JP2542333B2

JP2542333B2 - 高圧噴射攪拌工法における改良柱の造成状態検出方法および検出装置

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Publication number: JP2542333B2
Application number: JP5185533A
Authority: JP
Inventors: 孝大木
Original assignee: Individual
Current assignee: Individual
Priority date: 1993-06-28
Filing date: 1993-06-28
Publication date: 1996-10-09
Anticipated expiration: 2011-10-09
Also published as: JPH0718660A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は軟弱地盤改良工法のう
ち、最近よく利用されている高圧噴射攪拌工法におい
て、施工された改良体（改良柱）が、充分に所期の設計
どおりの状態で造成されているかどうかを検出するため
の方法およびその検出に用いる装置に関するものであ
る。

【０００２】

【従来の技術】地盤改良工法には各種各様、極めて多岐
な工法がある。いずれも地表より下位の地盤内で、その
土の組成や性質を変えることにより、強度やその他の性
質（例えば透水性、圧縮性など）を改良するものであ
る。そのため施工中において対象土がどのように挙動
し、また施工によってどのように変化したかを直接見る
ことはきわめて困難である。すなわち多数の改良柱を造
成する場合には、その１本１本について詳細にチェック
することが困難である。そのため通常は施工後適当な時
間を経過して改良柱が硬化した時点において、例えば改
良柱の１００〜２００本に１本程度の割合でボーリング
を行ない、１本の改良柱について深度を変えて１個乃至
数個の試料を採取して改良柱の出来工合を調査するとい
った方法を採っているのが実状である。

【０００３】このような状況であるから、施工した改良
柱の個々については到底チェック出来ないのみならず、
施工効果が多少とも明らかになるのは、実際に施工して
から相当の日数を経過した後となり、万一、施工後の効
果が不十分で、追加施工なり別種の補助工法を行う必要
が生じても、工期的にも重大な困難が生ずることにな
る。

【０００４】高圧噴射攪拌工法においても、現在の段階
で施工中に確認できるものとしては、ポンプの圧力、注
入管ないしロッド（以下、注入管と総称する）の回転
数、引き上げ速度、並びに安定処理材の吐出量がその主
要なものであり、その他、工法によってジェット水流や
圧縮空気を用いる場合には、それらの圧力を記録する程
度に過ぎず、それらはいずれも施工者の手許において確
認し得る数値によって管理しているに過ぎない。

【０００５】しかしながら安定処理材がロッドの先端の
ノズルから地盤内にほぼ所定の量だけ噴射注入され、ま
た注入管が所定の回転を行い、所定の速度で引き上げら
れたとしても、はたして正確に安定処理材による所定の
径の改良柱が地中に造成されているかどうかは不明であ
る。とくに高圧噴射による地盤改良工法においては、深
層混合攪拌工法のように定まった攪拌翼の回転による注
入攪拌というような機能がなく、でき上がった改良柱の
直径は、噴出される安定処理材の届く範囲、いいかえれ
ば地盤の軟弱さの程度に依存するためになおさらであ
る。

【０００６】それというのも高圧噴射攪拌工法において
は、地盤改良工法のうちの他の工法、例えば深層混合攪
拌工法のように所定の大きさの攪拌翼で軟弱地盤を掘進
し、その土の組織をずたずたに切り、そこに安定処理材
を注入して攪拌するのではなく、注入管の先端部に装着
されたノズルから高圧で噴射される安定処理材およびジ
ェット水流、圧縮空気などの噴出エネルギーが注入管周
辺の軟弱地盤を切削し、これを押しのけて空隙を作り、
その空隙を安定処理材が充たすことにより、改良柱が造
成されるのである。そのため、出来た改良柱の径は、ノ
ズルから高圧で噴射される流体などによってどの範囲ま
で注入管周辺の軟弱地盤が切削され、押しのけられるか
にかかっているのであり、当然のこととして原地盤の軟
らかさ、硬さにより改良柱の径にも差を生ずることが考
えられる。例えば地盤内に非常に軟弱な地層のところ
や、やや固い地層のところが混在している場合は、同一
の速さで回転、引き上げを施工した場合でも、軟弱な地
層のところでは改良柱の径が太く出来、やや硬い地層の
ところでは細くなるというような結果になりがちであ
る。しかもそのことは地上からは的確に察知出来ないの
である。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は従来の圧入ポ
ンプ圧力、ロッドの回転数、引き上げ速度ならびに安定
処理材の吐出量、その他、ジエット水流、圧縮空気の圧
力などの管理に加えて、地中に造成された改良柱の状態
を、主としてその径をチェックすることにより、所期の
目標通りに施工出来たかどうかを、簡単に、しかも施工
の直後に検出する方法および装置を提供することを技術
課題とするものである。

【０００８】すなわち本発明の方法および装置によっ
て、地中に造成された改良柱の出来が一定でなく、その
太さが所定の径よりも細いところがあるような場合に
は、施工後そのことが直ちに判るので、必要に応じてす
ぐにその対応策を講ずることが可能となり、地盤改良工
事の能率を著しく上げることにつながる。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明の改良柱の造成状
態検出方法は、地下の所定深度まで貫入させた注入管を
回転させながら引き上げ、その注入管の先端から高圧で
安定処理材を噴出させ、注入管周辺の軟弱な地層に安定
処理材を填充して円柱状の改良柱を造成する高圧噴射攪
拌工法における、改良柱の造成状態検出方法であって、
前記注入管を引き上げるときに注入管の先端に設けた検
出器により、造成された未硬化の改良柱の比抵抗を測定
し、その測定値に基づいて改良柱の填充造成範囲を推定
することを特徴としている。

【００１０】前記改良柱の比抵抗は、たとえばウエンナ
ー氏の４極法により測定することができる。しかしシュ
ランベルジャー氏の４極法など、他の測定方法も採用し
得る。前記ウエンナー氏の４極法による測定を、電極間
の寸法が異なる複数組の電極群により行い、各電極群ご
との比抵抗値同士を比較することにより、測定している
深度の改良柱の径を、より詳しく推定するのが好まし
い。

【００１１】本発明の高圧噴射攪拌工法における改良柱
の造成状態検出装置は、注入管の下端に出没自在に設け
られ、かつ外に出たときには注入管の下端から適当な距
離を保って吊るされる容器および、この容器内に収容さ
れて周囲の改良柱ないし土と接触する電極からなるゾン
デと、前記電極間の電圧または電流に基づき、周囲の改
良柱ないし土の比抵抗を測定する測定器とを備えている
ことを特徴としている。前記電極は、所定の寸法で等間
隔に配置された４個１組の電極群とし、両端の一対の電
極を電源に連結すると共に、中央の一対の電極を電位差
計に連結した、いわゆるウエンナー氏の４極法による電
極配置か、あるいは電流電極と電位電極の間隔を両電位
電極間の間隔と変えたシュランベルジャー氏の４極法に
よる電極配置とするのが好ましい。

【００１２】高圧噴射攪拌工法においては工法により
改良柱の径が３０ｃｍ程度から２〜３ｍ程度に及ぶ大き
なものまでがあり、大きな径の改良柱に対する検出器の
ゾンデには、仮にウエンナー氏の４極法を用いたとして
もシュランベルジャー氏の４極法によったとしても、そ
の電極間の寸法を変えた２〜５種類程度の電極群を収容
することが望ましい。その場合、もっとも電極間の寸法
が大きい電極群の４個の電極のうち、両端の１対の電極
間の寸法を、造成しようとしている改良柱の直径とほぼ
同じか、それよりいくらか小さい程度とするのが好まし
い。

【００１３】

【作用】一般に土は電気的に導体であり、セメントを主
成分とする安定処理材もまた電導体である。土の場合は
その比抵抗値は土の種類によって異なる。一方、安定処
理材の比抵抗値はセメントを主としているために極めて
小さく、殆んどの土よりも小さい値を示す。表１はこれ
らの比抵抗値を示したものである。

【表１】

【００１４】したがって高圧噴射攪拌工法によって造成
される改良柱は、従来あった軟弱土を押しのけて、その
あとを安定処理材が填充して造成されるのであるから、
いわば置換されて出来るもので、施工前と施工後とでは
比抵抗値が変わるのが当然である。つまり施工前は軟弱
な砂質土なり粘性土なりに特有の比抵抗値が、施工後は
安定処理材の特有の比抵抗値を示すようになる筈であ
る。万一、施工後の比抵抗の測定値が安定処理材に特有
な比抵抗値を示さないならば、それは改良柱が所定の通
りに造成されていないことを示していることに外ならな
い。

【００１５】本発明の方法は上記の原理に基づくもので
あり、高圧噴射攪拌工法の作業工程の進行と同時に出来
上りつつある改良柱の出来具合をその比抵抗値によって
検出し、万一その出来形が十分でない場合には直ちにそ
の対策をとることが出来るようにしたものである。

【００１６】請求項２におけるウエンナー氏の４極法に
より比抵抗を検出する方法においては、４個の電極間の
それぞれの間隔をａとすると、この１セットの電極群に
よって測定される比抵抗値は、４つの電極のうちの外側
の２個の電極の位置を直径の両端とする球体部分の、改
良体乃至は土の比抵抗の値である。つまり注入管の先端
に吊した、各電極間隔がａの１組の電極群によって、注
入管を中心とする直径３ａ、半径にすれば１．５ａの円
柱状領域の改良柱乃至土の比抵抗値が連続的に得られる
ことになる。同様にして各電極間隔がｂの１組の電極群
によっては、注入管を中心とする直径３ｂ、半径にすれ
ば１．５ｂの円柱状領域の改良柱乃至土の比抵抗値が連
続的に得られる。したがって上記２セットの電極群の検
出値を原地盤の比抵抗値と比較することにより、出来上
りつつある改良柱の半径が１．５ａ以上か、１．５ａ〜
１．５ｂか、１．５ｂ未満かをそれぞれほぼ確実に判断
することができ、さらに経験値などと比較することによ
り、ある程度は改良柱の径をより具体的な数値として推
定することができるのである。

【００１７】

【実施例】つぎに図面を参照しながら本発明の方法およ
び装置を説明する。簡単のためにゾンデに内蔵される電
極群の電極配置は、いずれもウエンナー氏の４極法によ
るものを例にとることにする。図１及び図２はそれぞれ
本発明の施工法の工程の実施例を示す概略図であり、図
１はボーリングロッドで掘削した後、そのロッドを注入
管として用いて高圧噴射を行う場合、図２はボーリング
を行う際にケーシングを用いて、そのケーシングをガイ
ドホールとして残しておき、掘削完了後、注入管をガイ
ドホール内に孔底まで建込み、高圧噴射を行う場合をそ
れぞれ示したものである。

【００１８】図３は図１の場合の注入管の先端部と検出
器の関係を示してものである。図４は検出器のゾンデの
拡大断面図（図はゾンデ内部に３組の電極群を内蔵した
例）を示し、図５はウエンナー氏の４極法による比抵抗
値の測定方法における配線方法を概略的に表したもので
ある。図６ａはこのようにして改良柱の比抵抗値を連続
的に測定して得られる深度〜比抵抗曲線の１例を示して
ものであり、図には電極間隔を変えて配置した３組の電
極群をゾンデ内に内蔵して測定を行った３種類の比抵抗
値曲線ρ₁ 、ρ₂ 、ρ₃ の例を示している。なお図６ａ
には、比較のために地盤改良工法（高圧噴射攪拌工法）
の施工前において予め測定しておいた原地盤の比抵抗値
曲線ρ₀ 及び、その値より推定した原地盤の柱状図をも
記入しておいた。図６ｂは本検出器において測定して得
られた３種類の比抵抗値曲線から推定される改良柱の出
来形を模式図的に示したものである。

【００１９】図１はボーリングロッドで以て所定の深度
まで掘削を行い、掘削完了後はそのロッドをそのまま注
入管として高圧噴射攪拌を行う場合における測定法につ
いて、その工程順に示したものである。この場合、掘削
時には高圧ポンプでロッド２内に循環水を注入し、先端
のノズルから循環水を噴出させながらロッド２を回転さ
せて掘り進んでいく（工程Ｓ１）。そして所定の深度ま
で掘削を完了した後は、そのままそのロッド２を安定処
理材を注入するための注入管として利用する。以下、ロ
ッド２を注入管２と呼ぶ。以後は注入管２の回転数を落
とし、循環水を安定処理材に切り替え、高圧ポンプの吐
出圧を大幅に上げ（通常２００kg／cm²程度以上に）、
注入管２の先端部の側方に装着させたノズル３より安定
処理材を高圧噴射させながら、注入管２を引き上げてい
く（工程Ｓ２〜Ｓ５）。検出器のゾンデ４は、掘削工程
Ｓ１においては、図３に示すように、ケーブル５ととも
に注入管２の中央に配置した細いパイプ内に装着されて
おり、注入管２を引き上げるときにそのパイプから出す
ようにする。なお図１において、形成されていく改良柱
１２はハッチングにより示しており、符号Ｐは注入管２
を垂直に支持するクローラクレーンである。

【００２０】図２の場合には、ボーリングの際にはボー
リングロッドを囲むケーシング１を用いて所定の深度ま
で掘削を行い、掘削完了後にケーシング１を残してロッ
ドのみを引き上げ、改めて注入管２を挿入して高圧噴射
を行う場合における測定方法について示したものであ
る。この場合にはボーリング掘削はケーシング１と、そ
の中で回転するロッドを用いて掘削工程Ｔ１を行う。所
定の深度まで掘削を完了した後は、ケーシング１はその
まま地盤中に注入工程のためのガイドホールとして残し
ておく。以下、ケーシング１をガイドホール１と呼ぶ。
注入工程Ｔ２〜Ｔ５を行なうため、ロッドを引き上げ
て、代わりに注入管２をガイドホール１の孔底まで建込
む。注入管２の先端部には、側面に開口するノズル３が
装着されており、安定処理材及びジエット水流、圧縮空
気などをそれぞれ高圧で噴射攪拌して改良柱を造成す
る。この場合も注入管２をガイドホール１の孔底まで建
込むときは、検出器のゾンデ４はケーブル５とともに注
入管２の中央に通した細いパイプ内に装着しておく。

【００２１】前記ゾンデ４は、現在井戸掘削において標
準的に採用されている４極法などによる電気検層法と同
じ原理によるものである。いまもっとも一般的なウエン
ナー氏の４極法の場合について説明すると、図４に示す
ように、ゾンデ４はセラミックなどの絶縁体製の容器６
と、その容器６内に内蔵された１乃至数組の電極群とか
ら成る。図４には３組の電極群Ｅ１、Ｅ２、Ｅ３を内蔵
した例を示している。１組の電極群は４個の電極７、
８、９、１０を等間隔に上下に配置したものであり、各
組ごとに電極の間隔を変えている。図４では左側の電極
群Ｅ１の各電極７〜１０間のそれぞれの間隔をａ、右側
の電極群Ｅ２の各電極７〜１０間のそれぞれの間隔を
ｂ、中央の電極群Ｅ３の各電極７〜１０間のそれぞれの
間隔をｃとし、ａ＞ｂ＞ｃなる関係があるとする。この
ときの最大の電極間隔ａは、改良柱の目標径をＢとする
と、

【数１】になるように設定する。従ってゾンデの長さもほぼＢと
同程度か、若干長い程度に納まることになる。

【００２２】また各電極群Ｅ１〜Ｅ３の両端の一対の電
極７、１０は電流電極であり、中央の一対の電極８、９
は電位電極である。これらの電極はまとめて容器６に収
められ、各電極７〜１０の端だけが容器６から外部に出
て、その周囲の改良柱または土に接するようにしてい
る。各電極からのコード類はまとめてゾンデ４からケー
ブル５となって出て行き、注入管２の中央に設けられた
細いパイプにより保護され、図５の電源部Ｄ及び指示部
Ｊに接続する。なおゾンデ４の下端には、必要であれば
適当な重量を与えるための重錘Ｗを付す。ゾンデ４は図
１、２及び３に示すように、注入管２の下端から出没自
在であり、吊り下げられた状態における注入管２の下端
とゾンデ４との距離ｄは、改良柱の目標径をＢとする
と、およそｄ＝（０．３〜０．５）・Ｂ程度に保たれ
る。ゾンデ４は、注入管２のノズル３から高圧噴射攪拌
を開始した後、ガイドホール１とともに徐々に引き上げ
られてゾンデ４と注入管２の下端との距離が上記のｄに
達した後は、注入管２の引上げに追従して改良柱１２の
中央部を上昇し、その間、連続的に噴射攪拌によって造
成されたばかりの改良柱の比抵抗値を測定することにな
る。

【００２３】上記のゾンデ４の電極は、ウエンナー氏の
４極法の場合を例にとれば、図５に示すように改良柱１
２の中央に配置する。この状態で両端の電流電極７、１
０間に電流Ｉを流し、中央の電位電極８、９間に生ずる
電位差Ｖを検出する。このとき電極群の中央点０点を中
心としてほぼ半径が（２／３）・ａ（ここにａは各電極
間隔とする）の円柱領域の改良柱の比抵抗値ρは次式に
よって表される。 ρ＝４πａ・（Ｖ／Ｉ）＝４πａＲ従って注入管の引き上げに伴い、これに追従して改良柱
内を引き上げられる左側の電極群Ｅ１によって、改良柱
の半径（２／３）・ａ（直径は３ａ）の円柱領域の比抵
抗値が連続的に、または所定の深さごとに測定されるこ
とになる。

【００２４】つぎに図１及び図２に戻って、上記ゾンデ
４を備えた注入管２による改良柱の比抵抗値の測定方法
を説明する。

【００２５】（予備作業）予め２極法、４極法あるいは
その他の適当な地表電気検査方式により、地盤Ｇの各深
度ごとの比抵抗値を測定しておく。これが基本の原地盤
の深度−比抵抗値曲線となる。この曲線は地層の構成に
応じて、例えば図６ａの折れ線ρ₀ のような形となる。
またこの曲線ρ₀ をもとに地盤の柱状図を想定すると、
図６ａの右に示すようになる。なおこれと別に安定処理
材だけの比抵抗値ρ_a を測定しておく。なお曲線ρ₀ が
折れ線になっているのは、測定点が不連続なためであ
り、測定点を増加すればさらに滑らかになる。

【００２６】（掘削完了、高圧噴射攪拌工程）図１の場
合にはボーリングロッドにより掘削が完了すると、その
ままロッド２を注入管２として高圧噴射攪拌工法に入
り、図２の場合には掘削完了後は、掘削に用いたケーシ
ング１をそのままガイドホール１として地盤内に残置し
ておき、ロッドの代わりに注入管２をガイドホール１の
孔底まで建込み、高圧噴射攪拌工法に入る。いずれの場
合も注入管内の細いパイプ内の先端部に固定されていた
検出器のゾンデ４はこの瞬間に離脱され、高圧噴射攪拌
の進行に伴い、注入管２が上昇するにつれて、注入管２
より下位の改良柱１２の底部に自重または重錘の重量で
もって残置される。ゾンデ４と注入管２との距離が前記
のｄに達すれば、以後は注入管２の引き上げに追従しな
がら上昇して行くことになる。

【００２７】（改良柱の造成状態の評価）前記図１及び
図２の高圧噴射攪拌工程において連続的に測定した比抵
抗の値は、図６ａにおけるρ₁ 、ρ₂ 、ρ₃ のような曲
線で記録される。図６ａは、それぞれの電極間隔がａ、
ｂ、ｃ（ここにａ＞ｂ＞ｃとする）の３組の電極群によ
って測定した例である。この工法は一種の置換工法であ
るから、造成された改良柱１２は安定処理材のみから成
ると考えてよく、従ってその比抵抗値は予め測定してお
いた安定処理材の比抵抗値ρ_a にほぼ等しい値を示す筈
である。

【００２８】従って図６の例について説明すれば、ρ_a
の値が１０〜１５Ω・ｍ程度であるとすれば、もし改良
柱が上（地表）から下（改良柱底部）まで所定の目標ど
おり、直径Ｂの円柱状に出来上がっているとすれば、ａ
はほぼＢ／３に定めてあるので、ρ₁ 曲線は半径が（３
／２）・ａ、すなわち直径がほぼ３ａ≒Ｂの範囲の比抵
抗曲線となる筈で、つまり、ρ₁ 曲線は上から下まで
（測定の順次からいえば下から上まで）ほぼ１０〜１５
Ω・ｍ程度の値を示し続ける筈である。ところにより多
少ずれても、２０〜２５Ω・ｍ程度の値にとどまるべき
である。またｂ、ｃの値はａより小さいので、当然ρ
₂ 、ρ₃ 曲線もρ₁ 曲線と同様に１０〜１５Ω・ｍか、
ずれたとしても２０Ω・ｍ程度の値を示す筈である。そ
れが例えば図６ａのように深度−３．５ｍ付近から−
８．５ｍ付近にかけてρ₁ が５０〜１４０Ω・ｍの値を
示していることは、その間の改良柱の直径が３ａ≒Ｂよ
りも小さいことを示しているのである。

【００２９】同様のことはρ₂ 曲線についてもいえる。
図６ａのρ₂ 曲線をみると、ＧＬ−５．６ｍ付近から−
７．５ｍ付近までの比抵抗値が８０〜１０５Ω・ｍ程度
を示しているのは、この間において改良柱の直径が３ｂ
よりも小さいことを表している。ρ₃ 曲線が上から下ま
で１０〜１５Ω・ｍの範囲内の値に終始していること
は、この改良柱が上から下まで最小でも直径３ｃより太
い状態に造成されていることを表している。以上のよう
な測定結果より、造成された改良柱１２の断面形状を推
定すれば図６ｂのようになり、どの深さのところで改良
柱が充分に造成されていないかを容易に判定することが
出来る。

【００３０】

【発明の効果】本発明の改良柱の造成状態検出方法は、
高圧噴射攪拌工の施工時の注入管の引き上げに追従して
測定を行なうため、改良柱の全数についてその状態を確
認することが可能で、しかもそれぞれの改良柱の各深度
における状態を連続的に高い精度で知ることが出来る。
さらに、事前に試みた原地盤のデータと比較することに
より、改良柱の造成状態がかりに不十分であった場合に
も、それがどのような原因によるものかを察知する手が
かりが与えられるので、直ちに適切な対応策を講ずるこ
とが可能となる。本発明の装置を用いることにより、前
記方法を容易に実施することができ、地下における改良
柱造成の状態を施工直後に知ることが出来る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の方法の一実施例を示す工程図である。

【図２】本発明の方法の他の実施例を示す工程図であ
る。

【図３】図１に示す注入管の要部拡大図である。

【図４】図１に示すゾンデの拡大断面図である。

【図５】図３のゾンデを用いた４極法による比抵抗値測
定法の説明図である。

【図６】図６ａは図１の方法により測定したデータに基
づく深度−比抵抗曲線の一例を示すグラフであり、図６
ｂはそのグラフにより推定される改良柱の断面図であ
る。

【符号の説明】１ガイドホール（ケーシング）２注入管（ロッド）３ノズル４ゾンデ５ケーブル６容器７電流電極８電位電極９電位電極１０電流電極１２改良柱

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】地下の所定深度まで貫入させた注入管を
回転させながら引き上げ、その注入管の先端から高圧で
安定処理材を噴出させ、注入管周辺の軟弱な地層に安定
処理材を填充して円柱状の改良柱を造成する高圧噴射攪
拌工法における、改良柱の造成状態検出方法であって、前記注入管を引き上げるときに注入管の先端に設けた検
出器により、造成された未硬化の改良柱の比抵抗を測定
し、その測定値に基づいて改良柱の填充造成範囲を推定
する、高圧噴射攪拌工法における改良柱の造成状態検出方法。
【請求項２】前記改良柱の比抵抗を４極法により測定
する請求項１記載の高圧噴射攪拌工法における改良柱の
造成状態検出方法。
【請求項３】前記４極法による測定を、電極間の寸法
が異なる複数組の電極群により行い、各電極群ごとの比
抵抗値同士を比較することにより、測定している深度の
改良柱の径を推定する請求項２記載の高圧噴射攪拌工法
における改良柱の造成状態検出方法。
【請求項４】注入管の下端に出没自在に設けられ、か
つ外に出たときは注入管の下端から適当な距離を保って
吊るされる容器および、この容器内に収容されて周囲の
改良柱ないし土と接触する電極からなるゾンデと、前記
電極間の電圧または電流に基づき、周囲の改良柱ないし
土の比抵抗を測定する測定器とを備えた高圧噴射攪拌工
法における改良柱の造成状態検出装置。
【請求項５】前記電極が所定の寸法で等間隔に配置さ
れた４個１組の電極群であり、両端の一対の電極が電源
に連結されると共に、中央の一対の電極が電位差計に連
結されている請求頂４記載の高圧噴射攪拌工法における
改良柱の造成状態検出装置。
【請求項６】前記電極群を複数組有するとともに、電
極間寸法が電極群ごとに互いに異なっており、かつもっ
とも電極間寸法が大きい電極群における両端の一対の電
極間の距離が造成しようとしている改良柱の直径と同じ
か、それよりいくらか少ない寸法である請求項５記載の
高圧噴射攪拌工法における改良柱の造成状態検出装置。