JP2574704B2 - Bonding equipment - Google Patents

Bonding equipment

Info

Publication number
JP2574704B2
JP2574704B2 JP2115736A JP11573690A JP2574704B2 JP 2574704 B2 JP2574704 B2 JP 2574704B2 JP 2115736 A JP2115736 A JP 2115736A JP 11573690 A JP11573690 A JP 11573690A JP 2574704 B2 JP2574704 B2 JP 2574704B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
bonding
tape
electrode
tool
electrodes
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2115736A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH0414233A (en
Inventor
和徳 原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kaijo Corp
Original Assignee
Kaijo Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kaijo Corp filed Critical Kaijo Corp
Priority to JP2115736A priority Critical patent/JP2574704B2/en
Publication of JPH0414233A publication Critical patent/JPH0414233A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2574704B2 publication Critical patent/JP2574704B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies
    • H01L24/75Apparatus for connecting with bump connectors or layer connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
    • H01L2224/75Apparatus for connecting with bump connectors or layer connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • H01L2224/831Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector the layer connector being supplied to the parts to be connected in the bonding apparatus
    • H01L2224/83101Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector the layer connector being supplied to the parts to be connected in the bonding apparatus as prepeg comprising a layer connector, e.g. provided in an insulating plate member

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明はボンディング装置に関し、特に液晶パネル等
のガラス基板上の半透明電極とその液晶を駆動するドラ
イバ部品等の周辺部品とを異方性導電膜を介してボンデ
ィングするボンディング装置に関する。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a bonding apparatus, and more particularly, to anisotropically forming a semi-transparent electrode on a glass substrate such as a liquid crystal panel and peripheral components such as a driver component for driving the liquid crystal. The present invention relates to a bonding apparatus for bonding via a conductive film.

[背景技術] 従来、この種のボンディング接続はQFP(クワッド・
フラット・パッケージ)のような半導体集積回路のボン
ディングを半田付で行う場合と異なり、数十kg/cm2の加
圧荷重及び数百度の過熱が必要とされる。このボンディ
ング接続は第4図に示すように過熱されたボンディング
工具30(以下、ツールと呼ぶ)にて被ボンディング部品
に荷重が加えられツール自体の熱量及びツールに伝達さ
れる熱量によって過熱接続される。即ち、第4図に示す
ボンディング装置は図示せぬ昇降機構により被ボンディ
ング部品を加圧して過熱接続を行う断面略U字形状のツ
ール30と、このツール30をツール固定ネジ31により固定
保持する一対の電極32a,32bと、この電極32a,32bを支持
する絶縁部材33と、前記電極32a,32bに電流を供給する
一対のケーブル34a,34bとで構成されている。
[Background Art] Conventionally, this type of bonding connection has been
Unlike the case of bonding a semiconductor integrated circuit such as a flat package by soldering, a pressing load of several tens of kg / cm 2 and overheating of several hundred degrees are required. In this bonding connection, as shown in FIG. 4, a load is applied to a part to be bonded by a superheated bonding tool 30 (hereinafter, referred to as a tool), and the superheated connection is performed by the amount of heat of the tool itself and the amount of heat transmitted to the tool. . That is, the bonding apparatus shown in FIG. 4 includes a tool 30 having a substantially U-shaped cross section for pressurizing a part to be bonded by an elevating mechanism (not shown) and performing overheating connection, and a pair of tools 30 for fixing and holding the tool 30 with tool fixing screws 31. Of the electrodes 32a and 32b, an insulating member 33 for supporting the electrodes 32a and 32b, and a pair of cables 34a and 34b for supplying a current to the electrodes 32a and 32b.

上記構成よりなる装置において、被ボンディング部品
となる下面に電極の形成された接合部品5とガラス基板
1のパターン電極とが異方性導電膜3を介して加圧され
た過熱接続される。この過熱接続は前記ケーブル34a,34
bより電極32a,32bを経てツール30に電流が流れツール抵
抗部分にて発生するジュール熱により過熱圧接されるも
のである。
In the apparatus having the above-described configuration, a bonding component 5 having an electrode formed on the lower surface serving as a component to be bonded and a pattern electrode of the glass substrate 1 are connected to each other by pressurized heating through an anisotropic conductive film 3. This overheating connection is made with the cables 34a, 34
A current flows from b through the electrodes 32a and 32b to the tool 30, and the tool 30 is overheated and pressed by Joule heat generated in the tool resistance portion.

上記のような異方性導電膜によるボンディング接続に
ついて第5図及び第6図を用いて詳細に説明する。
The bonding connection using the anisotropic conductive film as described above will be described in detail with reference to FIGS.

第5図は液晶ディスプレイの単純マトリクスパネルの
構造を示す図であり、上下のガラス基板36,37の対向す
る面側にはストライプ状の複数のITO(indium−tin−ox
ide)電極36a,37aが形成されている。この電極36a,37a
は半透明電極であり、図示のような上部の基板にデータ
電極36a、下部の基板に走査電極37aが形成されている。
また、上下の基板36及び37間には液晶を注入する液晶封
入口40及び該液晶をシールするシール部41が設けられて
いる。
FIG. 5 is a view showing the structure of a simple matrix panel of a liquid crystal display. A plurality of stripe-like ITOs (indium-tin-ox) are provided on the facing surfaces of the upper and lower glass substrates 36 and 37.
ide) The electrodes 36a and 37a are formed. These electrodes 36a, 37a
Is a translucent electrode, in which a data electrode 36a is formed on an upper substrate and a scanning electrode 37a is formed on a lower substrate as shown.
Further, between the upper and lower substrates 36 and 37, a liquid crystal filling port 40 for injecting liquid crystal and a seal portion 41 for sealing the liquid crystal are provided.

図中液晶封入口40のある端子エリアを除く実装エリア
39の上記ITO端子との接続は、ポリイミドフィルム等で
形成されたテープ若しくは基板(以下、テープという)
に形成された電極と異方性導電膜を介して加圧して過熱
接着される。
Mounting area excluding terminal area with liquid crystal filling port 40 in the figure
The connection with the above-mentioned ITO terminal of 39 is a tape or substrate (hereinafter referred to as a tape) formed of a polyimide film or the like.
Is pressurized through the anisotropic conductive film and the electrode formed in the above step, and overheated.

この異方性導電膜は第6図に示すようなポリイミドフ
ィルム等よりなるテープ4に前記ガラス基板1上の電極
36a,37aに対応すべくストライプ状に複数形成された電
極5とガラス基板1上に形成された電極間に異方性導電
膜3を介して過熱圧着さるものであるが、この異方性導
電膜3は加圧された部分の厚み方向には導通であるが水
平方向には絶縁されているため容易に電気的に接続でき
るものである。
This anisotropic conductive film is applied to a tape 4 made of a polyimide film or the like as shown in FIG.
The electrodes 5 formed in a stripe shape corresponding to 36a and 37a and the electrodes formed on the glass substrate 1 are overheat-pressed through the anisotropic conductive film 3. The film 3 is conductive in the thickness direction of the pressurized portion but is insulated in the horizontal direction, so that it can be easily electrically connected.

[発明が解決しようとする課題] しかしながら、従来のようなボンディング装置で異方
性導電膜3を介して行うボンディング接続では以下のよ
うな欠点がある。
[Problems to be Solved by the Invention] However, the bonding connection performed through the anisotropic conductive film 3 by the conventional bonding apparatus has the following disadvantages.

即ち、 第1に、接合部品である電極5の形成されたポリイミ
ドフィルム等で形成されたテープ4は従来のような加圧
して過熱接着されるものでは、ポリイミドフィルム等で
形成されたテープ4が過熱されると収縮する傾向があ
り、電極間のピッチがずれる恐れがある。しかも、この
ボンディングは第5図は示すように実装エリア39を一度
にボンディングするので、1つの電極がずれると他の隣
接する電極も相対的に異積してずれるという欠点があ
る。このテープ4を介さないで直接電極および異方性導
電膜3を加圧して過熱接着する方法を採用するとツール
面が汚れる等の問題があるので、通常ポリイミドフィル
ム等で形成されたテープ4が一般的に用いられている。
That is, first, the tape 4 formed of a polyimide film or the like on which the electrodes 5 as the joining parts are formed is bonded by heat and pressurized as in the related art. If overheated, it tends to shrink and the pitch between the electrodes may shift. In addition, since this bonding bonds the mounting area 39 at a time as shown in FIG. 5, there is a disadvantage that if one electrode is shifted, the other adjacent electrodes are relatively differently shifted. If the method of directly heating the electrodes and the anisotropic conductive film 3 without using the tape 4 and applying the method of heating and bonding is used, there is a problem that the tool surface is stained. Therefore, the tape 4 formed of a polyimide film or the like is generally used. It is used regularly.

第2に、従来のものではツールボンディング面の熱分
布にばらつきが発生し、電極間のピッチの相対的なずれ
が発生し精度のよいボンディングができない欠点があ
る。
Second, the conventional method has a disadvantage in that the heat distribution on the tool bonding surface varies, and the pitch between the electrodes is relatively shifted, so that accurate bonding cannot be performed.

第3に、上記熱分布のばらつきによるツール30の膨張
にもばらつきが発生しツールボンディング面の平面度が
維持できなくなる恐れがあるという欠点がある。
Third, there is a drawback that the expansion of the tool 30 also varies due to the variation in the heat distribution, and the flatness of the tool bonding surface may not be maintained.

第4に、ツール30の過熱によりITO電極が形成された
周辺のパネル等にも熱影響を与え、ツール30の被ボンデ
ィング物に対する平行度を維持できないという欠点があ
る。
Fourthly, the overheating of the tool 30 also affects the peripheral panels and the like on which the ITO electrodes are formed, so that the parallelism of the tool 30 to the object to be bonded cannot be maintained.

第5に、従来の装置では完全に被ボンディング物を押
さえる前に過熱が始まるので、熱によるズレが発生する
欠点がある。逆に過熱前に被ボンディング物を押えた場
合には熱効率が悪くなり熱の立上がりが遅いという欠点
がある。
Fifth, in the conventional apparatus, since overheating starts before the object to be bonded is completely pressed down, there is a drawback that a shift due to heat occurs. Conversely, if the object to be bonded is held down before overheating, there is a drawback that the thermal efficiency deteriorates and the rise of heat is slow.

第6に、ツールボンディング面の加工精度が厳しく加
工が難しいという欠点がある。
Sixth, there is a disadvantage that the processing accuracy of the tool bonding surface is severe and processing is difficult.

第7に、形状の異なる品種の切換時にはツール30も変
更しなければならない欠点がある。
Seventh, there is a disadvantage that the tool 30 must be changed when switching between different types of shapes.

第8に、ツール30のボンディング面が変形するため定
期的に研磨する必要が起こるという欠点ある。
Eighth, there is a disadvantage that the bonding surface of the tool 30 is deformed, so that it is necessary to periodically polish the tool.

本発明は上記従来技術の欠点に鑑みなされたもので、
ポリイミドフィルム等のテープ面に形成された電極とガ
ラス基板上に形成された電極とを異方性導電膜を介して
行うボンディング接続であっても被ボンディング部品に
長時間の加熱を与えること無く精度のよいボンディング
接続を行うことのできるボンディング装置を提供するこ
とを目的とする。
The present invention has been made in view of the above-mentioned disadvantages of the prior art,
Accuracy without applying long-time heating to the parts to be bonded, even in bonding connection where electrodes formed on a tape surface such as a polyimide film and electrodes formed on a glass substrate are connected via an anisotropic conductive film. It is an object of the present invention to provide a bonding apparatus capable of performing good bonding connection.

[課題を解決するための手段] 本発明は、ストライプ状に複数の電極が所定間隔で形
成された基板と、前記電極各々に対応すべく複数の電極
がストライプ状に配置され可撓性を有し帯状に形成され
た媒体とについて、前記基板の電極と前記媒体の電極と
の接続を異方性導電膜を介して行うボンディング装置に
おいて、前記媒体の電極と前記基板上に形成された電極
とを位置決めした後、前記媒体に超音波発生手段により
前記媒体の厚み方向の超音波縦振動を印加して前記媒体
の電極と前記基板上の電極とを異方性導電膜を介して電
気的に接続するように構成したものである。
[Means for Solving the Problems] According to the present invention, there is provided a substrate having a plurality of electrodes formed in stripes at predetermined intervals, and a plurality of electrodes arranged in stripes corresponding to each of the electrodes to have flexibility. For a band-shaped medium, in a bonding apparatus for connecting the electrode of the substrate and the electrode of the medium via an anisotropic conductive film, the electrode of the medium and the electrode formed on the substrate, After positioning, the medium is subjected to ultrasonic longitudinal vibration in the thickness direction of the medium by ultrasonic wave generating means to electrically connect the electrode of the medium and the electrode on the substrate via the anisotropic conductive film. It is configured to be connected.

[実施例] 次に、本発明の実施例について図面を用いて詳細に説
明する。
Example Next, an example of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

第1図は本実施例に用いられるボンディング装置の正
面図であり、第2図は第1図の側面図、第3図は、第1
図の装置に組込まれたボンディングヘッドと被ボンディ
ング部品の一部拡大図である。なお、従来のものと同じ
構成及び機能を有するものについては同じ符号を用いて
説明する。
FIG. 1 is a front view of a bonding apparatus used in this embodiment, FIG. 2 is a side view of FIG. 1, and FIG.
FIG. 2 is a partially enlarged view of a bonding head and a part to be bonded incorporated in the apparatus shown in FIG. Note that components having the same configuration and function as those of the related art are described using the same reference numerals.

図において、ガラス基板1には液晶ディスプレイの透
明なITO電極36a,37aが形成されており、このガラス基板
1は装置本体に設けられたガラス基板受台2上に真空吸
着等の手段(図示せず)により吸着保持される。異方性
導電膜3は通常ポリイミドフィルム等で形成された可撓
性を有する帯状のテープ4上に形成された電極が貼付け
られて供給される。この電極はテープ4に貼付け若しく
は一体に形成される。この電極が形成されたテープ4は
第2図に示すようにガラス基板受台2の後方に配置され
た吸着アーム6で吸着できるように構成されている。こ
の吸着アーム6は装置本体に設けられたテープXY軸7、
このテープXY軸7上に載置されたテープθ軸8及びテー
プZ軸9とにより水平面(XY方向)への移動、回転方向
(θ方向)への回転及び上下方向(Z軸方向)への移動
ができる構成となっており、これにより吸着アーム6は
所定の位置でテープ4を吸着して位置検出のため所定の
位置で停止することができる。
In the figure, a transparent ITO electrode 36a, 37a of a liquid crystal display is formed on a glass substrate 1, and this glass substrate 1 is placed on a glass substrate receiving table 2 provided in the main body of the apparatus by means of vacuum suction or the like (not shown). )). The anisotropic conductive film 3 is supplied by attaching an electrode formed on a flexible strip-shaped tape 4 usually formed of a polyimide film or the like. This electrode is attached to the tape 4 or formed integrally. The tape 4 on which the electrodes are formed is configured to be able to be sucked by a suction arm 6 arranged behind the glass substrate receiving table 2 as shown in FIG. The suction arm 6 is provided with a tape XY axis 7 provided on the apparatus main body,
The movement in the horizontal plane (XY direction), the rotation in the rotation direction (θ direction), and the movement in the vertical direction (Z axis direction) are performed by the tape θ axis 8 and the tape Z axis 9 placed on the tape XY axis 7. The suction arm 6 sucks the tape 4 at a predetermined position and can stop at the predetermined position for position detection.

次に、テープ4が押さえられボンディングされるボン
ディングヘッドの機構を説明する。
Next, the mechanism of the bonding head for pressing and bonding the tape 4 will be described.

図において、装置本体上に固定されたフレーム10にガ
ラス基板受台2の上面と対向する側にX方向及びY方向
に移動可能なヘッドXYテーブル11が設けられている。こ
のヘッドXYテープル11を第2図図示の前方にはカメラ12
が搭載されている。このカメラ12はヘッドXYテーブル11
の移動によりガラス基板受台2上のガラス基板1とテー
プ4の位置を検出してテープ4側の位置補正を行うもの
である。ヘッドXYテーブル11の下部にはZ軸15が搭載さ
れ、このZ軸15によりZ軸方向に移動可能な可動部15a
が設けられている。この可動部15aはヘッドθ軸15bを支
持している。ヘッドθ軸15bの上端軸部15cにはヘッドXY
テーブル11より支承されたフレーム11aのフレーム軸に
揺動可能に支持された加圧アーム13の先端に回転可能な
ローラ13aが接離可能に設けられている。また、Z軸15
の前記ヘッドθ軸15bと反対側には加圧アーム13の他端
を付勢する加圧シリンダ14が設けられている。上記加圧
アーム13は可動部15a及びヘッドθ軸15bが矢印方向に可
動するとき、この加圧アーム13も追従して動作するよう
に構成するため、加圧シリンダ14には常時若しくはZ軸
15の駆動時の加圧アーム13が追従するのに必要な圧力が
供給されるように構成されている。Z軸15の可動部15a
が下降してボンディングツール16(以下、ツールと呼
ぶ)がテープ4に接触したとき、加圧シリンダ14にボン
ディング加圧が供給される。このとき、ボンディング加
圧が小さい場合には常にボンディング加圧が図示せぬ調
節機構により加えられる構成となっている。このツール
16のフランジ部は、ヘッドθ軸15bに支持固定され、ホ
ーン16aと振動子16bとで構成されている。このツール16
は振動子16bが図示せぬ発振器によって励振されて超音
波振動が発生してホーン16aにより増幅伝達されるよう
に構成される。このツール16は被ボンディング物の接合
部分の長さ分(ボンディング範囲分)ボンディング接続
できるような構成となっており、ボンディング部分に超
音波振動を印加することにより被ボンディング部品が過
熱されて接続される。このツール16に印加される超音波
振動の共振周波数等は発振器本体側で調整制御すること
ができるように構成されており、適宜最適な条件を選択
して設定できる。
In the figure, a head XY table 11 which is movable in the X and Y directions is provided on a side opposite to the upper surface of a glass substrate receiving table 2 on a frame 10 fixed on the apparatus main body. The head XY table 11 is attached with a camera 12 in front of FIG.
Is installed. This camera 12 has a head XY table 11
The position of the glass substrate 1 on the glass substrate receiving table 2 and the tape 4 is detected by the movement of the tape substrate 4, and the position of the tape 4 is corrected. A Z-axis 15 is mounted on the lower part of the head XY table 11, and the movable part 15a is movable by the Z-axis 15 in the Z-axis direction.
Is provided. The movable portion 15a supports the head θ-axis 15b. The head XY is attached to the upper end shaft 15c of the head θ-axis 15b.
A rotatable roller 13a is provided at the tip of a pressing arm 13 swingably supported on a frame shaft of a frame 11a supported by the table 11 so as to be capable of coming and going. In addition, Z axis 15
A pressure cylinder 14 for urging the other end of the pressure arm 13 is provided on the side opposite to the head θ-axis 15b. When the movable portion 15a and the head θ-axis 15b move in the direction of the arrow, the pressing arm 13 is also configured to operate following the pressing arm 13.
The pressure required for the pressurizing arm 13 to follow when the 15 is driven is supplied. Movable part 15a of Z axis 15
When the bonding tool 16 (hereinafter referred to as a tool) comes into contact with the tape 4 by lowering, the bonding pressure is supplied to the pressing cylinder 14. At this time, when the bonding pressure is small, the bonding pressure is always applied by an adjustment mechanism (not shown). This tool
The 16 flange portion is supported and fixed to the head θ-axis 15b, and includes a horn 16a and a vibrator 16b. This tool 16
The horn 16a is configured so that the vibrator 16b is excited by an oscillator (not shown) to generate ultrasonic vibrations and amplified and transmitted by the horn 16a. The tool 16 is configured so that bonding connection can be performed for the length of the bonding portion of the object to be bonded (for the bonding range), and by applying ultrasonic vibration to the bonding portion, the part to be bonded is overheated and connected. You. The resonance frequency and the like of the ultrasonic vibration applied to the tool 16 are configured to be adjusted and controlled on the oscillator main body side, and can be set by selecting optimal conditions as appropriate.

以上のような構成を有する装置の作用について説明す
る。
The operation of the device having the above configuration will be described.

まず、ヘッドXYテーブル11を移動させてカメラ12によ
りガラス基板1とテープ4の位置を撮像する。このカメ
ラ12により撮像されるテープ4とガラス基板1上には予
めカメラ側に位置検出用のマークが形成されている(但
し、テープのカメラ側にマークを入られない場合にはカ
メラをテープの下側に配置する構成とする。)ので、こ
のマークを検出し吸着アーム6でテープ4を吸着しなが
らテープXY軸7、テープθ軸8等によりテープ4とガラ
ス基板1上の電極が一致するように位置補正(XY方向及
びθ回転方向)を行い、第3図に示すように位置までテ
ープZ軸9が移動し重ね合わた状態で待機する。次に、
Z軸15の駆動軸が下降しツール16のホーン16aの先端が
テープ4に接触したとき加圧シリンダ14の作用によりボ
ンディング加圧が供給される。このボンディング加圧
は、加圧シリンダ14により常時若しくはZ軸駆動軸に加
圧アーム13がフレーム11aのフレーム軸を中心として追
従できるような付勢力が付与されているので、加圧アー
ム13も追従して動作することにより付与される。この加
圧された状態にてツール16に超音波振動が印加されてテ
ープ4の上面より異方性導電膜を介して超音波振動によ
るボンディング接続が行なわれる。
First, the head XY table 11 is moved, and the camera 12 captures images of the positions of the glass substrate 1 and the tape 4. On the tape 4 and the glass substrate 1 which are imaged by the camera 12, marks for position detection are formed in advance on the camera side (however, if a mark cannot be made on the camera side of the tape, the camera is moved to the tape side). Since the mark is detected and the suction arm 6 sucks the tape 4, the tape 4 and the electrode on the glass substrate 1 coincide with each other by the tape XY axis 7 and the tape θ axis 8. The position correction (XY direction and θ rotation direction) is performed as described above, and the tape Z-axis 9 moves to the position as shown in FIG. next,
When the drive shaft of the Z-axis 15 moves down and the tip of the horn 16a of the tool 16 comes into contact with the tape 4, the bonding pressure is supplied by the action of the pressure cylinder 14. In this bonding pressurization, the urging force is applied by the pressurizing cylinder 14 so that the pressurizing arm 13 can follow the Z axis drive shaft around the frame axis of the frame 11a. It is given by operating. Ultrasonic vibration is applied to the tool 16 in this pressurized state, and bonding connection by ultrasonic vibration is performed from the upper surface of the tape 4 via the anisotropic conductive film.

上記ボンディング接続がなされた後は上記と逆の過程
をたどりもとの状態に戻る。
After the bonding connection is made, the process returns to the original state by following the reverse process.

本実施例よりなる装置ではガラス基板1とテープ4を
異方性導電膜を介してボンディングするのに必要な過熱
は超音波振動により、また、加圧は超音波振動及び加圧
アーム13等の手段により被ボンディング部品に加えられ
る。
In the apparatus according to the present embodiment, the superheat necessary for bonding the glass substrate 1 and the tape 4 via the anisotropic conductive film is caused by ultrasonic vibration, and the pressurization is performed by the ultrasonic vibration and the pressure arm 13 or the like. Added to the part to be bonded by means.

なお、本実施例におけるツール16に加えられる超音波
振動は、テープ4の厚み方向の縦振動を例として説明し
ているが、横振動により被ボンディング部品を接続する
ような構成としても良い。
Although the ultrasonic vibration applied to the tool 16 in the present embodiment has been described as an example of the longitudinal vibration in the thickness direction of the tape 4, it may be configured to connect the parts to be bonded by the lateral vibration.

[発明の効果] 以上説明したように本発明によれば、以下のような効
果がある。
[Effects of the Invention] As described above, the present invention has the following effects.

即ち、 第1に、本発明によれば超音波振動で被ボンディング
部品が過熱されるので熱分布のばらつきがなく、精度の
良いボンディングが行われる。
That is, first, according to the present invention, the parts to be bonded are overheated by the ultrasonic vibration, so that there is no variation in the heat distribution, and accurate bonding is performed.

第2に、本発明によれば超音波振動の印加される部分
のみが短時間で局部過熱されるので周囲への熱影響が少
ない。
Secondly, according to the present invention, only the portion to which the ultrasonic vibration is applied is locally heated in a short time, so that the influence on the surroundings is small.

第3に、本発明によれば被ボンディング物を完全に位
置決めして押えてから過熱されるので、押さえる前の熱
によるずれがない。
Third, according to the present invention, since the object to be bonded is heated after being completely positioned and pressed, there is no deviation due to the heat before pressing.

第4に、本発明によれば超音波振動が用いられるので
熱の立上がりが早く、短時間で過熱できるので、電極が
形成されたテープ状媒体に悪影響を及ぼすことがなく電
極間のピッチのずれ等が発生しない。
Fourth, according to the present invention, since ultrasonic vibration is used, heat rises quickly and can be overheated in a short time, so that there is no adverse effect on the tape-shaped medium on which the electrodes are formed, and the pitch between the electrodes is shifted. Etc. do not occur.

また、加える超音波振動は媒体の厚み方向の縦振動で
あるので、振動そのものによる媒体の面方向の歪み、従
って電極のずれが防止される。
Further, since the ultrasonic vibration to be applied is a longitudinal vibration in the thickness direction of the medium, distortion in the surface direction of the medium due to the vibration itself, and therefore, displacement of the electrode is prevented.

第5に、本発明によれば超音波振動を用いツール自体
の過熱を行わないため室温での調整又は装置外での研磨
等を行うことより平面度及び平行度が調整された状態を
ボンディング時にも容易に再現維持することが可能とな
る。
Fifth, according to the present invention, the state in which the flatness and the parallelism are adjusted by performing adjustment at room temperature or polishing outside the apparatus to prevent overheating of the tool itself by using ultrasonic vibration during bonding is performed. Can be easily reproduced and maintained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は本発明の一実施例であり、本発明に用いられる
ボンディング装置の正面図、第2図は第1図の側面図、
第3図は第1図の装置に組込まれたボンディングヘッド
と被ボンディング部品の一部拡大図、第4図は従来のボ
ンディング装置の構成の概略を示す図、第5図は液晶デ
ィスプレイの単純マトリクスパネルの構造を示す図、第
6図は異方性導電膜の接続原理を説明する図である。 1……ガラス基板、2……ガラス基板受台、3……異方
性導電膜、4……テープ、5……接合部品、6……吸着
アーム、7……テープXY軸、8……テープθ軸、9……
テープZ軸、10……フレーム、11……ヘッドXYテーブ
ル、12……カメラ、13……加圧アーム、14……加圧シリ
ンダ、15……Z軸、16……ボンディングツール、16a…
…ホーン、16b……振動子。
FIG. 1 is a front view of a bonding apparatus used in the present invention, and FIG. 2 is a side view of FIG.
FIG. 3 is a partially enlarged view of a bonding head and a part to be bonded incorporated in the apparatus of FIG. 1, FIG. 4 is a view schematically showing the structure of a conventional bonding apparatus, and FIG. 5 is a simple matrix of a liquid crystal display. FIG. 6 is a view showing the structure of the panel, and FIG. 6 is a view for explaining the connection principle of the anisotropic conductive film. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Glass substrate, 2 ... Glass substrate support, 3 ... Anisotropic conductive film, 4 ... Tape, 5 ... Joined parts, 6 ... Suction arm, 7 ... Tape XY axis, 8 ... Tape θ axis, 9 ...
Tape Z axis, 10 Frame, 11 Head XY table, 12 Camera, 13 Pressure arm, 14 Pressure cylinder, 15 Z axis, 16 Bonding tool, 16a
... horn, 16b ... vibrator.

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】ストライプ状に複数の電極が所定間隔で形
成された基板と、前記電極各々に対応すべく複数の電極
がストライプ状に配置され可撓性を有し帯状に形成され
た媒体とについて、前記基板の電極と前記媒体の電極と
の接続を異方性導電膜を介して行うボンディング装置で
あって、前記媒体の電極と前記基板上に形成された電極
とを位置決めした後、前記媒体に超音波発生手段により
前記媒体の厚み方向の超音波縦振動を印加して前記媒体
の電極と前記基板上の電極とを異方性導電膜を介して電
気的に接続するようにしたことを特徴とするボンディン
グ装置。
1. A substrate in which a plurality of electrodes are formed in a stripe at predetermined intervals, and a medium in which a plurality of electrodes are arranged in a stripe so as to correspond to each of the electrodes, and a flexible strip is formed. A bonding apparatus that performs connection between the electrode of the substrate and the electrode of the medium via an anisotropic conductive film, and after positioning the electrode of the medium and the electrode formed on the substrate, Ultrasonic longitudinal vibration in the thickness direction of the medium is applied to the medium by ultrasonic wave generating means to electrically connect an electrode of the medium and an electrode on the substrate via an anisotropic conductive film. A bonding apparatus.
JP2115736A 1990-05-07 1990-05-07 Bonding equipment Expired - Fee Related JP2574704B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2115736A JP2574704B2 (en) 1990-05-07 1990-05-07 Bonding equipment

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2115736A JP2574704B2 (en) 1990-05-07 1990-05-07 Bonding equipment

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0414233A JPH0414233A (en) 1992-01-20
JP2574704B2 true JP2574704B2 (en) 1997-01-22

Family

ID=14669811

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2115736A Expired - Fee Related JP2574704B2 (en) 1990-05-07 1990-05-07 Bonding equipment

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2574704B2 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005142537A (en) * 2003-10-15 2005-06-02 Bondotekku:Kk Longitudinal vibration bonding method and device
US7875138B2 (en) 2007-10-03 2011-01-25 Panasonic Corporation Adhesive tape applying apparatus and tape splicing method

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007274598A (en) * 2006-03-31 2007-10-18 Fujifilm Corp Imaging apparatus and photographing condition display method

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6325939A (en) * 1986-07-18 1988-02-03 Ricoh Co Ltd Mounting method of electronic part
JPS63177045U (en) * 1987-05-01 1988-11-16

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005142537A (en) * 2003-10-15 2005-06-02 Bondotekku:Kk Longitudinal vibration bonding method and device
US7875138B2 (en) 2007-10-03 2011-01-25 Panasonic Corporation Adhesive tape applying apparatus and tape splicing method

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0414233A (en) 1992-01-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20070084566A1 (en) Press-bonding apparatus and press-bonding method
KR100242740B1 (en) Heat bonding device
JP2018029172A (en) Crimping device
JP2574704B2 (en) Bonding equipment
JP2673596B2 (en) Bonding equipment
JP5297980B2 (en) Component crimping apparatus and component crimping method
JP3018919B2 (en) Bonding method and apparatus
JP2007115893A (en) Method and apparatus for thermocompression bonding
JP2007123344A (en) Liquid crystal display device
JPH11242236A (en) Pcb press-fixing device for liquid crystal panel
JP4847843B2 (en) Board mounting apparatus and board mounting method
CN109491111B (en) Component mounting device and method for manufacturing mounting substrate
JP3395592B2 (en) Electronic component mounting equipment
JP4197171B2 (en) Electronic component mounting machine
JPH08211401A (en) Thermocompression bonding method for terminal part of liquid crystal cell
JP2004145129A (en) Display device, method manufacturing the same, and apparatus for manufacture display device
KR100487581B1 (en) Bonding device of surface mounting equipment
JPH08114810A (en) Apparatus for producing liquid crystal panel and press bonding device
JPH11204579A (en) Apparatus and method of mounting electronic component
KR100431149B1 (en) A bonding device of chip on glass in Liquid Crystal Display
JP2007123343A (en) Method and system for thremo-compression
JP3313669B2 (en) Thermocompression bonding equipment
KR200306855Y1 (en) Bonding Equipment For Circuit Board And Anisotropic Conductive Film Of Flat Panel Display
JPH09186191A (en) Thermal pressure welding packaging method and apparatus
KR200266542Y1 (en) A bonding device of chip on glass in Liquid Crystal Display

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees