JP2578397B2 - 放電加工装置の電極制御方法及び装置 - Google Patents
放電加工装置の電極制御方法及び装置Info
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- JP2578397B2 JP2578397B2 JP6000932A JP93294A JP2578397B2 JP 2578397 B2 JP2578397 B2 JP 2578397B2 JP 6000932 A JP6000932 A JP 6000932A JP 93294 A JP93294 A JP 93294A JP 2578397 B2 JP2578397 B2 JP 2578397B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、放電加工装置の電極制
御方法及び装置に関し、とくに該電極のレシプロ運動に
おける制御方法およびその方法を実施するための制御装
置に関するものである。
御方法及び装置に関し、とくに該電極のレシプロ運動に
おける制御方法およびその方法を実施するための制御装
置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】放電加工において、加工電極と被加工物
との間の間隙（極間間隙）に滞留しやすい加工粉の排出
を図るとともに、異常アークの発生を防止し、加工を能
率的に行う目的で、加工電極（以下、電極という）を上
下にレシプロ運動させる方法が従来から多く採用されて
いる。
との間の間隙（極間間隙）に滞留しやすい加工粉の排出
を図るとともに、異常アークの発生を防止し、加工を能
率的に行う目的で、加工電極（以下、電極という）を上
下にレシプロ運動させる方法が従来から多く採用されて
いる。
【０００３】図８はこのようなレシプロ運動を行う従来
の電極制御装置の構成を示すブロック図である。図にお
いて、１は電極、２は被加工物、３は電極１が取り付け
られた主軸クイル、４は加工ヘッド、５は電極１に上下
のレシプロ運動を行なわしめるためのボールネジ、６は
ボールネジ５の駆動用サーボモータ、７は電極１の位置
検出のためのエンコーダ、８は加工用電源で、極間間隙
に放電パルスを供給する。９は入力端子の一方が加工用
電源８の出力端子に接続され、他方は基準電圧Ｖ1 を入
力するよう接続されている演算増幅器、１０は演算増幅
器９の出力を増幅してサーボモータ６を駆動するサーブ
アンプで、ゲインは可変となっている。１１は加工中ゲ
イン設定器である。１２は位置カウンタで、位置検出エ
ンコーダ７からの信号を受け、積算することにより電極
１の現在位置を把握できる。１３は位置記憶装置で、定
時引上制御装置１４の信号を受け、位置カウンタ１２の
内容を記憶する。１５は一致検出装置で、位置カウンタ
１２と位置記憶装置１３とが接続され、両者の値が一致
した時、出力パルスＤが定時引上制御装置１４に加えら
れるようになっている。なお、定時引上制御装置１４の
出力は図中の符号Ａ，Ｂ，Ｃ，ＥおよびＦで示される各
信号である。
の電極制御装置の構成を示すブロック図である。図にお
いて、１は電極、２は被加工物、３は電極１が取り付け
られた主軸クイル、４は加工ヘッド、５は電極１に上下
のレシプロ運動を行なわしめるためのボールネジ、６は
ボールネジ５の駆動用サーボモータ、７は電極１の位置
検出のためのエンコーダ、８は加工用電源で、極間間隙
に放電パルスを供給する。９は入力端子の一方が加工用
電源８の出力端子に接続され、他方は基準電圧Ｖ1 を入
力するよう接続されている演算増幅器、１０は演算増幅
器９の出力を増幅してサーボモータ６を駆動するサーブ
アンプで、ゲインは可変となっている。１１は加工中ゲ
イン設定器である。１２は位置カウンタで、位置検出エ
ンコーダ７からの信号を受け、積算することにより電極
１の現在位置を把握できる。１３は位置記憶装置で、定
時引上制御装置１４の信号を受け、位置カウンタ１２の
内容を記憶する。１５は一致検出装置で、位置カウンタ
１２と位置記憶装置１３とが接続され、両者の値が一致
した時、出力パルスＤが定時引上制御装置１４に加えら
れるようになっている。なお、定時引上制御装置１４の
出力は図中の符号Ａ，Ｂ，Ｃ，ＥおよびＦで示される各
信号である。
【０００４】図９は上記定時引上制御装置１４の構成を
示すブロック図であり、図において、２０は基準発振
器、２１および２２はＡＮＤ素子、２３および２８はカ
ウンタであり、基準発振器２０の出力クロックをカウン
トする。２５は主軸上昇時限設定回路、２４はマグニチ
ュード・コンパレータで、入力端子にはカウンタ２３と
主軸上昇時限設定回路２５の出力が接続されている。同
様に、２９はマグニチュード・コンパレータ、３０は下
降及び加工時限設定回路である。
示すブロック図であり、図において、２０は基準発振
器、２１および２２はＡＮＤ素子、２３および２８はカ
ウンタであり、基準発振器２０の出力クロックをカウン
トする。２５は主軸上昇時限設定回路、２４はマグニチ
ュード・コンパレータで、入力端子にはカウンタ２３と
主軸上昇時限設定回路２５の出力が接続されている。同
様に、２９はマグニチュード・コンパレータ、３０は下
降及び加工時限設定回路である。
【０００５】マグニチュード・コンパレータ２４，２９
の出力はＡＮＤ素子２６，３１を通してそれぞれフリッ
プ・フロップ２７のセット端子Ｓおよびリセット端子Ｒ
に接続されている。フリップ・フロップ２７の出力Ｑ，
ｑはそれぞれＡＮＤ素子３１，２６，カウンタ２３，２
８およびＡＮＤ素子２２，２１に接続され、さらに出力
ＱはＡＮＤ素子３３に接続され、出力ｑはフリップ・フ
ロップ３２のセット端子Ｓに接続されている。フリップ
・フロップ３２のリセット端子Ｒには一致検出装置１５
の出力である信号Ｄが入力される。
の出力はＡＮＤ素子２６，３１を通してそれぞれフリッ
プ・フロップ２７のセット端子Ｓおよびリセット端子Ｒ
に接続されている。フリップ・フロップ２７の出力Ｑ，
ｑはそれぞれＡＮＤ素子３１，２６，カウンタ２３，２
８およびＡＮＤ素子２２，２１に接続され、さらに出力
ＱはＡＮＤ素子３３に接続され、出力ｑはフリップ・フ
ロップ３２のセット端子Ｓに接続されている。フリップ
・フロップ３２のリセット端子Ｒには一致検出装置１５
の出力である信号Ｄが入力される。
【０００６】次に上記電極制御装置の動作について、図
１０のタイミングチャートを参照しつつ説明する。図１
０の横軸は時刻を表わし、主軸位置は電極の位置を表わ
している。信号Ａは電源ストップ信号であり、それがハ
イレベルのときは極間間隙への電圧印加を停止する。信
号Ｂはサーボアンプ１０のゲイン変更信号で、通常加工
中は、加工中ゲイン設定器１１により設定されたゲイン
であるが、信号Ｂがハイレベルのときにはレシプロ運動
中ゲインに設定されることにより、レシプロ運動速度を
速くする。信号Ｃは位置記憶信号で、レシプロ運動開始
点の主軸位置を記憶するタイミングとなり、この信号を
位置記憶装置１３が受けると、位置カウンタ１２の内容
を一時記憶する。一致検出装置１５は、レシプロ運動が
開始された後、再び位置カウンタ１２と位置記憶装置１
３の内容を比較しそれが一致すれば信号Ｄのパルスを発
生する。信号Ｅはレシプロ運動の強制上昇信号である
が、図８、図９の構成例では、電源ストップ信号Ａによ
り極間電圧が零になるため特に必要はない。信号Ｆはレ
シプロ運動の強制下降信号であり、レシプロ運動の下降
から終了までの信号である。
１０のタイミングチャートを参照しつつ説明する。図１
０の横軸は時刻を表わし、主軸位置は電極の位置を表わ
している。信号Ａは電源ストップ信号であり、それがハ
イレベルのときは極間間隙への電圧印加を停止する。信
号Ｂはサーボアンプ１０のゲイン変更信号で、通常加工
中は、加工中ゲイン設定器１１により設定されたゲイン
であるが、信号Ｂがハイレベルのときにはレシプロ運動
中ゲインに設定されることにより、レシプロ運動速度を
速くする。信号Ｃは位置記憶信号で、レシプロ運動開始
点の主軸位置を記憶するタイミングとなり、この信号を
位置記憶装置１３が受けると、位置カウンタ１２の内容
を一時記憶する。一致検出装置１５は、レシプロ運動が
開始された後、再び位置カウンタ１２と位置記憶装置１
３の内容を比較しそれが一致すれば信号Ｄのパルスを発
生する。信号Ｅはレシプロ運動の強制上昇信号である
が、図８、図９の構成例では、電源ストップ信号Ａによ
り極間電圧が零になるため特に必要はない。信号Ｆはレ
シプロ運動の強制下降信号であり、レシプロ運動の下降
から終了までの信号である。
【０００７】図９において、基準発振器２０の出力はＡ
ＮＤ素子２１と２２に入力され、フリップ・フロップ２
７の出力ｑがハイレベルのときにはＡＮＤ素子２１のゲ
ートが開き、カウンタ２３にクロックが入力され積算さ
れる。主軸上昇時限設定回路２５にセットされている数
値は、マグニチュード・コンパレータ２４にてカウンタ
２３の出力と比較され、両者の値が一致するとマグニチ
ュード・コンパレータ２４の出力がＡＮＤ素子２６に入
力される。ＡＮＤ素子２６の他方の入力端子はフリップ
・フロップ２７のｑ出力が接続され、このときｑ出力は
ハイレベルのため、ＡＮＤ素子２６から出力され、フリ
ップ・フロップ２７がセットされることにより出力が反
転し、ＡＮＤ素子２６及び２１のゲートが閉じられる。
次に、ＡＮＤ素子２２及び３１のゲートが開くことによ
り、同様の動作がカウンタ２８、マグニチュード・コン
パレータ２９、下降及び加工時限設定回路３０にて行わ
れる。ここで、フリップ・フロップ２７の出力ｑは信号
Ｅとなり、主軸のレシプロ運動の上昇時間となり、サー
ボアンプ１０のゲインが決定されれば主軸上昇距離も決
まってくる。また、フリップ・フロップ２７の出力Ｑの
信号は、レシプロ運動の下降に転じた時から再び上昇に
転じるまでの時間となる。フリップ・フロップ３２のセ
ット端子Ｓには、フリップ・フロップ２７のｑ出力が入
力され、フリップ・フロップ３２のリセット端子Ｒに
は、一致検出装置１５の出力パルスである信号Ｄが入力
されることにより、フリップ・フロップ３２の出力Ｑは
レシプロ運動の開始から終了までを表わすことになり、
信号Ａ，Ｂとなる。ＡＮＤ素子３１の出力は信号Ｃとな
り、主軸上昇開始時のタイミングパルスとなる。また、
フリップ・フロップ２７のＱ出力およびフリップ・フロ
ップ３２のＱ出力はＡＮＤ素子３３に加えられ、ＡＮＤ
素子３３の出力は信号Ｆとなり、レシプロ運動の強制下
降時間となる。
ＮＤ素子２１と２２に入力され、フリップ・フロップ２
７の出力ｑがハイレベルのときにはＡＮＤ素子２１のゲ
ートが開き、カウンタ２３にクロックが入力され積算さ
れる。主軸上昇時限設定回路２５にセットされている数
値は、マグニチュード・コンパレータ２４にてカウンタ
２３の出力と比較され、両者の値が一致するとマグニチ
ュード・コンパレータ２４の出力がＡＮＤ素子２６に入
力される。ＡＮＤ素子２６の他方の入力端子はフリップ
・フロップ２７のｑ出力が接続され、このときｑ出力は
ハイレベルのため、ＡＮＤ素子２６から出力され、フリ
ップ・フロップ２７がセットされることにより出力が反
転し、ＡＮＤ素子２６及び２１のゲートが閉じられる。
次に、ＡＮＤ素子２２及び３１のゲートが開くことによ
り、同様の動作がカウンタ２８、マグニチュード・コン
パレータ２９、下降及び加工時限設定回路３０にて行わ
れる。ここで、フリップ・フロップ２７の出力ｑは信号
Ｅとなり、主軸のレシプロ運動の上昇時間となり、サー
ボアンプ１０のゲインが決定されれば主軸上昇距離も決
まってくる。また、フリップ・フロップ２７の出力Ｑの
信号は、レシプロ運動の下降に転じた時から再び上昇に
転じるまでの時間となる。フリップ・フロップ３２のセ
ット端子Ｓには、フリップ・フロップ２７のｑ出力が入
力され、フリップ・フロップ３２のリセット端子Ｒに
は、一致検出装置１５の出力パルスである信号Ｄが入力
されることにより、フリップ・フロップ３２の出力Ｑは
レシプロ運動の開始から終了までを表わすことになり、
信号Ａ，Ｂとなる。ＡＮＤ素子３１の出力は信号Ｃとな
り、主軸上昇開始時のタイミングパルスとなる。また、
フリップ・フロップ２７のＱ出力およびフリップ・フロ
ップ３２のＱ出力はＡＮＤ素子３３に加えられ、ＡＮＤ
素子３３の出力は信号Ｆとなり、レシプロ運動の強制下
降時間となる。
【０００８】従来技術による電極のレシプロ運動は、加
工中にあらかじめ設定された一定周期毎のレシプロ運動
の開始命令が送られることによって行われ、レシプロ運
動の開始時点における主軸位置が記憶装置に読み込ま
れ、一定距離の引上げ動作の後、先の記憶装置に読み込
まれた位置まで電極は戻され、その時点から加工を再開
するようになっている。
工中にあらかじめ設定された一定周期毎のレシプロ運動
の開始命令が送られることによって行われ、レシプロ運
動の開始時点における主軸位置が記憶装置に読み込ま
れ、一定距離の引上げ動作の後、先の記憶装置に読み込
まれた位置まで電極は戻され、その時点から加工を再開
するようになっている。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】電極のレシプロ運動の
際における加工粉の排出、加工液の流れの様子を図１１
に従って説明すると、同図（ａ）に示すように、加工中
に生成される加工粉１６は、レシプロ運動の上昇時に同
図（ｂ）に示すように、新鮮な加工液１７の流れ込みに
より稀薄され、このため極間間隙の加工粉濃度は低下す
る。そして、レシプロ運動の下降時に同図（ｃ）に示す
ように、加工液と共に加工粉１６が排出される。このレ
シプロ運動による加工粉濃度はレシプロ運動開始前をρ
0 とし、レシプロ運動開始後をρ1 とし、レシプロ運動
開始前の間隙長をｌ0 ，レシプロ運動距離をｌ1 とする
と、次式で表わされる。
際における加工粉の排出、加工液の流れの様子を図１１
に従って説明すると、同図（ａ）に示すように、加工中
に生成される加工粉１６は、レシプロ運動の上昇時に同
図（ｂ）に示すように、新鮮な加工液１７の流れ込みに
より稀薄され、このため極間間隙の加工粉濃度は低下す
る。そして、レシプロ運動の下降時に同図（ｃ）に示す
ように、加工液と共に加工粉１６が排出される。このレ
シプロ運動による加工粉濃度はレシプロ運動開始前をρ
0 とし、レシプロ運動開始後をρ1 とし、レシプロ運動
開始前の間隙長をｌ0 ，レシプロ運動距離をｌ1 とする
と、次式で表わされる。
【００１０】
【数１】
【００１１】ここで、ｌ1 を大きくしても加工粉濃度は
あまり向上せず、またｌ1 を大きくするとレシプロ運動
の時間が長くなるため加工時間の損失となる。さらに、
加工中に生成した加工粉はレシプロ運動の上昇時に流れ
込む加工液中に均一に分散せず、一部の箇所に偏在する
ことが多い。また、レシプロ運動の下降時にも加工液の
流れ具合により加工粉が吹き溜りのように一部に偏在す
ることが多い。とくに電極の形状によりこのような現象
が発生する。この場合、従来のレシプロ運動では、レシ
プロ運動開始位置に戻るため、そこから加工を再開する
と加工粉の偏在により実質的に極間間隙が狭くなった時
点からの加工となるため、放電が微小地点に集中しやす
く、その結果異常アークへの移行確率が高くなり、十分
なレシプロ運動効果が得られないという問題があった。
あまり向上せず、またｌ1 を大きくするとレシプロ運動
の時間が長くなるため加工時間の損失となる。さらに、
加工中に生成した加工粉はレシプロ運動の上昇時に流れ
込む加工液中に均一に分散せず、一部の箇所に偏在する
ことが多い。また、レシプロ運動の下降時にも加工液の
流れ具合により加工粉が吹き溜りのように一部に偏在す
ることが多い。とくに電極の形状によりこのような現象
が発生する。この場合、従来のレシプロ運動では、レシ
プロ運動開始位置に戻るため、そこから加工を再開する
と加工粉の偏在により実質的に極間間隙が狭くなった時
点からの加工となるため、放電が微小地点に集中しやす
く、その結果異常アークへの移行確率が高くなり、十分
なレシプロ運動効果が得られないという問題があった。
【００１２】次に、レシプロ運動の上昇開始点におい
て、急激な極間間隙の体積変化に伴い、かなりの負圧が
発生する。また、レシプロ運動の下降終了点においては
逆に正圧が発生する。そのため電極の変形および振動を
引起こし、さらに機械自体にも変形および振動を引起こ
すことがあり、加工に移行する際にそれが安定するまで
時間がかかるということになる。このため加工効率の低
下および加工精度の劣化を招いていた。さらに、電極面
積が大きくなると、加工粉の偏在および電極の振動ある
いは偏位により加工面の平坦度を悪化させる要因ともな
っていた。
て、急激な極間間隙の体積変化に伴い、かなりの負圧が
発生する。また、レシプロ運動の下降終了点においては
逆に正圧が発生する。そのため電極の変形および振動を
引起こし、さらに機械自体にも変形および振動を引起こ
すことがあり、加工に移行する際にそれが安定するまで
時間がかかるということになる。このため加工効率の低
下および加工精度の劣化を招いていた。さらに、電極面
積が大きくなると、加工粉の偏在および電極の振動ある
いは偏位により加工面の平坦度を悪化させる要因ともな
っていた。
【００１３】そこで、本発明の目的は、第１に、加工粉
の排除能力を高め、加工粉の介在をできるだけ減少させ
るとともに、加工粉の偏在現象が発生しても異常アーク
への移行を抑制することにある。第２に、電極のレシプ
ロ運動に伴う該電極および機械等に対する変形、振動の
影響を軽減し、加工効率の向上および加工精度、殊に加
工面の平坦度の向上を図ることにある。
の排除能力を高め、加工粉の介在をできるだけ減少させ
るとともに、加工粉の偏在現象が発生しても異常アーク
への移行を抑制することにある。第２に、電極のレシプ
ロ運動に伴う該電極および機械等に対する変形、振動の
影響を軽減し、加工効率の向上および加工精度、殊に加
工面の平坦度の向上を図ることにある。
【００１４】
【課題を解決するための手段】本発明に係る放電加工装
置の電極制御方法は、放電加工中に加工用電源を一時停
止し、電極を強制上昇および強制下降のレシプロ運動を
させ、次いで該レシプロ運動の終了時に前記加工用電源
を復帰させて加工を再開するように制御する電極制御方
法において、前記電極を前記レシプロ運動の下降工程に
連続して短い第２のレシプロ運動をさせる工程と、前記
第２のレシプロ運動の下降時に加工を再開する工程とか
らなることを特徴とするものである。
置の電極制御方法は、放電加工中に加工用電源を一時停
止し、電極を強制上昇および強制下降のレシプロ運動を
させ、次いで該レシプロ運動の終了時に前記加工用電源
を復帰させて加工を再開するように制御する電極制御方
法において、前記電極を前記レシプロ運動の下降工程に
連続して短い第２のレシプロ運動をさせる工程と、前記
第２のレシプロ運動の下降時に加工を再開する工程とか
らなることを特徴とするものである。
【００１５】また、本発明の他の態様による放電加工装
置の電極制御方法は、前記レシプロ運動の下降工程にお
いて前記電極を急速に、次いで緩やかに下降させる工程
を有し、該レシプロ運動の開始位置より上方の緩やかな
下降の開始位置にて前記加工用電源を復帰させて加工を
再開するとともに、該加工用電源の放電パルスの休止時
間を所定の休止時間より長くして平均電流を加工時より
も低くする工程を含むことを特徴とする。
置の電極制御方法は、前記レシプロ運動の下降工程にお
いて前記電極を急速に、次いで緩やかに下降させる工程
を有し、該レシプロ運動の開始位置より上方の緩やかな
下降の開始位置にて前記加工用電源を復帰させて加工を
再開するとともに、該加工用電源の放電パルスの休止時
間を所定の休止時間より長くして平均電流を加工時より
も低くする工程を含むことを特徴とする。
【００１６】本発明に係る放電加工装置の電極制御装置
は、放電加工中に加工用電源を一時停止し、電極を強制
上昇および強制下降のレシプロ運動をさせ、次いで該レ
シプロ運動の終了時に前記加工用電源を復帰させて加工
を再開するように制御する定時引上制御装置を備えた電
極制御装置において、前記定時引上制御装置は、前記加
工用電源の停止期間中に前記レシプロ運動の下降工程に
連続して短い第２のレシプロ運動をするように電極の上
下動装置に指令する手段と、前記第２のレシプロ運動の
下降時に前記上下動装置のサーボゲインを加工中のサー
ボゲインに復帰させて前記加工用電源を再起動させる手
段とを備えたことを特徴とするものである。
は、放電加工中に加工用電源を一時停止し、電極を強制
上昇および強制下降のレシプロ運動をさせ、次いで該レ
シプロ運動の終了時に前記加工用電源を復帰させて加工
を再開するように制御する定時引上制御装置を備えた電
極制御装置において、前記定時引上制御装置は、前記加
工用電源の停止期間中に前記レシプロ運動の下降工程に
連続して短い第２のレシプロ運動をするように電極の上
下動装置に指令する手段と、前記第２のレシプロ運動の
下降時に前記上下動装置のサーボゲインを加工中のサー
ボゲインに復帰させて前記加工用電源を再起動させる手
段とを備えたことを特徴とするものである。
【００１７】また、本発明の他の態様による放電加工装
置の電極制御装置は、前記第２のレシプロ運動の開始時
から前記サーボゲインを復帰させることを特徴とする。
置の電極制御装置は、前記第２のレシプロ運動の開始時
から前記サーボゲインを復帰させることを特徴とする。
【００１８】本発明のさらに他の態様による放電加工装
置の電極制御装置は、放電加工中に加工用電源を一時停
止し、電極を強制上昇および強制下降のレシプロ運動を
させ、次いで該レシプロ運動の終了時に前記加工用電源
を復帰させて加工を再開するように制御する定時引上制
御装置を備えた電極制御装置において、前記定時引上制
御装置は、前記レシプロ運動の下降時において前記加工
電極を急速に、次いで緩やかに２段階に下降させる手段
と、前記レシプロ運動の開始位置より上方の緩やかな下
降の開始位置にて該レシプロ運動を終了させ、前記加工
用電源を復帰させ、かつ該加工用電源の放電パルスの休
止時間を所定の休止時間より長くして平均電流を加工時
よりも低くする手段を備えたことを特徴とする。
置の電極制御装置は、放電加工中に加工用電源を一時停
止し、電極を強制上昇および強制下降のレシプロ運動を
させ、次いで該レシプロ運動の終了時に前記加工用電源
を復帰させて加工を再開するように制御する定時引上制
御装置を備えた電極制御装置において、前記定時引上制
御装置は、前記レシプロ運動の下降時において前記加工
電極を急速に、次いで緩やかに２段階に下降させる手段
と、前記レシプロ運動の開始位置より上方の緩やかな下
降の開始位置にて該レシプロ運動を終了させ、前記加工
用電源を復帰させ、かつ該加工用電源の放電パルスの休
止時間を所定の休止時間より長くして平均電流を加工時
よりも低くする手段を備えたことを特徴とする。
【００１９】
【作用】本発明においては、第１のレシプロ運動の下降
工程において引き続き短い第２のレシプロ運動を行わせ
ることにより、加工粉の濃度が実質的に減少するととも
に、第２のレシプロ運動の下降時にサーボゲインを加工
中のゲインに変更して加工を再開するため、極間間隙が
広い時点からの再加工となり、加工粉の偏在があっても
異常アークへの移行を抑えることができる。
工程において引き続き短い第２のレシプロ運動を行わせ
ることにより、加工粉の濃度が実質的に減少するととも
に、第２のレシプロ運動の下降時にサーボゲインを加工
中のゲインに変更して加工を再開するため、極間間隙が
広い時点からの再加工となり、加工粉の偏在があっても
異常アークへの移行を抑えることができる。
【００２０】また、レシプロ運動の開始位置より上方の
緩やかな下降の開始位置にて加工中ゲインに変更して加
工を再開するとともに、加工用電源の放電パルスの休止
時間を長くして平均電流を低くすることにより、加工モ
ードを上記と同様にしたので、同様の作用効果が得られ
る。
緩やかな下降の開始位置にて加工中ゲインに変更して加
工を再開するとともに、加工用電源の放電パルスの休止
時間を長くして平均電流を低くすることにより、加工モ
ードを上記と同様にしたので、同様の作用効果が得られ
る。
【００２１】
【実施例】以下、本発明の実施例について図により説明
する。図１は本発明の要部である定時引上制御装置の第
１実施例を示すブロック図である。図１以下において、
従来例を示した図８、図９と同一部分は同一符号を付し
て説明は省略する。
する。図１は本発明の要部である定時引上制御装置の第
１実施例を示すブロック図である。図１以下において、
従来例を示した図８、図９と同一部分は同一符号を付し
て説明は省略する。
【００２２】この第１実施例は、主軸ないし電極のレシ
プロ運動に引き続いてそれよりも短い第２のレシプロ運
動を行わせるようにしたものである。図１において、４
０および４２はフリップ・フロップで、それぞれのセッ
ト端子Ｓにはフリップ・フロップ２７のｑ出力が接続さ
れている。フリップ・フロップ４２のリセット端子Ｒに
は一致検出装置１５の出力信号Ｄが接続され、フリップ
・フロップ４０のリセット端子Ｒには信号Ｄが遅延回路
４１を通して接続されている。ＡＮＤ素子４４の入力に
はフリップ・フロップ２７のＱ出力とフリップ・フロッ
プ４２のＱ出力が接続されている。
プロ運動に引き続いてそれよりも短い第２のレシプロ運
動を行わせるようにしたものである。図１において、４
０および４２はフリップ・フロップで、それぞれのセッ
ト端子Ｓにはフリップ・フロップ２７のｑ出力が接続さ
れている。フリップ・フロップ４２のリセット端子Ｒに
は一致検出装置１５の出力信号Ｄが接続され、フリップ
・フロップ４０のリセット端子Ｒには信号Ｄが遅延回路
４１を通して接続されている。ＡＮＤ素子４４の入力に
はフリップ・フロップ２７のＱ出力とフリップ・フロッ
プ４２のＱ出力が接続されている。
【００２３】図２は図１における信号Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，
ＥおよびＦのタイミングチャートである。フリップ・フ
ロップ２７のセットおよびリセット動作は従来例と同様
であるため説明を省略する。まず、フリップ・フロップ
２７のセット状態から説明する。このとき、フリップ・
フロップ４０，４２はリセット状態となっている。加工
時間が終了し、ＡＮＤ素子３１からパルスが出力される
と、フリップ・フロップ２７は反転し、ｑ出力はハイレ
ベルとなり、フリップ・フロップ４０および４２はセッ
ト状態に移る。これにより信号ＡおよびＢはハイレベル
となり、加工用電源８は停止され、サーボゲインはレシ
プロ運動時のゲインに変更される。また、信号Ｃは位置
記憶装置１３に送られ、レシプロ運動の開始点を記憶
し、主軸は強制上昇し、第１のレシプロ運動Ｒ1 に入
る。
ＥおよびＦのタイミングチャートである。フリップ・フ
ロップ２７のセットおよびリセット動作は従来例と同様
であるため説明を省略する。まず、フリップ・フロップ
２７のセット状態から説明する。このとき、フリップ・
フロップ４０，４２はリセット状態となっている。加工
時間が終了し、ＡＮＤ素子３１からパルスが出力される
と、フリップ・フロップ２７は反転し、ｑ出力はハイレ
ベルとなり、フリップ・フロップ４０および４２はセッ
ト状態に移る。これにより信号ＡおよびＢはハイレベル
となり、加工用電源８は停止され、サーボゲインはレシ
プロ運動時のゲインに変更される。また、信号Ｃは位置
記憶装置１３に送られ、レシプロ運動の開始点を記憶
し、主軸は強制上昇し、第１のレシプロ運動Ｒ1 に入
る。
【００２４】次に、ＡＮＤ素子２６からパルスが出力さ
れると、フリップ・フロップ２７は反転し、ＡＮＤ素子
４４から強制下降信号Ｆが発せられ、主軸は下降に移
る。主軸位置が位置記憶装置１３の値と一致すると、一
致検出装置１５から信号Ｄが出力され、フリップ・フロ
ップ４２をリセットする。これによりＡＮＤ素子４４は
再びローレベルに転じ、強制下降は終了するが、信号Ａ
は未だハイレベルの状態にあるので、極間間隙に電圧が
印加されていない。このため、極間間隙サーボ系に切り
換わると同時に主軸は上昇することになる。このときの
上昇速度は信号Ｂが未だハイレベルのため、レシプロ運
動と同じ速度となる。すなわち、主軸は上記の第１のレ
シプロ運動Ｒ1 に引き続いて第２のレシプロ運動Ｒ2 を
行うのである。
れると、フリップ・フロップ２７は反転し、ＡＮＤ素子
４４から強制下降信号Ｆが発せられ、主軸は下降に移
る。主軸位置が位置記憶装置１３の値と一致すると、一
致検出装置１５から信号Ｄが出力され、フリップ・フロ
ップ４２をリセットする。これによりＡＮＤ素子４４は
再びローレベルに転じ、強制下降は終了するが、信号Ａ
は未だハイレベルの状態にあるので、極間間隙に電圧が
印加されていない。このため、極間間隙サーボ系に切り
換わると同時に主軸は上昇することになる。このときの
上昇速度は信号Ｂが未だハイレベルのため、レシプロ運
動と同じ速度となる。すなわち、主軸は上記の第１のレ
シプロ運動Ｒ1 に引き続いて第２のレシプロ運動Ｒ2 を
行うのである。
【００２５】一方、信号Ｄは遅延回路４１を通って所定
の時間遅れをもってフリップ・フロップ４０のリセット
端子Ｒに入力され、信号Ａ，Ｂはローレベルとなり、第
２のレシプロ運動Ｒ2 の下降時、主軸は加工中ゲイン設
定器１１にて設定された加工中ゲインにて加工が再開さ
れる。このとき、主軸の位置はＡＮＤ素子３１から発せ
られた第１のレシプロ運動Ｒ1 の開始位置より上方にあ
り、加工が再開される時点では極間間隙が広くなってい
るため、前述のごとく加工粉が偏在しても異常アークへ
の移行を抑えることができる。また第１および第２のレ
シプロ運動終了時における加工粉濃度ρ1 ′は第２のレ
シプロ運動Ｒ2 の上昇距離をｌ2 とすると、次式（２）
となる。
の時間遅れをもってフリップ・フロップ４０のリセット
端子Ｒに入力され、信号Ａ，Ｂはローレベルとなり、第
２のレシプロ運動Ｒ2 の下降時、主軸は加工中ゲイン設
定器１１にて設定された加工中ゲインにて加工が再開さ
れる。このとき、主軸の位置はＡＮＤ素子３１から発せ
られた第１のレシプロ運動Ｒ1 の開始位置より上方にあ
り、加工が再開される時点では極間間隙が広くなってい
るため、前述のごとく加工粉が偏在しても異常アークへ
の移行を抑えることができる。また第１および第２のレ
シプロ運動終了時における加工粉濃度ρ1 ′は第２のレ
シプロ運動Ｒ2 の上昇距離をｌ2 とすると、次式（２）
となる。
【００２６】
【数２】
【００２７】また、従来のレシプロ運動では、同一時間
の上昇時間に換算すれば、次式（３）となる。
の上昇時間に換算すれば、次式（３）となる。
【００２８】
【数３】
【００２９】ここで、ｌ0 ，ｌ1 ，ｌ2 に具体的な数字
を入れて比較してみる。ｌ0 ＝１０μｍ，ｌ1 ＝１００
０μｍ，ｌ2 ＝３０μｍとすると、 ρ1 ′＝ρ0 ×０．００２４８ ρ1 ＝ρ0 ×０．００９６２ となり、本発明によるレシプロ運動の方が従来の約１／
４の加工粉濃度となることがわかる。
を入れて比較してみる。ｌ0 ＝１０μｍ，ｌ1 ＝１００
０μｍ，ｌ2 ＝３０μｍとすると、 ρ1 ′＝ρ0 ×０．００２４８ ρ1 ＝ρ0 ×０．００９６２ となり、本発明によるレシプロ運動の方が従来の約１／
４の加工粉濃度となることがわかる。
【００３０】なお、上記実施例では、第２のレシプロ運
動の上昇時間を遅延回路４１によって設定したが、この
値を可変に設定できるようにすると更に良い。本発明者
らの研究によれば、加工条件および加工液の粘性により
最適値が異なるが概ねｌ2 ＝１０〜３０μｍ程度の上昇
量となるように設定すると良い結果を得た。
動の上昇時間を遅延回路４１によって設定したが、この
値を可変に設定できるようにすると更に良い。本発明者
らの研究によれば、加工条件および加工液の粘性により
最適値が異なるが概ねｌ2 ＝１０〜３０μｍ程度の上昇
量となるように設定すると良い結果を得た。
【００３１】図３は同一電気条件において、本発明でｌ
2 ＝２０μｍに設定したときと従来例を比較したもので
ある。同図の縦軸は加工深さ、横軸は加工時間を示して
おり、本発明の効果が顕著に現れている。なお、電気条
件は、電流ピーク値を３Ａ，パルス幅を２０μsec ，休
止時間を６μsec とし、電極面積１２mm2 の銅電極を使
用したときの結果である。また、遅延回路４１の代わり
に位置管理にて実施しても同様の結果を得ることができ
る。
2 ＝２０μｍに設定したときと従来例を比較したもので
ある。同図の縦軸は加工深さ、横軸は加工時間を示して
おり、本発明の効果が顕著に現れている。なお、電気条
件は、電流ピーク値を３Ａ，パルス幅を２０μsec ，休
止時間を６μsec とし、電極面積１２mm2 の銅電極を使
用したときの結果である。また、遅延回路４１の代わり
に位置管理にて実施しても同様の結果を得ることができ
る。
【００３２】次に、図４は本発明の第２実施例を示すも
のである。この場合、フリップ・フロップ４０のＱ出力
からは加工用電源８の停止信号Ａのみが発せられ、サー
ボゲインの変更信号Ｂはフリップ・フロップ４２のＱ出
力から発せられるようになっている点が第１実施例と異
なるだけで、その他の構成は同様である。したがって、
図５の各信号Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，ＥおよびＦのタイミング
チャートからも理解されるように、第２のレシプロ運動
Ｒ2 の開始点においてサーボゲインがそれまでのレシプ
ロ運動用のサーボゲインから加工中のサーボゲインに復
帰させられ、加工が再開されるようになっている。
のである。この場合、フリップ・フロップ４０のＱ出力
からは加工用電源８の停止信号Ａのみが発せられ、サー
ボゲインの変更信号Ｂはフリップ・フロップ４２のＱ出
力から発せられるようになっている点が第１実施例と異
なるだけで、その他の構成は同様である。したがって、
図５の各信号Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，ＥおよびＦのタイミング
チャートからも理解されるように、第２のレシプロ運動
Ｒ2 の開始点においてサーボゲインがそれまでのレシプ
ロ運動用のサーボゲインから加工中のサーボゲインに復
帰させられ、加工が再開されるようになっている。
【００３３】この第２実施例における加工粉濃度ρ1 ′
は（２）式と同様であり、また従来のレシプロ運動の場
合、同一時間の上昇時間に換算すると、次式（４）とな
る。
は（２）式と同様であり、また従来のレシプロ運動の場
合、同一時間の上昇時間に換算すると、次式（４）とな
る。
【００３４】
【数４】
【００３５】ここで、ｎはレシプロ運動時のサーボゲイ
ンと加工中のサーボゲインの比である。いま、ｌ0 ，ｌ
1 ，ｌ2 ，ｎに具体的な数字を入れて比較してみる。ｌ
0 ＝１０μｍ，ｌ1 ＝１０００μｍ，ｌ2 ＝３０μｍ，
ｎ＝１０とすると、 ρ1 ′＝ρ0 ×０．００２４８ ρ1 ＝ρ0 ×０．００７６３ となり、この第２実施例の場合でも従来例の約１／３の
加工粉濃度となり、効果が大きいことがわかる。
ンと加工中のサーボゲインの比である。いま、ｌ0 ，ｌ
1 ，ｌ2 ，ｎに具体的な数字を入れて比較してみる。ｌ
0 ＝１０μｍ，ｌ1 ＝１０００μｍ，ｌ2 ＝３０μｍ，
ｎ＝１０とすると、 ρ1 ′＝ρ0 ×０．００２４８ ρ1 ＝ρ0 ×０．００７６３ となり、この第２実施例の場合でも従来例の約１／３の
加工粉濃度となり、効果が大きいことがわかる。
【００３６】次に、図６は本発明の第３実施例を示すも
のである。この第３実施例では、レシプロ運動の下降工
程において電極を急速に、次いで緩やかに下降させ、レ
シプロ運動開始点より上方の緩やかな下降の開始位置で
加工モードに変更し、かつ、再加工時から所定時間の間
は加工用電源に設定されている放電パルスの休止時間を
長くして平均電流を低くしたものである。このため、加
工用電源８の休止時間変更信号Ｈを発するワンショット
・マルチバイブレータ３４をフリップ・フロップ３２の
リセット端子Ｒに接続するとともに、一致検出装置１５
の出力信号Ｄを受けて所定時間その出力をハイレベルに
するように接続する。これにより加工用電源８は信号Ｈ
がハイレベルの間、所定の休止時間より長い休止時間に
変更する。３５は遅延回路で、ＡＮＤ素子３１の出力信
号を所定時間遅延させて信号Ｃを発する。
のである。この第３実施例では、レシプロ運動の下降工
程において電極を急速に、次いで緩やかに下降させ、レ
シプロ運動開始点より上方の緩やかな下降の開始位置で
加工モードに変更し、かつ、再加工時から所定時間の間
は加工用電源に設定されている放電パルスの休止時間を
長くして平均電流を低くしたものである。このため、加
工用電源８の休止時間変更信号Ｈを発するワンショット
・マルチバイブレータ３４をフリップ・フロップ３２の
リセット端子Ｒに接続するとともに、一致検出装置１５
の出力信号Ｄを受けて所定時間その出力をハイレベルに
するように接続する。これにより加工用電源８は信号Ｈ
がハイレベルの間、所定の休止時間より長い休止時間に
変更する。３５は遅延回路で、ＡＮＤ素子３１の出力信
号を所定時間遅延させて信号Ｃを発する。
【００３７】第３実施例の動作について図７の各信号
Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅ，ＦおよびＨのタイミングチャート
を参照しつつ説明する。フリップ・フロップ２７のセッ
ト状態から説明すれば、このときフリップ・フロップ３
２はリセット状態となっている。加工時間が終了し、Ａ
ＮＤ素子３１からパルスが出力されると、フリップ・フ
ロップ２７は反転し、フリップ・フロップ３２はセット
状態となる。これにより信号Ａ，Ｂ，Ｅは立上がり、そ
れぞれ極間間隙への放電パルスが停止され、サーボゲイ
ンが変更されて主軸は急速に引上げられる。一方、ＡＮ
Ｄ素子３１の出力パルスは遅延回路３５により時間遅れ
をもって信号Ｃとなる。信号Ｃの発生により位置カウン
タ１２の内容が位置記憶装置１３に読み込まれるが、既
に主軸は上昇を始めているため、途中における位置情報
を読み込む。
Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅ，ＦおよびＨのタイミングチャート
を参照しつつ説明する。フリップ・フロップ２７のセッ
ト状態から説明すれば、このときフリップ・フロップ３
２はリセット状態となっている。加工時間が終了し、Ａ
ＮＤ素子３１からパルスが出力されると、フリップ・フ
ロップ２７は反転し、フリップ・フロップ３２はセット
状態となる。これにより信号Ａ，Ｂ，Ｅは立上がり、そ
れぞれ極間間隙への放電パルスが停止され、サーボゲイ
ンが変更されて主軸は急速に引上げられる。一方、ＡＮ
Ｄ素子３１の出力パルスは遅延回路３５により時間遅れ
をもって信号Ｃとなる。信号Ｃの発生により位置カウン
タ１２の内容が位置記憶装置１３に読み込まれるが、既
に主軸は上昇を始めているため、途中における位置情報
を読み込む。
【００３８】次に、ＡＮＤ素子２６より主軸上昇時限の
終了信号が発せられると、従来例と同様に、主軸は下降
に転じ、一致検出装置１５から信号Ｄが発せられた時、
加工用電源８が復帰する。同時に、サーボゲインは加工
中ゲイン設定器１１にて設定されたゲインに復帰する。
また、信号Ｄが発せられると、ワンショット・マルチバ
イブレータ３４の出力がハイレベルとなり、加工用電源
８に作用して放電パルスの休止時間が所定の時間長くな
る。また、信号Ｄが発生した時の主軸位置は、ＡＮＤ素
子３１から発せられたレシプロ運動開始位置より上方に
あるため、極間間隙は広くなっており、したがって加工
粉が偏在しても異常アークになりにくい。さらに、加工
用電源８の放電パルスの休止時間を長くして平均電流を
低くしているため、極間間隙に堆積している加工粉に対
しても電流密度を低くすることができ、異常アークへの
移行を防止している。また、レシプロ運動の終了時にお
いても、極間間隙が広い時点においてサーボゲインが加
工中のゲインになるため、正圧による電極および機械の
変形、振動を抑えることができる。
終了信号が発せられると、従来例と同様に、主軸は下降
に転じ、一致検出装置１５から信号Ｄが発せられた時、
加工用電源８が復帰する。同時に、サーボゲインは加工
中ゲイン設定器１１にて設定されたゲインに復帰する。
また、信号Ｄが発せられると、ワンショット・マルチバ
イブレータ３４の出力がハイレベルとなり、加工用電源
８に作用して放電パルスの休止時間が所定の時間長くな
る。また、信号Ｄが発生した時の主軸位置は、ＡＮＤ素
子３１から発せられたレシプロ運動開始位置より上方に
あるため、極間間隙は広くなっており、したがって加工
粉が偏在しても異常アークになりにくい。さらに、加工
用電源８の放電パルスの休止時間を長くして平均電流を
低くしているため、極間間隙に堆積している加工粉に対
しても電流密度を低くすることができ、異常アークへの
移行を防止している。また、レシプロ運動の終了時にお
いても、極間間隙が広い時点においてサーボゲインが加
工中のゲインになるため、正圧による電極および機械の
変形、振動を抑えることができる。
【００３９】
【発明の効果】本発明は、以上の説明から明らかなよう
に、次のような効果を得ることができる。 （１）第１のレシプロ運動の下降工程に引き続いて短い
第２のレシプロ運動を行わせるように電極のレシプロ運
動を制御する構成となっているので、加工粉の排除能力
が向上し、実質的にその濃度を減少させることができ
る。 （２）第２のレシプロ運動の下降時に加工を再開するの
で、第１のレシプロ運動の開始位置より上方の位置から
再加工が行われ、極間間隙が広い時点からの再加工とな
るため、加工粉が偏在していても異常アークへの移行を
抑制することができる。 （３）加工再開時、加工用電源の放電パルスの休止時間
を長くして平均電流を低くしたので、極間間隙に堆積し
ている加工粉に対して電流密度が低くなり、異常アーク
への移行を抑制することができる。 （４）極間間隙に生じる負圧による影響を軽減すること
ができ、また、レシプロ運動の終了時においても正圧に
よる影響を軽減することができ、加工が安定し、加工精
度の向上および加工効率の向上を図ることができる。
に、次のような効果を得ることができる。 （１）第１のレシプロ運動の下降工程に引き続いて短い
第２のレシプロ運動を行わせるように電極のレシプロ運
動を制御する構成となっているので、加工粉の排除能力
が向上し、実質的にその濃度を減少させることができ
る。 （２）第２のレシプロ運動の下降時に加工を再開するの
で、第１のレシプロ運動の開始位置より上方の位置から
再加工が行われ、極間間隙が広い時点からの再加工とな
るため、加工粉が偏在していても異常アークへの移行を
抑制することができる。 （３）加工再開時、加工用電源の放電パルスの休止時間
を長くして平均電流を低くしたので、極間間隙に堆積し
ている加工粉に対して電流密度が低くなり、異常アーク
への移行を抑制することができる。 （４）極間間隙に生じる負圧による影響を軽減すること
ができ、また、レシプロ運動の終了時においても正圧に
よる影響を軽減することができ、加工が安定し、加工精
度の向上および加工効率の向上を図ることができる。
【図１】本発明の第１実施例のブロック図である。
【図２】図１における各信号のタイミングチャートであ
る。
る。
【図３】本発明と従来例との性能比較図である。
【図４】本発明の第２実施例のブロック図である。
【図５】図４における各信号のタイミングチャートであ
る。
る。
【図６】本発明の第３実施例のブロック図である。
【図７】図６における各信号のタイミングチャートであ
る。
る。
【図８】従来の放電加工装置のブロック図である。
【図９】図８の定時引上装置のブロック図である。
【図１０】図８における各信号のタイミングチャートで
ある。
ある。
【図１１】加工粉の排除および偏在現象を示す説明図で
ある。
ある。
１ 電極 ２ 被加工物 ３ 主軸クイル ４ ヘッド ５ ボールネジ ６ サーボモータ ７ 位置検出エンコーダ ８ 加工用電源 ９ 演算増幅器 １０ サーボアンプ １１ 加工中ゲイン設定器 １２ 位置カウンタ １３ 位置記憶装置 １４ 定時引上制御装置 １５ 一致検出装置 ２０ 基準発振器 ２１，２２ ＡＮＤ素子 ２３，２８ カウンタ ２４，２９ マグニチュード・コンパレータ ２５ 主軸上昇時限設定回路 ２６，３１ ＡＮＤ素子 ２７ フリップ・フロップ ３０ 下降および加工時限設定回路 ３１，３３ ＡＮＤ素子 ３２ フリップ・フロップ ３４ ワンショット・マルチバイブレータ ３５ 遅延回路 ４０，４２ フリップ・フロップ ４１ 遅延回路
Claims (5)
- 【請求項１】 放電加工中に加工用電源を一時停止し、
加工電極を強制上昇および強制下降のレシプロ運動をさ
せ、次いで該レシプロ運動の終了時に前記加工用電源を
復帰させて加工を再開するように制御する電極制御方法
において、 前記加工電極を前記レシプロ運動の下降工程に連続して
短い第２のレシプロ運動をさせる工程と、 前記第２のレシプロ運動の下降時に加工を再開する工程
とからなることを特徴とする放電加工装置の電極制御方
法。 - 【請求項２】 放電加工中に加工用電源を一時停止し、
加工電極を強制上昇および強制下降のレシプロ運動をさ
せ、次いで該レシプロ運動の終了時に前記加工用電源を
復帰させて加工を再開するように制御する定時引上制御
装置を備えた電極制御装置において、 前記定時引上制御装置は、前記加工用電源の停止期間中
に前記レシプロ運動の下降工程に連続して短い第２のレ
シプロ運動をするように加工電極の上下動装置に指令す
る手段と、 前記第２のレシプロ運動の下降時に前記上下動装置のサ
ーボゲインを加工中のサーボゲインに復帰させて前記加
工用電源を再起動させる手段とを備えたことを特徴とす
る放電加工装置の電極制御装置。 - 【請求項３】 前記第２のレシプロ運動の開始時から前
記サーボゲインを復帰させることを特徴とする請求項２
記載の放電加工装置の電極制御装置。 - 【請求項４】 放電加工中に加工用電源を一時停止し、
加工電極を強制上昇および強制下降のレシプロ運動をさ
せ、次いで該レシプロ運動の終了時に前記加工用電源を
復帰させて加工を再開するように制御する電極制御方法
において、 前記レシプロ運動の下降工程において前記加工電極を急
速に、次いで緩やかに下降させる工程を有し、該レシプ
ロ運動の開始位置より上方の緩やかな下降の開始位置に
て前記加工用電源を復帰させて加工を再開するととも
に、該加工用電源の放電パルスの休止時間を所定の休止
時間より長くして平均電流を加工時よりも低くする工程
を含むことを特徴とする放電加工装置の電極制御方法。 - 【請求項５】 放電加工中に加工用電源を一時停止し、
加工電極を強制上昇および強制下降のレシプロ運動をさ
せ、次いで該レシプロ運動の終了時に前記加工用電源を
復帰させて加工を再開するように制御する定時引上制御
装置を備えた電極制御装置において、 前記定時引上制御装置は、前記レシプロ運動の下降時に
おいて前記加工電極を急速に、次いで緩やかに２段階に
下降させる手段と、 前記レシプロ運動の開始位置より上方の緩やかな下降の
開始位置にて該レシプロ運動を終了させ、前記加工用電
源を復帰させ、かつ該加工用電源の放電パルスの休止時
間を所定の休止時間より長くして平均電流を加工時より
も低くする手段を備えたことを特徴とする放電加工装置
の電極制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6000932A JP2578397B2 (ja) | 1994-01-10 | 1994-01-10 | 放電加工装置の電極制御方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6000932A JP2578397B2 (ja) | 1994-01-10 | 1994-01-10 | 放電加工装置の電極制御方法及び装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06277948A JPH06277948A (ja) | 1994-10-04 |
| JP2578397B2 true JP2578397B2 (ja) | 1997-02-05 |
Family
ID=11487463
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6000932A Expired - Lifetime JP2578397B2 (ja) | 1994-01-10 | 1994-01-10 | 放電加工装置の電極制御方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2578397B2 (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54104097A (en) * | 1978-02-01 | 1979-08-15 | Inoue Japax Res Inc | Electrospark machining |
| JPS54147593A (en) * | 1978-05-10 | 1979-11-17 | Hitachi Seiko Ltd | Optimum control device for electric discharge machine |
-
1994
- 1994-01-10 JP JP6000932A patent/JP2578397B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06277948A (ja) | 1994-10-04 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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