JP2541141Y2 - 半導体製造装置におけるウェハ−の移載装置の取付け構造 - Google Patents
半導体製造装置におけるウェハ−の移載装置の取付け構造Info
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- JP2541141Y2 JP2541141Y2 JP1990405254U JP40525490U JP2541141Y2 JP 2541141 Y2 JP2541141 Y2 JP 2541141Y2 JP 1990405254 U JP1990405254 U JP 1990405254U JP 40525490 U JP40525490 U JP 40525490U JP 2541141 Y2 JP2541141 Y2 JP 2541141Y2
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- Japan
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- wafer transfer
- semiconductor manufacturing
- transfer device
- support base
- mounting structure
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本考案は半導体の単結晶を材料で
あるウェハ−上に形成する半導体製造装置におけるウェ
ハ−の移載装置の取付け構造の改良に関する。
あるウェハ−上に形成する半導体製造装置におけるウェ
ハ−の移載装置の取付け構造の改良に関する。
【0002】
【従来の技術】従来のものは図2のように構成されてい
た。同図において,1はフレ−ム,2はヒ−タを主体に
した反応炉,3は石英チュ−ブ,4は石英ボ−トで,こ
のボ−ト4内に複数枚のウェハ−5が積層状態で収納さ
れている。6はスカベンジャ−,6aはスカベンジャ−
キャップ等のガス供給手段である。7はハンドラ−,8
はロボット,9はウェハ−収納用の2段のカセットケ−
スを備えたキャリアステ−ジである。10はエレベ−タ
シャフトを主体に構成される昇降装置,11は支持ア−
ム,12はエアク−ラ,13はクリ−ンユニット,14
a,14bは夫々装置全体の移送のためのキャスタであ
る。以上で半導体製造装置の主要な機構が構成される。
この内,ウェハ−の移載装置を構成する部分はハンドラ
−7,ロボット8,キャリアステ−ジ9と図示しないロ
ボットコントロ−ラ等の制御手段で,これらの移載装置
は反応炉2,クリ−ンユニット13,昇降装置10等と
共に,フレ−ム1より成る1つの箱体内に組み立て,配
置され,全体の半導体製造装置を構成するようになって
いる。上記構成において,装置を駆動すると所定の運転
プログラムによって各機構が作動され,まず,キャリア
ステ−ジ9に収納されたウェハ−がロボット8の作動に
よりカセットケ−スからハンドラ−7の支持テ−ブル7
aに載せられ,ハンドラ−7の回動により反応炉2の直
下に移送される。一方,図示しない電動機の駆動トルク
により昇降装置10が下降され,その下端部に図示しな
いリニアボ−ルベアリングを介して取り付けた支持ア−
ム11が下方位置にあって支持テ−ブル(図示せず)を
支持している状態のときに,ハンドラ−7の支持テ−ブ
ル7aから所要枚数の未処理ウェハ−を収納したボ−ド
4が支持テ−ブル上に移載される。そこで上記電動機を
逆転させて,昇降装置10を上昇させ,支持テ−ブル上
のボ−ド4が反応炉2内に収納される位置に移行する
と,シ−ルシャッタ(図示せず)を移行して反応炉2の
底部をふさぎ,反応炉2によりウェハ−に対する加熱を
行い,いわゆる熱拡散方法により所要の半導体製造のた
めの加熱処理を行う。
た。同図において,1はフレ−ム,2はヒ−タを主体に
した反応炉,3は石英チュ−ブ,4は石英ボ−トで,こ
のボ−ト4内に複数枚のウェハ−5が積層状態で収納さ
れている。6はスカベンジャ−,6aはスカベンジャ−
キャップ等のガス供給手段である。7はハンドラ−,8
はロボット,9はウェハ−収納用の2段のカセットケ−
スを備えたキャリアステ−ジである。10はエレベ−タ
シャフトを主体に構成される昇降装置,11は支持ア−
ム,12はエアク−ラ,13はクリ−ンユニット,14
a,14bは夫々装置全体の移送のためのキャスタであ
る。以上で半導体製造装置の主要な機構が構成される。
この内,ウェハ−の移載装置を構成する部分はハンドラ
−7,ロボット8,キャリアステ−ジ9と図示しないロ
ボットコントロ−ラ等の制御手段で,これらの移載装置
は反応炉2,クリ−ンユニット13,昇降装置10等と
共に,フレ−ム1より成る1つの箱体内に組み立て,配
置され,全体の半導体製造装置を構成するようになって
いる。上記構成において,装置を駆動すると所定の運転
プログラムによって各機構が作動され,まず,キャリア
ステ−ジ9に収納されたウェハ−がロボット8の作動に
よりカセットケ−スからハンドラ−7の支持テ−ブル7
aに載せられ,ハンドラ−7の回動により反応炉2の直
下に移送される。一方,図示しない電動機の駆動トルク
により昇降装置10が下降され,その下端部に図示しな
いリニアボ−ルベアリングを介して取り付けた支持ア−
ム11が下方位置にあって支持テ−ブル(図示せず)を
支持している状態のときに,ハンドラ−7の支持テ−ブ
ル7aから所要枚数の未処理ウェハ−を収納したボ−ド
4が支持テ−ブル上に移載される。そこで上記電動機を
逆転させて,昇降装置10を上昇させ,支持テ−ブル上
のボ−ド4が反応炉2内に収納される位置に移行する
と,シ−ルシャッタ(図示せず)を移行して反応炉2の
底部をふさぎ,反応炉2によりウェハ−に対する加熱を
行い,いわゆる熱拡散方法により所要の半導体製造のた
めの加熱処理を行う。
【0003】
【考案が解決しようとする課題】ところで,従来の半導
体製造装置におけるウェハ−の移載装置は図2に示すよ
うに,ウェハ−の移載装置を構成するハンドラ−7,ロ
ボット8,キャリアステ−ジ9はこれらを据え付ける専
用の支持ベ−ス7b,8a,9a上に配置されて取り付
ける構造となっていた。これは,図示しないロボットコ
ントロ−ラ等の関連の制御器についても同様にいえるこ
とで,このような取り付け構造上,次の問題点があっ
た。
体製造装置におけるウェハ−の移載装置は図2に示すよ
うに,ウェハ−の移載装置を構成するハンドラ−7,ロ
ボット8,キャリアステ−ジ9はこれらを据え付ける専
用の支持ベ−ス7b,8a,9a上に配置されて取り付
ける構造となっていた。これは,図示しないロボットコ
ントロ−ラ等の関連の制御器についても同様にいえるこ
とで,このような取り付け構造上,次の問題点があっ
た。
【0004】この種,装置の箱体はそれ程大きい寸法
とすることができないため,箱体内で同時に組立作業に
参加できる人数は2〜3人と制限される。
とすることができないため,箱体内で同時に組立作業に
参加できる人数は2〜3人と制限される。
【0005】このため,組立作業を各構成機構毎に順
番に行わざるを得ず,組立作業の時間が短縮できず,短
納期の要求に対処するのが困難であった。本考案は従来
の上記課題(問題点)を解決するようにした半導体製造
装置におけるウェハ−の移載装置の取付け構造を提供す
ることを目的とする。
番に行わざるを得ず,組立作業の時間が短縮できず,短
納期の要求に対処するのが困難であった。本考案は従来
の上記課題(問題点)を解決するようにした半導体製造
装置におけるウェハ−の移載装置の取付け構造を提供す
ることを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本考案はハンドラ−,ロ
ボット,キャリアステ−ジ,ロボットコントロ−ラ,制
御ユニット等のウェハ−の移載装置を構成する機構を共
通の支持ベ−スに対して据え付けるようにした半導体製
造装置におけるウェハ−の移載装置の取付け構造に関す
る。
ボット,キャリアステ−ジ,ロボットコントロ−ラ,制
御ユニット等のウェハ−の移載装置を構成する機構を共
通の支持ベ−スに対して据え付けるようにした半導体製
造装置におけるウェハ−の移載装置の取付け構造に関す
る。
【0007】この場合,上記共通の支持ベ−スに対して
キャスタ−を設けるようにすることが望ましい。
キャスタ−を設けるようにすることが望ましい。
【0008】
【作用】本考案のウェハ−の移載装置は1つの共通の支
持ベ−スに対してハンドラ−7,ロボット8,キャリア
ステ−ジ9等の移載装置を構成する機構を取り付ける構
造としているため,半導体製造装置の箱体とは別の広い
作業場所で,これらの機構の支持ベ−スに対する据え付
け作業を行った後,キャスタ−によって一体的に移動し
て箱体内に収納することができる。
持ベ−スに対してハンドラ−7,ロボット8,キャリア
ステ−ジ9等の移載装置を構成する機構を取り付ける構
造としているため,半導体製造装置の箱体とは別の広い
作業場所で,これらの機構の支持ベ−スに対する据え付
け作業を行った後,キャスタ−によって一体的に移動し
て箱体内に収納することができる。
【0009】
【実施例】以下図1に示す一実施例によって本考案を具
体的に説明する。同図において,従来のものと対応する
構成については図2と同一の符号を付して示した。15
はロボットコントロ−ラ,16は装置全体の操作盤等を
備えた制御ユニット,17は移載装置についての共通の
支持ベ−ス,18a及び18bは夫々キャスタである。
体的に説明する。同図において,従来のものと対応する
構成については図2と同一の符号を付して示した。15
はロボットコントロ−ラ,16は装置全体の操作盤等を
備えた制御ユニット,17は移載装置についての共通の
支持ベ−ス,18a及び18bは夫々キャスタである。
【0010】即ち,本考案のウェハ−の移載装置では共
通の支持ベ−ス17に対して,ハンドラ−7,ロボット
8,キャリアステ−ジ9,ロボットコントロ−ラ15及
び制御ユニット16を配置し据え付けるようにした点及
びこの支持ベ−スにキャスタ18a,18bを備えるよ
うにした点にその構成上の特徴がある。なお,ロボット
8は櫛状の移載手段であるコムと代替し,複数枚のウェ
ハ−を同時に移載するようにしても良い。
通の支持ベ−ス17に対して,ハンドラ−7,ロボット
8,キャリアステ−ジ9,ロボットコントロ−ラ15及
び制御ユニット16を配置し据え付けるようにした点及
びこの支持ベ−スにキャスタ18a,18bを備えるよ
うにした点にその構成上の特徴がある。なお,ロボット
8は櫛状の移載手段であるコムと代替し,複数枚のウェ
ハ−を同時に移載するようにしても良い。
【0011】このように,本考案のウェハ−の移載装置
では共通の支持ベ−ス17に対してハンドラ−7,ロボ
ット8,キャリアステ−ジ9,ロボットコントロ−ラ1
5,制御ユニット16等の移載装置を構成する機構を取
り付ける構造としているため,広い作業場所で多数の作
業員によって,これらの機構を支持ベ−ス17に対する
据え付け作業を分業して行うことができ,また支持ベ−
ス17にこれらの機構を据え付けた後はキャスタ−18
a,18bによって一体的に移動して箱体内に容易に収
納することができる。なお,図1では正面図であるた
め,前述したハンドラ−等の各機構が相互に小間隔で配
置されているように見えるが,実際のものでは支持ベ−
ス17には奥行きがあるので,可成りの間隔があり,各
機構の組み立て作業に多数の作業員が従事しても問題は
生じない。
では共通の支持ベ−ス17に対してハンドラ−7,ロボ
ット8,キャリアステ−ジ9,ロボットコントロ−ラ1
5,制御ユニット16等の移載装置を構成する機構を取
り付ける構造としているため,広い作業場所で多数の作
業員によって,これらの機構を支持ベ−ス17に対する
据え付け作業を分業して行うことができ,また支持ベ−
ス17にこれらの機構を据え付けた後はキャスタ−18
a,18bによって一体的に移動して箱体内に容易に収
納することができる。なお,図1では正面図であるた
め,前述したハンドラ−等の各機構が相互に小間隔で配
置されているように見えるが,実際のものでは支持ベ−
ス17には奥行きがあるので,可成りの間隔があり,各
機構の組み立て作業に多数の作業員が従事しても問題は
生じない。
【0012】
【考案の効果】本考案は上記のようにウェハ−の移載装
置を共通の支持ベ−スに対してハンドラ−,ロボット,
キャリアステ−ジ,ロボットコントロ−ラ,制御ユニッ
ト等の移載装置を構成する機構を取り付ける構造とした
ものであるため,次のような優れた効果を有する。
置を共通の支持ベ−スに対してハンドラ−,ロボット,
キャリアステ−ジ,ロボットコントロ−ラ,制御ユニッ
ト等の移載装置を構成する機構を取り付ける構造とした
ものであるため,次のような優れた効果を有する。
【0013】半導体製造装置の箱体とは別の広い場所
において共通の支持ベ−スに対するウェハ−の移載装置
の各構成機構の据え付けを行うことができるため,多数
の作業員によって同時に並行的にこれらの据え付け作業
を行うことができる。
において共通の支持ベ−スに対するウェハ−の移載装置
の各構成機構の据え付けを行うことができるため,多数
の作業員によって同時に並行的にこれらの据え付け作業
を行うことができる。
【0014】また,支持ベ−スにこれらの機構を据え
付けた後は,キャスタ−によって数人の作業員によって
目的地に移動し,ウェハ−の移載装置の箱体に対して円
滑に収納することができる。
付けた後は,キャスタ−によって数人の作業員によって
目的地に移動し,ウェハ−の移載装置の箱体に対して円
滑に収納することができる。
【0015】したがって,ウェハ−の移載装置の取り
付け作業を作業時間を短縮し,効率良く,円滑に行うこ
とができ,この種装置の短納期の製作にも対処できる。
付け作業を作業時間を短縮し,効率良く,円滑に行うこ
とができ,この種装置の短納期の製作にも対処できる。
【図1】本考案の一実施例を示す正面図である。
【図2】従来例を示す縦断正面図である。
7:ハンドラ− 8:ロボット 9:キャリアステ−ジ 17:支持ベ−ス 18a,18b:キャスタ−
Claims (2)
- 【請求項1】 ハンドラ−,ロボット,キャリアステ−
ジ,ロボットコントロ−ラ,制御ユニット等のウェハ−
の移載装置を構成する機構を共通の支持ベ−スに対して
据え付けるようにしたことを特徴とする半導体製造装置
におけるウェハ−の移載装置の取付け構造。 - 【請求項2】 上記共通の支持ベ−スに対してキャスタ
−を設けるようにした請求項1記載の半導体製造装置に
おけるウェハ−の移載装置の取付け構造。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1990405254U JP2541141Y2 (ja) | 1990-12-28 | 1990-12-28 | 半導体製造装置におけるウェハ−の移載装置の取付け構造 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1990405254U JP2541141Y2 (ja) | 1990-12-28 | 1990-12-28 | 半導体製造装置におけるウェハ−の移載装置の取付け構造 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0492642U JPH0492642U (ja) | 1992-08-12 |
JP2541141Y2 true JP2541141Y2 (ja) | 1997-07-09 |
Family
ID=31882725
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1990405254U Expired - Lifetime JP2541141Y2 (ja) | 1990-12-28 | 1990-12-28 | 半導体製造装置におけるウェハ−の移載装置の取付け構造 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2541141Y2 (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57194531A (en) * | 1981-05-26 | 1982-11-30 | Toshiba Corp | Electron beam transfer device |
JPH02283017A (ja) * | 1989-01-06 | 1990-11-20 | General Signal Corp | ウェーハ加工装置 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6411702A (en) * | 1987-07-02 | 1989-01-17 | Teikoku Chuck Co | Automatic eccentric shaft |
-
1990
- 1990-12-28 JP JP1990405254U patent/JP2541141Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57194531A (en) * | 1981-05-26 | 1982-11-30 | Toshiba Corp | Electron beam transfer device |
JPH02283017A (ja) * | 1989-01-06 | 1990-11-20 | General Signal Corp | ウェーハ加工装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0492642U (ja) | 1992-08-12 |
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