＝6Hz）
2.47〜2.67（2H,m）2.80〜2.96（1H,m）3.12（2H,d,J＝
22Hz）3.77（3H,d,J＝11Hz）3.78（3H,d,J＝11Hz）3.75
〜3.92（2H,m）6.84〜6.97（3H,m）7.22〜7.33（2H,m）
ppm. 実施例−５ ［（１Ｒ ^＊,2Ｒ ^＊,3aＳ ^＊,9aＲ ^＊）−２−ｔ−ブチルジ
フエニルシリルオキシ−１−［（３Ｓ ^＊,1Ｅ）−３−ヒ
ドロキシ−１−オクテニル］−2,3,3a,9a−テトラヒド
ロ−１Ｈ−シクロペンタ［ｂ］［1,4］ベンゾジオキシ
ン−５−イル］オキシ酢酸メチルI aa−ａ及び［１
Ｒ ^＊,2Ｒ ^＊,3aＳ ^＊,9aＲ ^＊）−２−ｔ−ブチルジフエニ
ルシリルオキシ−１−［（３Ｒ ^＊,1Ｅ）−３−ヒドロキ
シ−１−オクテニル］−2,3,3a,9a−テトラヒドロ−１
Ｈ−シクロペンタ［ｂ］［1,4］ベンゾジオキシン−５
−イル］オキシ酢酸メチルI ca−ａの製造 エノンIII a（参考例−23）120mg（0.187ミリモル）
及び、三塩化セリウム・７水和物70mg（0.188ミリモ
ル）のメタノール2ml溶液に、氷冷下、水素化ホウ素ナ
トリウム7.1mg（0.187ミリモル）のメタノール0.7ml溶
液を滴下する。滴下終了後、同温にて20分間撹拌した
後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加え反応を停止す
る。反応液を酢酸エチルで２回抽出し、抽出液は、水、
飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥す
る。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグ
ラフイー精製（メルク社、ローバーカラム、サイズＡ
（2H）、酢酸エチル：トルエン＝1:15〜1:10）して、目
的とするアリルアルコールのうち、低極性異性体、I aa
−ａを84mg（収率70.0％）、また、高極性異性体I ca−
ａを27mg（収率22.5％）得る。ここで得られたI aa−
ａ、I ca−ａの物性は、実施例−１で得られたI aa−
ａ、I ca−ａと完全に一致する。

実施例−６〜13 実施例−５の方法に準じ、アリルアルコールI a−
ａ、I c−ａへ変換し、結果を表３に示す。実施例−11
については、４種のアリルアルコールI ak−ａ、I al−
ａ及びI ck−ａ、I cl−ａが得られる。また、実施例−
６、10については、−78℃で反応を行う。

実施例14 ［（１Ｒ ^＊,2Ｒ ^＊,3aＳ ^＊,9aＲ ^＊）−２−ｔ−ブチルジ
フエニルシリルオキシ−１−［（３Ｓ ^＊,1Ｅ）−５−ブ
チル−３−ヒドロキシ−1,5−ヘキサジエン−１−イ
ル］−2,3,3a,9a−テトラヒドロ−１Ｈ−シクロペンタ
［ｂ］［1,4］ベンゾジオキシン−５−イル］オキシ酢
酸メチルI at−ａ及び、［（１Ｒ ^＊,2Ｒ ^＊,3aＳ ^＊,9aＲ
^＊）−２−ｔ−ブチルジフエニルシリルオキシ−１−
［（３Ｒ ^＊,1Ｅ）−５−ブチル−３−ヒドロキシ−1,5
−ヘキサジエン−１−イル］−2,3,3a,9a−テトラヒド
ロ−１Ｈ−シクロペンタ［ｂ］［1,4］ベンゾジオキシ
ン−５−イル］オキシ酢酸メチル 実施例−５の方法に準じ、エノンIII s（参考例40）8
00mg（0.969ミリモル）を、対応するアリルアルコール
に還元する。この反応粗生成物を、精製する事なく、DM
E10ml、メタノール30m、水5mlの混合溶媒に溶解し、炭
酸水素ナトリウム81.4mg（0.97ミリモル）を加える。こ
の反応液に、室温に於いて、過ヨウ素酸ナトリウム415m
g（1.94ミリモル）の水溶液3mlを加え、終夜撹拌する。
反応後に、５％チオ硫酸ナトリウム水溶液を加え、ジク
ロロメタンで３回抽出する。抽出液を、飽和食塩水で洗
浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下溶媒を
留去した反応物残渣を、四塩化炭素40mlに溶解し、ジイ
ソプロピルアミン0.41ml（2.91ミリモル）を加え、60℃
で１時間撹拌する。室温に戻した反応液に、氷水を加
え、ジクロロメタンで２回抽出する。抽出液を、1N−塩
酸、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下溶媒
を留去した残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフイ
ー精製（メルク社ローバーカラム、サイズＢ、２本；酢
酸エチル；トルエン＝1:15〜1:10）して、目的とするジ
エンアルコールのうち、低極性異性体I at−ａを350mg
（収率53.7％）、また高極性異性体I ct−ａを155mg
（収率23.8％）、それぞれ油状物質として得る。

化合物I at−ａ ¹ H−NMR（200MHz）：δ（CDCl₃）0.91（3H,t,J＝7Hz）
1.04（9H,s）1.22〜1.56（5H,m）1.96〜2.20（6H,m）2.
90（1H,q,J＝7Hz）3.79（3H,s）3.96〜4.23（4H,m）4.7
3（2H,s）4.80（1H,s）4.87（1H,s）5.45（1H,dd,J＝16
Hz,7Hz）5.55（1H,dd,J＝16Hz,5Hz）6.47（1H,dd,J＝8H
z,2Hz）6.60（1H,dd,J＝8Hz,2Hz）6.77（1H,t,J＝8Hz）
7.20〜7.48（6H,m）7.63〜7.73（4H,m）ppm. IR:νmax（CHCl₃）3604,2936,2864,1763,1742,1643,160
0,1498,1476,1429,1288,1114,969,904,822,612cm^-1. MS:m/z670（M⁺）． 化合物I ct−ａ ¹ H−NMR（200MHz）：δ（CDCl₃）0.92（3H,t,J＝7Hz）
1.04（9H,s）1.23〜1.60（5H,m）1.97〜2.20（6H,m）2.
90（1H,q,J＝7Hz）3.80（3H,s）3.95〜4.24（4H,m）4.7
3（2H,s）4.81（1H,s）4.87（1H,s）5.46（1H,dd,J＝16
Hz,7Hz）5.54（1H,dd,J＝16Hz,5Hz）6.46（1H,dd,J＝8H
z,2Hz）6.60（1H,dd,J＝8Hz,2Hz）6.76（1H,t,J＝8Hz）
7.20〜7.47（6H,m）7.60〜7.73（4H,m）ppm. IR:νmax（CHCl₃）3604,2936,2864,1764,1743,1642,160
0,1498,1476,1429,1287,1114,969,906,821,613cm^-1. MS:m/z670（M⁺） 実施例−15 ［（１Ｒ,2Ｒ,3aＳ,9aＲ）−２−ｔ−ブチルジフエニル
シリルオキシ−１−［（３Ｓ,5Ｓ,1Ｅ）−３−ヒドロキ
シ−５−メチル−1,8−ノナジエン−１−イル］−2,3,3
a,9a−テトラヒドロ−１Ｈ−シクロペンタ［ｂ］［1,
4］ベンゾジオキシン−５−イル］オキシ酢酸メチルI a
r−ａ及び、その立法異性体I ag−ａ、I cg−ａ、I cr
−ａの製造 実施例−５の方法に準じ、エノンIII q（参考例39）
の還元を行い、４種の立方異性体I aq−ａ、I ar−ａ、
I cq−ａ、I cr−ａを得る。

化合物I aq−ａ（異性体１） 収率 32.9％ Rf:0.35（酢酸エチル：トルエン＝1:6） ［α］_Ｄ−43.2±1.6゜（24℃,C＝0.53,CHCl₃）¹ H−NMR（200MHz）：δ（CDCl₃）0.90（3H,d,J＝7Hz）
1.04（9H,s）1.00〜1.72（6H,m）1.94〜2.29（4H,m）2.
88（1H,q,J＝7Hz）3.80（3H,s）3.95〜4.09（3H,m）4.1
5〜4.23（1H,m）4.73（2H,s）4.88〜5.03（2H,m）5.35
（1H,dd,J＝16Hz,8Hz）5.51（1H,dd,J＝16Hz,6Hz）5.70
〜5.91（1H,m）6.47（1H,dd,J＝8Hz,2Hz）6.59（1H,dd,
J＝8Hz,2Hz）6.76（1H,t,J＝8Hz）7.30〜7.50（6H,m）
7.60〜7.70（4H,m）ppm. IR:νmax（CHCl₃）3604,2936,2864,1763,1742,1641,160
0,1498,1476,1429,1288,1113,970,908,821,612cm^-1. MS:m/z670（M⁺） 化合物I ar−ａ（異性体２） 収率:33.1％ Rf:0.32（酢酸エチル：トルエン＝1:6） ▲［α］²⁴ _D▼＋42.7±1.4゜（Ｃ＝0.60,CHCl₃）¹ H−NMR（200MHz）：δ（CHCl₃）0.87（3H,d,J＝7Hz）
1.04（9H,s）1.00〜1.73（6H,m）1.93〜2.30（4H,m）2.
88（1H,q,J＝7Hz）3.80（3H,s）3.94〜4.09（3H,m）4.1
5〜4.24（1H,m）4.73（2H,s）4.88〜5.06（2H,m）5.34
（1H,dd,J＝16Hz,8Hz）5.46（1H,dd,J＝16Hz,6Hz）5.70
〜5.91（1H,m）6.47（1H,dd,J＝8Hz,2Hz）6.58（1H,dd,
J＝8Hz,2Hz）6.76（1H,t,J＝8Hz）7.30〜7.50（6H,m）
7.60〜7.70（4H,m）ppm. IR:νmax（CHCl₃）3604,2936,2864,1764,1744,1641,160
0,1499,1476,1429,1290,1113,970,908,822,612cm^-1. MS:m/z670（M⁺） 化合物I cq−ａ（異性体３） 収率:10.4％ Rf:0.27（酢酸エチル：トルエン＝1:6） ［α］_Ｄ＋45.0±1.6゜（24℃,C＝0.52,CHCl₃）¹ H−NMR（200MHz）：δ（CDCl₃）0.90（3H,d,J＝7Hz）
1.04（9H,s）1.00〜1.75（6H,m）1.94〜2.29（4H,m）2.
88（1H,q,J＝7Hz）3.79（3H,s）3.94〜4.09（3H,m）4.1
5〜4.23（1H,m）4.73（2H,s）4.88〜5.30（2H,m）5.36
（1H,dd,J＝16Hz,8Hz）5.53（1H,dd,J＝16Hz,6Hz）5.70
〜5.91（1H,m）6.47（1H,dd,J＝8Hz,2Hz）6.60（1H,dd,
J＝8Hz,2Hz）6.76（1H,t,J＝8Hz）7.30〜7.50（6H,m）
7.60〜7.70（4H,m）ppm. IR:νmax（CHCl₃）3608,2936,2864,1764,1743,1641,160
0,1498,1476,1429,1291,1114,970,908,821,612cm^-1. MS:m/z670（M⁺） 化合物I cr−ａ（異性体４） 収率:8.9％ Rf:0.23（酢酸エチル：トルエン＝1:6） ［α］_Ｄ−42.3±1.8゜（24℃,C＝0.45,CHCl₃）¹ H−NMR（200MHz）：δ（CDCl₃）0.88（3H,d,J＝7Hz）
1.04（9H,s）1.05〜1.74（6H,m）1.95〜2.27（4H,m）2.
88（1H,q,J＝7Hz）3.80（3H,s）3.95〜4.09（3H,m）4.1
5〜4.23（1H,m）5.39（1H,dd,J＝16Hz,7Hz）5.50（1H,d
d,J＝16Hz,6Hz）5.70〜5.86（1H,m）6.47（1H,dd,J＝8H
z,2Hz）6.60（1H,dd,J＝8Hz,2Hz）6.77（1H,t,J＝8Hz）
7.30〜7.50（6H,m）7.60〜7.70（4H,m）ppm. IR:νmax（CHCl₃）3608,2936,2864,1763,1744,1641,160
0,1499,1476,1429,1293,1114,970,909,821,612cm^-1. MS:m/z670（M⁺） 実施例−16 ［（１Ｒ,2Ｒ,3aＳ,9aＲ）−２−ｔ−ブチルジフエニル
シリルオキシ−１−［（３Ｓ,5Ｓ,1Ｅ）−３−ヒドロキ
シ−５−メチル−１−ノネニル］−2,3,3a,9a−テトラ
ヒドロ−１Ｈ−シクロペンタ［ｂ］［1,4］ベンゾジオ
キシン−５−イル］オキシ酢酸メチル： 水素雰囲気下、ジエンI ar−ａ（実施例−15）151mg
（0.225ミリモル）の乾燥ベンゼン10ml溶液に、５％パ
ラジウム−炭素7.5mgを加え、室温で３時間撹拌する。
反応液を濾過し、減圧下溶媒を留去した残渣を、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフイー精製（メルク社ローバー
カラム、サイズＢ、酢酸エチル：トルエン＝1:15）し
て、目的とするオレフインI au−ａを油状物質として、
98mg（収率64.9％）得る。この光学活性体の¹H−NMR,I
R,MSスペクトルは、ラセミ体I ae−ａ（実施例４）のそ
れらと完全に一致する。

［α］_Ｄ＋40.4±0.8゜（24℃,C＝1.04,CHCl₃） 実施例−17 ［（１Ｒ ^＊,2Ｓ ^＊,3aＲ ^＊,9aＳ ^＊）−２−ヒドロキシ−
１−［（３Ｒ ^＊,1Ｅ）−３−ヒドロキシ−１−オクテニ
ル］−2,3,3a,9a−テトラヒドロ−１Ｈ−シクロペンタ
［ｂ］［1,4］ベンゾジオキシン−５−イル］オキシ酢
酸メチルI ba−ａの製造 シリルエーテルI aa−ａ（実施例−１及び５）517mg
（0.802ミリモル）のTHF6ml溶液に、フツ化テトラ−ｎ
−ブチルアンモニウム（1M、THF溶液）1.60ml（1.60ミ
リモル）を加え、室温で終夜撹拌する。反応液に飽和塩
化アンモニウム水溶液と1N塩酸2ml（２ミリモル）を加
え、酢酸エチルで２回抽出する。抽出液を、水、飽和食
塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃
縮する。この残渣には、メチルエステルがけん化された
カルボン酸が一部存在するので、下記のごとくジアゾメ
タン処理し、メチルエステルへ戻す。反応混合物をメタ
ノール6mlに溶解し、０℃に於いて、ジアゾメタンのエ
ーテル溶液を反応液が黄色を呈するまで加える。減圧下
溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
イー精製（メルク社ローバーカラム、サイズＢ、酢酸エ
チル：トルエン＝2:1）して、目的とするメチルエステ
ルI ba−ａを282mg得る。酢酸エチル−ｎ−ヘキサン混
合溶媒より結晶化し、結晶のI ba−ａを260mg（収率80.
0％）得る。

・融点:121〜123℃（酢酸エチル−ｎ−ヘキサン） ・¹H−NMR:δ（CDCl₃＋CD₃OD）0.88（3H,t,J＝6Hz）,1.
10〜1.80（8H,m）,1.90〜2.20（1H,m）,2.35〜2.81（2
H,m）,3.82（3H,s）,3.8〜4.4（4H,m）,4.70（2H,s）,
5.43〜5.86（2H,m）,6.39〜6.87（3H,m）ppm. ・IR:νmax（CHCl₃）3608,3008,2960,2940,2864,1762,1
744,1600,1498,1476,1125,970cm^-1. 実施例−18〜34 実施例−17の方法に準じ、脱シリル化反応を行い、メ
チルエステルI b−ａを得る。結果を表４に示す。

実施例−35 ［（１Ｒ ^＊,2Ｓ ^＊,3aＲ ^＊,9aＳ ^＊）−２−ヒドロキシ−
１−［（３Ｒ ^＊,1Ｅ）−３−ヒドロキシ−１−オクテニ
ル］−2,3,3a,9a−テトラヒドロ−１Ｈ−シクロペンタ
［ｂ］［1,4］ベンゾジオキシン−５−イル］オキシ酢
酸 メチルエステルI ba−ａ（実施例−17）100mg（0.246
ミリモル）のメタノール2ml溶液に、1N水酸化ナトリウ
ム水溶液0.50ml（0.50ミリモル）を加え、室温で25分間
撹拌する。反応液に、1N塩酸1.0ml（1.0ミリモル）と飽
和食塩水を加え、クロロホルムで抽出する。抽出液を、
飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥す
る。減圧下溶媒を留去して、カルボン酸I ba−ｂの粗結
晶を77mg得る。このものを、酢酸エチル−ｎ−ヘキサン
混合溶媒より再結晶して、融点156−158℃の結晶I ba−
ｂを68mg（収率70.4％）得る。

・融点:156〜158℃（酢酸エチル−ｎ−ヘキサン） ・¹H−NMR:δ（CD₃OD）0.89（3H,t,J＝6Hz）,1.10〜1.8
0（8H,m）,1.82〜2.10（1H,m）,2.33〜2.75（2H,m）,3.
86〜4.35（4H,m）,4.63（2H,s）,5.41〜5.81（2H,m）,
6.42〜6.83（3H,m）ppm. ・IR:νmax（KBr）3404,2960,2940,2864,1745,1709,161
5,1596,1501,1477,1434,1131,984,968,904,760,712c
m^-1. 実施例−36〜46 実施例−35の方法に準じ、カルボン酸I b−ｂへ変換
し、結果を表５に示す。

実施例−47 ［（１Ｒ ^＊,2Ｓ ^＊,3aＲ ^＊,9aＳ ^＊）−２−ヒドロキシ−
１−［（３Ｓ ^＊,1Ｅ）−３−ヒドロキシ−１−オクテニ
ル］−2,3,3a,9a−テトラヒドロ−１Ｈ−シクロペンタ
［ｂ］［1,4］ベンゾジオキシン−５−イル］オキシ酢
酸メチルI da−ａの製造 実施例−17の方法に準じて反応を行い、シリルエーテ
ルI ca−ａ（実施例−１及び５）252mgより、目的とす
るメチルエステルI da−ａを110mg（収率69.2％）結晶
として得る。

・融点:95〜97℃（酢酸エチル−ｎ−ヘキサン） ・¹H−NMR:δ（CDCl₃＋CD₃OD）0.87（3H,t,J＝6Hz）,1.
10〜1.80（8H,m）,1.92〜2.20（1H,m）,2.30〜2.80（2
H,m）,3.80（3H,s）,3.8〜4.3（4H,m）,4.68（2H,s）,
5.50〜5.90（2H,m）,6.37〜6.87（3H,m）ppm. ・IR:νmax（CHCl₃）3608,3008,2960,2939,2864,1763,1
744,1600,1498,1479,1127,970cm^-1. 実施例−48〜63 実施例−17の方法に準じ、脱シリル化反応を行い、メ
チルエステルI d−ａを得る。結果を表６に示す。

実施例−64 ［（１Ｒ ^＊,2Ｒ ^＊,3aＳ ^＊,9aＲ ^＊）−２−ｔ−ブチルジ
フエニルシリルオキシ−１−［（Ｓ ^＊）−３−ヒドロキ
シオクチル］−2,3,3a,9a−テトラヒドロ−１Ｈ−シク
ロペンタ［ｂ］［1,4］ベンゾジオキシン−５−イル］
オキシ酢酸メチルI ea−ａの製造 水素雰囲気下、アリルアルコールI aa−ａ（実施例−
１及び５）188mg（0.291ミリモル）の乾燥エタノール7.
5ml溶液に、５％パラジウム−炭素19mgを加え、室温で
終夜撹拌を行う。触媒を濾別し、減圧下溶媒を留去した
残渣を、カラムクロマトグラフイー精製（メルク社ロー
バーカラム、サイズＡ、酢酸エチル−トルエン＝1:20〜
1:10）して、目的とする飽和アルコールI ea−ａを156m
g（収率82.7％）油状物質として得る。

・¹H−NMR:δ（CDCl₃）0.88（3H,t,J＝7Hz）,1.03（9H,
s）,0.80〜1.70（13H,m）,1.99〜2.40（3H,m）,3.30〜
3.61（1H,m）,3.77（3H,s）,3.75〜4.06（2H,m）,4.12
〜4.37（1H,m）,4.70（2H,m）,6.40〜6.89（3H,m）,7.3
3〜7.50（6H,m）,7.60〜7.80（4H,m）ppm. ・IR:νmax（CHCl₃）3616,3008,2936,2864,1763,1741,1
600,1498,1426,1290,1110,822,611cm^-1. ・MS:m/z M⁺646. 実施例−65〜70 実施例−64の方法に準じ、還元反応を行い、飽和アル
コールI e−ａを得る。結果を表７に示す。

実施例−71 ［（１Ｒ ^＊,2Ｓ ^＊,3aＲ ^＊,9aＳ ^＊）−２−ヒドロキシ−
１−［（Ｒ ^＊）−３−ヒドロキシオクチル］−2,3,3a,9
a−テトラヒドロ−１Ｈ−シクロペンタ［ｂ］［1,4］ベ
ンゾジオキシン−５−イル］オキシ酢酸メチルI fa−ａ
の製造 実施例−17の方法に準じて反応を行い、シリルエーテ
ルI ea−ａ（実施例−64）186mg（0.287ミリモル）よ
り、目的とするメチルエステルI fa−ａを80mg（収率6
8.2％）結晶として得る。

・融点:69〜70℃（酢酸エチル−ｎ−ヘキサン） ・¹H−NMR:δ（CDCl₃＋CD₃OD）0.8（3H,t,J＝7Hz）,1.1
0〜2.18（14H,m）,2.22〜2.57（1H,m）,3.42〜3.69（1
H,m）,3.79（3H,s）,3.73〜4.17（2H,m）,4.19〜4.35
（1H,m）,4.67（2H,s）,6.34〜6.87（3H,m）ppm. ・IR:νmax（CHCl₃）3616,3008,2936,2864,1762,1743,1
600,1498,1476,1286,1124cm^-1. 実施例−72〜77 実施例−17の方法に準じ、脱シリル化反応を行い、メ
チルエステルI f−ａを得る。結果を表８に示す。

実施例−78 ［（１Ｒ ^＊,2Ｓ ^＊,3aＲ ^＊,9aＳ ^＊）−２−ヒドロキシ−
１−［（Ｒ ^＊）−３−ヒドロキシオクチル］−2,3,3a,9
a−テトラヒドロ−１Ｈ−シクロペンタ［ｂ］［1,4］ベ
ンゾジオキシン−５−イル］オキシ酢酸I fa−ｂの製造 実施例−35の方法に準じて反応を行い、メチルエステ
ルI fa−ａ45mg（0.110ミリモル）から目的とするカル
ボン酸I fa−ｂ34mg（収率78.2％）を結晶として得る。

・融点:111〜113℃（酢酸エチル−ｎ−ヘキサン） ・¹H−NMR:δ（CD₃OD）0.89（3H,t,J＝6Hz）,1.08〜2.1
6（14H,m）,2.23〜2.62（1H,m）,3.38〜3.67（1H,m）,
3.73〜4.00（1H,m）,4.00〜4.32（2H,m）,4.63（2H,
s）,6.40〜6.85（3H,m）ppm. ・IR:νmax（KBr）3504,3368,2928,2856,1716,1615,159
8,1500,1476,1279,1134,759,713cm^-1. 実施例−79〜82 実施例−35の方法に準じて反応を行い、カルボン酸I
f−ｂを得る。結果を表９に示す。

実施例−83 ［（１Ｒ ^＊,2Ｓ ^＊,3aＲ ^＊,9aＳ ^＊）−２−ヒドロキシ−
１−［（３Ｒ ^＊,1Ｅ）−３−ヒドロキシ−１−オクテニ
ル］−2,3,3a,9a−テトラヒドロ−１Ｈ−シクロペンタ
［ｂ］［1,4］ベンゾジオキシン−５−イル］オキシ酢
酸［（９−アントリル）メチル］I ba−ａ′の製造 カルボン酸I ba−ｂ（実施例−35）25mg（0.064ミリ
モル）のメタノール0.5ml溶液に、室温に於て、（９−
アントリル）ジアゾメタン（２％、酢酸エチル溶液）1.
5ml（0.138ミリモル）を滴下する。滴下終了後、45分間
撹拌して、析出する結晶を濾取して粗製の（９−アント
リル）メチルエステルI ba−ａ′（27mg）を得る。この
粗結晶を、ピリジンに溶解し、不溶物を除去した後、酢
酸エチルより再結晶を行つて、融点185−188℃のI ba−
ａ′の結晶を19mg（収率51.2％）得る。

・融点:185〜188℃（酢酸エチル） ・¹H−NMR:δ（重ピリジン）0.83（3H,t,J＝6Hz）,1.02
〜1.93（8H,m）,2.12〜2.70（2H,m）,2.97〜3.31（1H,
m）,4.10〜4.50（4H,m）,4.95（2H,s）,5.86〜6.30（2
H,m）,6.41（2H,s）,6.65〜6.83（3H,m）,7.38〜7.70
（4H,m）,8.00〜8.17（2H,m）,8.35〜8.66（3H,m）ppm. ・IR:νmax（KBr）3592,3428,2928,2856,1741,1596,149
9,1475,1207,1124,973,723cm^-1. 実施例−84 ［（１Ｒ ^＊,2Ｓ ^＊,3aＲ ^＊,9aＳ ^＊）−２−ヒドロキシ−
１−［（３Ｓ ^＊,1Ｅ）−３−ヒドロキシ−１−オクテニ
ル］−2,3,3a,9a−テトラヒドロ−１Ｈ−シクロペンタ
［ｂ］［1,4］ベンゾジオキシン−５−イル］オキシ酢
酸I da−ｂの製造 実施例−35の方法に準じて反応を行い、メチルエステ
ルI da−ａ（実施例−47）110mgより、目的とするカル
ボン酸I da−ｂを80mg（収率75.5％）結晶として得る。

・融点:109.5〜111.5℃（酢酸エチル−ｎ−ヘキサン） ・¹H−NMR:δ（CD₃OD）0.89（3H,t,J＝6Hz）,1.10〜1.7
0（8H,m）,1.82〜2.12（1H,m）,2.30〜2.77（2H,m）,3.
85〜4.43（4H,m）,4.65（2H,s）,5.47〜5.93（2H,m）,
6.43〜6.85（3H,m）ppm. ・IR:νmax（KBr）3496,3241,2932,2852,1708,1617,159
6,1502,1476,1129,978,758,702cm^-1. 実施例−85,86 実施例−35の方法に準じて反応行い、カルボン酸I d
−ｂを得る。結果を表10に示す。

発明の効果 本発明化合物は、作用持続時間が長く化学的に安定な
ベンゾジオキサンPGI₂類縁体である。

本発明化合物は、PGI₂と同様に細胞保護作用を有す
る。同時に血小板凝集抑制作用をも有するが、本発明化
合物は血小板凝集抑制作用と比較して細胞保護作用の選
択性が高く、安全かつ有効な消化性潰瘍の治療薬になり
うる。以下に、その代表的な化合物について、塩酸−エ
タノール潰瘍に対する抗潰瘍作用の試験例を示す。

［塩酸−エタノール潰瘍に対する効果］ 24時間絶食したJCL−SD系またはCRJ−SD系雄性ラット
（体重220〜260g）に150mM塩酸−60％エタノール1mlを
経口投与し、１時間後に胃を摘出した。実体顕微鏡下に
胃粘膜損傷の長さを測定し、この総和を潰瘍係数とし
た。ビークル（１−10％エタノール）および被検化合物
は、塩酸−エタノール投与前30分に経口投与し、ビーク
ル投与群に対する被検化合物の抑制率を算出した。結果
を表11に示す。

本発明化合物は、PGI₂と同様に、細胞保護作用を有し
ており、食道、胃、十二指腸または胃手術後の吻合部な
どの潰瘍性病変、すなわち消化性潰瘍に対して有用な治
療薬として用いられるなどその薬理的効果の応用が期待
される化合物である。

本発明化合物は、経口的にまたは非経口的に投与する
ことができる。経口的には、例えば錠剤、カプセル剤、
丸剤、顆粒剤、細粒剤、水剤、乳剤などの剤形にし、非
経口的には、坐剤、あるいは注射剤例えば、静脈内注射
剤、筋肉内注射剤または皮下注射剤などになしうる。製
剤化の際には、通常用いられる適当な担体もしくは賦形
剤を使用する。

本発明化合物は、経口投与では成人１日約0.1〜100mg
が投与される。

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】式（Ｉ）： ［式中、R₁はアルキル、アルケニル、アルキニル、シク
   ロアルキル、シクロアルキルアルキルまたはフェノキシ
   アルキル;R₂は水素、低級アルキルまたはアラルキル;A
   はエチレンまたはビニレン：波線はα配置もしくはβ配
   置またはそれらの混合物を表わす］で示される化合物ま
   たはその塩。
2. 【請求項２】R₂が水素または低級アルキルである請求項
   １記載の化合物またはその塩。
3. 【請求項３】R₁がアルキル、アルケニルまたはシクロア
   ルキル;R₂が水素または低級アルキルである請求項１記
   載の化合物またはその塩。
4. 【請求項４】［２−ヒドロキシ−１−（３−ヒドロキシ
   −５−メチル−１−ノネニル）−2,3,3a,9a−テトラヒ
   ドロ−1H−シクロペンタ［ｂ］［1,4］ベンゾジオキシ
   ン−５−イル］オキシ酢酸メチル、［２−ヒドロキシ−
   １−（３−ヒドロキシ−５−メチル−1,8−ノナジエニ
   ル）−2,3,3a,9a−テトラヒドロ−1H−シクロペンタ
   ［ｂ］［1,4］ベンゾジオキシン−５−イル］オキシ酢
   酸メチル、［２−ヒドロキシ−１−（３−ヒドロキシ−
   5,9−ジメチル−1,8−デカジエニル）−2,3,3a,9a−テ
   トラヒドロ−1H−シクロペンタ［ｂ］［1,4］ベンゾジ
   オキシン−５−イル］オキシ酢酸メチル、［２−ヒドロ
   キシ−１−（３−シクロヘキシル−３−ヒドロキシプロ
   ピル）−2,3,3a,9a−テトラヒドロ−1H−シクロペンタ
   ［ｂ］［1,4］ベンゾジオキサン−５−イル］オキシ酢
   酸メチル、［２−ヒドロキシ−１−（３−ヒドロキシ−
   ５−メチルノニル）−2,3,3a,9a−テトラヒドロ−1H−
   シクロペンタ［ｂ］［1,4］ベンゾジオキシン−５−イ
   ル］オキシ酢酸メチル、［２−ヒドロキシ−１−（３−
   ヒドロキシ−５−メチル−１−ノネニル）−2,3,3a,9a
   −テトラヒドロ−1H−シクロペンタ［ｂ］［1,4］ベン
   ゾジオキシン−５−イル］オキシ酢酸または［２−ヒド
   ロキシ−１−（３−ヒドロキシ−5,9−ジメチル−1,8−
   デカジエニル）−2,3,3a,9a−テトラヒドロ−1H−シク
   ロペンタ［ｂ］［1,4］ベンゾジオキシン−５−イル］
   オキシ酢酸である請求項１記載の化合物。
5. 【請求項５】請求項１〜４に記載の化合物のいずれかを
   含有することを特徴とする細胞保護作用剤。