JP2591600B2 - ボンディング方法 - Google Patents
ボンディング方法Info
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- JP2591600B2 JP2591600B2 JP7200693A JP20069395A JP2591600B2 JP 2591600 B2 JP2591600 B2 JP 2591600B2 JP 7200693 A JP7200693 A JP 7200693A JP 20069395 A JP20069395 A JP 20069395A JP 2591600 B2 JP2591600 B2 JP 2591600B2
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- bonding
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/74—Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
- H01L2224/75—Apparatus for connecting with bump connectors or layer connectors
- H01L2224/7525—Means for applying energy, e.g. heating means
- H01L2224/75251—Means for applying energy, e.g. heating means in the lower part of the bonding apparatus, e.g. in the apparatus chuck
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- H01L2224/75252—Means for applying energy, e.g. heating means in the upper part of the bonding apparatus, e.g. in the bonding head
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、主面に電極を有する半
導体素子の電極とリードとを接合するボンディング方法
に関するものである。
導体素子の電極とリードとを接合するボンディング方法
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】フィルム状のリードと半導体素子上のア
ルミニウム電極とを金属突起を介して接続するいわゆる
フィルムキャリヤ方式は、薄型あるいは小型化に適した
実装方法として活用されている。図2において従来のフ
ィルムキャリヤ方式のフィルムリードと半導体素子上の
電極との接合方法についてのべる。
ルミニウム電極とを金属突起を介して接続するいわゆる
フィルムキャリヤ方式は、薄型あるいは小型化に適した
実装方法として活用されている。図2において従来のフ
ィルムキャリヤ方式のフィルムリードと半導体素子上の
電極との接合方法についてのべる。
【0003】半導体素子1の電極2と、フィルムキャリ
ヤ3のCu箔をエッチング加工し、Snメッキ処理した
リード4とが位置合せされる。この時、金属突起5は前
記半導体素子1の電極2上に多層金属膜(バリヤメタ
ル)を介して形成しても良いし、転写バンプ方式によっ
てリード側に形成しても良い。図2は転写バンプ方式に
よってリード側に金属突起を形成したものである。前記
半導体素子1はステージ24上に置かれ、ヒータ21を
有するボンディングツール20によって、前記リード4
上から加圧,加熱23する。次いで、加圧,加熱23を
取去れば、金属突起5がAuで構成させているならば、
金属突起5と半導体素子1上のアルミニウム電極2とは
Au,Alの合金で接合されるものである。また、前記
ボンディングツール20の温度は350〜550℃に達
する。
ヤ3のCu箔をエッチング加工し、Snメッキ処理した
リード4とが位置合せされる。この時、金属突起5は前
記半導体素子1の電極2上に多層金属膜(バリヤメタ
ル)を介して形成しても良いし、転写バンプ方式によっ
てリード側に形成しても良い。図2は転写バンプ方式に
よってリード側に金属突起を形成したものである。前記
半導体素子1はステージ24上に置かれ、ヒータ21を
有するボンディングツール20によって、前記リード4
上から加圧,加熱23する。次いで、加圧,加熱23を
取去れば、金属突起5がAuで構成させているならば、
金属突起5と半導体素子1上のアルミニウム電極2とは
Au,Alの合金で接合されるものである。また、前記
ボンディングツール20の温度は350〜550℃に達
する。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】この様な接合において
はボンディングツールの温度が比較的高いために、ボン
ディングツール20の底面とリード4とが癒着し、リー
ド4を破損したり、金属突起5と半導体素子1の電極2
との接合強度も低下さすものであった。
はボンディングツールの温度が比較的高いために、ボン
ディングツール20の底面とリード4とが癒着し、リー
ド4を破損したり、金属突起5と半導体素子1の電極2
との接合強度も低下さすものであった。
【0005】また、接合時にボンディングツール20の
底面にリード4上に表面処理してあるSnが附着し、こ
れが高温のために酸化物化し、熱伝導の悪い層を形成
し、前記ボンディングツール底面からのリードへの熱伝
導を悪く、接合部の温度が不安定になる。このため接合
強度の信頼性を低下せしめるものであった。
底面にリード4上に表面処理してあるSnが附着し、こ
れが高温のために酸化物化し、熱伝導の悪い層を形成
し、前記ボンディングツール底面からのリードへの熱伝
導を悪く、接合部の温度が不安定になる。このため接合
強度の信頼性を低下せしめるものであった。
【0006】
【課題を解決するための手段】前記に鑑み、本発明は、
半導体素子の電極とリードとの接合部を、リード側から
加熱する従来の方法に代えて、半導体素子側から加熱す
るものである。
半導体素子の電極とリードとの接合部を、リード側から
加熱する従来の方法に代えて、半導体素子側から加熱す
るものである。
【0007】具体的に本発明が講じた解決手段は、主面
に電極を有する半導体素子の前記電極とリードとを接合
するボンディング方法を前提とし、前記電極と前記リー
ドとの接合部を加熱するための加熱手段を有する第1の
治具により前記半導体素子を前記主面の対向面側から保
持する半導体素子保持工程と、前記第1の治具と、該第
1の治具と対向するように設けられた第2の治具との間
に前記リードを配置するリード配置工程と、前記半導体
素子を保持している前記第1の治具と前記第2の治具と
を接近させて前記電極と前記リードとを互いに圧接させ
ることにより、前記電極と前記リードとを接合する接合
工程とを備え、前記接合工程は、前記電極と前記リード
との接合部を、前記第2の治具により前記リード側から
加熱することなく前記第1の治具の加熱手段により前記
半導体素子側から加熱する工程を含む構成とするもので
ある。
に電極を有する半導体素子の前記電極とリードとを接合
するボンディング方法を前提とし、前記電極と前記リー
ドとの接合部を加熱するための加熱手段を有する第1の
治具により前記半導体素子を前記主面の対向面側から保
持する半導体素子保持工程と、前記第1の治具と、該第
1の治具と対向するように設けられた第2の治具との間
に前記リードを配置するリード配置工程と、前記半導体
素子を保持している前記第1の治具と前記第2の治具と
を接近させて前記電極と前記リードとを互いに圧接させ
ることにより、前記電極と前記リードとを接合する接合
工程とを備え、前記接合工程は、前記電極と前記リード
との接合部を、前記第2の治具により前記リード側から
加熱することなく前記第1の治具の加熱手段により前記
半導体素子側から加熱する工程を含む構成とするもので
ある。
【0008】
【作用】電極とリードとを接合する接合工程は、電極と
リードとの接合部を、リード側から加熱することなく第
1の治具の加熱手段により半導体素子側から加熱する工
程を含むため、半導体素子の電極とリードとの接合部は
半導体素子側からのみ加熱される。このため、リードが
第2の治具によって加熱されないので、リードと第2の
治具とが癒着する事態が回避されると共に、リードの表
面にメッキにより施されたSn等が第2の治具の加圧部
に付着して第2の治具からリードへの熱伝導が悪化する
事態を回避できる。
リードとの接合部を、リード側から加熱することなく第
1の治具の加熱手段により半導体素子側から加熱する工
程を含むため、半導体素子の電極とリードとの接合部は
半導体素子側からのみ加熱される。このため、リードが
第2の治具によって加熱されないので、リードと第2の
治具とが癒着する事態が回避されると共に、リードの表
面にメッキにより施されたSn等が第2の治具の加圧部
に付着して第2の治具からリードへの熱伝導が悪化する
事態を回避できる。
【0009】
【実施例】図1で本発明の実施例を説明する。フィルム
キャリヤ3のリード4には転写バンプ方式により金属突
起5が接合され、加圧,加熱するためボンディングツー
ル6上には、半導体素子1が設置されている。一方、前
記リード4の上方で、半導体素子1と対向する位置に耐
熱ガラス10を有する治具9が設けられている。
キャリヤ3のリード4には転写バンプ方式により金属突
起5が接合され、加圧,加熱するためボンディングツー
ル6上には、半導体素子1が設置されている。一方、前
記リード4の上方で、半導体素子1と対向する位置に耐
熱ガラス10を有する治具9が設けられている。
【0010】この状態でボンディングツール6を上昇し
治具9を下降せしめれば、金属突起5と半導体素子1の
電極2を接合する事ができる。すなわち、ボンディング
ツール6のヒータ7の熱は半導体素子1に伝達され、接
合部を加熱する事になる。また図1の構成でボンディン
グツール6は固定しておき、耐熱ガラス10を有する治
具9のみを下降,上昇12して加圧しても良い。前記ボ
ンディングツール8は常時加熱式のものでも良いが、ボ
ンディング時のみ加熱するいわゆるパルス加熱方式を用
いる事もでき、治具9の耐熱性絶縁材10は、石英,耐
熱ガラスあるいはセラミック等を用いる事ができ、治具
9にヒータを設けある程度の温度で耐熱性絶縁材10を
加熱しておれば、ボンディングツールの温度を下げる事
ができる。
治具9を下降せしめれば、金属突起5と半導体素子1の
電極2を接合する事ができる。すなわち、ボンディング
ツール6のヒータ7の熱は半導体素子1に伝達され、接
合部を加熱する事になる。また図1の構成でボンディン
グツール6は固定しておき、耐熱ガラス10を有する治
具9のみを下降,上昇12して加圧しても良い。前記ボ
ンディングツール8は常時加熱式のものでも良いが、ボ
ンディング時のみ加熱するいわゆるパルス加熱方式を用
いる事もでき、治具9の耐熱性絶縁材10は、石英,耐
熱ガラスあるいはセラミック等を用いる事ができ、治具
9にヒータを設けある程度の温度で耐熱性絶縁材10を
加熱しておれば、ボンディングツールの温度を下げる事
ができる。
【0011】次に他の実施例を図3でのべる。ボンディ
ング時においてフィルムキャリヤ3のリード4は耐熱ガ
ラスやセラミックである耐熱性絶縁材で構成された治具
43上に設置され、半導体素子1はその裏面を加圧,加
熱するためのボンディングツール40に保持されてい
る。リード4上の金属突起5と半導体素子1の電極との
位置合せが終われば、ボンディングツール40を下降4
2せしめ、ボンディングを行うものである。本実施例に
よれば、ボンディングツールが加熱手段及び半導体素子
1を保持する手段を兼ね備えているため、半導体素子1
をリード4上に搬送する際に加熱をしておくことが可能
なため、半導体素子の電極2とリード4の加圧・加熱を
短時間で効率的に行なうことができる。
ング時においてフィルムキャリヤ3のリード4は耐熱ガ
ラスやセラミックである耐熱性絶縁材で構成された治具
43上に設置され、半導体素子1はその裏面を加圧,加
熱するためのボンディングツール40に保持されてい
る。リード4上の金属突起5と半導体素子1の電極との
位置合せが終われば、ボンディングツール40を下降4
2せしめ、ボンディングを行うものである。本実施例に
よれば、ボンディングツールが加熱手段及び半導体素子
1を保持する手段を兼ね備えているため、半導体素子1
をリード4上に搬送する際に加熱をしておくことが可能
なため、半導体素子の電極2とリード4の加圧・加熱を
短時間で効率的に行なうことができる。
【0012】図1、図3の実施例において、金属突起5
はリード4上に形成した例を示したが、半導体素子の電
極上に多層金属膜を介して金属突起を形成した構成のも
のを用いても良い。
はリード4上に形成した例を示したが、半導体素子の電
極上に多層金属膜を介して金属突起を形成した構成のも
のを用いても良い。
【0013】この様な構成であれば、高温のボンディン
グツールがリードに直接接触する事がない。
グツールがリードに直接接触する事がない。
【0014】
【発明の効果】本発明に係るボンディング方法による
と、以下に説明するような効果が得られる。
と、以下に説明するような効果が得られる。
【0015】(1)電極とリードとを接合する接合工程
は、電極とリードとの接合部を、リード側から加熱する
ことなく第1の治具の加熱手段により半導体素子側から
加熱する工程を含み、電極とリードとの接合部は、半導
体素子側からのみ加熱され、第2の治具によりリードを
介して加熱されないため、リードと第2の治具とが癒着
しないので、リードの損傷が発生しないのみならず、半
導体素子の電極とリードとの接合部の信頼性が向上す
る。
は、電極とリードとの接合部を、リード側から加熱する
ことなく第1の治具の加熱手段により半導体素子側から
加熱する工程を含み、電極とリードとの接合部は、半導
体素子側からのみ加熱され、第2の治具によりリードを
介して加熱されないため、リードと第2の治具とが癒着
しないので、リードの損傷が発生しないのみならず、半
導体素子の電極とリードとの接合部の信頼性が向上す
る。
【0016】(2)リードが第2の治具により加熱され
ないため、リードの表面に施されたSn等が第2の治具
に付着しないので、第2の治具に付着した付着物により
熱伝導性が悪化して電極とリードとの接合部に熱を安定
して供給できなくなる事態を回避できると共に、第2の
治具に付着した付着物をクリーニングする工程が不要に
なり、これに伴って第2の治具の磨耗を防止できる。
ないため、リードの表面に施されたSn等が第2の治具
に付着しないので、第2の治具に付着した付着物により
熱伝導性が悪化して電極とリードとの接合部に熱を安定
して供給できなくなる事態を回避できると共に、第2の
治具に付着した付着物をクリーニングする工程が不要に
なり、これに伴って第2の治具の磨耗を防止できる。
【0017】(3)第2の治具によりリードを介して接
合部を加熱する従来の方法において、フィルムキャリア
方式によりリードを供給する場合には、フィルムキャリ
ヤの開孔部からリードを加熱しなければならないため、
第2の治具の加圧部の形状がフィルムキャリアの開口部
の寸法に依存するという制約があったが、本発明による
と、第1の治具により半導体素子側から接合部を加熱す
るため、第1の治具の加圧部の形状及び寸法の設計の自
由度が増し、温度分布の安定な加圧部を設計できるの
で、安定で且つ信頼性の高い接合が得られる。
合部を加熱する従来の方法において、フィルムキャリア
方式によりリードを供給する場合には、フィルムキャリ
ヤの開孔部からリードを加熱しなければならないため、
第2の治具の加圧部の形状がフィルムキャリアの開口部
の寸法に依存するという制約があったが、本発明による
と、第1の治具により半導体素子側から接合部を加熱す
るため、第1の治具の加圧部の形状及び寸法の設計の自
由度が増し、温度分布の安定な加圧部を設計できるの
で、安定で且つ信頼性の高い接合が得られる。
【0018】(4)第2の治具によりリードを介して接
合部を加熱する従来の方法によると、リードの表面に施
されたSn等が第2の治具の加圧部に付着する事態を回
避するべく、第2の治具の加圧部にダイヤモンド等の高
価な材料を用いたりしていたが、本発明によると、リー
ドの表面に施されたSn等が第2の治具に付着しないた
め、第2の治具の加圧部に安価な材料を用いることがで
きるので、ボンディング装置のコストの低減を図ること
ができる。
合部を加熱する従来の方法によると、リードの表面に施
されたSn等が第2の治具の加圧部に付着する事態を回
避するべく、第2の治具の加圧部にダイヤモンド等の高
価な材料を用いたりしていたが、本発明によると、リー
ドの表面に施されたSn等が第2の治具に付着しないた
め、第2の治具の加圧部に安価な材料を用いることがで
きるので、ボンディング装置のコストの低減を図ること
ができる。
【0019】(5)第2の治具によりリードを介して接
合部を加熱する従来の方法において、フィルムキャリア
方式によりリードを供給する場合には、フィルムキャリ
アが高温の第2の治具に晒されるため、熱によってフィ
ルムキャリアに撓みが発生したりリードピッチにずれが
発生したりする問題があったが、本発明によると、第2
の治具によりリードを加熱しないため、前記の問題は著
しく低減する。
合部を加熱する従来の方法において、フィルムキャリア
方式によりリードを供給する場合には、フィルムキャリ
アが高温の第2の治具に晒されるため、熱によってフィ
ルムキャリアに撓みが発生したりリードピッチにずれが
発生したりする問題があったが、本発明によると、第2
の治具によりリードを加熱しないため、前記の問題は著
しく低減する。
【図1】本発明の実施例のボンディング時の断面構造図
【図2】従来例のボンディング時の断面構造図
【図3】本発明の他の実施例のボンディング時の断面構
造図
造図
1 半導体素子 2 電極 3 フィルムキャリヤ 4 リード 5 金属突起 6 ボンディングツール
Claims (1)
- 【請求項1】 主面に電極を有する半導体素子の前記電
極とリードとを接合するボンディング方法であって、 前記電極と前記リードとの接合部を加熱するための加熱
手段を有する第1の治具により前記半導体素子を前記主
面の対向面側から保持する半導体素子保持工程と、 前記第1の治具と、該第1の治具と対向するように設け
られた第2の治具との間に前記リードを配置するリード
配置工程と、 前記半導体素子を保持している前記第1の治具と前記第
2の治具とを接近させて前記電極と前記リードとを互い
に圧接させることにより、前記電極と前記リードとを接
合する接合工程とを備え、 前記接合工程は、前記電極と前記リードとの接合部を、
前記リード側から加熱することなく前記第1の治具の加
熱手段により前記半導体素子側から加熱する工程を含む
ことを特徴とする ボンディング方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7200693A JP2591600B2 (ja) | 1995-08-07 | 1995-08-07 | ボンディング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7200693A JP2591600B2 (ja) | 1995-08-07 | 1995-08-07 | ボンディング方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08172115A JPH08172115A (ja) | 1996-07-02 |
JP2591600B2 true JP2591600B2 (ja) | 1997-03-19 |
Family
ID=16428683
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7200693A Expired - Lifetime JP2591600B2 (ja) | 1995-08-07 | 1995-08-07 | ボンディング方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2591600B2 (ja) |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5338262A (en) * | 1976-09-20 | 1978-04-08 | Seiko Epson Corp | Semiconductor connection system |
JPS573411A (en) * | 1980-06-06 | 1982-01-08 | Nec Corp | Composite piezoelectric ceramic oscillator |
JPS6046039A (ja) * | 1983-08-23 | 1985-03-12 | Sharp Corp | 半導体素子のボンデング方法 |
JPS60130837A (ja) * | 1983-12-19 | 1985-07-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体装置の製造方法 |
JPH0658137B2 (ja) * | 1993-04-26 | 1994-08-03 | アイシン・エィ・ダブリュ株式会社 | 車両用動力伝達装置の制御装置 |
-
1995
- 1995-08-07 JP JP7200693A patent/JP2591600B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH08172115A (ja) | 1996-07-02 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19961029 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |