JP2533811Y2 - 微粉、超微粉製造用気相化学反応装置 - Google Patents
微粉、超微粉製造用気相化学反応装置Info
- Publication number
- JP2533811Y2 JP2533811Y2 JP11720890U JP11720890U JP2533811Y2 JP 2533811 Y2 JP2533811 Y2 JP 2533811Y2 JP 11720890 U JP11720890 U JP 11720890U JP 11720890 U JP11720890 U JP 11720890U JP 2533811 Y2 JP2533811 Y2 JP 2533811Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- section
- reaction
- vaporization
- fine powder
- introduction pipe
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本考案は、気相化学反応装置に関するものである。
〈従来の技術〉 第４図は、特開昭59-170211号公報に記載された金属
微粉製造用の気相化学反応装置30を示す模式図である。
第４図において、31は易気化性金属化合物の気化部、32
は反応部、33は粉末捕集部、34は易気化性金属化合物蒸
気導入管、35は還元ガス導入管である。気化部31は、易
気化性金属化合物（例えば、FeCl2、NiCl2、WCl6等の金
属ハロゲン化物）を蒸発気化させ、反応部32は、易気化
性金属化合物蒸気と還元ガスとを接触、混合し、気相化
学反応の進行により微粉を生成する。
微粉製造用の気相化学反応装置30を示す模式図である。
第４図において、31は易気化性金属化合物の気化部、32
は反応部、33は粉末捕集部、34は易気化性金属化合物蒸
気導入管、35は還元ガス導入管である。気化部31は、易
気化性金属化合物（例えば、FeCl2、NiCl2、WCl6等の金
属ハロゲン化物）を蒸発気化させ、反応部32は、易気化
性金属化合物蒸気と還元ガスとを接触、混合し、気相化
学反応の進行により微粉を生成する。
また、第５図は、特開昭63-156532号公報に記載され
た金属微粉製造用の気相化学反応装置40を示す模式図で
ある。本公報においては、易気化性金属化合物投入管4
1、キャリアガス導入管42を備え、気化用るつぼ43を内
蔵してなる上部気化部44と、上部気化部44を上下に貫通
し、上部気化部44の底部下方に開口する反応ガス導入管
45を備えてなる中間反応部46と、上部気化部44と中間反
応部46を加熱する加熱装置47と、中間反応部46の下部に
配置される下部冷却部48からなる気相化学反応装置を開
示している。本公報によれば、上部気化部44と中間反応
部46の直結による反応装置のコンパクト化、および反応
部を気化部の下部に設置することによる生成粉末粒子の
反応器内滞留、付着防止、粒子異常成長防止を図ってい
る。
た金属微粉製造用の気相化学反応装置40を示す模式図で
ある。本公報においては、易気化性金属化合物投入管4
1、キャリアガス導入管42を備え、気化用るつぼ43を内
蔵してなる上部気化部44と、上部気化部44を上下に貫通
し、上部気化部44の底部下方に開口する反応ガス導入管
45を備えてなる中間反応部46と、上部気化部44と中間反
応部46を加熱する加熱装置47と、中間反応部46の下部に
配置される下部冷却部48からなる気相化学反応装置を開
示している。本公報によれば、上部気化部44と中間反応
部46の直結による反応装置のコンパクト化、および反応
部を気化部の下部に設置することによる生成粉末粒子の
反応器内滞留、付着防止、粒子異常成長防止を図ってい
る。
すなわち、上記気相化学反応装置にあっては、気化部
で蒸発気化した金属化合物がキャリアガスによって反応
部に導かれて別に導入された還元ガスと反応することに
より微粉、超微粉を生成し、これらの微粉、超微粉は粉
末捕集器において回収される。
で蒸発気化した金属化合物がキャリアガスによって反応
部に導かれて別に導入された還元ガスと反応することに
より微粉、超微粉を生成し、これらの微粉、超微粉は粉
末捕集器において回収される。
〈考案が解決しようとする課題〉 上記従来の気相化学反応装置にあっては、気化部およ
び反応部を外部から電気炉等の加熱により、所定の気化
温度および反応温度を得ているが、ある程度の量産が可
能な工業規模の反応装置にスケールを拡大した場合、気
化部および反応部のみの外部加熱では所定の気化、反応
温度にガスが加熱されないという問題があった。
び反応部を外部から電気炉等の加熱により、所定の気化
温度および反応温度を得ているが、ある程度の量産が可
能な工業規模の反応装置にスケールを拡大した場合、気
化部および反応部のみの外部加熱では所定の気化、反応
温度にガスが加熱されないという問題があった。
そのため、実操業としては、所定の気化、反応温度を
得るために外部加熱炉の設定温度を所定の気化、反応温
度以上に加熱する必要があり、熱効率上ロスが大きいと
う問題があった。
得るために外部加熱炉の設定温度を所定の気化、反応温
度以上に加熱する必要があり、熱効率上ロスが大きいと
う問題があった。
所定の気化、反応温度を得るための一つの方法とし
て、反応器および外部加熱炉全体を充分長くすることが
考えられるが、装置が長大になりコンパクト化が困難で
あるうえ、熱効率のロスという基本的な問題の解決には
なっていない。あるいは、ガス（キャリアガスおよび反
応ガス）を予め加熱する予熱装置を取りつける等の手段
が考えられるが、従来の反応器ではその構造上、前段階
として予熱装置を設置し、反応器との間に設けられた保
温材等による保温部により反応器と予熱器を接続する必
要があり、これもまた、装置全体の装置スペースが広く
なるという不都合が生じるばかりでなく、保温部におけ
るエネルギーロスが問題となる。
て、反応器および外部加熱炉全体を充分長くすることが
考えられるが、装置が長大になりコンパクト化が困難で
あるうえ、熱効率のロスという基本的な問題の解決には
なっていない。あるいは、ガス（キャリアガスおよび反
応ガス）を予め加熱する予熱装置を取りつける等の手段
が考えられるが、従来の反応器ではその構造上、前段階
として予熱装置を設置し、反応器との間に設けられた保
温材等による保温部により反応器と予熱器を接続する必
要があり、これもまた、装置全体の装置スペースが広く
なるという不都合が生じるばかりでなく、保温部におけ
るエネルギーロスが問題となる。
本考案の目的は、反応器における所定の気化、反応温
度を効率よく確実に達成し、しかもエネルギーロスがな
く、かつコンパクトな気相化学反応装置を提供すること
である。
度を効率よく確実に達成し、しかもエネルギーロスがな
く、かつコンパクトな気相化学反応装置を提供すること
である。
〈課題を解決するための手段〉 すなわち、本考案は、易気化性金属化合物の投入管及
びキャリアガス導入管を備え、気化用るつぼを内蔵して
なる気化部と、気化部のほぼ中央部を上下に貫通し気化
部底下に開口部を有する反応ガス導入管を備えてなる反
応部とを有し、かつ気化部とその下に位置する反応部と
を包囲する加熱装置を有する気相化学反応装置におい
て、キャリアガス導入管及び反応ガス導入管を気化部の
内側部において予熱装置で包囲したことを特徴とする微
粉、超微粉製造用気相化学反応装置である。
びキャリアガス導入管を備え、気化用るつぼを内蔵して
なる気化部と、気化部のほぼ中央部を上下に貫通し気化
部底下に開口部を有する反応ガス導入管を備えてなる反
応部とを有し、かつ気化部とその下に位置する反応部と
を包囲する加熱装置を有する気相化学反応装置におい
て、キャリアガス導入管及び反応ガス導入管を気化部の
内側部において予熱装置で包囲したことを特徴とする微
粉、超微粉製造用気相化学反応装置である。
〈作用〉 本考案によれば、キャリアガス導入管及び反応ガス導
入管の予熱装置が気化部の内側部に備えられているた
め、予熱装置と反応器との間に保温材等による保温部の
設置が不要となるため、装置構成がコンパクトとなり、
また、保温部におけるエネルギーロスを防ぐことができ
る。
入管の予熱装置が気化部の内側部に備えられているた
め、予熱装置と反応器との間に保温材等による保温部の
設置が不要となるため、装置構成がコンパクトとなり、
また、保温部におけるエネルギーロスを防ぐことができ
る。
予熱装置により、所定の気化、反応温度にほぼ充分加
熱されたキャリアガス及び反応ガスをそれぞれ、気化
部、反応部に導入するため、気化部及び反応部に設置さ
れた外部加熱装置は、気化部及び反応部を所定の温度に
保持する程度のエネルギーを供給するだけでよく、エネ
ルギー効率の優れた反応器を達成することができる。
熱されたキャリアガス及び反応ガスをそれぞれ、気化
部、反応部に導入するため、気化部及び反応部に設置さ
れた外部加熱装置は、気化部及び反応部を所定の温度に
保持する程度のエネルギーを供給するだけでよく、エネ
ルギー効率の優れた反応器を達成することができる。
〈実施例〉 第１図に本考案の実施例を示す。気相化学反応装置１
は、竪型をなしており、キャリアガス導入管９及び反応
ガス導入管予熱部２、予熱装置３、気化部４、反応部
５、外部加熱装置６、冷却部７によって構成され、気体
の流れを下向きに設定してる。
は、竪型をなしており、キャリアガス導入管９及び反応
ガス導入管予熱部２、予熱装置３、気化部４、反応部
５、外部加熱装置６、冷却部７によって構成され、気体
の流れを下向きに設定してる。
気化部４は、易気化性金属化合物投入口８、易気化性
金属化合物を反応部５へ送るキャリアガス導入管９の開
口部、２重円筒状の気化るつぼ10を内蔵している。気化
部４の下部に位置する反応部５は、反応ガス導入管11の
開口部が設置されている。反応ガス導入管11は、円筒状
のキャリアガス導入管の内部を通り、２重円筒状の気化
るつぼ10の中心に貫通配置している。
金属化合物を反応部５へ送るキャリアガス導入管９の開
口部、２重円筒状の気化るつぼ10を内蔵している。気化
部４の下部に位置する反応部５は、反応ガス導入管11の
開口部が設置されている。反応ガス導入管11は、円筒状
のキャリアガス導入管の内部を通り、２重円筒状の気化
るつぼ10の中心に貫通配置している。
予熱部２は、２重円筒で構成されたキャリアガス導入
管９及び反応ガス導入管11が中心貫通配置するように、
円筒型予熱装置３により包囲されている。予熱装置３は
気化部４の直上内側部に位置するが、易気化性金属化合
物蒸気とは直接接触しないように隔離された構造となっ
ている。反応器内部のガス雰囲気（易気化性金属化合物
蒸気等）によって、予熱装置が腐食等の影響を受けなけ
れば、とくに隔離する必要はないが、装置メンテナンス
や製造粉中への不純物混入防止を考慮した場合、この気
相化学反応装置１のように予熱設備は反応系外に設置し
た方が好ましい。
管９及び反応ガス導入管11が中心貫通配置するように、
円筒型予熱装置３により包囲されている。予熱装置３は
気化部４の直上内側部に位置するが、易気化性金属化合
物蒸気とは直接接触しないように隔離された構造となっ
ている。反応器内部のガス雰囲気（易気化性金属化合物
蒸気等）によって、予熱装置が腐食等の影響を受けなけ
れば、とくに隔離する必要はないが、装置メンテナンス
や製造粉中への不純物混入防止を考慮した場合、この気
相化学反応装置１のように予熱設備は反応系外に設置し
た方が好ましい。
予熱部２の長さは、所定反応、気化温度に充分達する
程度の長さにし、所定反応、気化温度に充分達したガス
をそれぞれ、気化部４、反応部５に供給し、外部加熱装
置６は、所定反応、気化温度を保持する程度に維持する
のが好ましい。
程度の長さにし、所定反応、気化温度に充分達したガス
をそれぞれ、気化部４、反応部５に供給し、外部加熱装
置６は、所定反応、気化温度を保持する程度に維持する
のが好ましい。
外部加熱装置６は、気化部４、反応部５をそれぞれ所
定の温度にコントロールし保持できるようになってい
る。外部加熱装置６と予熱装置３の位置関係としては、
それぞれの装置端が少し重なる程度が熱効率上望まし
い。
定の温度にコントロールし保持できるようになってい
る。外部加熱装置６と予熱装置３の位置関係としては、
それぞれの装置端が少し重なる程度が熱効率上望まし
い。
なお、大径の円筒状である気化部、小径円筒状の反応
部から成る反応器本体12と、キャリアガス導入管９、反
応ガス導入管11、予熱部２、予熱装置３が一体となった
反応器ノズル部13は切離しでき、操業後に取り外して清
掃することが可能である。
部から成る反応器本体12と、キャリアガス導入管９、反
応ガス導入管11、予熱部２、予熱装置３が一体となった
反応器ノズル部13は切離しでき、操業後に取り外して清
掃することが可能である。
冷却部７は、反応部の下部に位置し、水ジャケットを
備えるとともにその出口は粉末回収装置に接続される。
備えるとともにその出口は粉末回収装置に接続される。
第２図は本考案の他の実施例を示す、この気相化学反
応装置20が前記反応装置１と異なる点は、予熱部21にお
いて、キャリアガス導入管22及び反応ガス導入管28にそ
れぞれ個別に予熱装置24及び25が設置されていることで
ある。これにより、それぞれ独立に所定温度制御された
キャリアガスと反応ガスを、外部加熱装置26、27によっ
てそれぞれ独立に所定温度に制御された気化部、反応部
に供給することができる。
応装置20が前記反応装置１と異なる点は、予熱部21にお
いて、キャリアガス導入管22及び反応ガス導入管28にそ
れぞれ個別に予熱装置24及び25が設置されていることで
ある。これにより、それぞれ独立に所定温度制御された
キャリアガスと反応ガスを、外部加熱装置26、27によっ
てそれぞれ独立に所定温度に制御された気化部、反応部
に供給することができる。
第３図は反応器本体の下端部と冷却器と粉末回収器の
縦断面図を示す。図の如く、反応器本体から粉末回収器
に至る輸送壁面ｆを垂直面に形成すると生成された粉末
の輸送壁面への付着量も低減することができるので粉末
の回収率が向上する。また、粉末回収容器にフィルタを
設置すると粉末の回収は容易になる。更にフィルタの下
部に容器を着脱自在に備えると粉末の回収は一層容易と
なる。また、冷却器の入側からガスを、冷却器を通過さ
せて供給することは、気相化学反応を起こした蒸気を急
速冷却するのに効果的である。
縦断面図を示す。図の如く、反応器本体から粉末回収器
に至る輸送壁面ｆを垂直面に形成すると生成された粉末
の輸送壁面への付着量も低減することができるので粉末
の回収率が向上する。また、粉末回収容器にフィルタを
設置すると粉末の回収は容易になる。更にフィルタの下
部に容器を着脱自在に備えると粉末の回収は一層容易と
なる。また、冷却器の入側からガスを、冷却器を通過さ
せて供給することは、気相化学反応を起こした蒸気を急
速冷却するのに効果的である。
〈考案の効果〉 本考案によれば、キャリアガス導入管及び反応ガス導
入管予熱部が気化部に隣接して設置できるので、エネル
ギー効率の優れた反応器を達成することができ、金属や
セラミックスの微粉、超微粉を低コストで生産すること
ができる。
入管予熱部が気化部に隣接して設置できるので、エネル
ギー効率の優れた反応器を達成することができ、金属や
セラミックスの微粉、超微粉を低コストで生産すること
ができる。
第１図は本考案の一実施例を示す模式図、第２図及び第
３図は本考案の他の実施例を示す模式図、第４図及び第
５図は従来例を示す模式図である。 １、20、30、40……気相化学反応装置、２……予熱部、
３……予熱装置、４……気化部、５……反応部、６……
外部加熱装置、７……冷却部、８……易気化性金属化合
物投入口、９……キャリアガス導入管、10……気化るつ
ぼ、11……反応ガス導入管。
３図は本考案の他の実施例を示す模式図、第４図及び第
５図は従来例を示す模式図である。 １、20、30、40……気相化学反応装置、２……予熱部、
３……予熱装置、４……気化部、５……反応部、６……
外部加熱装置、７……冷却部、８……易気化性金属化合
物投入口、９……キャリアガス導入管、10……気化るつ
ぼ、11……反応ガス導入管。
Claims (1)
- 【請求項１】易気化性金属化合物の投入管及びキャリア
ガス導入管を備え、気化用るつぼを内蔵してなる気化部
と、気化部のほぼ中央部を上下に貫通し気化部底下に開
口部を有する反応ガス導入管を備えてなる反応部とを有
し、かつ気化部とその下に位置する反応部とを包囲する
加熱装置を有する気相化学反応装置において、キャリア
ガス導入管及び反応ガス導入管を気化部の内側部におい
て予熱装置で包囲したことを特徴とする微粉、超微粉製
造用気相化学反応装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11720890U JP2533811Y2 (ja) | 1990-11-09 | 1990-11-09 | 微粉、超微粉製造用気相化学反応装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11720890U JP2533811Y2 (ja) | 1990-11-09 | 1990-11-09 | 微粉、超微粉製造用気相化学反応装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0474538U JPH0474538U (ja) | 1992-06-30 |
| JP2533811Y2 true JP2533811Y2 (ja) | 1997-04-23 |
Family
ID=31865090
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11720890U Expired - Fee Related JP2533811Y2 (ja) | 1990-11-09 | 1990-11-09 | 微粉、超微粉製造用気相化学反応装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2533811Y2 (ja) |
-
1990
- 1990-11-09 JP JP11720890U patent/JP2533811Y2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0474538U (ja) | 1992-06-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN100439237C (zh) | 用于制造纳米粉末的感应耦合等离子反应器 | |
| US5073193A (en) | Method of collecting plasma synthesize ceramic powders | |
| CN101687658B (zh) | 高效反应器和方法 | |
| EP2016998B1 (en) | Nano particle generator | |
| JP5425196B2 (ja) | 金属チタンの製造方法 | |
| JP2000093701A (ja) | 昇華精製方法及び装置 | |
| JP2533811Y2 (ja) | 微粉、超微粉製造用気相化学反応装置 | |
| US2912311A (en) | Apparatus for production of high purity elemental silicon | |
| JPS6221706A (ja) | トリクロルシランを介する珪素または珪素化合物の循環的製造方法 | |
| JP2598652B2 (ja) | 気相化学反応装置 | |
| JPS63156532A (ja) | 竪型気相化学反応装置 | |
| CN101646621B (zh) | 硅提纯设备 | |
| CN208440296U (zh) | 低温卧式气氛合成炉 | |
| US2985573A (en) | Preparation of metallic elements | |
| CN103534197A (zh) | 利用回收热由氢和氯直接合成氢氯酸的设备和反应器 | |
| JPS6227507A (ja) | 金属粉末の冷却方法 | |
| HU196574B (en) | Equipment for producing phosphorus pentoxide by using reaction heat | |
| KR20130065930A (ko) | 스폰지 티타늄 제조설비의 반응로 | |
| JPH0473939U (ja) | ||
| HUE025415T2 (en) | Method and apparatus for condensing atmospheric pollutants in a soldering apparatus using gas to cool the coolant | |
| US3282581A (en) | Metal reduction process | |
| JPH01304003A (ja) | 加熱冷却容器 | |
| JPS6257642A (ja) | 超微粉の製造方法及びその装置 | |
| SU1705426A1 (ru) | Источник молекул рных пучков | |
| JPS6318081B2 (ja) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |