JP2558341Y2 - ビームプロファイルモニタ - Google Patents
ビームプロファイルモニタInfo
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- JP2558341Y2 JP2558341Y2 JP1991043947U JP4394791U JP2558341Y2 JP 2558341 Y2 JP2558341 Y2 JP 2558341Y2 JP 1991043947 U JP1991043947 U JP 1991043947U JP 4394791 U JP4394791 U JP 4394791U JP 2558341 Y2 JP2558341 Y2 JP 2558341Y2
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- ion beam
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- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本考案は、キャッチプレートに照
射されたイオンビームの形状および密度分布を検出する
ビームプロファイルモニタに関するものである。
射されたイオンビームの形状および密度分布を検出する
ビームプロファイルモニタに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】イオン注入装置は、拡散したい不純物を
イオン化し、この不純物イオンを磁界を用いた質量分析
法により選択的に取り出してイオンビームとし、このイ
オンビームを電界により加速してイオン照射対象物に照
射することで、イオン照射対象物内に不純物を注入する
ものである。
イオン化し、この不純物イオンを磁界を用いた質量分析
法により選択的に取り出してイオンビームとし、このイ
オンビームを電界により加速してイオン照射対象物に照
射することで、イオン照射対象物内に不純物を注入する
ものである。
【０００３】上記のイオンビームは、通常、ビーム走査
方式やメカニカル走査方式等によりイオン照射対象物の
全面に照射されるようになっているが、イオンビームが
不均一な密度分布でイオンを有していた場合には、イオ
ン照射対象物への不純物の注入量にバラツキを生じさせ
ることになると共に、イオン照射対象物の特定部分に過
剰な電荷を堆積させてチャージアップを生じさせる要因
になる。
方式やメカニカル走査方式等によりイオン照射対象物の
全面に照射されるようになっているが、イオンビームが
不均一な密度分布でイオンを有していた場合には、イオ
ン照射対象物への不純物の注入量にバラツキを生じさせ
ることになると共に、イオン照射対象物の特定部分に過
剰な電荷を堆積させてチャージアップを生じさせる要因
になる。
【０００４】従って、イオンビームは、一般に、イオン
照射対象物へ照射する前段階として、イオン照射対象物
の背面側に位置するキャッチプレートに照射され、この
キャッチプレートにおける照射面の密度分布がビームプ
ロファイルモニタにより検出され、この検出結果を基に
密度分布が調整されるようになっている。
照射対象物へ照射する前段階として、イオン照射対象物
の背面側に位置するキャッチプレートに照射され、この
キャッチプレートにおける照射面の密度分布がビームプ
ロファイルモニタにより検出され、この検出結果を基に
密度分布が調整されるようになっている。
【０００５】従来、上記のビームプロファイルモニタ
は、図５に示すように、キャッチプレートのＸ方向およ
びＹ方向に配設された例えば１５点の測定子５１ａ…か
らなるビーム電流検出部５１を有している。そして、こ
のビーム電流検出部５１は、図４に示すように、各測定
子５１ａ…にそれぞれ接続された抵抗器を有する抵抗回
路５２と、上記の各抵抗器をインターフェース回路５９
からの切換信号で順次切り換えるスイッチング回路５３
と、増幅回路５４とを介してオシロスコープ５５のＹ入
力側に接続されている。
は、図５に示すように、キャッチプレートのＸ方向およ
びＹ方向に配設された例えば１５点の測定子５１ａ…か
らなるビーム電流検出部５１を有している。そして、こ
のビーム電流検出部５１は、図４に示すように、各測定
子５１ａ…にそれぞれ接続された抵抗器を有する抵抗回
路５２と、上記の各抵抗器をインターフェース回路５９
からの切換信号で順次切り換えるスイッチング回路５３
と、増幅回路５４とを介してオシロスコープ５５のＹ入
力側に接続されている。
【０００６】また、オシロスコープ５５のＸ入力側に
は、ＤＡ変換回路５６を介して発振器５７の接続された
カウンタ回路５８が接続されている。このカウンタ回路
５８は、ＤＡ変換回路５６で三角波を形成させてオシロ
スコープ５５のＸ方向の掃引を行わせるようになってい
ると共に、インターフェース回路５９の切換信号の出力
タイミングを設定するようになっている。
は、ＤＡ変換回路５６を介して発振器５７の接続された
カウンタ回路５８が接続されている。このカウンタ回路
５８は、ＤＡ変換回路５６で三角波を形成させてオシロ
スコープ５５のＸ方向の掃引を行わせるようになってい
ると共に、インターフェース回路５９の切換信号の出力
タイミングを設定するようになっている。
【０００７】これにより、従来のビームプロファイルモ
ニタは、図５に示すように、Ｘ方向またはＹ方向の測定
子５１ａ…を順次切り換えて、各測定子５１ａ…から得
られた検出電圧をオシロスコープ５５に表示させること
で、イオンビーム６０のＸ方向およびＹ方向の密度分布
を検出できるようになっている。
ニタは、図５に示すように、Ｘ方向またはＹ方向の測定
子５１ａ…を順次切り換えて、各測定子５１ａ…から得
られた検出電圧をオシロスコープ５５に表示させること
で、イオンビーム６０のＸ方向およびＹ方向の密度分布
を検出できるようになっている。
【０００８】
【考案が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来のビームプロファイルモニタでは、測定子５１ａ…が
Ｘ方向およびＹ方向の線状に配設されているため、図６
に示すように、各測定子５１ａ…からの測定結果もＸ方
向およびＹ方向の線状に限定されることになる。
来のビームプロファイルモニタでは、測定子５１ａ…が
Ｘ方向およびＹ方向の線状に配設されているため、図６
に示すように、各測定子５１ａ…からの測定結果もＸ方
向およびＹ方向の線状に限定されることになる。
【０００９】従って、測定者は、オシロスコープ５５の
表示からイオンビーム６０の密度分布および幅を線状に
確認できるだけであり、測定者がイオンビーム６０の全
体的な密度分布や形状を把握する場合には、ビームプロ
ファイルモニタから得られたＸ方向およびＹ方向の密度
分布や幅を基にして全容を推測することが必要になる。
表示からイオンビーム６０の密度分布および幅を線状に
確認できるだけであり、測定者がイオンビーム６０の全
体的な密度分布や形状を把握する場合には、ビームプロ
ファイルモニタから得られたＸ方向およびＹ方向の密度
分布や幅を基にして全容を推測することが必要になる。
【００１０】そして、この推測による全容の把握は、測
定者に余計な負担をかけることになっていると共に、正
確さに欠けるものになっている。
定者に余計な負担をかけることになっていると共に、正
確さに欠けるものになっている。
【００１１】従って、本考案においては、面状に測定結
果を得ると共に表示させることで、イオンビーム６０の
全体的な把握を可能にし、上記の問題を解決することが
できるビームプロファイルモニタを提供することを目的
としている。
果を得ると共に表示させることで、イオンビーム６０の
全体的な把握を可能にし、上記の問題を解決することが
できるビームプロファイルモニタを提供することを目的
としている。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本考案のビームプロファ
イルモニタは、上記課題を解決するために、イオンビー
ムのイオン密度を複数の測定子を介して測定し、これら
測定結果を表示部に表示させて密度分布を確認させるも
のであり、下記の特徴を有している。
イルモニタは、上記課題を解決するために、イオンビー
ムのイオン密度を複数の測定子を介して測定し、これら
測定結果を表示部に表示させて密度分布を確認させるも
のであり、下記の特徴を有している。
【００１３】即ち、上記ビームプロファイルモニタは、
その測定子が複数列および複数行に等間隔で配置されて
おり、上記各測定子の出力を所定アドレス順に順次選択
する選択手段と、上記選択手段で選択された測定子の出
力を表示出力に演算する演算手段とを備え、上記表示部
は、演算手段からの出力を、上記測定子の配置状態と同
一の配置状態で表示し、上記演算手段はまた、各測定子
の出力が予め定める条件を満足していないときには、イ
ンターロック信号を出力することを特徴としている。
その測定子が複数列および複数行に等間隔で配置されて
おり、上記各測定子の出力を所定アドレス順に順次選択
する選択手段と、上記選択手段で選択された測定子の出
力を表示出力に演算する演算手段とを備え、上記表示部
は、演算手段からの出力を、上記測定子の配置状態と同
一の配置状態で表示し、上記演算手段はまた、各測定子
の出力が予め定める条件を満足していないときには、イ
ンターロック信号を出力することを特徴としている。
【００１４】
【作用】上記の構成によれば、イオンビームの密度分布
は、イオン密度を測定させる測定子が複数列および複数
行に等間隔で配置されているため、面状に測定されるこ
とになり、これらの測定結果は、測定子の配置状態と同
一の配置状態で表示部に表示されることになる。従っ
て、ビームプロファイルモニタは、イオンビームの密度
分布が表示部に面状に表示されるため、イオンビームの
全体的な密度分布および形状を容易に且つ正確に認識さ
せることになると共に、イオンビームの全容を把握する
際の測定者の負担を軽減させることになる。また、各測
定子の出力が予め定める条件を満足していないとき、た
とえばチャージアップを生じる基準値を超えていたり、
照射面の大きさの基準値を超えていたりすると、インタ
ーロック信号が出力され、イオン照射対象物へのイオン
照射が自動的に禁止されることになる。これによって、
測定者の負担をさらに軽減することができる。
は、イオン密度を測定させる測定子が複数列および複数
行に等間隔で配置されているため、面状に測定されるこ
とになり、これらの測定結果は、測定子の配置状態と同
一の配置状態で表示部に表示されることになる。従っ
て、ビームプロファイルモニタは、イオンビームの密度
分布が表示部に面状に表示されるため、イオンビームの
全体的な密度分布および形状を容易に且つ正確に認識さ
せることになると共に、イオンビームの全容を把握する
際の測定者の負担を軽減させることになる。また、各測
定子の出力が予め定める条件を満足していないとき、た
とえばチャージアップを生じる基準値を超えていたり、
照射面の大きさの基準値を超えていたりすると、インタ
ーロック信号が出力され、イオン照射対象物へのイオン
照射が自動的に禁止されることになる。これによって、
測定者の負担をさらに軽減することができる。
【００１５】
【実施例】本考案の一実施例を図１ないし図３に基づい
て説明すれば、以下の通りである。
て説明すれば、以下の通りである。
【００１６】本実施例に係るビームプロファイルモニタ
は、図１に示すように、イオンビームの照射により電流
を生じるビーム電流検出部１を有している。このビーム
電流検出部１は、各々にアドレスＮｏ．が付された例え
ば直径２ｍｍの複数の測定子からなっており、これらの
測定子は、図２に示すように、キャッチプレート１２に
例えば７ｍｍピッチで１７行１７列の方形状に等間隔で
配設されている。
は、図１に示すように、イオンビームの照射により電流
を生じるビーム電流検出部１を有している。このビーム
電流検出部１は、各々にアドレスＮｏ．が付された例え
ば直径２ｍｍの複数の測定子からなっており、これらの
測定子は、図２に示すように、キャッチプレート１２に
例えば７ｍｍピッチで１７行１７列の方形状に等間隔で
配設されている。
【００１７】上記のキャッチプレート１２は、回転と共
に矢符方向に往復並進移動するディスク１３の背面側に
設けられており、ディスク１３がイオンビーム１４の通
過経路から退避した際に、イオンビーム１４が照射され
るようになっている。
に矢符方向に往復並進移動するディスク１３の背面側に
設けられており、ディスク１３がイオンビーム１４の通
過経路から退避した際に、イオンビーム１４が照射され
るようになっている。
【００１８】上記のビーム電流検出部１は、図１に示す
ように、抵抗回路２に接続されている。抵抗回路２は、
同一の抵抗値を有する複数の抵抗器からなっており、こ
れらの抵抗器は、一端がビーム電流検出部１の各測定子
にそれぞれ接続されている。
ように、抵抗回路２に接続されている。抵抗回路２は、
同一の抵抗値を有する複数の抵抗器からなっており、こ
れらの抵抗器は、一端がビーム電流検出部１の各測定子
にそれぞれ接続されている。
【００１９】また、各抵抗器は、他端がファラデー部に
接続されており、イオンビームの照射によって測定子か
ら電流が流れた際に、両端部間に照射量に応じた電位差
を生じさせるようになっている。
接続されており、イオンビームの照射によって測定子か
ら電流が流れた際に、両端部間に照射量に応じた電位差
を生じさせるようになっている。
【００２０】上記の抵抗回路２は、複数の入力端子を有
したスイッチング回路３に接続されている。このスイッ
チング回路３は、各入力端子にスイッチ部を介して接続
された共通出力端子を有しており、スイッチング回路３
の各入力端子には、上記の各抵抗器の一端部がそれぞれ
接続されていると共に、ファラデー部側の他端部が共通
に接続されている。また、このスイッチング回路３に
は、切換信号を出力する切換信号発生回路７が接続され
ており、スイッチング回路３は、切換信号に対応したア
ドレスＮｏ．の抵抗器に接続された入力端子と共通出力
端子との接続状態を切り換えるようになっている。
したスイッチング回路３に接続されている。このスイッ
チング回路３は、各入力端子にスイッチ部を介して接続
された共通出力端子を有しており、スイッチング回路３
の各入力端子には、上記の各抵抗器の一端部がそれぞれ
接続されていると共に、ファラデー部側の他端部が共通
に接続されている。また、このスイッチング回路３に
は、切換信号を出力する切換信号発生回路７が接続され
ており、スイッチング回路３は、切換信号に対応したア
ドレスＮｏ．の抵抗器に接続された入力端子と共通出力
端子との接続状態を切り換えるようになっている。
【００２１】上記のスイッチング回路３は、共通出力端
子が増幅回路４に接続されており、増幅回路４は、スイ
ッチング回路３で選択されたアドレスＮｏ．の抵抗器か
ら得られた検出電圧を所定の増幅率で増幅するようにな
っている。そして、この増幅回路４は、検出電圧のアナ
ログ値をデジタル値に変換して検出データ信号を出力す
るＡＤ変換器５を介してＣＰＵ（Central Processing U
nit)６に接続されている。
子が増幅回路４に接続されており、増幅回路４は、スイ
ッチング回路３で選択されたアドレスＮｏ．の抵抗器か
ら得られた検出電圧を所定の増幅率で増幅するようにな
っている。そして、この増幅回路４は、検出電圧のアナ
ログ値をデジタル値に変換して検出データ信号を出力す
るＡＤ変換器５を介してＣＰＵ（Central Processing U
nit)６に接続されている。
【００２２】一方、上述のスイッチング回路３に切換信
号を出力する切換信号発生回路７には、インターフェー
ス回路８を介してアドレス信号発生回路９が接続されて
いる。このアドレス信号発生回路９は、アドレスＮｏ．
を示すアドレス信号を所定時間単位で切り換えて出力す
るようになっており、このアドレス信号が入力される切
換信号発生回路７は、アドレス信号に対応した切換信号
を出力するようになっている。
号を出力する切換信号発生回路７には、インターフェー
ス回路８を介してアドレス信号発生回路９が接続されて
いる。このアドレス信号発生回路９は、アドレスＮｏ．
を示すアドレス信号を所定時間単位で切り換えて出力す
るようになっており、このアドレス信号が入力される切
換信号発生回路７は、アドレス信号に対応した切換信号
を出力するようになっている。
【００２３】また、アドレス信号発生回路９は、上述の
ＣＰＵ６にも接続されており、ＣＰＵ６には、アドレス
信号発生回路９からのアドレス信号とＡＤ変換器５から
の検出データ信号とが入力されるようになっている。こ
のＣＰＵ６は、ＬＣＤ（Liquid Crystal Display) およ
びＬＣＤコントローラ等からなる表示部１１に接続され
ていると共に、ＲＯＭ（Read Only Memory) およびＲＡ
Ｍ（Random Access Memory）からなるメモリ１０に接続
されている。尚、上記の表示部１１は、ＣＲＴ（Cathod
e-Ray Tube) 表示になっていても良い。
ＣＰＵ６にも接続されており、ＣＰＵ６には、アドレス
信号発生回路９からのアドレス信号とＡＤ変換器５から
の検出データ信号とが入力されるようになっている。こ
のＣＰＵ６は、ＬＣＤ（Liquid Crystal Display) およ
びＬＣＤコントローラ等からなる表示部１１に接続され
ていると共に、ＲＯＭ（Read Only Memory) およびＲＡ
Ｍ（Random Access Memory）からなるメモリ１０に接続
されている。尚、上記の表示部１１は、ＣＲＴ（Cathod
e-Ray Tube) 表示になっていても良い。
【００２４】上記のメモリ１０のＲＡＭには、アドレス
Ｎｏ．に対応させて検出データを記憶可能な検出データ
記憶領域等が形成されており、ＲＯＭには、ビーム密度
表示ルーチンやインターロックルーチン等のプログラム
やデータ等が記憶されている。そして、上記のビーム密
度表示ルーチンは、検出データをイオン密度に換算した
り、この換算値を色分け等して表示部１１に表示させる
ようになっている。また、インターロックルーチンは、
検出データが所定の条件を満足しているか否かを判定
し、満足していないときにインターロック信号を発生さ
せて測定者への警報や装置の自動制御を実行させるよう
になっている。
Ｎｏ．に対応させて検出データを記憶可能な検出データ
記憶領域等が形成されており、ＲＯＭには、ビーム密度
表示ルーチンやインターロックルーチン等のプログラム
やデータ等が記憶されている。そして、上記のビーム密
度表示ルーチンは、検出データをイオン密度に換算した
り、この換算値を色分け等して表示部１１に表示させる
ようになっている。また、インターロックルーチンは、
検出データが所定の条件を満足しているか否かを判定
し、満足していないときにインターロック信号を発生さ
せて測定者への警報や装置の自動制御を実行させるよう
になっている。
【００２５】上記の構成において、ビームプロファイル
モニタの動作について説明する。
モニタの動作について説明する。
【００２６】先ず、図２に示すように、拡散したい不純
物がイオン源１５でイオン化され、この不純物イオンが
質量分析器１６で選択的に取り出されてイオンビーム１
４にされることになる。そして、このイオンビーム１４
は、キャッチプレート１２に配設されたビーム電流検出
部１に照射されることになり、ビーム電流検出部１の各
測定子は、イオンビーム１４の照射によりイオン密度に
応じた電流を生じることになる。
物がイオン源１５でイオン化され、この不純物イオンが
質量分析器１６で選択的に取り出されてイオンビーム１
４にされることになる。そして、このイオンビーム１４
は、キャッチプレート１２に配設されたビーム電流検出
部１に照射されることになり、ビーム電流検出部１の各
測定子は、イオンビーム１４の照射によりイオン密度に
応じた電流を生じることになる。
【００２７】上記の電流は、図１に示すように、抵抗回
路２の各抵抗器を流れることになり、各抵抗器は、電流
値に応じた電位差を両端部に有することになる。この
際、各抵抗器の両端部には、スイッチング回路３の入力
端子が接続されており、これらの入力端子と共通出力端
子との接続状態は、切換信号発生回路７からの切換信号
で切り換えられている。これにより、切換信号で選択さ
れたアドレスＮｏ．の抵抗器に生じた電位差のみが、検
出電圧として共通出力端子から出力されることになり、
この検出電圧は、増幅回路４で増幅された後、ＡＤ変換
器５でアナログ値からデジタル値に変換されて検出デー
タ信号としてＣＰＵ６へ出力されることになる。
路２の各抵抗器を流れることになり、各抵抗器は、電流
値に応じた電位差を両端部に有することになる。この
際、各抵抗器の両端部には、スイッチング回路３の入力
端子が接続されており、これらの入力端子と共通出力端
子との接続状態は、切換信号発生回路７からの切換信号
で切り換えられている。これにより、切換信号で選択さ
れたアドレスＮｏ．の抵抗器に生じた電位差のみが、検
出電圧として共通出力端子から出力されることになり、
この検出電圧は、増幅回路４で増幅された後、ＡＤ変換
器５でアナログ値からデジタル値に変換されて検出デー
タ信号としてＣＰＵ６へ出力されることになる。
【００２８】上記のＣＰＵ６には、検出データ信号の入
力時に、アドレス信号発生回路９からアドレス信号も入
力されている。このアドレス信号は、検出データ信号の
出力元である抵抗器のアドレスＮｏ．を示しており、Ｃ
ＰＵ６は、メモリ１０のＲＡＭに形成された検出データ
記憶領域に、検出データをアドレスＮｏ．に対応させて
記憶させることになる。そして、この検出データ記憶領
域への検出データの記憶は、アドレスＮｏ．の最初から
最後まで連続して順次行われることになる。
力時に、アドレス信号発生回路９からアドレス信号も入
力されている。このアドレス信号は、検出データ信号の
出力元である抵抗器のアドレスＮｏ．を示しており、Ｃ
ＰＵ６は、メモリ１０のＲＡＭに形成された検出データ
記憶領域に、検出データをアドレスＮｏ．に対応させて
記憶させることになる。そして、この検出データ記憶領
域への検出データの記憶は、アドレスＮｏ．の最初から
最後まで連続して順次行われることになる。
【００２９】最終アドレスＮｏ．の検出データの記憶が
完了すると、次いで、ビーム密度表示ルーチンが実行さ
れることになり、各検出データは、イオン密度に換算さ
れることになる。この後、換算値が例えば赤色や緑色等
に所定量毎に色分けされ、図３に示すように、ビーム電
流検出部１の測定子の配置状態と同一の配置状態で表示
部１１に表示されることになる。そして、測定者は、表
示部１１の表示から、イオンビームの密度分布および形
状を認識することになる。
完了すると、次いで、ビーム密度表示ルーチンが実行さ
れることになり、各検出データは、イオン密度に換算さ
れることになる。この後、換算値が例えば赤色や緑色等
に所定量毎に色分けされ、図３に示すように、ビーム電
流検出部１の測定子の配置状態と同一の配置状態で表示
部１１に表示されることになる。そして、測定者は、表
示部１１の表示から、イオンビームの密度分布および形
状を認識することになる。
【００３０】また、ＣＰＵ６は、ビーム密度表示ルーチ
ンの実行と共に、インターロックルーチンも実行してお
り、検出データが所定の条件を満足しているか否かを判
定することになる。即ち、所定の条件には、例えばチャ
ージアップを生じる基準値やイオンビームの照射面の大
きさの基準となる基準境界Ａ等があり、検出データがチ
ャージアップを生じる基準値を超えたり、イオンビーム
が基準境界Ａ内に存在している場合には、条件を満足し
ていないとしてインターロック信号が発生され、測定者
への警報や装置の自動制御が実行されることになる。
ンの実行と共に、インターロックルーチンも実行してお
り、検出データが所定の条件を満足しているか否かを判
定することになる。即ち、所定の条件には、例えばチャ
ージアップを生じる基準値やイオンビームの照射面の大
きさの基準となる基準境界Ａ等があり、検出データがチ
ャージアップを生じる基準値を超えたり、イオンビーム
が基準境界Ａ内に存在している場合には、条件を満足し
ていないとしてインターロック信号が発生され、測定者
への警報や装置の自動制御が実行されることになる。
【００３１】このように、本実施例のビームプロファイ
ルモニタは、イオンビームの密度分布をビーム電流検出
部１の測定子で面状に測定し、この測定結果を測定子の
配置状態と同一の配置状態で表示部１１に表示させるよ
うになっている。従って、このビームプロファイルモニ
タは、イオンビームの全体的な密度分布および形状を容
易に且つ正確に認識させることが可能になっていると共
に、イオンビームの全容を把握する際の測定者の負担を
軽減させることが可能になっている。
ルモニタは、イオンビームの密度分布をビーム電流検出
部１の測定子で面状に測定し、この測定結果を測定子の
配置状態と同一の配置状態で表示部１１に表示させるよ
うになっている。従って、このビームプロファイルモニ
タは、イオンビームの全体的な密度分布および形状を容
易に且つ正確に認識させることが可能になっていると共
に、イオンビームの全容を把握する際の測定者の負担を
軽減させることが可能になっている。
【００３２】
【考案の効果】本考案のビームプロファイルモニタは、
以上のように、イオンビームのイオン密度を複数の測定
子を介して測定し、これらの測定結果を表示部に表示さ
せて測定者に密度分布を確認させるビームプロファイル
モニタにおいて、上記測定子は、複数列および複数行に
等間隔で配置されており、上記各測定子の出力を所定ア
ドレス順に順次選択する選択手段と、上記選択手段で選
択された測定子の出力を表示出力に演算する演算手段と
を備え、上記表示部は、演算手段からの出力を、上記測
定子の配置状態と同一の配置状態で表示し、上記演算手
段はまた、各測定子の出力が予め定める条件を満足して
いないときにはインターロック信号を出力する構成であ
る。
以上のように、イオンビームのイオン密度を複数の測定
子を介して測定し、これらの測定結果を表示部に表示さ
せて測定者に密度分布を確認させるビームプロファイル
モニタにおいて、上記測定子は、複数列および複数行に
等間隔で配置されており、上記各測定子の出力を所定ア
ドレス順に順次選択する選択手段と、上記選択手段で選
択された測定子の出力を表示出力に演算する演算手段と
を備え、上記表示部は、演算手段からの出力を、上記測
定子の配置状態と同一の配置状態で表示し、上記演算手
段はまた、各測定子の出力が予め定める条件を満足して
いないときにはインターロック信号を出力する構成であ
る。
【００３３】これにより、イオンビームの密度分布が、
複数列および複数行に等間隔で配置された測定子で面状
に測定され、これらの測定結果が測定子の配置状態と同
一の配置状態で表示部に表示されるため、イオンビーム
の全体的な密度分布および形状を容易に且つ正確に認識
させることが可能になると共に、イオンビームの全容を
把握する際の測定者の負担を軽減させることが可能にな
るという効果を奏する。また、各測定子の出力が予め定
める条件を満足していないとき、たとえばチャージアッ
プを生じる基準値を超えていたり、照射面の大きさの基
準値を超えていたりすると、インターロック信号が出力
され、イオン照射対象物へのイオン照射が自動的に禁止
されることになる。これによって、測定者の負担をさら
に軽減することができる。
複数列および複数行に等間隔で配置された測定子で面状
に測定され、これらの測定結果が測定子の配置状態と同
一の配置状態で表示部に表示されるため、イオンビーム
の全体的な密度分布および形状を容易に且つ正確に認識
させることが可能になると共に、イオンビームの全容を
把握する際の測定者の負担を軽減させることが可能にな
るという効果を奏する。また、各測定子の出力が予め定
める条件を満足していないとき、たとえばチャージアッ
プを生じる基準値を超えていたり、照射面の大きさの基
準値を超えていたりすると、インターロック信号が出力
され、イオン照射対象物へのイオン照射が自動的に禁止
されることになる。これによって、測定者の負担をさら
に軽減することができる。
【図１】本考案のビームプロファイルモニタのブロック
図である。
図である。
【図２】イオンビームのキャッチプレートへの照射状態
を示す説明図である。
を示す説明図である。
【図３】測定結果の表示部への表示状態を示す説明図で
ある。
ある。
【図４】従来例を示すものであり、ビームプロファイル
モニタのブロック図である。
モニタのブロック図である。
【図５】測定子の配置状態を示す説明図である。
【図６】測定結果のオシロスコープへの表示状態を示す
説明図である。
説明図である。
１ ビーム電流検出部 ２ 抵抗回路 ３ スイッチング回路（選択手段） ４ 増幅回路 ５ ＡＤ変換器 ６ ＣＰＵ（演算手段） ７ 切換信号発生回路（選択手段） ８ インターフェース回路（選択手段） ９ アドレス信号発生回路（選択手段） １０ メモリ １１ 表示部 １２ キャッチプレート １３ ディスク １４ イオンビーム １５ イオン源 １６ 質量分析器
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/265 Ｈ０１Ｌ 21/265 Ｔ
Claims (1)
- 【請求項１】イオンビームのイオン密度を複数の測定子
を介して測定し、これらの測定結果を表示部に表示させ
て測定者に密度分布を確認させるビームプロファイルモ
ニタにおいて、 上記測定子は、複数列および複数行に等間隔で配置され
ており、上記各測定子の出力を所定アドレス順に順次選択する選
択手段と、 上記選択手段で選択された測定子の出力を表示出力に演
算する演算手段とを備え、 上記 表示部は、演算手段からの出力を、上記測定子の配
置状態と同一の配置状態で表示し、 上記演算手段はまた、各測定子の出力が予め定める条件
を満足していないときには、インターロック信号を出力
することを特徴とするビームプロファイルモニタ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1991043947U JP2558341Y2 (ja) | 1991-06-12 | 1991-06-12 | ビームプロファイルモニタ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1991043947U JP2558341Y2 (ja) | 1991-06-12 | 1991-06-12 | ビームプロファイルモニタ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04136857U JPH04136857U (ja) | 1992-12-21 |
| JP2558341Y2 true JP2558341Y2 (ja) | 1997-12-24 |
Family
ID=31924197
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1991043947U Expired - Lifetime JP2558341Y2 (ja) | 1991-06-12 | 1991-06-12 | ビームプロファイルモニタ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2558341Y2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10351059B4 (de) * | 2003-10-31 | 2007-03-01 | Roth & Rau Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Ionenstrahlbearbeitung von Oberflächen |
| WO2013160379A1 (en) * | 2012-04-25 | 2013-10-31 | Ion Beam Applications S.A. | Apparatus and method for hadron beam verification |
| EP2737909A1 (en) * | 2012-12-03 | 2014-06-04 | Tetra Laval Holdings & Finance S.A. | Device and method for irradiating packaging containers with electron beam |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2441182A1 (fr) * | 1978-11-07 | 1980-06-06 | Thomson Csf | Dispositif de visualisation de la repartition de la densite du courant au sein d'un faisceau de particules chargees |
| JPS63265288A (ja) * | 1987-04-23 | 1988-11-01 | 日本電子株式会社 | 面分析デ−タの表示諧調割り当て方式 |
-
1991
- 1991-06-12 JP JP1991043947U patent/JP2558341Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04136857U (ja) | 1992-12-21 |
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