JP2580056B2 - Drying equipment - Google Patents

Drying equipment

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JP2580056B2
JP2580056B2 JP2029894A JP2989490A JP2580056B2 JP 2580056 B2 JP2580056 B2 JP 2580056B2 JP 2029894 A JP2029894 A JP 2029894A JP 2989490 A JP2989490 A JP 2989490A JP 2580056 B2 JP2580056 B2 JP 2580056B2
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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、半導体製造工程で用いられる基板洗浄装置
などにおける乾燥装置に関する。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a drying apparatus in a substrate cleaning apparatus used in a semiconductor manufacturing process.

従来の技術 第3図は半導体製造工程においてウエハやガラス基板
などの洗浄に使用される一般的な洗浄装置の概要を示す
平面図であり、第4図はその洗浄装置の縦断面図であ
る。たとえば液晶パネルの製造工程におけるガラス基板
の洗浄処理は、ガラス基板の収容容器であるカセットに
通常1ロット分として10〜40枚のガラス基板をセットし
た状態で行われる。
2. Description of the Related Art FIG. 3 is a plan view showing an outline of a general cleaning apparatus used for cleaning a wafer or a glass substrate in a semiconductor manufacturing process, and FIG. 4 is a longitudinal sectional view of the cleaning apparatus. For example, the cleaning process of a glass substrate in a manufacturing process of a liquid crystal panel is performed in a state where 10 to 40 glass substrates as one lot are usually set in a cassette which is a container for storing glass substrates.

この場合に用いられる洗浄装置の洗浄方式としては、
上記カセットからガラス基板を1枚ずつ取り出して洗浄
する枚葉処理方式と、カセットごと洗浄するバッチ処理
方式の2種類がある。第3図および第4図に示す洗浄装
置は、そのうちのバッチ処理方式のものを示している。
The cleaning method of the cleaning device used in this case includes:
There are two types: a single-wafer processing method in which glass substrates are taken out of the cassette one by one and washed, and a batch processing method in which the glass substrates are washed together. The cleaning apparatus shown in FIGS. 3 and 4 is of the batch processing type.

上記洗浄装置において、ローダ1はガラス基板の収容
されたカセットを洗浄室2に搬入するために待機させて
おく装置である。このローダ1に隣接する洗浄室2に
は、薬液槽3、一次水洗槽4、最終水洗槽5および乾燥
槽6がローダ1側からこれらの順序で1列に並べて配置
されている。また洗浄室2の上部にはレール7にガイド
されて上記カセットを搬送する搬送ロボット8が設けら
れている。
In the above-described cleaning apparatus, the loader 1 is an apparatus for holding a cassette containing glass substrates in a standby state to carry the cassette into the cleaning chamber 2. In the washing room 2 adjacent to the loader 1, a chemical solution tank 3, a primary washing tank 4, a final washing tank 5, and a drying tank 6 are arranged in a line in this order from the loader 1 side. A transfer robot 8 is provided above the cleaning chamber 2 to transfer the cassette guided by a rail 7.

さらに洗浄室2の乾燥槽6側に隣接して、洗浄処理を
終えたガラス基板をカセットに収容したまま洗浄装置の
外に取り出すために待機させておくアンローダ9が配置
されている。ローダ1、アンローダ9の設置空間の上部
および洗浄室2の上部にはこれらの空間を高い清浄度に
保つためのクリーンベンチ10がそれぞれ設けられてい
る。
Further, an unloader 9 is arranged adjacent to the drying tank 6 side of the cleaning chamber 2 to hold the glass substrate having been subjected to the cleaning process in a cassette and take it out of the cleaning apparatus while taking it out of the cleaning apparatus. A clean bench 10 is provided above the installation space of the loader 1 and the unloader 9 and above the washing room 2 for keeping these spaces at a high degree of cleanliness.

上記洗浄装置において、ローダ1にセットされたカセ
ットは搬送ロボット8のチャッキングアーム11によって
持ち上げられ、まず薬液槽3中に浸漬してガラス基板の
薬液処理が行われる。薬液処理後、カセットのガラス基
板はさらに搬送ロボット8によって次の一次水洗槽4中
に浸漬されて水洗処理される。次に最終水洗槽5中に浸
漬されて再度水洗処理が行われ、さらに乾燥槽6でガラ
ス基板の乾燥処理が行われる。
In the above-described cleaning apparatus, the cassette set in the loader 1 is lifted by the chucking arm 11 of the transfer robot 8, and is first immersed in the chemical solution tank 3 to perform the chemical treatment on the glass substrate. After the chemical treatment, the glass substrate of the cassette is further immersed in the next primary washing tank 4 by the transfer robot 8 to be washed. Next, the glass substrate is immersed in the final washing tank 5 and subjected to the washing treatment again, and further the drying treatment of the glass substrate is carried out in the drying tank 6.

この場合、上記乾燥槽6と搬送ロボット8とは引上げ
乾燥装置を構成している。
In this case, the drying tank 6 and the transfer robot 8 constitute a pull-up drying device.

第5図は、その引上げ乾燥装置の概略的な構成を示す
縦断面図である。乾燥槽6は外槽6aと内槽6bとからなる
二重構造を持ち、その内槽6bには洗浄水12が満たされ
る。この洗浄水12は、内槽6b底部に連通しバルブ13で開
閉される給排水管14を経て供給または排水される。
FIG. 5 is a longitudinal sectional view showing a schematic configuration of the pulling-drying device. The drying tank 6 has a double structure including an outer tank 6a and an inner tank 6b, and the inner tank 6b is filled with cleaning water 12. The washing water 12 is supplied or drained through a water supply / drain pipe 14 which communicates with the bottom of the inner tank 6b and is opened and closed by a valve 13.

搬送ロボット8によって内槽6bの洗浄水12中に浸漬さ
れたカセット15は同じ搬送ロボット8によって20〜30mm
/min程度の低速度で引き上げられ、カセット15内のガラ
ス基板16はこの引上げ期間中に洗浄水12と液面から露呈
するときの洗浄水12の表面張力でシミのない理想的な状
態に乾燥される。カセット15の昇降は、カセット15の外
表面に設けられた突起17を搬送ロボット8のチャッキン
グアーム11が把持することによって行われる。
The cassette 15 immersed in the washing water 12 of the inner tank 6b by the transfer robot 8 is 20 to 30 mm by the same transfer robot 8.
The glass substrate 16 in the cassette 15 is dried to an ideal state without stains due to the surface tension of the cleaning water 12 and the cleaning water 12 when the glass substrate 16 is exposed from the liquid surface during the pulling period. Is done. The cassette 15 is moved up and down by the chucking arm 11 of the transfer robot 8 gripping a projection 17 provided on the outer surface of the cassette 15.

発明が解決しようとする課題 しかしながら、上述した従来の洗浄装置における引上
げ乾燥装置の場合には、搬送ロボット8による乾燥槽6
からのカセット15の引上げ動作が乾燥槽6の真上で行わ
れ、しかもその引上げ動作は低速度で長時間かけて行わ
れるため、搬送ロボット8の駆動にともなって発生する
ダストが長時間に亙って乾燥槽6内に入り続け、乾燥処
理対象のガラス基板16に悪影響を与えるという問題点を
有する。
SUMMARY OF THE INVENTION However, in the case of the pulling-drying device in the above-described conventional cleaning device, the drying tank 6 by the transfer robot 8 is used.
The pulling operation of the cassette 15 from above is performed right above the drying tank 6 and the pulling operation is performed at a low speed for a long time, so that dust generated by driving the transfer robot 8 is generated for a long time. Therefore, there is a problem in that the glass substrate 16 continues to enter the drying tank 6 and adversely affects the glass substrate 16 to be dried.

また、搬送ロボット8の稼働時間のうち上記引上げ乾
燥処理に占める時間が長くなるため、洗浄装置全体が単
位時間に処理する仕事の量つまりスループットがそれだ
け低下するという問題点も有する。この問題は搬送用の
ロボットとは別に引上げ乾燥用のロボットを設ければ解
決できるが、それでは2台のロボットを要することにな
り構成が複雑になるとともに装置のコストも大幅に増大
するという新たな問題が生じる。
Further, since the time occupied in the pull-up drying process in the operation time of the transfer robot 8 becomes longer, there is also a problem that the amount of work that the entire cleaning apparatus processes per unit time, that is, the throughput is reduced accordingly. This problem can be solved by providing a pulling and drying robot separately from the transport robot. However, this requires two robots, which complicates the configuration and greatly increases the cost of the apparatus. Problems arise.

したがって本発明の目的は、ダストの発生がなく構成
が簡単で、乾燥処理と連係して行われる他の処理の能率
を低下させることなく板状物体の乾燥処理を効率良く行
うことのできる乾燥装置を提供することである。
Accordingly, an object of the present invention is to provide a drying apparatus which is simple in configuration without generating dust and can efficiently perform a drying process on a plate-like object without reducing the efficiency of other processes performed in conjunction with the drying process. It is to provide.

課題を解決するための手段 本発明は、板状物体を処理する処理液を収容する処理
槽と、 パンチング板によって有底箱状に形成され、処理槽の
底面に対して傾斜した底面を有し、前記板状物体を内部
に立設したカセットを収容するカセット収容体と、 前記処理槽から処理液を一定速度で排出して処理液面
を降下させ、前記板状物体を前記処理液から徐々に露呈
させる処理液排出手段と、 前記板状物体の上方から清浄度の高い空気を供給し、
前記処理液面の降下に伴って移動する排気口から前記空
気を排出することによって、空気流を生じさせる空気流
生成手段とを備えたことを特徴とする乾燥装置である。
Means for Solving the Problems The present invention has a processing tank containing a processing liquid for processing a plate-like object, and a bottom formed by a punching plate in a box shape with a bottom and inclined with respect to the bottom of the processing tank. A cassette accommodating body for accommodating a cassette in which the plate-like object is erected, and a treatment liquid discharged from the treatment tank at a constant speed to lower a treatment liquid level, and the plate-like object is gradually removed from the treatment liquid. A processing liquid discharging means to be exposed to the air, supplying high clean air from above the plate-like object,
An airflow generating unit that generates an airflow by discharging the air from an exhaust port that moves as the processing liquid level moves down, thereby providing a drying apparatus.

作 用 本発明に従えば、処理槽中に設けられたカセット収容
体中で立設された板状物体を収納するカセットを処理液
に浸漬し、処理槽から処理液を一定速度で排出させるこ
とによって処理液面を降下させ、板状物体の表面を徐々
に露呈させるとともに、露出した板状物体の表面に、板
状物体の上方から清浄度の高い空気流を供給し、処理液
面の降下に伴って移動する排気口から前記空気を排出す
る空気流によって、露出した板状物体表面を乾燥するの
で、処理槽の上方でロボットによって処理槽内の板状物
体を引上げる従来技術のように、ロボットの移動に伴う
ダストが処理槽内に入ることがなく、ロボットは乾燥処
理と連係する他の処理に使え、能率が向上する。また処
理液面の近傍で処理槽の両壁面に向って一定の空気流が
発生するので、波打つことも少なく、板状物体が全面に
わたって迅速に乾燥される。
According to the present invention, a cassette accommodating a plate-like object set up in a cassette container provided in a processing tank is immersed in the processing liquid, and the processing liquid is discharged from the processing tank at a constant speed. The processing liquid level is lowered to gradually expose the surface of the plate-shaped object, and a highly clean air flow is supplied to the exposed surface of the plate-shaped object from above the plate-shaped object to lower the processing liquid level. The surface of the exposed plate-like object is dried by the air flow that discharges the air from the exhaust port that moves with the exhaust port, so that the plate-like object in the processing tank is pulled up by a robot above the processing tank as in the prior art. In addition, dust associated with the movement of the robot does not enter the processing tank, and the robot can be used for other processing linked to the drying processing, thereby improving the efficiency. In addition, since a constant air flow is generated in the vicinity of the processing liquid surface toward both wall surfaces of the processing tank, there is little waving, and the plate-like object is quickly dried over the entire surface.

さらに板状物体を立設するカセットを収容するカセッ
ト収容体は、パンチング板によって有底箱状に形成さ
れ、その底面は処理槽の底面に対して傾斜しているの
で、板状物体もその底辺が傾斜し、処理槽内の処理液面
の低下に伴って、カセット収容体内の処理液面も低下
し、板状物体の最下部の液切れがよい。
Further, the cassette housing body for housing the cassette for erection of the plate-like object is formed in a box shape with a bottom by a punching plate, and the bottom surface thereof is inclined with respect to the bottom surface of the processing tank. Is inclined, and the processing liquid level in the cassette container also decreases as the processing liquid level in the processing tank decreases, so that the liquid at the bottom of the plate-like object runs well.

実施例 第1図は本発明の一実施例である乾燥装置の概略的な
構成を示す縦断面図であり、第2図は第1図の切断面線
II−IIから見た断面図である。
Embodiment FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing a schematic configuration of a drying apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a sectional view line of FIG.
It is sectional drawing seen from II-II.

この乾燥装置は、上述したバッチ処理方式の基板洗浄
装置におけるガラス基板の乾燥処理を担う装置であつ
て、洗浄水12を満たす乾燥槽18の内側には複数の穴19a
が散在するパンチング板19によって有底箱状に形成され
たカセット収容体20が配置されている。このカセット収
容体20はその底面が乾燥槽18の底面からやや浮き上がる
ように支持体19bを介して乾燥槽18底面上に支持され、
またそのカセット収容体20の底面は第2図に示すように
水平面となっている乾燥槽18の底面に対して少し傾斜を
なすように設定されている。
This drying apparatus is an apparatus that performs a drying process of a glass substrate in the above-described batch processing type substrate cleaning apparatus, and has a plurality of holes 19a inside a drying tank 18 that fills the cleaning water 12.
A cassette container 20 formed in a box shape with a bottom by punching plates 19 interspersed therewith is arranged. This cassette container 20 is supported on the bottom of the drying tank 18 via a support 19b so that its bottom surface is slightly raised from the bottom surface of the drying tank 18,
The bottom surface of the cassette container 20 is set to be slightly inclined with respect to the horizontal bottom surface of the drying tank 18 as shown in FIG.

乾燥槽18の一部側壁とこれに対向するカセット収容体
20の側壁とで挟まれる空間には、洗浄水12上に浮上する
フロート21が昇降自在に配置され、このフロート21には
乾燥槽18の側壁と対向して排気ダクト22を構成するダク
トカバー23が垂設されている。さらに、ダクトカバー23
の下端部には排気口23aが形成されている。
Partial side wall of the drying tank 18 and a cassette container facing the side wall
A float 21 floating above the washing water 12 is arranged in a space interposed between the side walls of the washing water 12 so as to be able to move up and down. Is hanging. In addition, duct cover 23
An exhaust port 23a is formed at the lower end of the.

上記乾燥槽18はその底面部においてパイプ24を介して
定量ポンプ25に連通させられており、定量ポンプ25で乾
燥槽18に対して洗浄水12を給排水するようにしてある。
パイプ24の途中にはこれを開閉するバルブ26が設けられ
ている。
The drying tank 18 is connected to a metering pump 25 via a pipe 24 at the bottom surface thereof, and the metering pump 25 supplies and drains the washing water 12 to and from the drying tank 18.
A valve 26 for opening and closing the pipe 24 is provided in the middle of the pipe 24.

なお、カセット収容体20の底面には、収容されるカセ
ット15をその底面から少し浮き上がらせて、底面でのパ
ンチング板19の穴19aから洗浄水12の排水を効果的に行
うための突起27が設けられている。
A projection 27 is provided on the bottom surface of the cassette housing body 20 to slightly lift the cassette 15 to be housed from the bottom surface, and to effectively drain the washing water 12 from the hole 19a of the punching plate 19 on the bottom surface. Is provided.

複数枚のガラス基板16を収容したカセット15をカセッ
ト収容体20内に収容し、またカセット収容体20内から引
き上げるのには、従来の乾燥装置の場合と同様に搬送ロ
ボット8が用いられる。また、乾燥槽18の上方には清浄
度の高い空気を流し込む図示しないクリーンベンチが設
けられ、カセット15の外表面には搬送ロボット8のチャ
ッキングアーム11で把持するための突起部17が設けられ
ていることも、従来の場合と同様である。
In order to accommodate the cassette 15 accommodating the plurality of glass substrates 16 in the cassette accommodating body 20 and pull it up from the cassette accommodating body 20, the transfer robot 8 is used as in the case of the conventional drying apparatus. In addition, a clean bench (not shown) through which high-purity air flows is provided above the drying tank 18, and a projection 17 for holding by the chucking arm 11 of the transfer robot 8 is provided on the outer surface of the cassette 15. This is the same as in the conventional case.

次に上記乾燥装置によるガラス基板16の乾燥処理の動
作について説明する。
Next, the operation of the drying apparatus for drying the glass substrate 16 will be described.

洗浄水12を十分満たした状態にある乾燥槽18のカセッ
ト収容体20内に、搬送ロボット8によって搬送されてき
たカセット15が収容されガラス基板16が洗浄水12中に完
全に浸漬された後、乾燥槽18の洗浄水12はその水位が毎
分20〜30mm程度の速度でゆっくり排水される。その際槽
内の液面が低下し、水圧が変化することにより排水量が
変わるのを防ぐため、定量ポンプを設け、排水量を一定
に保っている。
After the cassette 15 transported by the transport robot 8 is stored in the cassette container 20 of the drying tank 18 that is sufficiently filled with the cleaning water 12, the glass substrate 16 is completely immersed in the cleaning water 12, The washing water 12 in the drying tank 18 is drained slowly at a speed of about 20 to 30 mm per minute. At that time, in order to prevent the liquid level in the tank from dropping and the water pressure to change the drainage amount, a constant volume pump is provided to keep the drainage amount constant.

この水面降下に伴ってガラス基板16は洗浄水12から徐
々に露出し、そのときの洗浄水12の表面張力によって露
出したガラス基板16表面の水切りが効率良く行われる。
また、乾燥槽18の上方の図示しないクリーンベンチから
供給される清浄度の高い空気流が露出したガラス基板16
の表面に吹き付けられ、乾燥時間の短縮化がはかられ
る。搬送ロボット8はカセット15をカセット収容体20に
収容した後は乾燥槽18の上方から退避され、この間、上
方から搬送ロボット8の駆動に起因するダストが降下す
ることはない。
The glass substrate 16 is gradually exposed from the cleaning water 12 with the water level drop, and the surface of the glass substrate 16 exposed by the surface tension of the cleaning water 12 at that time is efficiently drained.
Further, the glass substrate 16 from which a highly clean air flow supplied from a clean bench (not shown) above the drying tank 18 is exposed.
And the drying time can be reduced. After the transfer robot 8 stores the cassette 15 in the cassette housing 20, the transfer robot 8 is retracted from above the drying tank 18, and during this time, dust caused by the drive of the transfer robot 8 does not drop from above.

このようにして、シミのない理想的な乾燥処理がガラ
ス基板16に対して効率良く行われる。クリーンベンチ
は、従来技術と同じく乾燥装置の上部にあり、クリーン
ベンチから供給される空気流は、上方からカセット収容
体20に入り、カセット収容体20を構成するパンチンク板
19のうち洗浄水12から露出する側壁部分の穴19aを通っ
て、洗浄水12の降下に伴って低下するフロート21上に設
けられた排気口23aから排気ダクト22を経て乾燥装置の
外部へ排気される。その際、排気口23aは、洗浄水面の
近傍にあり、空気流を洗浄水面近くに得ることができ、
排気圧力も一定に保持できて空気流を整えることがで
き、洗浄水面の波立を少なくできる。
In this way, an ideal drying process without stains is efficiently performed on the glass substrate 16. The clean bench is located at the upper part of the drying device as in the prior art, and the air flow supplied from the clean bench enters the cassette housing 20 from above, and the panchink plate constituting the cassette housing 20 is provided.
Out of 19, through the hole 19a in the side wall portion exposed from the cleaning water 12, the air is exhausted to the outside of the drying device through the exhaust duct 22 from the exhaust port 23a provided on the float 21 which is lowered with the drop of the cleaning water 12 through the exhaust duct 22. Is done. At that time, the exhaust port 23a is in the vicinity of the washing water surface, and the air flow can be obtained near the washing water surface,
The exhaust pressure can be kept constant, the air flow can be adjusted, and the ripples on the washing water surface can be reduced.

また、カセット15はカセット収容体20内に傾斜姿勢で
収容されるためガラス基板16も同じ傾斜姿勢となって、
その下端における水切れが良くなり、乾燥時間がそれだ
け短縮される。さらに、カセット収容体20の底面は乾燥
槽18の底面からやや浮き上がるように配置されているの
で、乾燥槽18の底部に一部の洗浄水12が残ってもカセッ
ト15底部にその洗浄水12が付着することはない。
Further, since the cassette 15 is accommodated in the cassette housing 20 in an inclined posture, the glass substrate 16 also has the same inclined posture,
The drainage at the lower end is better and the drying time is correspondingly shorter. Furthermore, since the bottom surface of the cassette container 20 is arranged so as to slightly rise from the bottom surface of the drying tank 18, even if some of the cleaning water 12 remains at the bottom of the drying tank 18, the cleaning water 12 remains at the bottom of the cassette 15. Will not adhere.

乾燥槽18内の洗浄水12が全部排水されると、カセット
15は搬送ロボット8に把持されて図示しないアンローダ
へと搬送され、これによって乾燥処理が終了する。
When the washing water 12 in the drying tank 18 is completely drained, the cassette
15 is gripped by the transfer robot 8 and transferred to an unloader (not shown), whereby the drying process ends.

発明の効果 以上のように本発明の乾燥装置によれば、処理槽から
処理液を一定速度で排出させることによって処理液面を
降下させ、板状物体および板状物体を立設したカセット
の表面を処理液から徐々に露呈させるとともに、処理液
面の上方から処理液面の近傍で処理槽の両壁面に向って
清浄度の高い空気流を生成させてこの空気流で露出した
板状物体の表面を乾燥させるようにし、板状物体を他の
処理段から持ち運んでくる搬送ロボットなどを乾燥処理
中に使用しない構成としているので、処理槽の上方から
ダストが落ちるということがなく、処理液面の波立が少
なく、板状物体を汚れが付着しない状態で乾燥できる。
また乾燥処理と連係する他の処理の能率を低下させるこ
となく効率よく乾燥処理を行うことができる。
Effects of the Invention As described above, according to the drying apparatus of the present invention, the processing liquid is discharged from the processing tank at a constant speed to lower the processing liquid level, and the plate-like object and the surface of the cassette on which the plate-like object is erected. Is gradually exposed from the processing liquid, and a high-purity air flow is generated from above the processing liquid surface to both wall surfaces of the processing tank in the vicinity of the processing liquid surface to generate a plate-like object exposed by the air flow. Since the surface is dried and a transport robot that carries the plate-like object from another processing stage is not used during the drying process, dust does not fall from above the processing tank and the processing liquid level And the plate-like object can be dried in a state where dirt does not adhere.
Further, the drying process can be performed efficiently without lowering the efficiency of other processes linked to the drying process.

さらにカセットを収容するカセット収容体の底面が処
理槽の底面に対して傾斜しているので、カセット内に立
設されている板状物体の下端部の液切れがよい。
Further, since the bottom surface of the cassette housing body for housing the cassette is inclined with respect to the bottom surface of the processing tank, the lower end of the plate-like object standing upright in the cassette is preferably drained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は本発明の一実施例である乾燥装置の概略的な構
成を示す縦断面図、第2図は第1図の切断面線II−IIか
ら見た断面図、第3図は一般的なバッチ処理方式の基板
洗浄装置の概要を示す平面図、第4図はその基板洗浄装
置の概要を示す縦断面図、第5図はその基板洗浄装置に
おける引上げ乾燥装置の概略的な構成を示す縦断面図で
ある。 12……洗浄水、15……カセット、16……ガラス基板、18
……乾燥槽、19……パンチング板、20……カセット収容
体、22……排気ダクト、24……パイプ、25……定量ポン
FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing a schematic configuration of a drying apparatus according to one embodiment of the present invention, FIG. 2 is a sectional view taken along a section line II-II in FIG. 1, and FIG. Plan view showing an outline of a typical batch processing type substrate cleaning apparatus, FIG. 4 is a longitudinal sectional view showing an outline of the substrate cleaning apparatus, and FIG. 5 shows a schematic configuration of a pull-up drying apparatus in the substrate cleaning apparatus. FIG. 12 ... Washing water, 15 ... Cassette, 16 ... Glass substrate, 18
…… Drying tank, 19 …… Punching plate, 20 …… Cassette container, 22 …… Exhaust duct, 24 …… Pipe, 25 …… Metering pump

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】板状物体を処理する処理液を収容する処理
槽と、 パンチング板によって有底箱状に形成され、処理槽の底
面に対して傾斜した底面を有し、前記板状物体を内部に
立設したカセットを収容するカセット収容体と、 前記処理槽から処理液を一定速度で排出して処理液面を
降下させ、前記板状物体を前記処理液から徐々に露呈さ
せる処理液排出手段と、 前記板状物体の上方から清浄度の高い空気を供給し、前
記処理液面の降下に伴って移動する排気口から前記空気
を排出することによって、空気流を生じさせる空気流生
成手段とを備えたことを特徴とする乾燥装置。
1. A processing tank for storing a processing liquid for processing a plate-like object, and a bottom surface formed by a punching plate in a box shape with a bottom and inclined with respect to the bottom surface of the processing bath, A cassette accommodating body for accommodating a cassette set up inside, and a processing liquid discharge for discharging the processing liquid from the processing tank at a constant speed to lower the processing liquid level and gradually exposing the plate-like object from the processing liquid. Means for supplying air having a high degree of cleanness from above the plate-shaped object, and discharging the air from an exhaust port which moves as the processing liquid level falls, thereby generating an air flow. A drying device comprising:
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