JP2590393B2 - Ｅｃｒプラズマエッチング加工方法 - Google Patents
Ｅｃｒプラズマエッチング加工方法Info
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- JP2590393B2 JP2590393B2 JP4150787A JP15078792A JP2590393B2 JP 2590393 B2 JP2590393 B2 JP 2590393B2 JP 4150787 A JP4150787 A JP 4150787A JP 15078792 A JP15078792 A JP 15078792A JP 2590393 B2 JP2590393 B2 JP 2590393B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic field
- microwave
- plasma etching
- etching method
- pulse
- Prior art date
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- Drying Of Semiconductors (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、異方性ＥＣＲプラズマ
エッチング加工方法に関する。
エッチング加工方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のＥＣＲプラズマエッチング方法
は、永久磁石を使用して一定磁界（０．０８７５Ｔ）中
で電子が磁力線の周りで円運動をし、その角振動数ωC
とマイクロ波の角振動数ωが一致してＥＣＲ現象が生
じ、これをエッチング加工に応用している。
は、永久磁石を使用して一定磁界（０．０８７５Ｔ）中
で電子が磁力線の周りで円運動をし、その角振動数ωC
とマイクロ波の角振動数ωが一致してＥＣＲ現象が生
じ、これをエッチング加工に応用している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来のＥＣＲプラズマ
エッチング加工では、一定磁場中でＥＣＲ現象を利用し
ているため、プラズマ中のイオン温度が高く、しかもイ
オンエネルギーが低いため、異方性のあるＥＣＲプラズ
マエッチング形状が得られなかった。
エッチング加工では、一定磁場中でＥＣＲ現象を利用し
ているため、プラズマ中のイオン温度が高く、しかもイ
オンエネルギーが低いため、異方性のあるＥＣＲプラズ
マエッチング形状が得られなかった。
【０００４】ＥＣＲプラズマエッチング加工において反
応を誘起するイオン温度を低くすることは、イオン衝撃
によるダメージの低減の点において重要である。イオン
温度を低温化すれば、イオンの方向性が向上できる。イ
オン温度はほぼ中性分子温度に等しいと考えられる。質
量の違う電子とイオンの運動に大きなずれを生じさせ、
したがって磁化プラズマ中では常に荷電分離した状態と
なり、荷電分離がもたらす電界によって、電子とイオン
が結合された状態で、この電界が速やかに中和されず、
磁界との相互作用などにより荷電分離が進行する場合、
プラズマが不安定となり、イオンを加熱する主原因とな
る。
応を誘起するイオン温度を低くすることは、イオン衝撃
によるダメージの低減の点において重要である。イオン
温度を低温化すれば、イオンの方向性が向上できる。イ
オン温度はほぼ中性分子温度に等しいと考えられる。質
量の違う電子とイオンの運動に大きなずれを生じさせ、
したがって磁化プラズマ中では常に荷電分離した状態と
なり、荷電分離がもたらす電界によって、電子とイオン
が結合された状態で、この電界が速やかに中和されず、
磁界との相互作用などにより荷電分離が進行する場合、
プラズマが不安定となり、イオンを加熱する主原因とな
る。
【０００５】本発明はこの欠点を改良し、プラズマを安
定させ、異方性エッチング処理を可能にするものであ
る。
定させ、異方性エッチング処理を可能にするものであ
る。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、電子サイクロ
トロン共鳴（ＥＣＲ）現象を利用したＥＣＲプラズマエ
ッチング加工方法において、マイクロ波の進行方向と平
行に０．０８Ｔ以上のパルス磁界を与え、しかもイオン
源に対してマイクロ波の進行方向と直角方向に０．０８
Ｔ以上のパルス磁界を与えてプラズマＭＨＤを安定化さ
せて加工するＥＣＲプラズマエッチング加工方法であ
る。本発明は又、ＥＣＲプラズマエッチング加工方法に
おいて、マイクロ波の進行方向と平行に０．０８Ｔ以上
のパルス磁界を与え、しかもイオン源に対してマイクロ
波の進行方向と直角方向にパルス幅０．０１〜５００ｍ
ｓのパルス電流をコイルに通電してパルス磁界を与え、
プラズマＭＨＤを安定化させて加工するＥＣＲプラズマ
エッチング加工方法である。すなわち、マイクロ波の進
行方向と平行に０．０８Ｔ以上のパルス磁界を与えるこ
とにより、パルスオンタイム時の瞬時には平均して従来
の一定磁界の０．０８７５Ｔを越える磁界が生じ、しか
もイオン源に対してマイクロ波の進行方向と直角方向に
０．０８Ｔ以上のパルス磁界を与えることにより、後出
の図２におけるＮからＳへの磁力線に沿ってマイクロ波
電界の電子が回転し、マイクロ波管の中心部へと移動す
る。この際、電子は管の内部に存在するガス分子に衝突
してイオン化させ、電子とイオンのプラズマ状態を形成
する。すなわち、この電子、イオンは管の中心方向に集
まるため、それらの管内における分散率は低く、かつ緻
密となり、電子が分子に衝突するための移動距離は小さ
く、管の中央部に集まっている磁束に対する電子、イオ
ンの旋回曲率と速度は小さくなり、方向が真直となっ
て、異方性処理効果が大となり、試料の裏面への回り込
みがなく、正確な加工ができる。又、イオン源に対して
マイクロ波の進行方向と直角方向に０．０８Ｔ以上のパ
ルス磁界を与えることにより、電子、イオンの旋回曲率
と速度が小さいためプラズマ状態が安定化し、イオン温
度を低温化させることができた。その結果、正確なエッ
チング加工を高速に行うことができる。又、平行パルス
磁界のパルス幅を大きくすることにより、イオンのまわ
り込みが多くなり、側面エッチングも効率良くできる。
又、マイクロ波の進行方向と直角方向に与えるパルス磁
界のパルス幅は０．０１ｍｓ未満で共鳴吸収させるには
極めて高い電圧を印加し 、磁界を発生させなければなら
ず、現状の技術ではむずかしい。５００ｍｓを超えるパ
ルス幅では電子、イオンの旋回曲率が大きくなり、荷電
分離が進行してイオン温度が高くなり、発明の効果が得
られない。
トロン共鳴（ＥＣＲ）現象を利用したＥＣＲプラズマエ
ッチング加工方法において、マイクロ波の進行方向と平
行に０．０８Ｔ以上のパルス磁界を与え、しかもイオン
源に対してマイクロ波の進行方向と直角方向に０．０８
Ｔ以上のパルス磁界を与えてプラズマＭＨＤを安定化さ
せて加工するＥＣＲプラズマエッチング加工方法であ
る。本発明は又、ＥＣＲプラズマエッチング加工方法に
おいて、マイクロ波の進行方向と平行に０．０８Ｔ以上
のパルス磁界を与え、しかもイオン源に対してマイクロ
波の進行方向と直角方向にパルス幅０．０１〜５００ｍ
ｓのパルス電流をコイルに通電してパルス磁界を与え、
プラズマＭＨＤを安定化させて加工するＥＣＲプラズマ
エッチング加工方法である。すなわち、マイクロ波の進
行方向と平行に０．０８Ｔ以上のパルス磁界を与えるこ
とにより、パルスオンタイム時の瞬時には平均して従来
の一定磁界の０．０８７５Ｔを越える磁界が生じ、しか
もイオン源に対してマイクロ波の進行方向と直角方向に
０．０８Ｔ以上のパルス磁界を与えることにより、後出
の図２におけるＮからＳへの磁力線に沿ってマイクロ波
電界の電子が回転し、マイクロ波管の中心部へと移動す
る。この際、電子は管の内部に存在するガス分子に衝突
してイオン化させ、電子とイオンのプラズマ状態を形成
する。すなわち、この電子、イオンは管の中心方向に集
まるため、それらの管内における分散率は低く、かつ緻
密となり、電子が分子に衝突するための移動距離は小さ
く、管の中央部に集まっている磁束に対する電子、イオ
ンの旋回曲率と速度は小さくなり、方向が真直となっ
て、異方性処理効果が大となり、試料の裏面への回り込
みがなく、正確な加工ができる。又、イオン源に対して
マイクロ波の進行方向と直角方向に０．０８Ｔ以上のパ
ルス磁界を与えることにより、電子、イオンの旋回曲率
と速度が小さいためプラズマ状態が安定化し、イオン温
度を低温化させることができた。その結果、正確なエッ
チング加工を高速に行うことができる。又、平行パルス
磁界のパルス幅を大きくすることにより、イオンのまわ
り込みが多くなり、側面エッチングも効率良くできる。
又、マイクロ波の進行方向と直角方向に与えるパルス磁
界のパルス幅は０．０１ｍｓ未満で共鳴吸収させるには
極めて高い電圧を印加し 、磁界を発生させなければなら
ず、現状の技術ではむずかしい。５００ｍｓを超えるパ
ルス幅では電子、イオンの旋回曲率が大きくなり、荷電
分離が進行してイオン温度が高くなり、発明の効果が得
られない。
【０００７】
【実施例】実施例を図面に基づいて説明する。
【０００８】図１、図２において、１は被加工材で、２
はマイクロ波の進行方向に平行なパルス磁界を発生させ
るコイル、３はイオン源においてマイクロ波の進行方向
に垂直なパルス磁界を発生させるコイル、４はヨーク、
５はイオン源であり、６は２．４５ＧＨｚのマイクロ波
の進行方向を示す。７は反応ガス導入口で８は排気系で
ある。イオン引出し電源としてＤＣ２００〜１０００Ｖ
を与える。
はマイクロ波の進行方向に平行なパルス磁界を発生させ
るコイル、３はイオン源においてマイクロ波の進行方向
に垂直なパルス磁界を発生させるコイル、４はヨーク、
５はイオン源であり、６は２．４５ＧＨｚのマイクロ波
の進行方向を示す。７は反応ガス導入口で８は排気系で
ある。イオン引出し電源としてＤＣ２００〜１０００Ｖ
を与える。
【０００９】次に具体的な加工例について説明する。例
えば多結晶Ｓｉを被加工材とした場合、エッチングガス
としてＣＦ4＋Ｏ2を流し、０．０５Ｔｏｒｒの雰囲気中
で高電離プラズマを生成させるため、マイクロ波の進行
方向に平均磁界０．０８７５Ｔとなるパルス磁界を与え
た。さらにイオン濃度を低温化させるための閉じ込め磁
場として、コイル３に平均磁界０．０８７５以上０．１
２Ｔの磁界を与えた。その結果、０．８６μｍ／ｍｉｎ
の高速エッチングを行うことができた。従来の方法の４
倍以上のエッチング速度が得られ、従来のまわり込み角
１５°に対して０．１°であり、極めて優れた異方性が
得られた。この時のパルス幅条件と結果を表１〜４に示
す。又、被加工材として、Ｓｉ3Ｎ4、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ
3についても加工をしたところ、パルス磁界によりイオ
ン温度の低温度化と異方性エッチングが可能であること
がわかった。これらについても表１に併記する。なお、
まわり込み角とは、図３に示す如く、試料側面のエッチ
ングによるへこみ角度θを示す。
えば多結晶Ｓｉを被加工材とした場合、エッチングガス
としてＣＦ4＋Ｏ2を流し、０．０５Ｔｏｒｒの雰囲気中
で高電離プラズマを生成させるため、マイクロ波の進行
方向に平均磁界０．０８７５Ｔとなるパルス磁界を与え
た。さらにイオン濃度を低温化させるための閉じ込め磁
場として、コイル３に平均磁界０．０８７５以上０．１
２Ｔの磁界を与えた。その結果、０．８６μｍ／ｍｉｎ
の高速エッチングを行うことができた。従来の方法の４
倍以上のエッチング速度が得られ、従来のまわり込み角
１５°に対して０．１°であり、極めて優れた異方性が
得られた。この時のパルス幅条件と結果を表１〜４に示
す。又、被加工材として、Ｓｉ3Ｎ4、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ
3についても加工をしたところ、パルス磁界によりイオ
ン温度の低温度化と異方性エッチングが可能であること
がわかった。これらについても表１に併記する。なお、
まわり込み角とは、図３に示す如く、試料側面のエッチ
ングによるへこみ角度θを示す。
【００１０】
【表１】
【００１１】
【表２】
【００１２】
【表３】
【００１３】
【表４】
【００１４】
【発明の効果】本発明によれば、パルス磁界のτONを種
々変えることによりプラズマ閉じ込めも効率良くなり、
その上イオン温度が低下し、さらに平行パルス磁界によ
り異方性エッチングを行うことができる。超ＬＳＩの加
工精度においても、高異方性、低損傷のエッチング加工
を施すことができる。
々変えることによりプラズマ閉じ込めも効率良くなり、
その上イオン温度が低下し、さらに平行パルス磁界によ
り異方性エッチングを行うことができる。超ＬＳＩの加
工精度においても、高異方性、低損傷のエッチング加工
を施すことができる。
【図１】本発明を実施する装置の説明図である。
【図２】図１のＡ−Ａ’断面図である。
【図３】まわり込み角θの説明図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (73)特許権者 999999999 大場 章 埼玉県朝霞市宮戸３丁目12番89号 (72)発明者 大場 和夫 埼玉県東村山市松葉町４丁目２番３号 (72)発明者 嶋 好範 神奈川県川崎市麻生区王禅寺768番地15 (72)発明者 大場 章 埼玉県朝霧市浜崎１丁目９番地の３− 205 (56)参考文献 特開 昭63−79986（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−77123（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−312227（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−22486（ＪＰ，Ａ)
Claims (2)
- 【請求項１】 電子サイクロトロン共鳴（ＥＣＲ）現象
を利用したＥＣＲプラズマエッチング加工方法におい
て、マイクロ波の進行方向と平行に０．０８Ｔ以上のパ
ルス磁界を与え、しかもイオン源に対してマイクロ波の
進行方向と直角方向に０．０８Ｔ以上のパルス磁界を与
えてプラズマＭＨＤを安定化させて加工することを特徴
とするＥＣＲプラズマエッチング加工方法。 - 【請求項２】 ＥＣＲプラズマエッチング加工方法にお
いて、マイクロ波の進行方向と平行に０．０８Ｔ以上の
パルス磁界を与え、しかもイオン源に対してマイクロ波
の進行方向と直角方向にパルス幅０．０１〜５００ｍｓ
のパルス電流をコイルに通電してパルス磁界を与え、プ
ラズマＭＨＤを安定化させて加工することを特徴とする
ＥＣＲプラズマエッチング加工方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4150787A JP2590393B2 (ja) | 1992-06-10 | 1992-06-10 | Ｅｃｒプラズマエッチング加工方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4150787A JP2590393B2 (ja) | 1992-06-10 | 1992-06-10 | Ｅｃｒプラズマエッチング加工方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05339761A JPH05339761A (ja) | 1993-12-21 |
| JP2590393B2 true JP2590393B2 (ja) | 1997-03-12 |
Family
ID=15504428
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4150787A Expired - Lifetime JP2590393B2 (ja) | 1992-06-10 | 1992-06-10 | Ｅｃｒプラズマエッチング加工方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2590393B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6566272B2 (en) | 1999-07-23 | 2003-05-20 | Applied Materials Inc. | Method for providing pulsed plasma during a portion of a semiconductor wafer process |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6379986A (ja) * | 1986-09-25 | 1988-04-09 | Canon Inc | プラズマ制御装置 |
| JP2679816B2 (ja) * | 1988-06-24 | 1997-11-19 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理方法 |
| JPH0222486A (ja) * | 1988-07-12 | 1990-01-25 | Anelva Corp | マイクロ波プラズマ処理装置 |
| JP2972227B2 (ja) * | 1989-05-29 | 1999-11-08 | 株式会社日立製作所 | プラズマ処理方法及び装置 |
-
1992
- 1992-06-10 JP JP4150787A patent/JP2590393B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05339761A (ja) | 1993-12-21 |
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