JP2559626B2 - 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 - Google Patents

半導体封止用エポキシ樹脂組成物

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JP2559626B2 JP1045348A JP4534889A JP2559626B2 JP 2559626 B2 JP2559626 B2 JP 2559626B2 JP 1045348 A JP1045348 A JP 1045348A JP 4534889 A JP4534889 A JP 4534889A JP 2559626 B2 JP2559626 B2 JP 2559626B2
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organopolysiloxane
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Description

【発明の詳細な説明】 [発明の技術分野] 発明は、低弾性,低熱膨張性、,耐ヒートショック性
に優れた電気,電子部品に好適に使用されるエポキシ樹
脂組成物に関する。
[従来の技術および発明が解決しようとする課題] 従来から、、ダイオード,トランジスタ,IC,LSIなど
の電子部品をエポキシ樹脂を用いて封止するパッケージ
ング方法が用いられてきた。この樹脂封止は、ガラス,
金属,セラミックを用いハーメチックシール方法に比較
して経済的に有利なため広く実用化されている。しかし
この樹脂封止は、トラスファー成形により素子を樹脂で
直接封止してしまうため、素子と樹脂との線膨張率の差
や熱応力によって、素子に歪みや破損が生じたり、ボン
ディング線が切断され、電気的導通不良を起こすなどの
問題があるため、素子に対する応力を小さくすることが
望まれている。特に近年、半導体素子の大型化,高集積
化に伴ってその要求はますます強くなっている。そこ
で、素子に対する応力を小さくするために硬化物(封止
用樹脂)の弾性率や線膨張率が低くなるように材料の工
夫がなれており、その低応力化の一方法として可撓性付
与剤を配合する方法が知られている。
しかし、従来知られているポリプロピレングリコール
ジグリシジルエーテルや長い側鎖を有するビスフェノー
ルA型エポキシ樹脂などの可撓性付与剤を配合した場合
には、低弾性率効果は認められるものの、同時にガラス
転移温度(Tg)が急激に降下するため、高温時の電気特
性が低下するという別な問題が生じている。
また、可撓性付与剤としてクレゾールノボラック型エ
ポキシ樹脂を不飽和二重結合を有するゴムで変性したも
のを使用する場合も弾性率を低下させることができが、
同時にガラス転移温度もかなり低下するという同様の問
題を有している(特開昭58−174416号,同60−8315
号)。
さらに、近年、耐熱性および耐湿性の向上もうたった
低応力化材として、シリコーンオイルを添加したエポキ
シ樹脂組成物が報告されてきている。しかし、シリコー
ンオイルが成形品上へブリードしたり、金型を汚染した
りする欠点がある。
したがって、本発明の目的は、高いガラス移転温度を
保持し、かつ優れた低弾性,低熱膨張性,耐ヒートショ
ック性を有する半導体装置やその他の電子回路部品の封
止樹脂として好適に使用される半導体封止用エポキシ組
成物を提供することにある。
[課題を解決するための手段] 本発明者等は、種々検討した結果、アリルグリシジル
エーテルにより変性したフェノール樹脂を、ハイドロジ
エンオルガノポリシロキサンと界面結合させて、オルガ
ノポリシロキサン粒子をエポキシ樹脂中で安定化させる
ことにより、上記目的が達成されることを知見した。
本発明は、上記知見によりなされたもので、エポキシ
樹脂(a)、必要に応じて添加するフェノール樹脂硬化
剤(以下(イ)と記す)、オルガノポリシロキサンを含
んだアリルグリシジルエーテル変性フェノール樹脂硬化
剤(g)を含むことを特徴とし、低弾性,低熱膨張性,
耐ヒートショック性に優れた半導体封止用エポイイ樹脂
組成物を提供するものである。
以下、本発明エポキシ樹脂組成物について詳述する。
本発明において、(a)エポキシ樹脂としては、特に
限定されず、通常知られている多官能エポキシ化合物、
例えば、ノボラック型エポキシ樹脂,ビスフェノールA
型エポキシ樹脂,脂環式エポキシ樹脂,グリシジルエス
テル系エポキシ樹脂,線状脂肪族エポキシ樹脂などが挙
げられる。上記エポキシ樹脂は、単独で用いても良く、
また2種以上の混合系にして用いても良い。上記エポキ
シ樹脂の中でも電気特性,耐熱性などの面からノボラッ
ク型エポキシ樹脂が好ましい。そのノボラック型エポキ
シ樹脂としては、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂
およびフェノールノボラック型エポキシ樹脂を挙げるこ
とができる。
上記エポキシ樹脂の好ましいエポキシ当量および軟化
点は、エポキシ樹脂の種類に応じて適宜選定される。例
えば、ノボラック型エポキシ樹脂としては、通常、エポ
キシ当量160〜250、軟化点50〜130℃のものが用いられ
ている。さらに、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂
では、エポキシ当量180〜210、軟化点60〜110℃のもの
が好ましく、フェノールノボラック型エポキシ樹脂で
は、エポキシ当量160〜250、軟化点60〜110℃のものが
好ましい。
本発明において、必要に応じて添加する(イ)フェノ
ール樹脂硬化剤としては、フェノール,o−クレゾール,m
−クレゾール,p−クレゾール,エチルフェノール,キシ
レノール類,p−tert−ブチルフェノール,オクチルフェ
ノール,ノニルフェノールなどのアルイル置換フェノー
ル類より選ばれた少なくとも1種類のフェノール化合物
と、ホルムアルデヒドとを反応せしめて調製した樹脂な
どが挙げられる。
本発明において、(b)アリルグリシジエーテル変性
フェノール樹脂硬化剤は、アリルグリシジルエーテルと
上記(イ)フェノール樹脂硬化剤とを反応して得られる
ものである。(イ)フェノール樹脂硬化剤のフェノール
性水酸基数1に対して、アリルグリシジルエーテルのエ
ポキシ数が0.02〜0.3になるように混合され、かつ触媒
の存在下、または、無存在下で反応させた反応物であ
る。
(イ)フェノール樹脂硬化剤のフェノール性水酸基数
(A)とアリルグリシジルエーテルのエポキシ基数
(B)の比が(B)/(A)=0.3より大きい場合、
(b)のフェノール性水酸基と(a)エポキシ樹脂との
架橋点が十分でなく、エポキシ樹脂組成物の強度が不足
となり、(B)/(A)=0.02より小さい場合、(d)
ハイドロジエンオルガノポリシロキサンと(b)のアリ
ル基の架橋点が十分でなく、マトリックス中のオルガノ
ポシロキサン粒子の安定性が悪い。
ところで、アリルグリシジルエーテルと(イ)フェノ
ール樹脂硬化剤との反応を促進する触媒として、イミダ
ゾールあるいはその誘導体、三級アミン系誘導体,ホス
フィン系誘導体などを使用することもできる。
本発明において、シリコーン化合物は、1分子中に珪
素原子に直結したビニル基を2個以上有するビニル基含
有オルガノポリシロキサン(c)、1分子中に珪素原子
に直結した水素原子を2個以上有するハイドロジエンオ
ルガノポリシロキサン(d)、1分子中にエポキシ基と
ポロキシアルキレン基を有するオルガノポリシロキサン
(e)、上記ビニル基含有オルガノポリシロキサン
(c)と上記ハイドロジエンオルガノポリシロキサン
(d)との反応用触媒である白金または白金化合物
(f)である。および、あらかじめ100〜200℃に加温し
た(b)アリルグリシジルエーテル変性フェノール樹脂
硬化剤とを反応させることより調製される。
上記オルガノポリシロキサン成分のうち、(c)ビニ
ル基含有オルガノポリシロキサンとしては、1分子中に
珪素原子に直結したビニル基を必ず2個以上有すること
が必要である。その理由は、ビニル基が2個未満のと
き、良好なシリコーン架橋物が生成されないからであ
る。
また、(d)ハイドロジエンオルガノポリシロキサン
としては、1分子中に珪素原子に直結した水素原子を2
個以上有するものであれば、その構造に特に制限はな
い。すなわち、直鎖状,分枝状,環状のいずれのハイド
ロジエンオルガノポリシロキサンでも良い。そして、上
記(d)成分の混合割合は、上記(c)成分の珪素原子
に直結したビニル基1当量に対して、珪素原子に直結し
た水素原子が0.75〜2.5当量を与えるのに十分な量であ
ることが好ましい。
また、(e)ポリオキシアルキレン基とエポキシ基の
両者を1分子中に有するオルガノポリシロキシサンとし
ては、ポリオキシアルキレン基が R1 aOC2H4OC3H6OcR2 (ここで、Rは2価の有機基、Rは水素原子または末端
封鎖基、aは0または1、bおよびcは0〜50(但し、
b+cは1〜100である。)で表示され、エポキシ基が
グリシジルエーテルあるいは樹脂式エポキシで代表さ
れ、1分子中にポリオキシアルキレン基とエポキシ基を
それぞれ1個以上を有するオルガノポリシロキサンが好
適である。
さらに、(f)触媒の白金または白金化合物としては
従来、ビニル基含有オルガノポリシロキサンとハイドロ
ジエンオルガノポリシロキサンとの付加反応用触媒とし
て、公知されているものでよく、メチルビニル環式シロ
キサン白金錯体、塩化白金酸,アルコール変性塩化白金
酸、塩化白金酸とオレフィンとの錯体、白金黒やアルミ
ナ,シリカなどの担体に白金を担持させたものが挙げら
れる。
前記のオルガノポリシロキサン(c),(d),
(e)および触媒(f)をあらかじめ100〜200℃で溶解
した(b)アリルグリシジルエーテル変性フェノール樹
脂中で反応させることにより、目的とするアルガノポリ
シロキサンを含んだフェノール樹脂硬化剤(g)を得る
ことができる。
オルガノポリシロキサン含有アリルグリシジルエーテ
ル変性フェノール樹脂硬化剤(g)の使用量は、エポキ
シ樹脂(a)のエポキシ基数(C)と(g)変性フェノ
ール樹脂硬化剤のフェノール性水酸基数(D)の比
(C)/(D)が、0.7〜1.5の範囲になるようにするの
が好ましい。これ以外の比では 、架橋密度が低下して、エポキシ樹脂組成物の強度が出
ない。さらに、必要に応じて、(イ)フェノール樹脂硬
化剤を適宜加えても何らさしつかえない。
本発明において、(c)〜(e)の全オルガノポリシ
ロキサンの添加量は、(全エポキシ樹脂+フェノール樹
脂硬化剤)100重量部に対して3〜50重量部であること
が好ましく、5〜40重量部であることがさらに好まし
い。すなわち、3重量部未満では弾性率の低下が少な
く、50重量部を超える場合はTg,機械的強度および高温
時電気特性の低下が大きい。
上記全オルガノポリシロキサン添加量の内分けは、ビ
ニル基含有オルガノポシロキサン(c)、ハイドロジエ
ンオルガノポリシロキサン(d)、および触媒である白
金または白金化合物(f)の合計量と、ポリオキシアル
キレン基とエポキシ基の両者を1分子中に有するオルガ
ノポリシロキサン(e)の量との重量比:〔(c)+
(d)+(f)〕/(e)が1〜20の範囲内になるよう
に配合するのが良い。この範囲内であれば、シリコーン
ゴム(シリコーン化合物)は、エポキシ樹脂マトリック
ス中に、その粒子同士が2次凝集することなく、しかも
粒径分布が0.1〜5μで、均一に分散させることができ
る。
上記重量比が1未満ではシリコーンゴムの分散には特
にメリットはなく、耐湿性や電気特性が低下する。ま
た、上記重量比が20を超えると、シリコーンゴムの分散
性が悪くなり、粒子同士の2次凝集を生じる。
本発明では、以上の必須成分の他に、必要に応じて各
種の配合剤、例えば、イミダゾール類,三級アミン類,
有機ホスフィン類,ジアザビシクロアルケン類などの硬
化促進剤、溶融シリカ,結晶シリカ,炭素カルシウムな
どの無機質充填剤、エポキシシラン,アミノシラン,ア
ルキルチタネートなどのカップリング剤、天然ワック
ス,合成ワックスなどの離型剤、三酸化アンチモン,五
酸化アンチモンなどの難燃剤、カーボンブラックなどの
着色剤を配合することもできる。
本発明において、組成物の製造には、特に制限はない
が、例えば、成分(a)〜(f),(イ)およびその他
の成分を配合し、ヘンシェルミキサーなどで混合して、
ロール,ニーダーなどにより70〜110℃で混練すること
により、目的とする優れた特性のエポキシ樹脂組成物を
得ることができる。
[実施例] 次に、本発明にエポキシ樹脂組成物を実施例に基づい
てさらに具体的に説明する。
以下、実施例および比較的に使用する配合成分および
原料を示す。
(a)エポキシ樹脂 (1)オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂
(エポキシ当量197、軟化点73℃) (2)臭素化フェノールノボラック型エポキシ樹脂
(エポキシ当量275、軟化点84℃) (イ)フェノール樹脂硬化剤 フェノールノボラック樹脂 (水酸基当量108、軟化点82℃) シリコーン化合物の原料成分 (c)平均組成式 で示されるビニル基含有オルガノポリシロキサン。
(d)平均組成式 で示されるハイドロジエンオルガノポリシロキサン。
(e)平均組成式 で示されるエポキシ基とポリオキシアルキレン基を有す
るオルガノポリシロキサン (f)上記(c)および(d)のオルガノポリシロキサ
ンを架橋反応させるに必要なメチルビニルシクロシロキ
サン白金錯体 実施例,比較例における試験方法 (1)機械的強度(曲げ強さ、曲げ弾性率) JISK6911に準じて、175℃、70kg/cm2、成形時間3分
の条件で得た成形品を、175℃で6時間アフターキュア
ーしたものについて測定した。
(2)線膨張係数、ガラス転移温度 15L×3W×4tmmの試験片を用いて、熱機械分析装置
(理学電気CN8098AI)により毎分2℃の速さで昇温した
ときの値を測定した。
(3)耐ヒートショック性 第1図に示すワッシャーを埋込んだ成形物を、−196
℃(5分)〜260℃(5分)の熱サイクルを繰返し加
え、樹脂クラックの発生率が50%になるサイクル数を示
した。
実施例1〜5 下記、第1表に示す原料組成(数値は重量部を表す)
で、以下に示すようにしてアリルグリシジルエーテル変
性フェノール樹脂(i),(ii),(iii)を合成し
た。
まず、撹拌機およびコンデンサーを取り付けた1セ
パラブルフラスコに、所定量のフェノール樹脂(OH当量
108、SP82)とトリフェニルホスフィンを入れ、窒素を
流しながら140℃に加熱して該フェノール樹脂を溶融し
た。そして、撹拌しながら、上記フェノール樹脂にアリ
ルグリコシジルエーテル(エポキシ当量98〜102、沸点1
54℃)を加えて、4時間反応させた。
反応終了後、ステンレス製のバッドに内容物を取り出
し、冷却したのち粉砕して目的のアリルグリシジルエー
テル変性フェノール樹脂硬化剤を得た。
続いて、下記第2表に示す原料組成(数値は重量部を
表す)で、以下に示すようにして、オルガノポリシロキ
サン含有アリルグリシジルエーテル変性フェノール樹脂
X,Y,Zを合成した。
まず、撹拌機およびコンデンサーを取り付けた1セ
パラブルフラスコに、所定量のアリルグリシジルエーテ
ル変性フェノール樹脂とトリフェニルホスフィンを入
れ、窒素を流しながら140℃に加熱して該フェノール樹
脂を溶融した。そして、撹拌しながら上記フェノール樹
脂に(c),(d),(e)の各オルガノポリシロキサ
ンおよび白金触媒(f)を加え、そのまま2時間反応さ
せた。反応終了後、ステンレス製のバットに内容物を取
り出し、冷却したのち粉砕して、目的のオルガノポリシ
ロキサン含有アリルグリシジルエーテル変性フェノール
樹脂を得た。なお、上記白金錯体(f)は、オルガノポ
リシロキサン(c)および(d)の全量に対して10ppm
の白金量になるように添加した。
次に、下記第3表の各配合成分を混合し、それを加熱
ロールにより混練した。次いで、冷却した後、粉砕し
て、半導体封止用エポキシ樹脂組成物を調整した。
これら各実施例の成形材料を175℃×3分間の成形条
件で試験片を作成し、175℃×6時間の硬化を行なった
後、諸特性を評価した。その結果を以下に示す比較例1
〜3の結果とともに下記第4表に記した。
比較例1,2 アリルグリシジルエーテル変性フェノール樹脂を使用
しない以外は、第3表に示す配合で、実施例1〜5と同
様の操作を行なった。
比較例3 第3表に示す配合で、実施例1〜5と同様の操作を行
なった。
[発明の効果] 本発明のエポキシ樹脂組成物は、高いガラス転移温度
を保持し、低弾性,低熱膨張性,耐ヒートショック性が
著しく改善されたものである。また、アリルグリシジル
エーテル変性フェノール樹脂は(d)ハイドロジエンオ
ルガノポリシロキサンと界面結合するため、オルガノポ
リシロキサン粒子は安定化し、また成形時の成形体表面
へのシリコーン化合物のブリードが著しく減少する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明においてヒートショック性を測定した時
の試験片の断面図を示す。 1……エポキシ樹脂組成物、 2……ワッシャー。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭54−37157(JP,A) 特開 昭60−13841(JP,A) 特開 平1−299816(JP,A) 特開 平1−113453(JP,A) 特開 平2−191659(JP,A)

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】(a)エポキシ樹脂 (b)フェノール樹脂硬化剤の水酸基数1に対してアリ
    ルグリシジルエーテルのエポキシ数が0.02〜0.3の範囲
    で反応して得られるアリルグリシジルエーテル変性フェ
    ノール樹脂硬化剤 (c)1分子中に珪素原子に直結したビニル基を2ケ以
    上有するビニル基含有オルガノポリシロキサン (d)1分子中に珪素原子に直結した水素原子を2ケ以
    上有するハイドロジエンオルガノポリシロキサン (e)1分子中にエポキシ基とポリオキシアルキレン基
    を有するオルガノポリシロキサン (f)白金または白金化合物触媒 からなる半導体封止用エポキシ樹脂組成物。
  2. 【請求項2】上記(c),(d),(e)および(f)
    を(b)中で反応して得られる(g)オルガノポリシロ
    キサン含有アリルグリシジルエーテル変性フェノール樹
    脂硬化剤と(a)エポキシ樹脂とからなる特許請求の範
    囲第1項に記載の半導体エポキシ樹脂組成物。
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