JP2540415B2 - 高出力ビ―ム発生器を有する照射装置 - Google Patents
高出力ビ―ム発生器を有する照射装置Info
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- JP2540415B2 JP2540415B2 JP4140219A JP14021992A JP2540415B2 JP 2540415 B2 JP2540415 B2 JP 2540415B2 JP 4140219 A JP4140219 A JP 4140219A JP 14021992 A JP14021992 A JP 14021992A JP 2540415 B2 JP2540415 B2 JP 2540415B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- beam generator
- coolant
- irradiation device
- coolant bath
- discharge
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J61/00—Gas-discharge or vapour-discharge lamps
- H01J61/02—Details
- H01J61/52—Cooling arrangements; Heating arrangements; Means for circulating gas or vapour within the discharge space
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J65/00—Lamps without any electrode inside the vessel; Lamps with at least one main electrode outside the vessel
- H01J65/04—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels
- H01J65/042—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels by an external electromagnetic field
- H01J65/046—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels by an external electromagnetic field the field being produced by using capacitive means around the vessel
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、放電条件下でビームを
発射する充填ガスの充填された放電室と、放電の給電の
ための交流電源とを有する、高出力ビーム発生器であっ
て、前記交流電源は第１および第２の電極に接続されて
おり、前記放電室の壁部は第１および第２の誘電体によ
り形成され、放電室とは反対側の該誘電体の表面には格
子状または網状の金属第１電極と第２電極が設けられて
いる高出力ビーム発生器を有する照射装置に関する。
発射する充填ガスの充填された放電室と、放電の給電の
ための交流電源とを有する、高出力ビーム発生器であっ
て、前記交流電源は第１および第２の電極に接続されて
おり、前記放電室の壁部は第１および第２の誘電体によ
り形成され、放電室とは反対側の該誘電体の表面には格
子状または網状の金属第１電極と第２電極が設けられて
いる高出力ビーム発生器を有する照射装置に関する。
【０００２】本発明はＥＰ−Ａ０２５４１１１に示され
た基礎的技術から出発するものである。
た基礎的技術から出発するものである。
【０００３】
【従来の技術】光化学的手法の工業的使用は適切なＵＶ
源の使用性に強く依存している。古典的なＵＶビーム発
生器は固有の離散的な波長において低中強度のＵＶビー
ムを送出する。例えば水銀低圧ランプは１８５ｎｍおよ
び特に２５４ｎｍにおいてビームを放射する。実際に高
いＵＶ出力は高圧ランプ（Ｘｅ、Ｈｇ）からのみ得られ
る。しかし高圧ランプのビームは大きな波長領域にわた
って分布されている。新しいエキシマレーザはいくつか
の新しい波長を光化学的基礎実験に提供した。しかし現
在のところエキシマレーザはコスト的理由から工業プロ
セスには例外的にしか適しない。
源の使用性に強く依存している。古典的なＵＶビーム発
生器は固有の離散的な波長において低中強度のＵＶビー
ムを送出する。例えば水銀低圧ランプは１８５ｎｍおよ
び特に２５４ｎｍにおいてビームを放射する。実際に高
いＵＶ出力は高圧ランプ（Ｘｅ、Ｈｇ）からのみ得られ
る。しかし高圧ランプのビームは大きな波長領域にわた
って分布されている。新しいエキシマレーザはいくつか
の新しい波長を光化学的基礎実験に提供した。しかし現
在のところエキシマレーザはコスト的理由から工業プロ
セスには例外的にしか適しない。
【０００４】冒頭に述べたＥＰ特許出願または“Ｎｅｕ
ｅ ＵＶ−ａｎｄ ＶＵＶ Ｅｘｉｃｉｍｅｒｓｔｒａ
ｈｌｅｒ”,Ｖ．Ｋｏｇｅｌｓｃｈａｔｚ、Ｂ．Ｅｌｉ
ａｓｓｏｎ著、第１０回ドイツ化学者協会講演大会、専
門群、光化学、ヴュルツブルグ（旧西ドイツ）、１９８
７年１１月には、新しいエキシマビーム発生器が記載さ
れている。この新しいビーム発生器形式は、エキシマビ
ームを無声放電においても形成し得ることと、オゾン発
生のために工業的に使用される放電形式に基づいてい
る。この放電の短時間（＜１ｍｓ）でのみ存在する電流
フィラメントにおいて、希ガス原子が電子衝突によって
励起され、希ガス原子は励起された分子群（エキシマ）
に対してさらに反応する。このエキシマの寿命は僅か数
１００ｎｓであり、崩壊の際にその結合エネルギをＵＶ
ビームの形で放出する。
ｅ ＵＶ−ａｎｄ ＶＵＶ Ｅｘｉｃｉｍｅｒｓｔｒａ
ｈｌｅｒ”,Ｖ．Ｋｏｇｅｌｓｃｈａｔｚ、Ｂ．Ｅｌｉ
ａｓｓｏｎ著、第１０回ドイツ化学者協会講演大会、専
門群、光化学、ヴュルツブルグ（旧西ドイツ）、１９８
７年１１月には、新しいエキシマビーム発生器が記載さ
れている。この新しいビーム発生器形式は、エキシマビ
ームを無声放電においても形成し得ることと、オゾン発
生のために工業的に使用される放電形式に基づいてい
る。この放電の短時間（＜１ｍｓ）でのみ存在する電流
フィラメントにおいて、希ガス原子が電子衝突によって
励起され、希ガス原子は励起された分子群（エキシマ）
に対してさらに反応する。このエキシマの寿命は僅か数
１００ｎｓであり、崩壊の際にその結合エネルギをＵＶ
ビームの形で放出する。
【０００５】この種のエキシマビーム発生器の構成は電
流供給部まではほぼ古典的オゾン発生器に相応する。大
きな相違は、放電室を画定する電極および／または誘電
層の少なくとも１つが、生成されたビームのために透明
であることである。この電極の少なくとも１つは、生成
されたビームに対して僅かしか影になってはならない。
ビーム発生器に対するその他の要求は、このビーム発生
器が高出力密度の際にも可及的に僅かな熱しか放出しな
いことである。この特性は特に、印刷インキが感熱性の
担体上でしばしば硬化しなければならないようなグラフ
ィック工業での適用の際に重要である。
流供給部まではほぼ古典的オゾン発生器に相応する。大
きな相違は、放電室を画定する電極および／または誘電
層の少なくとも１つが、生成されたビームのために透明
であることである。この電極の少なくとも１つは、生成
されたビームに対して僅かしか影になってはならない。
ビーム発生器に対するその他の要求は、このビーム発生
器が高出力密度の際にも可及的に僅かな熱しか放出しな
いことである。この特性は特に、印刷インキが感熱性の
担体上でしばしば硬化しなければならないようなグラフ
ィック工業での適用の際に重要である。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、その
電極がビームに対して可及的に僅かしか影にならず（シ
ャドウィング作用をせず）、ビーム発生器が理想的に冷
却可能である、例えばＵＶビームまたはＶＵＶビーム用
のビーム発生器を有する照射装置を提供することであ
る。
電極がビームに対して可及的に僅かしか影にならず（シ
ャドウィング作用をせず）、ビーム発生器が理想的に冷
却可能である、例えばＵＶビームまたはＶＵＶビーム用
のビーム発生器を有する照射装置を提供することであ
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記課題は本発明によ
り、ビーム発生器は冷却剤浴に、第１の誘電体と少なく
とも第１電極とが冷却剤により回りを洗われるように浸
漬されており、少なくも前記冷却剤浴の壁部と冷却剤自
体が生成されたビームに対して透過性であるように構成
して解決される。
り、ビーム発生器は冷却剤浴に、第１の誘電体と少なく
とも第１電極とが冷却剤により回りを洗われるように浸
漬されており、少なくも前記冷却剤浴の壁部と冷却剤自
体が生成されたビームに対して透過性であるように構成
して解決される。
【０００８】このように構成された照射装置は実際上の
すべての要求を満たす。
すべての要求を満たす。
【０００９】−本発明は絶対的冷型ビーム発生器を可能
にする。このようなビーム発生器は特に、感熱性の担体
上の印刷インキの硬化と関連して重要である。
にする。このようなビーム発生器は特に、感熱性の担体
上の印刷インキの硬化と関連して重要である。
【００１０】−外部電極は簡単な構造のものとすること
ができる。ビーム発生器長手方向に延在する、少数の金
属条材または金属ワイヤで十分である。この金属条材ま
たは金属ワイヤは外部誘電体に載置する必要はない。こ
のようにして誘電体を簡単に交換することができる。
ができる。ビーム発生器長手方向に延在する、少数の金
属条材または金属ワイヤで十分である。この金属条材ま
たは金属ワイヤは外部誘電体に載置する必要はない。こ
のようにして誘電体を簡単に交換することができる。
【００１１】−冷却剤、有利には水が外部電極と、ビー
ム発生器の外壁との間の外部放電を阻止する。これはオ
ゾン形成を阻止する。
ム発生器の外壁との間の外部放電を阻止する。これはオ
ゾン形成を阻止する。
【００１２】−外部放電が生成され得ないから、スパッ
タによる金属析出が阻止される。すなわち、ＵＶ透過性
が比較的に長い動作時間の後も低下しない。
タによる金属析出が阻止される。すなわち、ＵＶ透過性
が比較的に長い動作時間の後も低下しない。
【００１３】−それぞれの適用において、全面の閉鎖さ
れた冷却剤浴によってのみ動作が可能であり、ＵＶビー
ムが窓を通ってのみこの浴を通過可能である場合、この
窓を容易に洗浄し、または交換することができる。この
ことは、インキ残滓を頻繁に除去しなければならないグ
ラフィック工業での適用において重要である。
れた冷却剤浴によってのみ動作が可能であり、ＵＶビー
ムが窓を通ってのみこの浴を通過可能である場合、この
窓を容易に洗浄し、または交換することができる。この
ことは、インキ残滓を頻繁に除去しなければならないグ
ラフィック工業での適用において重要である。
【００１４】−本発明は、純然たるモジュール構成の他
に、複数のビーム発生器を同じ浴に統合することも可能
にする。
に、複数のビーム発生器を同じ浴に統合することも可能
にする。
【００１５】本発明の第１の有利な実施例では、冷却剤
浴の壁部に、ＵＶビームを良好に反射する層を設ける。
または壁部がアルミニウム製またはアルミニウム合金製
の場合、これを研磨する。別の実施例では、外部誘電管
の外面の一部にＵＶ反射性の層を設ける。さらに別の実
施例では、冷却剤浴に別個の反射器を組み込む。この反
射器は、ビーム発生器により生成されるＵＶビームの大
部分が、実際のビーム発生器をもう一度通過する必要な
しに浴を去るよう構成される。
浴の壁部に、ＵＶビームを良好に反射する層を設ける。
または壁部がアルミニウム製またはアルミニウム合金製
の場合、これを研磨する。別の実施例では、外部誘電管
の外面の一部にＵＶ反射性の層を設ける。さらに別の実
施例では、冷却剤浴に別個の反射器を組み込む。この反
射器は、ビーム発生器により生成されるＵＶビームの大
部分が、実際のビーム発生器をもう一度通過する必要な
しに浴を去るよう構成される。
【００１６】このすべての変形実施例において、冷却剤
浴はビーム発生器の給電のための電流源の電気的および
電子的構成素子を冷却するためにも使用される。これは
例えば、冷却すべき部材を直接外壁部に設けることによ
り行う。
浴はビーム発生器の給電のための電流源の電気的および
電子的構成素子を冷却するためにも使用される。これは
例えば、冷却すべき部材を直接外壁部に設けることによ
り行う。
【００１７】本発明の特別な構成およびそこから得られ
る利点について、以下図面に基づいて詳細に説明する。
る利点について、以下図面に基づいて詳細に説明する。
【００１８】
【実施例】図１および図２に模式的に示された照射装置
はＵＶ高出力ビーム発生器を有する。このＵＶ高出力ビ
ーム発生器は、外部の誘電管１（例えば石英ガラス製）
およびそれに同心配置された内部の誘電管２からなる。
内部誘電管の内壁には内部電極３が設けられている。２
つの管１と２の間のリング状空間はビーム発生器の放電
室４を形成する。内部管２はガス気密に外部管１へ差し
込まれており、外部管には前もってガスまたはガス混合
体が充填されている。このガスは無声放電の影響の下で
ＵＶビームまたはＶＵＶビームを放射する。
はＵＶ高出力ビーム発生器を有する。このＵＶ高出力ビ
ーム発生器は、外部の誘電管１（例えば石英ガラス製）
およびそれに同心配置された内部の誘電管２からなる。
内部誘電管の内壁には内部電極３が設けられている。２
つの管１と２の間のリング状空間はビーム発生器の放電
室４を形成する。内部管２はガス気密に外部管１へ差し
込まれており、外部管には前もってガスまたはガス混合
体が充填されている。このガスは無声放電の影響の下で
ＵＶビームまたはＶＵＶビームを放射する。
【００１９】外部電極５として目の粗い金属メッシュを
用いるか、または外部電極は管長手方向に延在する個々
の金属ワイヤまたは金属条材からなる。外部電極は外部
管１のほぼ上側半周囲にわたって延在する。条材状の電
極構成の場合、個々の条材は軸上に分布された複数の個
所で相互に接続される。外部電極５も、外部誘電管１
も、生成されたＵＶビームに対して透過性である。管１
の下側周囲には反射器６が設けられている。これは例え
ば蒸着したアルミニウム層により実現することができ
る。この反射器は外部電極５と同じ電位にある。
用いるか、または外部電極は管長手方向に延在する個々
の金属ワイヤまたは金属条材からなる。外部電極は外部
管１のほぼ上側半周囲にわたって延在する。条材状の電
極構成の場合、個々の条材は軸上に分布された複数の個
所で相互に接続される。外部電極５も、外部誘電管１
も、生成されたＵＶビームに対して透過性である。管１
の下側周囲には反射器６が設けられている。これは例え
ば蒸着したアルミニウム層により実現することができ
る。この反射器は外部電極５と同じ電位にある。
【００２０】上に述べたビーム発生器は金属壁部７、
８、９、１７、１８により画定された冷却剤浴１０に浸
漬される。この浴には冷却剤流入部１１と冷却剤流出部
１２を介し、冷却剤、有利には蒸留水が流過する。上部
にはＵＶ透過性の窓１３、例えば石英ガラス製が設けら
れている。
８、９、１７、１８により画定された冷却剤浴１０に浸
漬される。この浴には冷却剤流入部１１と冷却剤流出部
１２を介し、冷却剤、有利には蒸留水が流過する。上部
にはＵＶ透過性の窓１３、例えば石英ガラス製が設けら
れている。
【００２１】発生したビームを窓１３を通して外部空間
へ案内するための別の有利な手段は、壁部７、８、９の
の内側を鏡面仕上げすることである。これはアルミニウ
ム壁部の場合、表面の研磨により行うことができる。有
利な実施例では、容器壁部を最適に鏡面化するために浴
の底部部分に別個の反射器１４を設ける。この反射器は
多数の割目１５を有しており、容器壁部と同じ電位にあ
る。割目は流入部１１から流出部１２への十分な冷却剤
流を可能にする。反射器１４は、この反射器によりビー
ム発生器から下方に照射されたＵＶビームの大部分が反
射され、その際ビームがもう一度誘電体１と２を通過す
る必要のないように構成されている。反射器１４の断面
は、２つのパラボラ型部分から統合するも考えられる。
へ案内するための別の有利な手段は、壁部７、８、９の
の内側を鏡面仕上げすることである。これはアルミニウ
ム壁部の場合、表面の研磨により行うことができる。有
利な実施例では、容器壁部を最適に鏡面化するために浴
の底部部分に別個の反射器１４を設ける。この反射器は
多数の割目１５を有しており、容器壁部と同じ電位にあ
る。割目は流入部１１から流出部１２への十分な冷却剤
流を可能にする。反射器１４は、この反射器によりビー
ム発生器から下方に照射されたＵＶビームの大部分が反
射され、その際ビームがもう一度誘電体１と２を通過す
る必要のないように構成されている。反射器１４の断面
は、２つのパラボラ型部分から統合するも考えられる。
【００２２】電極３と５は交流電源６の各極に接続され
ている。交流電源は基本的に、この電流源がオゾン生成
の給電に使用されるのと基本的に相応する。典型的には
交流電流源は数１００Ｖから２００００Ｖまでのオーダ
の大きさで調整可能な交流電圧を送出する。この交流電
圧の周波数は数１０００ｋＨｚまでの技術的交流電流の
領域において、電極の幾何学的形状、放電空管４の圧力
および充填ガスの組成に依存する。
ている。交流電源は基本的に、この電流源がオゾン生成
の給電に使用されるのと基本的に相応する。典型的には
交流電流源は数１００Ｖから２００００Ｖまでのオーダ
の大きさで調整可能な交流電圧を送出する。この交流電
圧の周波数は数１０００ｋＨｚまでの技術的交流電流の
領域において、電極の幾何学的形状、放電空管４の圧力
および充填ガスの組成に依存する。
【００２３】充填ガスは例えば、水銀、希ガス、希ガス
金属蒸気混合気、希ガスハロゲン混合気であり、場合に
より付加的に別の希ガス、有利にはＡｒ、Ｈｅ、Ｎｅが
緩衝ガスとして使用される。
金属蒸気混合気、希ガスハロゲン混合気であり、場合に
より付加的に別の希ガス、有利にはＡｒ、Ｈｅ、Ｎｅが
緩衝ガスとして使用される。
【００２４】ビームの所望のスペクトル組成に応じて、
物質／物質混合気が以下の表に従い使用される。
物質／物質混合気が以下の表に従い使用される。
【００２５】 充填ガス ビーム ヘリウム ６０〜１００ ｎｍ ネオン ８０〜９０ ｎｍ アルゴン １０７〜１６５ｎｍ アルゴン＋フッ素 １８０〜２００ｎｍ アルゴン＋塩素 １６５〜１９０ｎｍ アルゴン＋クリプトン＋塩素 １６５〜１９０、２００〜２４０ｎｍ クセノン １６５〜１９ｎｍ 窒素 ３３７〜４１５ｎｍ クリプトン １２４、１４０〜１６０ｎｍ クリプトン＋フッ素 ２４０〜２５５ｎｍ クリプトン＋塩素 ２００〜２４０ｎｍ 水銀 185,254,320〜370nm,390〜420nm セレン １９６、２０４、２０６ｎｍ ジューテリウム １５０〜２５０ｎｍ クセノン＋フッ素 ３４０〜３６０、４００〜５５０ｎｍ クセノン＋塩素 ３００〜３２０ｎｍ その他、次の一連の充填ガスが考えられる。
【００２６】−希ガス（Ａｒ、Ｈｅ、Ｋｒ、Ｎｅ、Ｘ
ｅ）または水銀とＦ2、Ｊ2、Ｂｒ2、Ｃｌ2のガスないし
蒸気、または放電中に１つまたは複数のＦ、Ｊ、Ｂｒま
たはＣｌの原子を分離する化合物； −希ガス（Ａｒ、Ｈｅ、Ｋｒ、Ｎｅ、Ｘｅ）または水銀
と酸素または放電中に１つまたは複数の原子を分離する
結合物； −希ガス（Ａｒ、Ｈｅ、Ｋｒ、Ｎｅ、Ｘｅ）と水銀。
ｅ）または水銀とＦ2、Ｊ2、Ｂｒ2、Ｃｌ2のガスないし
蒸気、または放電中に１つまたは複数のＦ、Ｊ、Ｂｒま
たはＣｌの原子を分離する化合物； −希ガス（Ａｒ、Ｈｅ、Ｋｒ、Ｎｅ、Ｘｅ）または水銀
と酸素または放電中に１つまたは複数の原子を分離する
結合物； −希ガス（Ａｒ、Ｈｅ、Ｋｒ、Ｎｅ、Ｘｅ）と水銀。
【００２７】生成される無声放電（サイレントディスチ
ャージ）では、電子エネルギ分布を誘電体１と２の厚さ
およびその特性、放電室中の圧力および／または温度に
より最適に調整することができる。
ャージ）では、電子エネルギ分布を誘電体１と２の厚さ
およびその特性、放電室中の圧力および／または温度に
より最適に調整することができる。
【００２８】電極３と５の間に交流電圧が印加される際
に、多数の放電チャネル（部分放電）が放電室４に生じ
る。この放電チャネルは充填ガスの原子／分子と相互作
用する。これも最終的にＵＶビームまたはＶＵＶビーム
につながる。
に、多数の放電チャネル（部分放電）が放電室４に生じ
る。この放電チャネルは充填ガスの原子／分子と相互作
用する。これも最終的にＵＶビームまたはＶＵＶビーム
につながる。
【００２９】
【発明の効果】本発明により、その電極がビームに対し
て可及的に僅かしか影にならず、ビーム発生器が理想的
に冷却可能である、例えばＵＶビームまたはＶＵＶビー
ム用のビーム発生器を有する照射装置が得られる。
て可及的に僅かしか影にならず、ビーム発生器が理想的
に冷却可能である、例えばＵＶビームまたはＶＵＶビー
ム用のビーム発生器を有する照射装置が得られる。
【図１】冷却剤浴に浸漬された円筒型ＵＶビーム発生器
を有するビーム照射装置の模式図である。
を有するビーム照射装置の模式図である。
【図２】図１の装置の線ＡＡに沿った断面図である。
【図３】冷却剤浴に浸漬された、別個の反射器を有する
図１の装置の変形実施例を示す模式図である。
図１の装置の変形実施例を示す模式図である。
１ 外部誘電管 ２ 内部誘電管 ３ 内部電極 ４ 放電室 ５ 外部電極 ６ １の反射器 ７、８、９ 冷却剤浴の壁部 １０ 冷却剤浴 １１ 流入部 １２ 流出部 １３ 窓 １４ 別個の反射器 １５ １４の割目 １６ 交流電源
Claims (6)
- 【請求項１】 放電条件下でビームを発射する充填ガス
の充填された放電室と、 放電の給電のための交流電源とを有する、高出力ビーム
発生器を有する照射装置であって、 前記交流電源は第１および第２の電極に接続されてお
り、 前記放電室の壁部は第１および第２の誘電体により形成
され、該放電室とは反対側の該誘電体の表面には格子状
または網状の金属第１電極と第２電極が設けられている
高出力ビーム発生器を有する照射装置において、 ビーム発生器は冷却剤浴（１０）に、前記第１の誘電体
（１）と少なくとも前記第１電極とが冷却剤により回り
を洗われるように浸漬されており、 少なくとも前記冷却剤浴の壁部（１３）と冷却剤自体が
生成されたビームに対して透過性であることを特徴とす
る、高出力ビーム発生器を有する照射装置。 - 【請求項２】 冷却剤浴（１０）の壁部（７、８、９）
にＵＶビームを良好に反射する層が設けられているか、
またはアルミニウム製またはアルミニウム合金製の壁部
（７、８、９）の場合、壁部が鏡面研磨されている請求
項１記載の照射装置。 - 【請求項３】 外部誘電管（１）の外面にはＵＶ反射性
の層（６）が設けられている請求項１記載の照射装置。 - 【請求項４】 冷却剤浴（１０）に別個の反射器（１
４）が組み込まれており、該別個の反射器は、前記ビー
ム発生器により生成されたＵＶビームの大部分がビーム
発生器を再度通過する必要なしに冷却剤浴（１０）を去
るように構成されている請求項１または２記載の照射装
置。 - 【請求項５】 冷却剤浴（１０）は、ビーム発生器の給
電用電流源の電気構成素子および電子構成素子の冷却に
も使用される請求項１から４までのいずれか１記載の照
射装置。 - 【請求項６】 前記高出力ビーム発生器がＵＶビーム用
である請求項１から５までのいずれか１記載の照射装
置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE91108988.6 | 1991-06-01 | ||
| EP19910108988 EP0517929B1 (de) | 1991-06-01 | 1991-06-01 | Bestrahlungseinrichtung mit einem Hochleistungsstrahler |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05174793A JPH05174793A (ja) | 1993-07-13 |
| JP2540415B2 true JP2540415B2 (ja) | 1996-10-02 |
Family
ID=8206793
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4140219A Expired - Lifetime JP2540415B2 (ja) | 1991-06-01 | 1992-06-01 | 高出力ビ―ム発生器を有する照射装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0517929B1 (ja) |
| JP (1) | JP2540415B2 (ja) |
| CA (1) | CA2068574A1 (ja) |
| DE (1) | DE59104972D1 (ja) |
Families Citing this family (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996033872A1 (de) * | 1995-04-27 | 1996-10-31 | Metronic-Gerätebau Gmbh & Co. | Verfahren und vorrichtung zum härten von uv-druckfarben |
| EP1059659A4 (en) * | 1998-12-28 | 2002-03-13 | Japan Storage Battery Co Ltd | QUIET DISCHARGE TUBE AND METHOD OF USE |
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| NL48671C (ja) * | ||||
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-
1991
- 1991-06-01 EP EP19910108988 patent/EP0517929B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1991-06-01 DE DE59104972T patent/DE59104972D1/de not_active Expired - Fee Related
-
1992
- 1992-05-13 CA CA 2068574 patent/CA2068574A1/en not_active Abandoned
- 1992-06-01 JP JP4140219A patent/JP2540415B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE59104972D1 (de) | 1995-04-20 |
| EP0517929A1 (de) | 1992-12-16 |
| JPH05174793A (ja) | 1993-07-13 |
| CA2068574A1 (en) | 1992-12-02 |
| EP0517929B1 (de) | 1995-03-15 |
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