JP3682168B2 - Substrate processing equipment - Google Patents

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JP3682168B2
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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、アンモニア水と過酸化水素水との混合溶液、塩酸と過酸化水素水との混合溶液、および硫酸と過酸化水素水との混合溶液などの薬液によって薬液処理された複数の基板を一括して水洗処理する基板水洗方法、および該方法を使用する基板処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、半導体装置用の半導体ウエハや液晶表示用のガラス基板などを用いた精密電子基板(以下、単に「基板」という)の製造プロセスにおいては、アンモニア水と過酸化水素水との混合溶液、塩酸と過酸化水素水との混合溶液、および硫酸と過酸化水素水との混合溶液などの薬液によって基板に対して所定の薬液処理 を施した後、純水による水洗処理を行っている。この基板水洗方法としては、従来より、純水がオーバーフローしている処理槽に基板を浸漬させて洗浄する方法、いわゆるオーバーフロー方式の基板水洗方法が知られている。
【0003】
図9はオーバーフロー方式の基板水洗装置を示す図である。この基板水洗装置101では、純水102を貯留するための処理槽103が設けられている。この処理槽103の底部には、処理槽103内に純水102を供給する左右一対のノズル109が設けられ、さらに、これらのノズル109に図示を省略する純水供給ユニットが接続されている。このため、基板104の水洗処理時には、純水供給ユニットから純水が圧送されてノズル109の内管113から外管111を通じて処理槽103内に純水102が供給されるとともに、このような純水102の供給が継続的に行われることにより、純水102が処理槽103の上部開口部のオーバーフロー面を介してオーバーフローするようになっている。
【0004】
また、この装置101では、複数の基板104を3本のアーム部材107で保持しながら処理槽103に対して昇降するハンドリング機構105が設けられている。したがって、このハンドリング機構105によって薬液処理が施された基板104を上記のようにしてオーバーフロー状態にある処理槽103に浸漬させると、基板104への付着物(薬液や薬液処理によって発生した汚染物質(パーティクル)など)が基板104の表面から純水中に脱落し、オーバーフロー面を越えてオーバーフローして処理槽103の外に排出されて複数の基板104の水洗処理が一括して行われる。また、上記のようにして水洗処理が完了すると、ハンドリング機構105が上昇して、水洗処理が施された基板104が処理槽103から引き上げられる。
【0005】
ところで、複数の基板を一括して水洗処理する方法としては、上記したオーバーフロー方式の基板水洗方法以外に、オーバーフローと急速排液をシーケンシャルに組み合わせた機能水洗方式の基板水洗方法が従来より知られている。
【0006】
図10は機能水洗方式の基板水洗装置を示す図である。この基板水洗装置201では、純水202を貯留するための処理槽203が設けられている。この処理槽203の底部では、その略中央部に純水202を供給するための供給口208が設けられるとともに、側端部に純水202を排液する排液口209が設けられている。そして、これら供給口208および排液口209に、図示を省略する給排液ユニットが接続されており、この給排液ユニットによって供給口208を通じて処理槽203内に純水202が連続的に供給されると、純水202が処理槽203の上部開口部のオーバーフロー面を介してオーバーフローするようになっている。また、給排液ユニットによって排液口209を通じて処理槽203内の純水202の排液を開始すると、純水202が急速に処理槽203の外に排液されるようになっている。
【0007】
また、この装置201では、先に説明したオーバーフロー方式の基板水洗装置と同様に、複数の基板204を3本のアーム部材207で保持しながら処理槽203に対して昇降するハンドリング機構205が設けられており、このハンドリング機構205によって薬液処理が施された基板204を上記のようにしてオーバーフロー状態にある処理槽203に浸漬させることで、基板204への付着物(薬液や薬液処理によって発生した汚染物質(パーティクル)など)が基板104の表面から純水202内に脱落させる。そして、基板浸漬後、純水202を急速排液して付着物を含む純水202を処理槽203の外に排出する。それに続いて、基板204を処理槽203内に位置させたままで、給排液ユニットによって処理槽203内に純水202を連続供給してオーバーフローさせて基板204の表面から付着物を純水202内に脱落させた後、再度、急速排液して脱落させた付着物を純水202とともに処理槽203から排出する。このような一連の動作(オーバーフローおよび急速排液)を数回繰り返して基板204への付着物を素早く水洗除去する。
【0008】
また、上記のようにして急速排液した時、基板204が一時的に空気中に曝され、部分的に乾燥するおそれがあるため、処理槽203の上方左右側にシャワーノズル210を配置し、急速排液時のみ、これらのシャワーノズル210から純水を基板204に向けてシャワー状に吐出させることで、基板204の乾燥を防止している。なお、このシャワーノズル210から吐出される純水の水量は基板乾燥を防止するのに必要な程度に止まり、かかる純水によって基板204の水洗処理は実質的に行われていない。
【0009】
なお、上記のようにして水洗処理が完了すると、ハンドリング機構205が上昇して、水洗処理が施された基板204が処理槽203から引き上げられる。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
上記したように、従来では、薬液処理された複数の基板を一括して洗浄するために、処理槽で純水をオーバーフローさせながら、当該処理槽内に複数の基板を浸漬して基板への付着物を取り除いている。このため、水洗処理のために多量の純水が必要となるとともに、処理時間が長くなっていた。特に、図10に示した機能水洗方式では、オーバーフローに急速排液が組み合わされて、図9に示したオーバーフロー方式の基板水洗方法に比べて処理時間が幾分短縮されるものの、大幅に改善されるというものではなく、より短時間で洗浄することができる基板水洗方法が従来より望まれている。
【0011】
また、図10の機能水洗方式では、急速排液時での基板乾燥を防止するために専用のシャワーノズル210を設けているため、基板洗浄の目的以外に余分な純水が必要となり、純水の使用量を増大させて水洗処理コストの上昇の要因となっている。また、シャワーノズル210を付設する分だけ、装置構成が複雑となり、かかる基板水洗方法を適用した装置のコストを上昇させている。
【0012】
この発明は、上記のような問題に鑑みてなされたものであり、より少ない純水使用量で、しかも短時間で基板を洗浄することができる基板水洗方法を提供することを第1の目的とする。
【0013】
また、この発明は、上記基板水洗方法にかかる発明の実施に適した基板処理装置を提供することを第2の目的とする。
【0014】
【課題を解決するための手段】
請求項1に記載の発明にかかる基板処理装置は、複数の基板を薬液によって薬液処理する薬液処理部と、
前記薬液処理部の上方に、前記薬液処理部と重ねて配置され、前記薬液処理部によって薬液処理された複数の基板に対して純水をシャワー状に供給して基板表面の付着物を水洗除去するシャワー水洗処理部と、
前記薬液処理部と前記シャワー水洗処理部との間に配置された開閉自在な仕切部材と、
開成された前記仕切部材を通過して前記薬液処理部と前記シャワー水洗処理部との間で複数の基板を往復移動させるハンドリング部とを備え、
前記仕切部材は閉成することで前記薬液処理部と前記シャワー水洗処理部との間を仕切り、前記シャワー水洗処理部から前記薬液処理部に純水、および基板表面から脱落した付着物が侵入するのを規制するものである
【0015】
また、請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の基板処理装置であって、前記薬液処理部と、その上方に配置された前記シャワー水洗処理部と、前記仕切部材とが同一の処理チャンバ内に設けられ、
前記仕切部材が閉成されることで前記処理チャンバ内が前記薬液処理部と前記シャワー水洗処理部とに区分けされ、前記仕切部材が開成されることで前記薬液処理部及び前記シャワー水洗処理部との間で前記ハンドリング部により複数の基板を往復移動させることが可能となるものである。
【0016】
また、請求項3に記載の発明は、請求項2に記載の基板処理装置であって、前記仕切部材は、一対の開閉部材の各端部が突き合わせられて閉成された状態から、当該各端部が上方への回動により観音開きして開成状態となると共に、これら一対の開閉部材はその上面が、前記互いに突き合わせられた各端部とは反対側の各基端部に向かうに連れて低くなる傾斜を有し、当該各基端部が、前記薬液処理部に設けられたオーバーフロー槽の外側まで延びた形状とされているものである。
【0017】
また、請求項4に記載の発明は、請求項3に記載の基板処理装置であって、前記仕切部材の上面の傾斜角度を5〜15゜としたものである。
【0018】
また、請求項5に記載の発明は、請求項3又は請求項4に記載の基板処理装置であって、前記処理チャンバの下方部には、前記仕切部材をなす一対の開閉部材によって前記オーバーフロー槽の外側まで導かれた前記シャワー水洗処理部からの純水を排出するドレイン配管が設けられているものである。
【0019】
また、請求項6に記載の発明は、請求項1乃至請求項5のいずれかに記載の基板処理装置であって、前記薬液処理部は、アンモニア水と過酸化水素水との混合溶液を薬液として貯留する処理槽を有しており、
前記ハンドリング部によって前記処理槽中の薬液に基板を浸漬させて薬液処理するものである。
【0020】
また、請求項7に記載の発明は、請求項1乃至請求項5のいずれかに記載の基板処理装置であって、前記薬液処理部は、塩酸と過酸化水素水との混合溶液を薬液として貯留する処理槽を有しており、
前記ハンドリング部によって前記処理槽中の薬液に基板を浸漬させて薬液処理するものである。
【0021】
また、請求項8に記載の発明は、請求項1乃至請求項5のいずれかに記載の基板処理装置であって、前記薬液処理部は、硫酸と過酸化水素水との混合溶液を薬液として貯留する処理槽を有しており、
前記ハンドリング部によって前記処理槽中の薬液に基板を浸漬させて薬液処理するものである。
【0022】
【発明の実施の形態】
図1は、この発明にかかる基板水洗方法の一実施形態を適用可能な基板処理装置を示す平面図である。
この図に示す基板処理装置は、基板として半導体ウエハを複数種類の処理液(薬液および純水)に一括して浸漬させたり、純水をシャワー状に供給して水洗したりする装置であって、基板の投入部2と、投入部2によって投入された複数の半導体ウエハに薬液処理や水洗処理などの一連の各種処理を施す処理ユニット1と、処理ユニット1による各種処理後の基板を取出す基板の取出部3とを備えている。
【0023】
基板の投入部2には、基板を収納したキャリアケースを受け入れて載置する受入部分4が設けられており、図外の搬送装置によりこの受入部分4に基板を収納したキャリアケースが搬入されるようになっている。なお、本実施形態では、1つのキャリアケースに25枚の基板を収納するようになっており、各基板は、キ ャリアケース内にその面を対向させた状態で一列に並べられて収納されている。
【0024】
また、受入部分4の後側(同図では上側)には、処理ユニット1に基板を搬入するまでの間キャリアケースを待機させる待機部分5が並べて設けられ、これら受入部分4及び待機部分5の側方(同図では左側)に移送ロボット6が配設されている。
【0025】
移送ロボット6は、同図に破線で示すように、受入部分4に対向するポジションPaと待機部分5に対向するポジションPbとにわたって移動可能となっており、受入部分4に搬入されたキャリアケースを待機部分5へと移載するように構成されている。
【0026】
投入部2と処理ユニット1との間には、待機部分5に対向して基板取出機構部12が配設され、これら待機部分5と基板取出機構部12との間に移送ロボット14が移動可能に配設されている。移送ロボット14は、待機部分5と基板取出機構部12との間に介在するポジションPdとシャトルロボット17の投入部2側の移動端に対応するポジションPcとにわたって移動可能となっており、待機部分5から基板取出機構部12へ、また、基板取出機構部12からシャトルロボット17へとキャリアケースを受け渡すように構成されている。
【0027】
基板取出機構部12は、キャリアケースを載置する二つの載置部を有し、これら載置部に、上端に基板の支持部を具備したアーム部材をそれぞれ昇降可能に備えている。そして、処理前の基板が収納されたキャリアケースが各載置部にセットされると、アーム部材がキャリアケース底部に形成された開口部分を介して上昇端位置まで変位し、これにより基板を一括支持してケース上方に持ち上げるようになっている。
【0028】
処理ユニット1には、複数の半導体ウエハを搬送する搬送ロボット16aのチャックを純水で洗浄した後でチャックを乾燥させるためのチャック水洗部10A と、基板に対して薬液および水洗処理の一連の処理を施すための処理部10B〜10Gと、基板を乾燥させる乾燥部10Hとが投入部2側の端部から順に並べて設けられるとともに、これら処理部10A等の側方(同図では下方)に、基板取出機構部12および処理部10A〜10Fにアクセス可能な搬送ロボット16aと、処理部10F〜10Hにアクセス可能な搬送ロボット16bと、処理部10Hおよび基板収納機構部13にアクセス可能な搬送ロボット16cとが配置されている。なお、この実施形態では、処理部10B〜10Gを以下のように構成している。
【0029】
処理部10B:第1の薬液処理部(CARO処理部)
この処理部10Bには、薬液としての硫酸と過酸化水素水との混合溶液(以下「CARO」という)を貯留する処理槽(図示省略)が設けられており、搬送ロボット16aが基板取出機構部12においてキャリアケース上方に持ち上げられた複数の基板を一括保持した後、この処理槽に搬入すると、CAROによって複数の基板に対する薬液処理が一括して行われる。
【0030】
処理部10C:第2の薬液処理部(CARO処理部)
この処理部10Cは上記処理部10Bと同一構成を有しており、搬送ロボット16aによって基板取出機構部12においてキャリアケース上方に持ち上げられた複数の基板が処理部10Cに設けられた処理槽に搬入すると、CAROによる薬液処理が行われる。このように、同一の薬液処理を行う第1および第2の薬液処理部10B,10Cを設けたのは、CAROによる薬液処理(CARO処理)が他の処理部10D〜10Gに比べて時間がかかるため、処理時間を短縮すべく並行してCARO処理を行うためである。
【0031】
処理部10D:シャワー水洗処理部
図2は処理部10Dを搬送ロボット16a側の上方位置から見下ろした図であり、また図3は処理部10Dの全体構成を示す概略断面図である。これらの図に示すように、この処理部10Dの内部には、複数の基板Wを3本のアーム部材2 1で保持可能に構成されたハンドリング機構20が設けられており、第1または第2の薬液処理部10B,10Cで薬液処理された複数の基板Wを搬送ロボット16aがその薬液処理部10B,10Cから搬出し、処理部10Dのハンドリング機構20に収容することができるようになっている。
【0032】
また、処理部10Dの上方開口部の左右両端側に基板Wの配列方向(図2の前後方向;図3の紙面に対して垂直な方向)と平行に延びるノズル配管31が配設されるとともに、各ノズル配管31の側壁から複数のシャワーノズル32がハンドリング機構20に向けて取り付けられている。これらのノズル配管31は、図3に示すように、純水供給管路33によって純水タンク34に接続されており、この純水供給管路33に介挿されたポンプ35を作動させると、純水タンク34内に貯留されている純水がポンプ35および同じく純水供給管路33に介挿されたフィルタ36を介してノズル配管31に圧送される。そのため、搬送ロボット16aによって第1または第2の薬液処理部10B,10Cからハンドリング機構20に基板Wを搬送した後で、上記のようにハンドリング機構20によって保持されている複数の基板Wに向けて各ノズル32から純水がシャワー状に供給されて基板Wの表面上の付着物(CAROおよびCARO処理によって発生した物質(パーティクル)など)が水洗除去される。
【0033】
さらに、この処理部10Dの底面部には排液管37が接続されており、ノズル32から吐出された純水および基板表面から脱落した付着物が排液管37を介して処理部10Dから装置外部に速やかに排出される。
【0034】
処理部10E:第3の薬液処理部(HF−1処理)
この処理部10Eには、薬液としてのフッ酸(HF)を貯留する処理槽(図示省略)が設けられており、搬送ロボット16aがシャワー水洗処理部10Dからシャワー水洗処理された複数の基板を搬出した後、この処理槽のハンドリング機構(図示省略)に搬入すると、フッ酸によって複数の基板に対する薬液処理(HF−1処理)が一括して行われる。
【0035】
処理部10F:オーバーフロー方式水洗処理部
この処理部10Fでは、図9で示したと同様に、純水を貯留するための処理槽が設けられるとともに、処理槽の底部側からその内部に向けて純水が供給されて、処理槽の上部開口部のオーバーフロー面を介してオーバーフローするようになっている。そして、搬送ロボット16aが第3の薬液処理部10Eからフッ酸による薬液処理が行われた複数の基板を搬出した後、この処理槽のハンドリング機構(図示省略)に搬送すると、基板表面上の付着物(フッ酸およびフッ酸による薬液処理によって発生した物質(パーティクル)など)が水洗除去される。
【0036】
処理部10G:オーバーフロー方式の最終水洗処理部
処理部10Gは、水洗処理部10Fと同様に、オーバーフロー方式の水洗処理部となっており、水洗処理部10Fでの水洗処理を受けた基板を別の搬送ロボット16bが水洗処理部10Fから搬出した後、この処理槽のハンドリング機構(図示省略)に搬送すると、処理部10Hでの水洗処理によっても水洗除去できずに残っていた付着物が水洗除去されて基板の精密水洗処理が行われる。
【0037】
そして、上記のようにして一連の薬液および水洗処理が完了すると、複数の基板は搬送ロボット16bによって最終水洗処理部10Gから搬出され、乾燥部10Hに搬入されて乾燥された後、さらに別の搬送ロボット16cによって乾燥部10Hから取出され、基板収納機構部13上方にまで搬送される。
【0038】
このようにして基板が搬送されてきた基板収納機構部13では、基板取出機構部12と同様に、キャリアケースを載置する二つの載置部と、これら載置部に設けられる昇降可能なアーム部材とが設けられており、処理後の基板をキャリアケース内に収納するように構成されている。具体的には、各載置部に空のキャリアケースがセットされた状態で搬送ロボット16cにより処理後の基板が基板収納機構部13上方にセットされると、アーム部材が上昇端位置まで変位して基板を一括支持し、その後、アーム部材が下降端位置まで変位することによって基板を 各キャリアケースに収納するようになっている。
【0039】
移送ロボット15は、基板収納機構部13に対向するポジションPfとシャトルロボット17の取出部3側の移動端に対応するポジションPeとにわたって移動可能となっており、基板収納機構部13から取出部3へ、また、シャトルロボット17から基板収納機構部13へとキャリアケースを受け渡すように構成されている。
【0040】
基板の取出部3には、処理後の基板を収納したキャリアケースを載置する送出部分7が設けられており、この送出部分7が基板収納機構部13に対向して配設されている。
【0041】
以上のように構成された基板処理装置では、第1または第2の薬液処理部10B,10CでCAROにより薬液処理された複数の基板をシャワー水洗処理部10Dに搬送し、これらの基板に純水をシャワー状に供給して基板表面上の付着物を水洗除去しているため、より少ない純水使用量で、しかも短時間で基板を洗浄することができる。その効果の顕著性については、後の実施例において、具体例を示すとともに、オーバーフロー方式(図9)および機能水洗方式(図10)の比較例と比較しながら詳述する。
【0042】
なお、上記実施形態では、薬液としてCAROを使用して薬液処理した後にシャワー水洗して基板表面に付着したCAROおよび当該薬液処理(CARO処理)によって発生した物質(パーティクル)を水洗除去しているが、薬液としてはCAROに限定されるものではなく、アンモニア水と過酸化水素水との混合溶液(SC−1)や、塩酸と過酸化水素水との混合溶液(SC−2)などを使用して基板の薬液処理した後でシャワー水洗する基板処理方法においても同様の効果が得られる。
【0043】
また、上記実施形態では、フッ酸(HF)による薬液処理後に、オーバーフロ ー方式の水洗処理部10Fによって水洗処理しているが、この水洗処理部10Fを処理部10Dと同様に構成してシャワー水洗するようにしてもよく、シャワー水洗に変更することで処理部10Fでの純水使用量を低減できるとともに、処理時間も短縮することができる。
【0044】
また、上記実施形態では、処理部10Dに基板を搬送した後で、純水をシャワー状に供給してシャワー水洗しているが、基板搬入と同時に、あるいはそれに先立ってシャワー状の純水を処理部10Dに供給し始めて基板をシャワー水洗するようにしてもよい。
【0045】
また、上記実施形態では、キャリアケースから基板を取出し、搬送ロボット16a〜16cで複数の基板を搬送する、いわゆるキャリアレス方式の基板処理装置に本発明を適用しているが、本発明の適用対象はこのキャリアレス方式に限定されるものでなく、キャリアケースから基板を取出し、専用のキャリアに移し替え当該キャリアとともに基板を各処理部に搬送する、いわゆるキャリア方式の基板処理装置にも本発明を適用することができる。また、処理ユニット1を構成する処理部の種類や数も上記実施形態に限定されるものではなく、薬液処理部における薬液処理が行われた後、基板を水洗処理部に搬送して水洗する構成を有する基板処理装置全般に本発明を適用することができ、この水洗処理部でシャワー水洗することで上記実施形態と同様の効果が得られる。
【0046】
さらに、上記実施形態では、複数の処理部を設けて搬送ロボットによって基板を順次処理部に搬送しながら基板処理する装置に本発明を適用しているが、同一の処理部で薬液処理および水洗処理する、いわゆるワンバス方式の基板処理装置にも本発明を適用することができる。すなわち、この基板処理装置に、処理部10Dと同様に、複数のシャワーノズルを有するノズル配管を配設し、薬液処理した後、純水タンク内に貯留されている純水をノズル配管に圧送して複数の基板に向けて各ノズルから純水をシャワー状に供給し、基板の表面上の付着物を水洗除去するように構成することで、上記実施形態と同様の効果が得られる。
【0047】
ところで、薬液処理後の基板に対する水洗処理を上記シャワー水洗方式で行うか、あるいは従来例の如くオーバーフロー方式(図9)や機能水洗方式(図10)で行うかを問わず、図1に示すように、水洗処理を含めたすべての処理部を一直線状に水平配列すると、基板処理装置装置が占有する床面積(フットプリント)も処理部の数に比例して増大するという問題がある。
【0048】
しかしながら、上記したシャワー水洗方式により薬液処理後の基板に対する水洗処理を行う場合には、オーバーフロー方式(図9)や機能水洗方式(図10)で水洗処理を行う場合に比べて次のような利点があり、上記問題を解消することができる。すなわち、従来例の水洗方式では水洗処理部に純水を貯留するための処理槽を配置する必要があり、薬液処理部と水洗処理部とを平面視において並列配置する必要があった。これに対し、本発明にかかる基板水洗方法では、薬液によって薬液処理された基板に対して純水をシャワー状に供給して基板表面の付着物を水洗除去するため、水洗処理部に純水を貯留するための処理槽を必ずしも設けることを要さず、例えば図1の基板処理装置における薬液処理部10B,10Cの上方にシャワー水洗処理部10Dを積層配置することが可能となり、その積層配置した分だけ基板処理装置による占有床面積を減少させることができる。以下、かかる積層構造を有する基板処理装置について図4〜図8を参照しつつ詳述する。
【0049】
図4は、この発明にかかる基板水洗方法を適用可能な基板処理装置の他の実施形態を示す破断正面図である。また、図5は、図4の基板処理装置の側面図である。これらの図に示すように、この実施形態にかかる基板処理装置では、各薬液処理部10B,10Cの上方位置にシャワー水洗処理部10D,10Dがそれぞれ配置されるとともに、薬液処理部10B,10Cと、シャワー水洗処理部10D,10Dとの間に仕切部材40,40が配置されている。なお、仕切部材40を挟んで薬液処理部10Bとシャワー水洗処理部10Dとが積層配置されたサブユニットSU1と、仕切部材40を挟んで薬液処理部10Cとシャワー水洗処理部10Dとが積層配置されたサブユニットSU2とは同一構成であるため、ここではサブユニットSU1についてのみ説明する。
【0050】
このサブユニットSU1では、薬液処理部10Bと、仕切部材40と、シャワー水洗処理部10Dとが、この順序で下方から上方に向けて処理チャンバ50に収納されている。また、この処理チャンバ50内には、後述するようにして仕切部材40を通過して薬液処理部10Bとシャワー水洗処理部10Dとの間で基板Wを往復移動させるハンドリング機構20が配置されており、処理チャンバ50の上方開口51を介して搬送ロボット(図1の符号16a)によって複数の未処理基板Wがハンドリング機構20に渡された後、まず薬液処理部10Bに搬送されて薬液処理がなされ、それに続いてシャワー水洗処理部10Dに搬送されて水洗処理された後、ハンドリング機構20から搬送ロボットに渡されて他の処理部10Eに搬送される。
【0051】
このハンドリング機構20は、図5に示しように、リフター本体22の下方端から基板Wの配列方向(同図の左右方向)と略平行に延びる3本のアーム部材21で複数の基板Wを保持可能となっている。また、リフター本体22はリフター上下機構部23によって上下駆動されるように構成されており、リフター本体22の上下移動に応じてアーム部材21により保持されている基板Wを一括して上下方向に移動可能となっている。このリフター上下機構部23は、具体的には、上下方向に離隔配置された2つのプーリ23a,23bに掛け渡されたタイミングベルト23cをモータ23dによって駆動し、当該タイミングベルト23cの一部に固着されたロッド23eを上下移動させるように構成されており、モータ23dの回転駆動力をロッド23eの上下直線運動に変換している。そして、そのロッド23eの先端部には、リフター本体22の上端部が固着されており、モータ23dの回転方向に応じてリフター本体22が上下移動する。
【0052】
このリフター本体22が最も低い位置(図5の実線位置)に移動してくると、アーム部材21に保持された基板Wが一括して薬液処理部10Bの処理槽301 に浸漬されて薬液処理される。この処理槽301は、薬液としてCARO(硫酸と過酸化水素水との混合溶液)を貯留するものであり、略直方体の容器であって、その上部に基板W群の出し入れを許容する開口302を備えている。また、処理槽301の底部両側には、処理槽301内にCAROを供給する薬液供給管303が配設されている。さらに、処理槽301の上部周囲には、基板W群の処理中に処理槽301から溢れ出た処理液を回収するオーバーフロー槽304が設けられており、オーバーフロー槽304で回収した薬液を循環使用している。ただし、薬液処理部の構成はこの薬液循環使用タイプに限定されるものではなく、薬液処理ごとに使用済みの薬液を排液するタイプのものであってもよい。
【0053】
処理槽301の開口302の上方には、図2および図3に示したシャワー水洗処理部10Dと同一構成のシャワー水洗処理部が配置されている。なお、その構成はすでに説明した通りであるため、ここでは同一符号を付して構成の説明を省略する。
【0054】
上記のように積層配置された薬液処理部10Bとシャワー水洗処理部10Dとの間には、開閉自在な仕切部材40が設けられている。具体的には、仕切部材40は観音開きする一対の開閉部材40a,40bから構成されており、開閉駆動機構41によって図4の2点鎖線で示すように開閉部材40a,40bを開成することでハンドリング機構20によって仕切部材40を通過して薬液処理部10Bとシャワー水洗処理部10Dとの間で複数の基板Wを往復移動させることができる一方、閉成することで薬液処理部10Bとシャワー水洗処理部10Dとを仕切っている。
【0055】
また、この実施形態における特徴的な構成として、仕切部材40の上面は処理槽301の外側に向かって傾斜している。具体的には、観音開きする一対の開閉部材40a,40bの上面のそれぞれは、閉成状態で突き合わされた遊端側から、各々の基端側に向かって低くなるように傾斜している。また、開閉部材40a,40bの各基端側は、オーバーフロー槽304の外側まで延び出ている。
【0056】
次に開閉駆動機構41の構成について説明するが、開閉部材40a,40bの各々の開閉駆動機構41は同様の構成であるので、以下では開閉部材40aを例にとって説明する。開閉部材40aの基端部両側は、屈曲した一対の支持アーム411の遊瑞にそれぞれ連結固定されている。各支持アーム411の基瑞は支軸412を介して処理チャンバ50の側壁に揺動自在に支持されている。一方の支軸412は処理チャンバ50の側壁を貫通して導出されている。処理チャンバ50外へ導出された支軸412は、図6に示すように、アーム413の一端に連結固定され、このアーム413の他端は処理チャンバ50の側壁に配設されたエアーシリンダ414のロッドにピン結合されている。
【0057】
以上のように構成された開閉部材40a,40bの各開閉駆動機構41のエアーシリンダ414のロッドが伸縮することにより、開閉部材40a,40bは、図4に実線で示す閉成状態と、2点鎖線で示す開成状態とに切り換えられる。すなわち、基板Wを処理槽301へ出し入れするとき以外は、開閉部材40a,40bは閉成状態になっている。また、開成状態において、開閉部材40a,40bは、処理槽301の開口302の上方を大きく開いて、処理槽301への基板W群を出し入れするときの邪魔にならないようになっている。
【0058】
次に、上記のように構成されたサブユニットSU1における基板処理動作について説明する。まず、搬送ロボット(図1の符号16a)が未処理の基板WをサブユニットSU1に搬送してくると、予め処理チャンバ50の開口51の上方位置(図5の2点鎖線位置)まで上昇したアーム部材21に未処理基板Wを受け渡す。そして、アーム部材21で基板Wを保持したままリフター本体22が降下し、最も低い位置(図5の実線位置)まで移動する。この降下移動の際、アーム部材21に保持されている基板W群は処理チャンバ50の開口51、シャワー水洗処理部10Dおよび開成状態にある仕切部材40を通過した後、仕切部材40の開閉部材40a,40bが図4に実線で示す閉成状態に切り換えられるとともに、基板W群は薬液処理部10Bの処理槽301中の薬液(CARO)に浸漬され 、薬液処理が開始される。
【0059】
そして、薬液処理が完了すると、仕切部材40の開閉部材40a,40bが図4に2点鎖線で示す閉成状態に切り換えられた後、リフター本体22が上昇し、仕切部材40を通過して図5の1点鎖線で示すようにシャワー水洗処理部10Dまで移動する。それに続いて、仕切部材40の開閉部材40a,40bが図4に実線で示す閉成状態に切り換えられてシャワー水洗処理部10Dによる水洗処理の準備が完了する。
【0060】
すると、アーム部材21によって保持されている複数の基板Wに向けて各ノズル32から純水がシャワー状に供給されて基板Wの表面上の付着物(CAROおよびCARO処理によって発生した物質(パーティクル)など)が水洗除去される。このとき、リフター本体22を上下方向に揺動させると、水洗処理の効率が向上し、より少ない量の純水で、また、より短時間で水洗処理を行うことができる。また、リフター本体22を揺動させると同時あるいはその代わりに、ノズル配管31を揺動させたり、ノズル32自体を揺動させたりしても、同様の効果が得られる。
【0061】
このようにしてシャワー水洗処理を実行すると、ノズル32から供給された純水、および基板表面から脱落した付着物は薬液処理部10B側に落下するが、薬液処理部10Bの上方位置に配置された仕切部材40によって薬液処理部10Bへの侵入が規制される。すなわち、純水や脱落した付着物は仕切部材40の開閉部材40a,40bの上面に落下した後、開閉部材40a,40bの傾斜した上面に案内されて薬液処理部10Bの外側に流下し、処理チャンバ50の下方部に集められる。そして、処理チャンバ50の下方部に接続されたドレン配管52を介して装置外部に排出される。
【0062】
こうしてシャワー水洗処理が完了すると、リフター本体22はさらに上昇して搬送ロボットとの受渡し位置(図5の2点鎖線位置)まで上昇し、搬送ロボット との間で処理済みの基板Wの受渡しを行い、次に未処理基板Wの搬入に備える。
【0063】
以上のように、この実施形態にかかる基板処理装置は、先に説明した基板水洗方法を使用するものであり、先の実施形態と同様に、より少ない純水使用量で、しかも短時間で基板を洗浄することができるという効果を奏する。
【0064】
また、薬液処理部10Bの上方位置にシャワー水洗処理部10Dを重ね合わせているため、その分だけ基板処理装置が占有する床面積を減少させることができる。
【0065】
さらに、開閉部材40a,40bの上面を上記のように傾斜させることにより、開閉部材40a,40b上に落下した純水や脱落した付着物はその上面に沿って薬液処理部10Bの外側に流出し、開閉部材40a,40bの突き合わせ間隙部Gを介して薬液処理部10Bに侵入するのを効果的に防止することができる。
【0066】
なお、開閉部材40a,40bの上面の傾斜角度は特に限定されないが、水平線に対して5〜15゜の範囲が好ましい。なんとなれば、開閉部材40a,40bの上面の傾斜角度が5゜未満であると純水や脱落した付着物を流下案内する効果が小さくなる一方、開閉部材40a,40bの上面の傾斜角度が15゜を超えると、開閉部材40a,40bの背丈が高くなりすぎて、基板処理装置のコンパクト化の点で好ましくないからである。
【0067】
また、落下した純水などを円滑に流下案内するために、開閉部材40a,40bの少なくとも上面を撥水性にすることが好ましい。開閉部材40a,40bを、例えばフッ素系樹脂で構成することにより、その上面を撥水性にすることができる。そうすることにより、開閉部材40a,40bの上面の傾斜角度を小さくすることができ、開閉部材40a,40bの高さを抑えることができる。
【0068】
さらに、本実施形態では、シャワー水洗処理部10Dから落下してくる純水な どが開閉部材40a,40bの突き合わせ間隙部Gの真上に落下する可能性もあることを考慮して、次のような構成を採用している。以下、図7を参照して説明する。図7は開閉部材40a,40bの突き合わせ部(図4の領域A)の拡大図である。すなわち、開閉部材40a,40bは、両開閉部材40a,40bの突き合わせ間隙部Gを覆うように、一方の開閉部材40bの遊端側の上端縁42が前方に迫り出すように構成されている。このような構成にすることにより、突き合わせ間隙部Gの真上から純水などの液滴Pが落下しても、同図中に2点鎖線で示すように、この液滴Pは迫り出した上端縁42で受け止められた後、開閉部材40bの傾斜した上面に沿って流下案内されるので、突き合わせ間隙部Gに液滴が侵入することがない。
【0069】
また、開閉部材40a,40bの突き合わせ間隙部Gへの液滴の侵入を防止する構成としては、図7に示した例の他に、例えば図8に示すような構成を採ることも可能である。この例では、一方の開閉部材40bの遊端側に凸形状のカバー部材43を取り付けて、開閉部材40a,40bの突き合わせ間隙部Gを覆っている。
【0070】
なお、図4および図5に示した実施形態では、薬液処理部10B,10Cのそれぞれの上方にシャワー水洗処理部10Dを積層配置しているが、水洗処理部10Fの代わりに薬液処理部10Eの上方位置にシャワー水洗処理部10Dを配置してもよく、この場合、より少ない純水使用量で、しかも短時間で基板を洗浄することができるとともに、床面における水洗処理部10Fの設置スペースが不要となるため、基板処理装置が占有する床面積をさらに減少させることができる。
【0071】
また、薬液処理部10B,10Cと、シャワー水洗処理部10Dとを仕切るための仕切部材40を観音開きの開閉部材40a,40bで構成したが、1つの開閉部材で薬液処理部10B,10Cと、シャワー水洗処理部10Dとの間を開閉自在に構成してもよい。また、3つ以上の開閉部材で仕切部材40を構成するようにしてもよい。さらに、仕切部材40で仕切った際に、シャワー水洗処理部1 0Dからの純水、および基板表面から脱落した付着物を処理チャンバ50の下方部に案内し、当該下方部からドレン配管52を介して装置外部に排出するように構成しているが、仕切部材40を閉成した際に、シャワー水洗処理部10Dと薬液処理部10B,10Cとを完全に仕切り、その仕切られたシャワー水洗処理空間から純水、および基板表面から脱落した付着物を排出するように構成してもよい。
【0072】
【実施例】
次に本発明の実施例を示すが、本発明はもとより下記実施例によって制限を受けるものではなく、前後記の趣旨に適合し得る範囲で適当に変更を加えて実施することも勿論可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に含まれる。
【0073】
実施例
図1に示す基板処理装置の第1の薬液処理部(CARO処理部)10BでCAROによる薬液処理を8インチ半導体ウエハ(基板)に施した後、シャワー水洗処理部10Dに搬送し、30(リットル/分)の割合で、5分間、純水をシャワー状に供給した後、処理部10Dから引き上げ、乾燥部10Hで乾燥させた後、粒径が0.12μm以上のパーティクルの個数を調べた処、そのパーティクルレベルは「35」であった。
【0074】
比較例1
処理部10Dの位置に図9のオーバーフロー方式の基板水洗装置を配置し、第1の薬液処理部(CARO処理部)10BでCAROによる薬液処理を8インチ半導体ウエハ(基板)に施した後、この基板水洗装置に搬送し、次の手順で水洗処理した。
【0075】
(i)20(リットル/分)の割合で処理槽103に純水を供給し続ける、なお、スローリークについては4(リットル/分)に設定している、
(ii)処理槽103に純水が貯留され、オーバーフロー状態になった後で、CAR O処理が施された半導体ウエハを処理槽103に投入する、
(iii)20(リットル/分)の割合で、15分間、オーバーフロー状態の処理槽103内に浸漬させる。
【0076】
こうした一連の水洗処理が完了した後、処理槽103から半導体ウエハを引き上げ、乾燥部10Hで乾燥させた後、粒径が0.12μm以上のパーティクルの個数を調べた処、そのパーティクルレベルは「50」であった。
【0077】
比較例2
処理部10Dの位置に図10の機能水洗方式の基板水洗装置を配置し、第1の薬液処理部(CARO処理部)10BでCAROによる薬液処理を8インチ半導体ウエハ(基板)に施した後、この基板水洗装置に搬送し、次の手順で水洗処理した。
【0078】
(i)処理槽203に純水を供給して処理槽203に純水を貯留した後、さらに純水供給を続けてオーバーフロー状態にする、
(ii)CARO処理が施された半導体ウエハを処理槽203に投入する、
(iii)20(リットル/分)の割合で、1分間、オーバーフロー状態を継続する、
(iv)急速排液しながら、シャワーノズル210から15(リットル/分)の割合で、純水を供給する、
(v)処理槽203から純水が排液されると、再度急速排液を停止し、処理槽203に純水を貯留した後、さらに純水供給を続けてオーバーフロー状態にする、
(vi)上記(iii)〜(v)の処理を5回繰り返す。
【0079】
こうした一連の水洗処理が完了した後、処理槽203から半導体ウエハを引き上げ、乾燥部10Hで乾燥させた後、粒径が0.12μm以上のパーティクルの個数を調べた処、そのパーティクルレベルは「50」であった。
【0080】
上記した実施例、比較例1および比較例2において基板投入から水洗処理完了 までにかかる処理時間、純水使用量および処理後のパーティクルレベルを表にまとめると、次の通りである。
【0081】
【表1】

Figure 0003682168
【0082】
同表から明らかなように、実施例によれば、より少ない純水使用量で、しかも短時間で半導体ウエハを洗浄することができ、比較例1および比較例2に対して優れた効果が得られる。また、処理後のパーティクルレベルを比較しても、純水使用量および処理時間も比較例よりも少ないにもかかわらず、実施例によれば、パーティクルレベルを低減することができ、より精密な水洗効果が得られることが明らかである。
【0083】
【発明の効果】
以上のように、この発明にかかる基板処理装置によれば、薬液処理部の上方にシャワー水洗処理部を配置し、薬液処理部によって薬液処理された複数の基板に対して純水をシャワー状に供給して基板表面の付着物を水洗除去するようにしているので 、より少ない純水使用量で、しかも短時間で基板を洗浄することができるとともに、薬液処理部の上方位置にシャワー水洗処理部を重ね合わせた分だけ基板処理装置が占有する床面積を減少させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 この発明にかかる基板水洗方法の一実施形態を適用可能な基板処理装置を示す平面図である。
【図2】 シャワー水洗処理部を前方上方位置から見下ろした図である。
【図3】 図2のシャワー水洗処理部の全体構成を示す概略断面図である。
【図4】 この発明にかかる基板水洗方法を適用可能な基板処理装置の他の実施形態を示す破断正面図である。
【図5】 図4の基板処理装置の側面図である。
【図6】 開閉部材の開閉駆動機構を示した図である。
【図7】 開閉部材の突き合わせ部の拡大断面図である。
【図8】 開閉部材の突き合わせ部の変形例を示した拡大断面図である。
【図9】 オーバーフロー方式の基板水洗装置を示す図である。
【図10】 機能水洗方式の基板水洗装置を示す図である。
【符号の説明】
1 処理ユニット
10B,10C 薬液処理部(CARO処理部)
10D シャワー水洗処理部
20 ハンドリング機構
21 アーム部材
22 リフター本体
40 仕切部材
40a,40b 開閉部材
50 処理チャンバ
301 処理槽
W 基板[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
  The present invention provides a plurality of substrates treated with a chemical solution such as a mixed solution of ammonia water and hydrogen peroxide solution, a mixed solution of hydrochloric acid and hydrogen peroxide solution, and a mixed solution of sulfuric acid and hydrogen peroxide solution. The present invention relates to a substrate rinsing method for performing a rinsing process in a lump and a substrate processing apparatus using the method.
[0002]
[Prior art]
  Conventionally, in a manufacturing process of a precision electronic substrate (hereinafter simply referred to as “substrate”) using a semiconductor wafer for a semiconductor device or a glass substrate for liquid crystal display, a mixed solution of ammonia water and hydrogen peroxide water, hydrochloric acid The substrate is subjected to a predetermined chemical solution treatment with a chemical solution such as a mixed solution of hydrogen peroxide solution and a mixed solution of sulfuric acid and hydrogen peroxide solution, and then washed with pure water. As this substrate rinsing method, conventionally, a so-called overflow type substrate rinsing method is known in which a substrate is immersed in a treatment tank in which pure water has overflowed for cleaning.
[0003]
  FIG. 9 is a diagram showing an overflow type substrate washing apparatus. In this substrate washing apparatus 101, a treatment tank 103 for storing pure water 102 is provided. A pair of left and right nozzles 109 for supplying pure water 102 into the processing tank 103 is provided at the bottom of the processing tank 103, and a pure water supply unit (not shown) is connected to these nozzles 109. Therefore, when the substrate 104 is washed with water, pure water is pumped from the pure water supply unit, and the pure water 102 is supplied from the inner pipe 113 of the nozzle 109 to the treatment tank 103 through the outer pipe 111. By continuously supplying the water 102, the pure water 102 overflows through the overflow surface of the upper opening of the treatment tank 103.
[0004]
  In addition, the apparatus 101 is provided with a handling mechanism 105 that moves up and down relative to the processing bath 103 while holding a plurality of substrates 104 with three arm members 107. Therefore, when the substrate 104 that has been subjected to the chemical treatment by the handling mechanism 105 is immersed in the treatment tank 103 that is in an overflow state as described above, the deposits on the substrate 104 (contaminants generated by chemical treatment or chemical treatment ( Particles) etc. fall off from the surface of the substrate 104 into the pure water, overflow the overflow surface and are discharged out of the processing bath 103, and the plurality of substrates 104 are washed in a batch. Further, when the washing process is completed as described above, the handling mechanism 105 is raised, and the substrate 104 that has been subjected to the washing process is pulled up from the treatment tank 103.
[0005]
  By the way, as a method of washing a plurality of substrates at once, a functional water washing type substrate washing method in which overflow and rapid drainage are sequentially combined is known in addition to the overflow type substrate washing method described above. Yes.
[0006]
  FIG. 10 is a diagram showing a functional water washing type substrate water washing apparatus. In the substrate washing apparatus 201, a treatment tank 203 for storing pure water 202 is provided. At the bottom of the treatment tank 203, a supply port 208 for supplying pure water 202 is provided at the substantially central portion thereof, and a drain port 209 for discharging the pure water 202 is provided at a side end portion. A supply / drain unit (not shown) is connected to the supply port 208 and the drain port 209, and pure water 202 is continuously supplied into the treatment tank 203 through the supply port 208 by the supply / drain unit. Then, the pure water 202 overflows through the overflow surface of the upper opening of the processing tank 203. Further, when the drainage of the pure water 202 in the processing tank 203 is started through the drainage port 209 by the supply / drainage unit, the pure water 202 is rapidly drained out of the processing tank 203.
[0007]
  In addition, the apparatus 201 is provided with a handling mechanism 205 that moves up and down with respect to the processing tank 203 while holding the plurality of substrates 204 by the three arm members 207, similarly to the overflow type substrate washing apparatus described above. The substrate 204 that has been subjected to the chemical treatment by the handling mechanism 205 is immersed in the treatment tank 203 that is in an overflow state as described above, so that deposits on the substrate 204 (contamination generated by chemical treatment or chemical treatment) A substance (particle or the like) is dropped from the surface of the substrate 104 into the pure water 202. Then, after the substrate is immersed, the pure water 202 is rapidly drained, and the pure water 202 containing deposits is discharged out of the treatment tank 203. Subsequently, the pure water 202 is continuously supplied into the processing tank 203 by the supply / drainage unit while the substrate 204 is positioned in the processing tank 203 to overflow, and the deposits are removed from the surface of the substrate 204 into the pure water 202. Then, the deposits that have been rapidly drained and removed again are discharged from the treatment tank 203 together with the pure water 202. Such a series of operations (overflow and rapid drainage) is repeated several times to quickly remove the deposits on the substrate 204 with water.
[0008]
  Further, when the liquid is rapidly discharged as described above, the substrate 204 is temporarily exposed to the air and may partially dry. Therefore, the shower nozzles 210 are disposed on the upper left and right sides of the processing tank 203, and Only at the time of rapid drainage, by drying pure water from these shower nozzles 210 toward the substrate 204 in a shower shape, drying of the substrate 204 is prevented. Note that the amount of pure water discharged from the shower nozzle 210 is limited to a level necessary to prevent the substrate from being dried, and the substrate 204 is not substantially washed with the pure water.
[0009]
  When the water washing process is completed as described above, the handling mechanism 205 is raised, and the substrate 204 that has been subjected to the water washing process is pulled up from the treatment tank 203.
[0010]
[Problems to be solved by the invention]
  As described above, conventionally, in order to collectively wash a plurality of substrates subjected to chemical treatment, the plurality of substrates are immersed in the treatment tank while overflowing pure water in the treatment tank. Kimono is removed. For this reason, a large amount of pure water was required for the water washing treatment, and the treatment time was long. In particular, in the functional water washing method shown in FIG. 10, rapid drainage is combined with overflow, and the processing time is somewhat shortened compared with the overflow type substrate water washing method shown in FIG. However, there has been a demand for a substrate water washing method that can be washed in a shorter time.
[0011]
  Further, in the functional water washing method of FIG. 10, since a dedicated shower nozzle 210 is provided in order to prevent substrate drying at the time of rapid drainage, extra pure water is required for purposes other than substrate cleaning. The amount of water used is increased, which causes an increase in the cost of water washing treatment. In addition, the configuration of the apparatus is complicated by the amount of the shower nozzle 210, and the cost of the apparatus to which the substrate water washing method is applied is increased.
[0012]
  The present invention has been made in view of the above problems, and has as its first object to provide a method for washing a substrate that can clean the substrate in a short time with a smaller amount of pure water used. To do.
[0013]
  Moreover, this invention makes it the 2nd objective to provide the substrate processing apparatus suitable for implementation of the invention concerning the said substrate washing method.
[0014]
[Means for Solving the Problems]
  In invention of Claim 1Such substrateProcessing equipmentIsA chemical treatment unit for treating a plurality of substrates with a chemical, and
Overlying the chemical solution processing unit, the chemical solution processing unit is disposed over the chemical solution processing unit, and pure water is supplied in a shower form to the plurality of substrates subjected to the chemical solution treatment by the chemical solution processing unit to remove the deposits on the substrate surface by washing. And a shower rinsing section
An openable and closable partition member disposed between the chemical solution processing unit and the shower water washing processing unit,
A handling unit that reciprocally moves a plurality of substrates between the chemical solution processing unit and the shower water washing processing unit through the opened partition member;
The partition member is closed to partition the chemical solution processing unit and the shower rinsing processing unit, and pure water and deposits dropped from the substrate surface enter the chemical solution processing unit from the shower rinsing processing unit. Is to regulate.
[0015]
  Moreover, invention of Claim 2 is the substrate processing apparatus of Claim 1, Comprising: The said chemical | medical solution processing part, the said shower water washing process part arrange | positioned above it, and the said partition member are the same Provided in the processing chamber;
When the partition member is closed, the inside of the processing chamber is divided into the chemical solution processing unit and the shower water washing processing unit, and when the partition member is opened, the chemical solution processing unit and the shower water washing processing unit are provided. It is possible to reciprocate a plurality of substrates between the two by the handling unit.
[0016]
  The invention according to claim 3 is the substrate processing apparatus according to claim 2, wherein the partitioning member is in a state in which the ends of the pair of opening / closing members are butted against each other, The pair of opening and closing members are opened by double-turning by turning upward, and the upper surfaces of the pair of opening and closing members are moved toward the base ends on the side opposite to the ends abutted against each other. Each of the base end portions has a shape that extends to the outside of the overflow tank provided in the chemical treatment unit.
[0017]
  The invention described in claim 4 is the substrate processing apparatus according to claim 3,The inclination angle of the upper surface of the partition member is 5 to 15 °.It is what.
[0018]
  Further, the invention described in claim 5 is described in claim 3 or claim 4.A substrate processing apparatus,In the lower part of the processing chamber, a drain pipe is provided for discharging pure water from the shower rinsing unit guided to the outside of the overflow tank by a pair of opening and closing members forming the partition member. .
[0019]
  The invention according to claim 6 is the substrate processing apparatus according to any one of claims 1 to 5,The chemical solution treatment unit has a treatment tank for storing a mixed solution of ammonia water and hydrogen peroxide solution as a chemical solution,
  The substrate is immersed in the chemical solution in the processing tank by the handling unit to perform chemical treatment.Is.
[0020]
  The invention according to claim 7 is the substrate processing apparatus according to any one of claims 1 to 5,The chemical solution treatment unit has a treatment tank for storing a mixed solution of hydrochloric acid and hydrogen peroxide solution as a chemical solution,
  The substrate is immersed in the chemical solution in the processing tank by the handling unit to perform chemical treatment.Is.
[0021]
  The invention according to claim 8 is the substrate processing apparatus according to any one of claims 1 to 5,The chemical solution treatment unit has a treatment tank for storing a mixed solution of sulfuric acid and hydrogen peroxide as a chemical solution,
  The substrate is immersed in the chemical solution in the processing tank by the handling unit to perform chemical treatment.Is.
[0022]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
  FIG. 1 is a plan view showing a substrate processing apparatus to which an embodiment of a substrate rinsing method according to the present invention can be applied.
  The substrate processing apparatus shown in this figure is an apparatus that immerses a semiconductor wafer as a substrate in a plurality of types of processing liquids (chemical solution and pure water) or supplies pure water in a shower to wash it with water. , A substrate loading unit 2, a processing unit 1 for performing a series of various processes such as a chemical treatment and a water washing process on a plurality of semiconductor wafers loaded by the loading unit 2, and a substrate for taking out a substrate after various types of processing by the processing unit 1 The take-out part 3 is provided.
[0023]
  The substrate loading portion 2 is provided with a receiving portion 4 for receiving and placing a carrier case containing a substrate, and the carrier case containing the substrate is carried into the receiving portion 4 by a transfer device (not shown). It is like that. In this embodiment, 25 substrates are stored in one carrier case, and each substrate is stored in a line in a carrier case with its surfaces facing each other. .
[0024]
  Further, on the rear side of the receiving part 4 (upper side in the figure), a standby part 5 for waiting the carrier case until the substrate is loaded into the processing unit 1 is provided side by side. A transfer robot 6 is disposed on the side (left side in the figure).
[0025]
  The transfer robot 6 can move between a position Pa facing the receiving portion 4 and a position Pb facing the standby portion 5 as indicated by a broken line in the figure, and the carrier case carried into the receiving portion 4 can be moved. It is configured to transfer to the standby part 5.
[0026]
  Between the input unit 2 and the processing unit 1, a substrate take-out mechanism unit 12 is disposed to face the standby part 5, and the transfer robot 14 can move between the standby part 5 and the substrate take-out mechanism unit 12. It is arranged. The transfer robot 14 is movable between a position Pd interposed between the standby portion 5 and the substrate take-out mechanism 12 and a position Pc corresponding to the moving end on the loading portion 2 side of the shuttle robot 17. The carrier case is delivered from 5 to the substrate take-out mechanism 12 and from the substrate take-out mechanism 12 to the shuttle robot 17.
[0027]
  The substrate take-out mechanism 12 includes two placement portions for placing the carrier case, and arm portions each having a substrate support portion at the upper end thereof can be moved up and down. Then, when the carrier case containing the substrate before processing is set on each mounting portion, the arm member is displaced to the rising end position through the opening formed at the bottom of the carrier case, and the substrates are thereby collectively moved. It is supported and lifted up above the case.
[0028]
  The processing unit 1 includes a chuck rinsing unit 10A for drying the chuck after cleaning the chuck of the transfer robot 16a for transferring a plurality of semiconductor wafers with pure water, and a series of processes of chemical solution and rinsing processing on the substrate. The processing units 10B to 10G and the drying unit 10H for drying the substrate are arranged side by side in order from the end on the input unit 2 side, and on the side (downward in the figure) of these processing units 10A, etc. A transfer robot 16a that can access the substrate take-out mechanism unit 12 and the processing units 10A to 10F, a transfer robot 16b that can access the processing units 10F to 10H, and a transfer robot 16c that can access the processing unit 10H and the substrate storage mechanism unit 13 And are arranged. In this embodiment, the processing units 10B to 10G are configured as follows.
[0029]
  Processing unit 10B: first chemical processing unit (CARO processing unit)
  The processing unit 10B is provided with a processing tank (not shown) for storing a mixed solution of sulfuric acid and hydrogen peroxide solution (hereinafter referred to as “CARO”) as a chemical solution. When the plurality of substrates lifted above the carrier case in 12 are collectively held and then loaded into this processing tank, the chemical processing for the plurality of substrates is performed collectively by CARO.
[0030]
  Processing unit 10C: second chemical processing unit (CARO processing unit)
  The processing unit 10C has the same configuration as the processing unit 10B, and a plurality of substrates lifted above the carrier case in the substrate take-out mechanism unit 12 by the transfer robot 16a are carried into a processing tank provided in the processing unit 10C. Then, the chemical processing by CARO is performed. As described above, the first and second chemical processing units 10B and 10C that perform the same chemical processing are provided because the chemical processing by CARO (CARO processing) takes more time than the other processing units 10D to 10G. Therefore, the CARO process is performed in parallel to reduce the processing time.
[0031]
  Processing unit 10D: shower water washing processing unit
  FIG. 2 is a view of the processing unit 10D looking down from the upper position on the transport robot 16a side, and FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing the overall configuration of the processing unit 10D. As shown in these drawings, a handling mechanism 20 configured to hold a plurality of substrates W by three arm members 21 is provided inside the processing unit 10D. The plurality of substrates W that have been subjected to the chemical processing in the chemical processing units 10B and 10C can be unloaded from the chemical processing units 10B and 10C by the transport robot 16a and accommodated in the handling mechanism 20 of the processing unit 10D. .
[0032]
  In addition, nozzle pipes 31 extending in parallel with the arrangement direction of the substrates W (the front-rear direction in FIG. 2; the direction perpendicular to the paper surface in FIG. 3) are disposed on the left and right ends of the upper opening of the processing unit 10D. A plurality of shower nozzles 32 are attached from the side wall of each nozzle pipe 31 toward the handling mechanism 20. As shown in FIG. 3, these nozzle pipes 31 are connected to a pure water tank 34 by a pure water supply pipe 33, and when a pump 35 inserted in the pure water supply pipe 33 is operated, Pure water stored in the pure water tank 34 is pumped to the nozzle pipe 31 through a pump 35 and a filter 36 inserted in the pure water supply pipe 33. Therefore, after the substrate W is transported from the first or second chemical solution processing unit 10B, 10C to the handling mechanism 20 by the transport robot 16a, it is directed toward the plurality of substrates W held by the handling mechanism 20 as described above. Pure water is supplied from each nozzle 32 in the form of a shower, and deposits on the surface of the substrate W (such as CARO and substances (particles) generated by the CARO process) are removed by washing.
[0033]
  Further, a drain pipe 37 is connected to the bottom surface of the processing unit 10D, and the pure water discharged from the nozzle 32 and the deposits dropped from the substrate surface are removed from the processing unit 10D through the drain pipe 37. It is quickly discharged to the outside.
[0034]
  Processing unit 10E: third chemical processing unit (HF-1 processing)
  The processing unit 10E is provided with a processing tank (not shown) for storing hydrofluoric acid (HF) as a chemical solution, and the transfer robot 16a carries out the plurality of substrates subjected to the shower water washing process from the shower water washing processing unit 10D. Then, when it is carried into the handling mechanism (not shown) of this processing tank, the chemical solution processing (HF-1 processing) for a plurality of substrates is performed at once by hydrofluoric acid.
[0035]
  Processing unit 10F: overflow type water washing processing unit
  In this processing unit 10F, as shown in FIG. 9, a processing tank for storing pure water is provided, and pure water is supplied from the bottom side of the processing tank toward the inside thereof, so that an upper portion of the processing tank is provided. It overflows through the overflow surface of the opening. Then, after the transfer robot 16a unloads the plurality of substrates subjected to the chemical treatment with hydrofluoric acid from the third chemical treatment unit 10E and then transports it to the handling mechanism (not shown) of the treatment tank, the attachment on the substrate surface is performed. Kimonos (such as hydrofluoric acid and substances (particles) generated by chemical treatment with hydrofluoric acid) are removed by washing with water.
[0036]
    Processing unit 10G: overflow type final water washing processing unit
  The processing unit 10G is an overflow type water washing processing unit similar to the water washing processing unit 10F, and another transport robot 16b carries out the substrate subjected to the water washing processing in the water washing processing unit 10F from the water washing processing unit 10F. Thereafter, when the substrate is transported to a handling mechanism (not shown) of the processing tank, the remaining deposits that cannot be washed away by the washing process in the processing unit 10H are removed by washing, and the substrate is subjected to a precision washing process.
[0037]
  When a series of chemical solutions and water washing processes are completed as described above, the plurality of substrates are unloaded from the final water washing processing unit 10G by the transfer robot 16b, loaded into the drying unit 10H and dried, and further transferred. It is taken out from the drying unit 10H by the robot 16c and conveyed to above the substrate storage mechanism unit 13.
[0038]
  In the substrate storage mechanism portion 13 where the substrate has been transferred in this manner, like the substrate take-out mechanism portion 12, two placement portions for placing the carrier case, and an up and down arm provided on these placement portions. And a member for storing the processed substrate in the carrier case. Specifically, when a substrate after processing is set above the substrate storage mechanism 13 by the transfer robot 16c with an empty carrier case set on each placement unit, the arm member is displaced to the rising end position. The substrates are collectively supported, and then the arm member is displaced to the lowered end position so that the substrates are accommodated in each carrier case.
[0039]
  The transfer robot 15 can move between a position Pf facing the substrate storage mechanism 13 and a position Pe corresponding to the moving end of the shuttle robot 17 on the extraction unit 3 side. Further, the carrier case is delivered from the shuttle robot 17 to the substrate storage mechanism unit 13.
[0040]
  The substrate take-out part 3 is provided with a delivery part 7 on which a carrier case containing a processed substrate is placed, and this delivery part 7 is arranged to face the substrate accommodation mechanism part 13.
[0041]
  In the substrate processing apparatus configured as described above, a plurality of substrates that have been subjected to chemical treatment by CARO in the first or second chemical treatment units 10B and 10C are transferred to the shower water washing treatment unit 10D, and pure water is supplied to these substrates. Since the deposits on the surface of the substrate are removed by washing in a shower-like manner, the substrate can be cleaned in a short time with a smaller amount of pure water used. The conspicuousness of the effect will be described in detail in comparison with comparative examples of the overflow method (FIG. 9) and the functional water washing method (FIG. 10) while showing specific examples in the following examples.
[0042]
  In the above-described embodiment, the chemical treatment using CARO as the chemical solution is followed by washing with shower water to remove the CARO adhering to the substrate surface and the substances (particles) generated by the chemical treatment (CARO treatment). The chemical solution is not limited to CARO, and a mixed solution of ammonia water and hydrogen peroxide solution (SC-1) or a mixed solution of hydrochloric acid and hydrogen peroxide solution (SC-2) is used. The same effect can be obtained also in the substrate processing method in which the substrate is washed with water after the chemical treatment of the substrate.
[0043]
  Further, in the above embodiment, after the chemical solution treatment with hydrofluoric acid (HF), the water washing treatment is performed by the overflow type water washing treatment unit 10F. However, the water washing treatment unit 10F is configured in the same manner as the treatment unit 10D and showered. You may make it wash with water, and it can reduce the usage-amount of pure water in the process part 10F by changing to shower water washing, and can also shorten processing time.
[0044]
  In the above embodiment, after transporting the substrate to the processing unit 10D, pure water is supplied in the form of a shower and washed with shower water. However, the shower-shaped pure water is processed at the same time as or before the substrate is loaded. The substrate may be washed with shower water after starting to be supplied to the section 10D.
[0045]
  In the above embodiment, the present invention is applied to a so-called carrierless type substrate processing apparatus in which a substrate is taken out from a carrier case and a plurality of substrates are transferred by the transfer robots 16a to 16c. The present invention is not limited to this carrier-less method, and the present invention is also applied to a so-called carrier-type substrate processing apparatus that takes out a substrate from a carrier case, transfers it to a dedicated carrier, and transports the substrate to each processing unit together with the carrier. Can be applied. Further, the type and number of processing units constituting the processing unit 1 are not limited to the above embodiment, and after the chemical processing is performed in the chemical processing unit, the substrate is transported to the water cleaning processing unit and washed with water. The present invention can be applied to any substrate processing apparatus having the above, and effects similar to those of the above-described embodiment can be obtained by performing shower water washing in this water washing treatment unit.
[0046]
  Furthermore, in the above-described embodiment, the present invention is applied to an apparatus for processing a substrate while providing a plurality of processing units and sequentially transferring the substrates to the processing unit by a transfer robot. However, the chemical processing and the water washing processing are performed in the same processing unit. The present invention can also be applied to a so-called one-bus type substrate processing apparatus. That is, similarly to the processing unit 10D, this substrate processing apparatus is provided with a nozzle pipe having a plurality of shower nozzles, and after chemical treatment, pure water stored in a pure water tank is pumped to the nozzle pipe. Thus, by providing pure water from each nozzle in a shower-like manner toward a plurality of substrates, and removing the deposits on the surface of the substrate with water, the same effects as in the above embodiment can be obtained.
[0047]
  Incidentally, as shown in FIG. 1, regardless of whether the washing process for the substrate after the chemical solution treatment is performed by the above-described shower washing method or by the overflow method (FIG. 9) or the functional washing method (FIG. 10) as in the conventional example. In addition, if all the processing units including the water washing process are horizontally arranged in a straight line, the floor area (footprint) occupied by the substrate processing apparatus increases in proportion to the number of processing units.
[0048]
  However, in the case of performing the water washing process on the substrate after the chemical treatment by the shower water washing method described above, the following advantages compared to the case of performing the water washing treatment by the overflow method (FIG. 9) or the functional water washing method (FIG. 10). The above problems can be solved. That is, in the conventional washing method, it is necessary to arrange a treatment tank for storing pure water in the washing treatment unit, and it is necessary to arrange the chemical solution treatment unit and the washing treatment unit in parallel in a plan view. On the other hand, in the substrate water washing method according to the present invention, pure water is supplied in a shower-like manner to the substrate that has been subjected to the chemical treatment with the chemical solution, and the deposits on the substrate surface are removed by washing. It is not always necessary to provide a processing tank for storing, for example, it is possible to stack and arrange the shower water washing processing unit 10D above the chemical solution processing units 10B and 10C in the substrate processing apparatus of FIG. The occupied floor area by the substrate processing apparatus can be reduced by that amount. Hereinafter, the substrate processing apparatus having such a laminated structure will be described in detail with reference to FIGS.
[0049]
  FIG. 4 is a cutaway front view showing another embodiment of the substrate processing apparatus to which the substrate washing method according to the present invention can be applied. FIG. 5 is a side view of the substrate processing apparatus of FIG. As shown in these drawings, in the substrate processing apparatus according to this embodiment, shower water washing processing units 10D and 10D are respectively disposed above the chemical processing units 10B and 10C, and the chemical processing units 10B and 10C The partition members 40, 40 are disposed between the shower water washing treatment units 10D, 10D. Note that the subunit SU1 in which the chemical solution processing unit 10B and the shower water washing processing unit 10D are stacked with the partition member 40 interposed therebetween, and the chemical solution processing unit 10C and the shower water washing processing unit 10D in a stacked configuration with the partition member 40 interposed therebetween. Since the subunit SU2 has the same configuration, only the subunit SU1 will be described here.
[0050]
  In this subunit SU1, the chemical processing unit 10B, the partition member 40, and the shower water washing processing unit 10D are stored in the processing chamber 50 in this order from the bottom to the top. Further, in the processing chamber 50, a handling mechanism 20 that reciprocates the substrate W between the chemical solution processing unit 10B and the shower rinsing processing unit 10D through the partition member 40 as described later is disposed. After a plurality of unprocessed substrates W are transferred to the handling mechanism 20 by the transfer robot (reference numeral 16a in FIG. 1) through the upper opening 51 of the processing chamber 50, the substrate is first transferred to the chemical processing unit 10B and subjected to chemical processing. Then, after being transported to the shower rinsing processing unit 10D and subjected to rinsing processing, it is transferred from the handling mechanism 20 to the transport robot and transported to the other processing unit 10E.
[0051]
  As shown in FIG. 5, the handling mechanism 20 holds a plurality of substrates W with three arm members 21 extending substantially in parallel with the arrangement direction of the substrates W (the horizontal direction in the figure) from the lower end of the lifter body 22. It is possible. Further, the lifter body 22 is configured to be driven up and down by a lifter up-and-down mechanism 23, and the substrates W held by the arm member 21 are moved in the up-and-down direction collectively according to the up-and-down movement of the lifter body 22. It is possible. Specifically, the lifter up-and-down mechanism unit 23 drives a timing belt 23c spanned between two pulleys 23a and 23b spaced apart in the vertical direction by a motor 23d, and is fixed to a part of the timing belt 23c. The rod 23e is moved up and down, and the rotational driving force of the motor 23d is converted into the vertical movement of the rod 23e. And the upper end part of the lifter main body 22 is adhering to the front-end | tip part of the rod 23e, and the lifter main body 22 moves up and down according to the rotation direction of the motor 23d.
[0052]
  When the lifter body 22 moves to the lowest position (solid line position in FIG. 5), the substrates W held by the arm member 21 are collectively immersed in the treatment tank 301 of the chemical treatment unit 10B and subjected to chemical treatment. The The treatment tank 301 stores CARO (a mixed solution of sulfuric acid and hydrogen peroxide solution) as a chemical solution, and is a substantially rectangular parallelepiped container having an opening 302 that allows the substrate W group to be taken in and out. I have. Further, on both sides of the bottom of the processing tank 301, chemical solution supply pipes 303 for supplying CARO into the processing tank 301 are disposed. Further, an overflow tank 304 is provided around the upper part of the processing tank 301 to recover the processing liquid overflowing from the processing tank 301 during the processing of the substrate W group. The chemical solution recovered in the overflow tank 304 is circulated and used. ing. However, the configuration of the chemical solution processing unit is not limited to this chemical solution circulation type, and may be a type that drains the used chemical solution for each chemical solution treatment.
[0053]
  Above the opening 302 of the treatment tank 301, a shower rinsing processing unit having the same configuration as the shower rinsing processing unit 10D shown in FIGS. 2 and 3 is arranged. In addition, since the structure is as having already demonstrated, the same code | symbol is attached | subjected here and description of a structure is abbreviate | omitted.
[0054]
  A partition member 40 that can be opened and closed is provided between the chemical solution processing unit 10B and the shower rinsing processing unit 10D that are stacked and arranged as described above. Specifically, the partition member 40 is composed of a pair of open / close members 40a and 40b that are opened in a double-tone manner. The open / close drive mechanism 41 opens the open / close members 40a and 40b as shown by a two-dot chain line in FIG. A plurality of substrates W can be reciprocated between the chemical solution processing unit 10B and the shower water washing processing unit 10D by passing through the partition member 40 by the mechanism 20, while the chemical solution processing unit 10B and the shower water washing treatment are performed by closing. The part 10D is partitioned off.
[0055]
  Further, as a characteristic configuration in this embodiment, the upper surface of the partition member 40 is inclined toward the outside of the processing tank 301. Specifically, each of the upper surfaces of the pair of opening / closing members 40a, 40b that are spread apart is inclined so as to become lower toward the respective base end side from the free end side that is faced in the closed state. Each base end side of the opening / closing members 40a and 40b extends to the outside of the overflow tank 304.
[0056]
  Next, the configuration of the open / close drive mechanism 41 will be described. Since the open / close drive mechanisms 41 of the open / close members 40a and 40b have the same configuration, the open / close member 40a will be described below as an example. Both sides of the base end portion of the opening / closing member 40a are connected and fixed to the free support of the pair of bent support arms 411, respectively. The base arm of each support arm 411 is swingably supported on the side wall of the processing chamber 50 via a support shaft 412. One support shaft 412 is led out through the side wall of the processing chamber 50. As shown in FIG. 6, the support shaft 412 led out of the processing chamber 50 is connected and fixed to one end of an arm 413, and the other end of the arm 413 is an air cylinder 414 disposed on the side wall of the processing chamber 50. Pin connected to the rod.
[0057]
  When the rod of the air cylinder 414 of each open / close drive mechanism 41 of the open / close members 40a, 40b configured as described above is expanded and contracted, the open / close members 40a, 40b are in a closed state indicated by a solid line in FIG. It is switched to the open state indicated by the chain line. That is, the opening / closing members 40a and 40b are closed except when the substrate W is taken in and out of the processing bath 301. In the opened state, the opening / closing members 40a and 40b are configured not to obstruct when the substrate W group is taken in and out of the processing bath 301 by opening the upper portion of the opening 302 of the processing bath 301 widely.
[0058]
  Next, the substrate processing operation in the subunit SU1 configured as described above will be described. First, when the transfer robot (reference numeral 16a in FIG. 1) transfers the unprocessed substrate W to the subunit SU1, it has been raised to the position above the opening 51 of the processing chamber 50 (the position indicated by the two-dot chain line in FIG. 5). The unprocessed substrate W is delivered to the arm member 21. Then, the lifter main body 22 descends while holding the substrate W by the arm member 21, and moves to the lowest position (solid line position in FIG. 5). During this downward movement, the group of substrates W held by the arm member 21 passes through the opening 51 of the processing chamber 50, the shower water washing processing unit 10D, and the partition member 40 in the open state, and then the opening / closing member 40a of the partition member 40. 40b are switched to the closed state shown by the solid line in FIG. 4, and the substrate W group is immersed in the chemical solution (CARO) in the treatment tank 301 of the chemical solution processing unit 10B, and the chemical solution processing is started.
[0059]
  When the chemical treatment is completed, the open / close members 40a and 40b of the partition member 40 are switched to the closed state indicated by the two-dot chain line in FIG. 4, and then the lifter body 22 is lifted and passes through the partition member 40. As shown by the dashed-dotted line of 5, it moves to the shower water washing process part 10D. Subsequently, the open / close members 40a and 40b of the partition member 40 are switched to the closed state shown by the solid line in FIG. 4 to complete the preparation for the water washing treatment by the shower water washing treatment unit 10D.
[0060]
  Then, pure water is supplied in a shower form from each nozzle 32 toward the plurality of substrates W held by the arm member 21, and deposits on the surface of the substrate W (substances generated by the CARO and CARO processes (particles)). Etc.) are removed by washing with water. At this time, if the lifter body 22 is swung in the vertical direction, the efficiency of the water washing process is improved, and the water washing process can be performed with a smaller amount of pure water and in a shorter time. Further, the same effect can be obtained by oscillating the nozzle pipe 31 or oscillating the nozzle 32 itself at the same time or instead of oscillating the lifter body 22.
[0061]
  When the shower rinsing process is performed in this manner, the pure water supplied from the nozzle 32 and the deposits that have dropped off from the substrate surface fall to the chemical solution processing unit 10B side, but are disposed above the chemical solution processing unit 10B. The partition member 40 restricts entry into the chemical solution processing unit 10B. That is, the pure water and the dropped deposit fall on the upper surfaces of the opening / closing members 40a, 40b of the partition member 40, and then flow down to the outside of the chemical treatment unit 10B by being guided by the inclined upper surfaces of the opening / closing members 40a, 40b. Collected in the lower part of the chamber 50. And it is discharged | emitted outside the apparatus through the drain piping 52 connected to the lower part of the processing chamber 50. FIG.
[0062]
  When the shower rinsing process is completed in this way, the lifter body 22 is further raised to the delivery position with the transfer robot (the two-dot chain line position in FIG. 5), and the processed substrate W is transferred to and from the transfer robot. Next, the unprocessed substrate W is prepared for loading.
[0063]
  As described above, the substrate processing apparatus according to this embodiment uses the substrate water washing method described above, and in the same manner as the previous embodiment, the substrate can be used in a short time with a smaller amount of pure water used. There is an effect that can be washed.
[0064]
  Moreover, since the shower water washing processing unit 10D is superimposed on the upper position of the chemical solution processing unit 10B, the floor area occupied by the substrate processing apparatus can be reduced accordingly.
[0065]
  Further, by inclining the upper surfaces of the opening / closing members 40a, 40b as described above, the pure water dropped on the opening / closing members 40a, 40b and the dropped deposits flow out of the chemical treatment unit 10B along the upper surfaces. Further, it is possible to effectively prevent the chemical solution processing unit 10B from entering through the butting gap portion G of the opening / closing members 40a and 40b.
[0066]
  The inclination angle of the upper surfaces of the opening / closing members 40a and 40b is not particularly limited, but is preferably in the range of 5 to 15 ° with respect to the horizontal line. If the inclination angle of the upper surfaces of the opening and closing members 40a and 40b is less than 5 °, the effect of flowing down and guiding pure water and fallen deposits is reduced, while the inclination angle of the upper surfaces of the opening and closing members 40a and 40b is 15%. If the angle exceeds .degree., The height of the opening / closing members 40a and 40b becomes too high, which is not preferable in terms of downsizing the substrate processing apparatus.
[0067]
  Moreover, in order to smoothly flow down and guide the dropped pure water and the like, it is preferable that at least the upper surfaces of the opening / closing members 40a and 40b be water-repellent. By configuring the open / close members 40a and 40b with, for example, a fluorine-based resin, the upper surfaces thereof can be made water-repellent. By doing so, the inclination angle of the upper surface of the opening / closing members 40a, 40b can be reduced, and the height of the opening / closing members 40a, 40b can be suppressed.
[0068]
  Furthermore, in the present embodiment, considering that pure water falling from the shower rinsing section 10D may fall directly above the butting gap G of the opening / closing members 40a and 40b, the following Such a configuration is adopted. Hereinafter, a description will be given with reference to FIG. FIG. 7 is an enlarged view of a butting portion (region A in FIG. 4) of the opening / closing members 40a and 40b. That is, the open / close members 40a, 40b are configured such that the upper end edge 42 on the free end side of one open / close member 40b protrudes forward so as to cover the butt gap G of the open / close members 40a, 40b. By adopting such a configuration, even when a droplet P such as pure water falls from right above the butt gap G, the droplet P squeezed as shown by a two-dot chain line in the figure. After being received by the upper end edge 42, the flow guides along the inclined upper surface of the opening / closing member 40 b, so that the droplet does not enter the butt gap G.
[0069]
  In addition to the example shown in FIG. 7, for example, a configuration as shown in FIG. 8 can be adopted as a configuration for preventing droplets from entering the butting gap G of the opening / closing members 40a and 40b. . In this example, a convex cover member 43 is attached to the free end side of one opening / closing member 40b to cover the butt gap G of the opening / closing members 40a, 40b.
[0070]
  In the embodiment shown in FIG. 4 and FIG. 5, the shower rinsing processing unit 10 </ b> D is arranged above each of the chemical processing units 10 </ b> B and 10 </ b> C, but the chemical processing unit 10 </ b> E is replaced with the chemical processing unit 10 </ b> F. The shower rinsing processing unit 10D may be arranged at an upper position. In this case, the substrate can be cleaned in a shorter time with a smaller amount of pure water used, and the installation space for the rinsing processing unit 10F on the floor surface is increased. Since it becomes unnecessary, the floor area occupied by the substrate processing apparatus can be further reduced.
[0071]
  In addition, the partition member 40 for partitioning the chemical treatment units 10B and 10C and the shower water washing treatment unit 10D is configured by the double door opening and closing members 40a and 40b. However, the chemical solution treatment units 10B and 10C and the shower are formed with a single opening and closing member. You may comprise so that opening and closing is possible between the water washing process parts 10D. Moreover, you may make it comprise the partition member 40 with three or more opening-and-closing members. Further, when the partition member 40 divides the pure water from the shower rinsing processing unit 10D and the deposits dropped from the substrate surface, the lower part of the processing chamber 50 is guided to the lower part through the drain pipe 52. However, when the partition member 40 is closed, the shower rinsing processing unit 10D and the chemical solution processing units 10B and 10C are completely partitioned, and the partitioned shower rinsing processing space is provided. Further, pure water and deposits dropped from the substrate surface may be discharged.
[0072]
【Example】
  Next, examples of the present invention will be shown. However, the present invention is not limited by the following examples as a matter of course, and it is needless to say that the present invention can be implemented with appropriate modifications within a range that can meet the gist of the preceding and following descriptions. These are all included in the technical scope of the present invention.
[0073]
  Example
  The first chemical processing unit (CARO processing unit) 10B of the substrate processing apparatus shown in FIG. 1 performs chemical processing by CARO on the 8-inch semiconductor wafer (substrate), and then transports it to the shower water washing processing unit 10D to 30 (liters). / Min) at a rate of 5 minutes, after supplying pure water in a shower form, after pulling up from the processing unit 10D and drying in the drying unit 10H, the number of particles having a particle size of 0.12 μm or more was examined. The particle level was “35”.
[0074]
  Comparative Example 1
  9 is disposed at the position of the processing unit 10D, and the first chemical processing unit (CARO processing unit) 10B performs chemical processing with CARO on the 8-inch semiconductor wafer (substrate). It carried to the board | substrate water washing apparatus, and washed with water in the following procedure.
[0075]
  (i) Continue to supply pure water to the treatment tank 103 at a rate of 20 (liters / minute), and the slow leak is set to 4 (liters / minute).
  (ii) After the pure water is stored in the processing tank 103 and is in an overflow state, the semiconductor wafer that has been subjected to the CARO process is put into the processing tank 103.
  (iii) It is immersed in the treatment tank 103 in an overflow state at a rate of 20 (liters / minute) for 15 minutes.
[0076]
  After such a series of water washing processes is completed, the semiconductor wafer is pulled up from the processing tank 103, dried in the drying unit 10H, and the number of particles having a particle diameter of 0.12 μm or more is examined. "Met.
[0077]
  Comparative Example 2
  After the functional water washing type substrate water washing apparatus of FIG. 10 is arranged at the position of the processing unit 10D, the chemical processing by CARO is performed on the 8-inch semiconductor wafer (substrate) by the first chemical processing unit (CARO processing unit) 10B. It conveyed to this board | substrate water washing apparatus, and the water washing process was carried out in the following procedure.
[0078]
  (i) After supplying pure water to the processing tank 203 and storing the pure water in the processing tank 203, the pure water supply is continued to be in an overflow state.
  (ii) putting the semiconductor wafer subjected to the CARO process into the processing tank 203;
  (iii) The overflow condition is continued for 1 minute at a rate of 20 (liters / minute).
  (iv) supplying pure water at a rate of 15 (liters / minute) from the shower nozzle 210 while rapidly draining;
  (v) When the pure water is drained from the treatment tank 203, the rapid drainage is stopped again, and after the pure water is stored in the treatment tank 203, the pure water supply is continued to be in an overflow state.
  (vi) The processes (iii) to (v) are repeated 5 times.
[0079]
  After such a series of water washing processes is completed, the semiconductor wafer is pulled up from the processing tank 203, dried in the drying unit 10H, and the number of particles having a particle diameter of 0.12 μm or more is examined. "Met.
[0080]
  The table below summarizes the processing time, the amount of pure water used, and the particle level after processing in the examples, comparative examples 1 and 2 described above, from the substrate loading to the completion of the water washing process.
[0081]
[Table 1]
Figure 0003682168
[0082]
  As is clear from the table, according to the example, the semiconductor wafer can be cleaned in a shorter time with a smaller amount of pure water used, and an excellent effect is obtained with respect to Comparative Example 1 and Comparative Example 2. It is done. In addition, even if the particle levels after treatment are compared, although the amount of pure water used and the treatment time are less than those of the comparative example, according to the example, the particle level can be reduced and more precise water washing can be achieved. It is clear that an effect is obtained.
[0083]
【The invention's effect】
  As aboveThisAccording to the substrate processing apparatus of the present invention, the shower rinsing processing unit is disposed above the chemical processing unit, and pure water is supplied in a shower form to the plurality of substrates subjected to the chemical processing by the chemical processing unit. As a result, the substrate can be cleaned in a short time with a smaller amount of pure water used, and the shower rinsing unit is superposed above the chemical processing unit. Only the floor area occupied by the substrate processing apparatus can be reduced.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a plan view showing a substrate processing apparatus to which an embodiment of a substrate water washing method according to the present invention can be applied.
FIG. 2 is a view of a shower water washing treatment unit as viewed from an upper front position.
3 is a schematic cross-sectional view showing the overall configuration of the shower water washing treatment section of FIG. 2;
FIG. 4 is a cutaway front view showing another embodiment of the substrate processing apparatus to which the substrate washing method according to the present invention can be applied.
5 is a side view of the substrate processing apparatus of FIG. 4. FIG.
FIG. 6 is a view showing an opening / closing drive mechanism of an opening / closing member.
FIG. 7 is an enlarged cross-sectional view of a butting portion of the opening / closing member.
FIG. 8 is an enlarged cross-sectional view showing a modified example of the butting portion of the opening / closing member.
FIG. 9 is a diagram showing an overflow type substrate washing apparatus.
FIG. 10 is a diagram showing a functional water washing type substrate washing apparatus.
[Explanation of symbols]
  1 Processing unit
  10B, 10C Chemical solution processing unit (CARO processing unit)
  10D shower rinsing section
  20 Handling mechanism
  21 Arm member
  22 Lifter body
  40 Partition member
  40a, 40b Opening / closing member
  50 processing chamber
  301 treatment tank
  W substrate

Claims (8)

複数の基板を薬液によって薬液処理する薬液処理部と、
前記薬液処理部の上方に、前記薬液処理部と重ねて配置され、前記薬液処理部によって薬液処理された複数の基板に対して純水をシャワー状に供給して基板表面の付着物を水洗除去するシャワー水洗処理部と、
前記薬液処理部と前記シャワー水洗処理部との間に配置された開閉自在な仕切部材と、
開成された前記仕切部材を通過して前記薬液処理部と前記シャワー水洗処理部との間で複数の基板を往復移動させるハンドリング部とを備え、
前記仕切部材は閉成することで前記薬液処理部と前記シャワー水洗処理部との間を仕切り、前記シャワー水洗処理部から前記薬液処理部に純水、および基板表面から脱落した付着物が侵入するのを規制する基板処理装置。
A chemical treatment unit for treating a plurality of substrates with a chemical, and
Overlying the chemical solution processing unit, the chemical solution processing unit is disposed over the chemical solution processing unit, and pure water is supplied in a shower form to the plurality of substrates subjected to the chemical solution treatment by the chemical solution processing unit to remove the deposits on the substrate surface by washing. And a shower rinsing section
An openable and closable partition member disposed between the chemical solution processing unit and the shower water washing processing unit,
A handling unit that reciprocally moves a plurality of substrates between the chemical solution processing unit and the shower water washing processing unit through the opened partition member;
The partition member is closed to partition the chemical solution processing unit and the shower rinsing processing unit, and pure water and deposits dropped from the substrate surface enter the chemical solution processing unit from the shower rinsing processing unit. board processor regulate the.
前記薬液処理部と、その上方に配置された前記シャワー水洗処理部と、前記仕切部材とが同一の処理チャンバ内に設けられ、
前記仕切部材が閉成されることで前記処理チャンバ内が前記薬液処理部と前記シャワー水洗処理部とに区分けされ、前記仕切部材が開成されることで前記薬液処理部及び前記シャワー水洗処理部との間で前記ハンドリング部により複数の基板を往復移動させることが可能となる請求項1に記載の基板処理装置。
The chemical solution processing unit, the shower rinsing processing unit arranged above, and the partition member are provided in the same processing chamber,
When the partition member is closed, the inside of the processing chamber is divided into the chemical solution processing unit and the shower water washing processing unit, and when the partition member is opened, the chemical solution processing unit and the shower water washing processing unit are provided. The substrate processing apparatus according to claim 1, wherein a plurality of substrates can be reciprocated by the handling unit between the two.
前記仕切部材は、一対の開閉部材の各端部が突き合わせられて閉成された状態から、当該各端部が上方への回動により観音開きして開成状態となると共に、これら一対の開閉部材はその上面が、前記互いに突き合わせられた各端部とは反対側の各基端部に向かうに連れて低くなる傾斜を有し、当該各基端部が、前記薬液処理部に設けられたオーバーフロー槽の外側まで延びた形状とされている請求項2に記載の基板処理装置。The partition member opens from the state where the ends of the pair of opening and closing members are abutted against each other, and the ends of the opening and closing are opened by turning upward, and the pair of opening and closing members is The upper surface has an inclination which becomes lower as it goes to each base end opposite to each of the ends abutted against each other, and each base end is provided in the chemical treatment section. The substrate processing apparatus according to claim 2, wherein the substrate processing apparatus has a shape extending to the outside. 前記仕切部材の上面の傾斜角度は5〜15゜である請求項に記載の基板処理装置。The substrate processing apparatus according to claim 3 , wherein an inclination angle of an upper surface of the partition member is 5 to 15 °. 前記処理チャンバの下方部には、前記仕切部材をなす一対の開閉部材によって前記オーバーフロー槽の外側まで導かれた前記シャワー水洗処理部からの純水を排出するドレイン配管が設けられている請求項3又は請求項4に記載の基板処理装置。 The drain pipe which discharges the pure water from the shower water washing processing part led to the outside of the overflow tank by a pair of opening-and-closing members which constitutes the partition member is provided in the lower part of the processing chamber. Or the substrate processing apparatus of Claim 4 . 前記薬液処理部は、アンモニア水と過酸化水素水との混合溶液を薬液として貯留する処理槽を有しており、
前記ハンドリング部によって前記処理槽中の薬液に基板を浸漬させて薬液処理する請求項1乃至請求項5のいずれかに記載の基板処理装置。
The chemical solution treatment unit has a treatment tank for storing a mixed solution of ammonia water and hydrogen peroxide solution as a chemical solution,
The substrate processing apparatus according to claim 1 , wherein the substrate is immersed in a chemical solution in the processing tank by the handling unit to perform chemical treatment.
前記薬液処理部は、塩酸と過酸化水素水との混合溶液を薬液として貯留する処理槽を有しており、
前記ハンドリング部によって前記処理槽中の薬液に基板を浸漬させて薬液処理する請求項1乃至請求項5のいずれかに記載の基板処理装置。
The chemical solution treatment unit has a treatment tank for storing a mixed solution of hydrochloric acid and hydrogen peroxide solution as a chemical solution,
The substrate processing apparatus according to claim 1 , wherein the substrate is immersed in a chemical solution in the processing tank by the handling unit to perform chemical treatment.
前記薬液処理部は、硫酸と過酸化水素水との混合溶液を薬液として貯留する処理槽を有しており、
前記ハンドリング部によって前記処理槽中の薬液に基板を浸漬させて薬液処理する請求項1乃至請求項5のいずれかに記載の基板処理装置。
The chemical solution treatment unit has a treatment tank for storing a mixed solution of sulfuric acid and hydrogen peroxide as a chemical solution,
The substrate processing apparatus according to claim 1 , wherein the substrate is immersed in a chemical solution in the processing tank by the handling unit to perform chemical treatment.
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