JP5425196B2 - 金属チタンの製造方法 - Google Patents
金属チタンの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5425196B2 JP5425196B2 JP2011516068A JP2011516068A JP5425196B2 JP 5425196 B2 JP5425196 B2 JP 5425196B2 JP 2011516068 A JP2011516068 A JP 2011516068A JP 2011516068 A JP2011516068 A JP 2011516068A JP 5425196 B2 JP5425196 B2 JP 5425196B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- titanium
- deposition
- space
- mixed gas
- kpa
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 104
- 239000010936 titanium Substances 0.000 title claims description 103
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 title claims description 103
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims description 35
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims description 34
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 32
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 81
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 47
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 45
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 43
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 43
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 36
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 claims description 35
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 26
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 claims description 24
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 22
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 58
- 239000002585 base Substances 0.000 description 36
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 22
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 17
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 15
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 8
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 7
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 6
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 6
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 5
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 5
- 238000010574 gas phase reaction Methods 0.000 description 5
- 238000001036 glow-discharge mass spectrometry Methods 0.000 description 5
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 5
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 4
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 3
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 3
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 3
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 3
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 3
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L Magnesium chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].[Cl-] TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 2
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 description 2
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 2
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 2
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001069 Ti alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 239000000571 coke Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 210000001787 dendrite Anatomy 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 230000005674 electromagnetic induction Effects 0.000 description 1
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 229910001629 magnesium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000012768 molten material Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000004663 powder metallurgy Methods 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 238000011946 reduction process Methods 0.000 description 1
- 238000007790 scraping Methods 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000003828 vacuum filtration Methods 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B34/00—Obtaining refractory metals
- C22B34/10—Obtaining titanium, zirconium or hafnium
- C22B34/12—Obtaining titanium or titanium compounds from ores or scrap by metallurgical processing; preparation of titanium compounds from other titanium compounds see C01G23/00 - C01G23/08
- C22B34/1263—Obtaining titanium or titanium compounds from ores or scrap by metallurgical processing; preparation of titanium compounds from other titanium compounds see C01G23/00 - C01G23/08 obtaining metallic titanium from titanium compounds, e.g. by reduction
- C22B34/1268—Obtaining titanium or titanium compounds from ores or scrap by metallurgical processing; preparation of titanium compounds from other titanium compounds see C01G23/00 - C01G23/08 obtaining metallic titanium from titanium compounds, e.g. by reduction using alkali or alkaline-earth metals or amalgams
- C22B34/1272—Obtaining titanium or titanium compounds from ores or scrap by metallurgical processing; preparation of titanium compounds from other titanium compounds see C01G23/00 - C01G23/08 obtaining metallic titanium from titanium compounds, e.g. by reduction using alkali or alkaline-earth metals or amalgams reduction of titanium halides, e.g. Kroll process
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B4/00—Electrothermal treatment of ores or metallurgical products for obtaining metals or alloys
- C22B4/005—Electrothermal treatment of ores or metallurgical products for obtaining metals or alloys using plasma jets
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B4/00—Electrothermal treatment of ores or metallurgical products for obtaining metals or alloys
- C22B4/08—Apparatus
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B5/00—General methods of reducing to metals
- C22B5/02—Dry methods smelting of sulfides or formation of mattes
- C22B5/04—Dry methods smelting of sulfides or formation of mattes by aluminium, other metals or silicon
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Geology (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
Description
クロール法は実用レベルのチタン素材を製造できるが、熱還元反応と真空分離は別工程で行なわれるために製造周期は長い。また、製造はバッチ式で、製造能率が低い。クロール法のこれらの課題を克服するために、様々な技術が提案されている。
文献2には、チタンをTiCl4ガス+Mgガスにより生成するExample IIが示されており、具体的には、反応温度として約850℃、圧力として10〜200microns(1.3〜26.7Pa)が適用されている。
これに対して、本発明で規定する絶対圧50kPa〜500kPaというのは、ほぼ大気圧であり、従来技術として紹介した文献を参照する限り、マグネシウムやMgCl2を生成したチタンから分離できない環境である。本発明者は、このような従来では考えられない圧力下であっても、析出用基材上にチタンが結晶化して成長することを確認し、さらに驚くべきことに、その純度も極めて高いものであることを確認したのである。
その理由は、明確ではないが、チタンの結晶成長による不純物の排除、析出反応による局所的な熱のやりとりが関与しているのではないかと推測している。
なお、50kPa未満でも原理的にはチタンを回収できるが、圧力低下に伴って製造速度が低くなると同時に、装置内への空気漏れの可能性が大きくなる。チタンは酸素、窒素との反応活性が高い金属であるから、製造プロセスを空気から保護することも必要である。真空度が高いほど、プロセス上および装置上の真空漏れ対策のコストが高くなる。50kPa以上では空気漏れという課題は工業製造レベルで容易に解決でき、実用上好ましい範囲となる。
処理能力、分離効率、工業設備の経済合理性を考慮すると、絶対圧90kPa〜200kPaの範囲がより好ましい。
なお、析出用基材の表面上に析出させたチタンを掻き落とすスクレーパ機能を別途付加したり、析出材を複数配置して、析出部分を相互に摺動運動させることで、析出したチタンを掻き落とすようにしても良い。あるいは析出用基材に振動を加えることにより、析出用基材表面に形成したチタン粒子を連続的に回収することも可能である。
また、反応熱を奪い、反応領域の温度を制御する目的で、析出用基材を冷却することもできる。
特に、回収されるチタンの純度を維持し、不純物の混入を防止するため、析出用基材は純チタンが望ましい。
オリフィスを通過した四塩化チタンとマグネシウムの混合ガスは、上記温度範囲で、マグネシウムによる四塩化チタンの還元反応を起こす。そして、生成されたチタンは析出用基材の表面に析出して成長する。
排気用チャンバ内には、副生成物のMgCl2や未反応マグネシウムを収集する収集器26を設けてもよい。排気用ポート24から排出された排気から、フィルター等により残りの塩化マグネシウムを回収する。
本発明に係る金属チタンの製造方法の有効性を示す実験例を以下説明する。実験に使用した装置は図1Aに示した構造を有するものである。プラズマトーチとして、内径50mmのセラミックスの円筒形チューブに誘導コイルを5ターン巻き付け、60kWの電源に接続した。供給部は、その出口が実質的にコイルの中心に位置するようにトーチに設置された。混合チャンバ析出チャンバ、排気チャンバがプラズマトーチの下方に配置され、混合チャンバ内には、混合器、オリフィスが配置された。析出チャンバには、螺旋状に捩じったチタン帯材を束ねた析出用基材を配置した。チタン帯材は、幅5mm、厚さ1mm、長さ180mmの寸法であり、それを長手方向を地位真にして捩じったものを20本、チャンバの長手方向に向けて束ねて配置した。排気チャンバには排気装置に接続された排気用ポートが設けられた。排気チャンバには、収集器26に黒鉛坩堝が配置された。混合チャンバの外周に誘導加熱コイル30、析出チャンバの外周に誘導加熱コイル31を設置し、誘導加熱により、それぞれの温度制御を行った。
装置は実験例1と同じ装置を用いたが、析出用基材として、図3Aに示す金属板の左右両側からスリット42を入れ、中央部を中心にしてスパイラル状に捩じるものを用いた。この実験装置の側面略断面図を図2に示す。プラズマ出力60kW、キャリアガスとしてAr:Heを77slpm:15slpmのもとで、四塩化チタン液22.7ml/分、マグネシウム11.7g/分の割合で27分間流した結果、150.6gのチタンを回収した。誘導加熱コイル30の電力を14kW、混合チャンバ内の温度を1720〜1780℃に制御した。また混合チャンバ内の圧力は108kPaであった。誘導加熱コイル31の電力を4kW、析出用基材の温度を1150〜1200℃、圧力105kPaに制御した。回収されたチタンをGDMS法で分析したところ、99.9%以上の高純度のチタンが得られたことがわかった。
装置は実験例2と同じ装置を用いた(析出用基材として、図3Aに示すものを用いた)。プラズマ出力61kW、キャリアガスとしてAr:Heを77slpm:15slpmのもとで、四塩化チタン液22.5ml/分、マグネシウム12.0g/分の割合で25分間流した結果、137.8gのチタンを回収した。誘導加熱コイル30の電力を14kW、混合チャンバ内の温度を1740〜1800℃に制御した。また混合チャンバ内の圧力は108kPaであった。誘導加熱コイル31の電力を6kW、析出用基材の温度を1120〜1210℃、圧力105kPaに制御した。回収されたチタンをGDMS法で分析したところ、99.9%以上の高純度のチタンが得られたことがわかった。
装置は実験例2と同じ装置を用いた(析出用基材として、図3Aに示すものを用いた)。プラズマ出力60kW、キャリアガスとしてAr:Heを77slpm:15slpmのもとで、四塩化チタン液20.6ml/分、マグネシウム12.0g/分の割合で24分間流した結果、100gのチタンを回収した。誘導加熱コイル30の電力を12kW、混合チャンバ内の温度を1720〜1750℃に制御した。また混合チャンバ内の圧力は108kPaであった。誘導加熱コイル31の電力を3kW、析出用基材の温度を990〜1150℃、圧力105kPaに制御した。回収されたチタンをGDMS法で分析したところ、99.9%以上の高純度のチタンが得られたことがわかった。
装置は実験例2と同じ装置を用いた(析出用基材として、図3Aに示すものを用いた)。プラズマ出力61kW、キャリアガスとしてAr:Heを77slpm:15slpmのもとで、四塩化チタン液21.3ml/分、マグネシウム11.6g/分の割合で23分間流した結果、80gのチタンを回収した。誘導加熱コイル30の電力を13kW、混合チャンバ内の温度を1720〜1780℃に制御した。また混合チャンバ内の圧力は108kPaであった。誘導加熱コイル31の電力を9kW、析出用基材の温度を1250〜1500℃、圧力105kPaに制御した。回収されたチタンをGDMS法で分析したところ、99.9%以上の高純度のチタンが得られたことがわかった。
2 プラズマトーチ
4 混合チャンバ
6 析出チャンバ
8 排気チャンバ
10 析出用基材
12 供給部
14 ガス供給部
16 RFコイル
20 混合器
22 オリフィス
24 排気用ポート
26 収集器
30、31 加熱ヒータ
Claims (6)
- 金属チタンの製造方法において、該方法が、
(a)四塩化チタン及びマグネシウムを、絶対圧で50kPa〜500kPa、温度が1700℃以上の混合空間に供給して混合ガスを形成する工程と、
(b)前記混合ガスを析出空間に導入する工程であって、前記析出空間は50kPa〜500kPaの絶対圧を有し、前記析出空間には析出用基材が配置され、該析出用基材の少なくとも一部が715〜1500℃の温度範囲にある、前記混合ガスを析出空間に導入する工程と、
(c)前記析出用基材上に金属チタンを析出成長させる工程と、
(d)前記工程(c)を経た前記混合ガスを排気する工程と
を含むことを特徴とする金属チタンの製造方法。 - 前記混合空間と前記析出空間とが、オリフィスにより連通しており、前記混合ガスを前記オリフィスを通って前記混合空間から前記析出空間へ流すことを特徴とする請求項1に記載された金属チタンの製造方法。
- 前記析出用基材は、金属チタンからなることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載された金属チタンの製造方法。
- 前記析出用基材は、前記混合ガスの流れる方向に伸張した形状を有し、前記混合ガスの流路を形成するようになっていることを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれか1項に記載された金属チタンの製造方法。
- 前記析出用基材の少なくとも一部が、900〜1200℃の温度範囲にあることを特徴とする請求項1から請求項4までのいずれか1項に記載された金属チタンの製造方法。
- 前記析出用基材を金属チタンの析出成長に応じて引き抜くことにより、金属チタンのインゴットを連続的に製造することを特徴とする請求項1から請求項5までのいずれか1項に記載された金属チタンの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011516068A JP5425196B2 (ja) | 2009-05-29 | 2010-05-28 | 金属チタンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009130570 | 2009-05-29 | ||
JP2009130570 | 2009-05-29 | ||
JP2011516068A JP5425196B2 (ja) | 2009-05-29 | 2010-05-28 | 金属チタンの製造方法 |
PCT/JP2010/059084 WO2010137688A1 (ja) | 2009-05-29 | 2010-05-28 | 金属チタンの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2010137688A1 JPWO2010137688A1 (ja) | 2012-11-15 |
JP5425196B2 true JP5425196B2 (ja) | 2014-02-26 |
Family
ID=43222793
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011516068A Expired - Fee Related JP5425196B2 (ja) | 2009-05-29 | 2010-05-28 | 金属チタンの製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8871303B2 (ja) |
JP (1) | JP5425196B2 (ja) |
CN (1) | CN102428195B (ja) |
AU (1) | AU2010252965B2 (ja) |
CA (1) | CA2762897C (ja) |
WO (1) | WO2010137688A1 (ja) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5475708B2 (ja) * | 2010-04-07 | 2014-04-16 | 日立金属株式会社 | チタンの製造方法及び製造装置 |
CA2795184C (en) * | 2010-04-07 | 2015-07-14 | Hitachi Metals, Ltd. | Metal titanium production device and metal titanium production method |
JP5571537B2 (ja) | 2010-11-22 | 2014-08-13 | 日立金属株式会社 | 金属チタン製造装置および金属チタンの製造方法 |
WO2012070461A1 (ja) * | 2010-11-22 | 2012-05-31 | 日立金属株式会社 | 金属チタン製造装置および金属チタンの製造方法 |
CN103898555A (zh) * | 2012-12-25 | 2014-07-02 | 攀钢集团攀枝花钢铁研究院有限公司 | 一种生产金属钛的方法 |
WO2015050637A1 (en) | 2013-08-19 | 2015-04-09 | University Of Utah Research Foundation | Producing a titanium product |
JP2018502218A (ja) | 2014-12-02 | 2018-01-25 | ザ ユニバーシティ オブ ユタ リサーチ ファウンデイション | 粉末金属の溶融塩による脱酸素 |
US9669464B1 (en) | 2016-02-10 | 2017-06-06 | University Of Utah Research Foundation | Methods of deoxygenating metals having oxygen dissolved therein in a solid solution |
US10907239B1 (en) | 2020-03-16 | 2021-02-02 | University Of Utah Research Foundation | Methods of producing a titanium alloy product |
CN115786737B (zh) * | 2023-01-18 | 2023-04-25 | 海朴精密材料(苏州)有限责任公司 | 一种利用化学气相输运沉积制备高纯低氧钛的方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2997385A (en) * | 1958-10-29 | 1961-08-22 | Du Pont | Method of producing refractory metal |
JPS6415334A (en) * | 1987-07-09 | 1989-01-19 | Toho Titanium Co Ltd | Production of metal from metal halide |
JPH03150327A (ja) * | 1989-11-06 | 1991-06-26 | Osaka Titanium Co Ltd | 金属Tiの製造方法 |
JPH03150326A (ja) * | 1989-11-06 | 1991-06-26 | Osaka Titanium Co Ltd | 還元による金属の製造方法 |
US20090120239A1 (en) * | 2004-07-30 | 2009-05-14 | Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation | Industrial process |
JP2010516893A (ja) * | 2007-01-22 | 2010-05-20 | マテリアルズ アンド エレクトロケミカル リサーチ コーポレイション | TiCl4の金属熱還元によるチタンの連続的製造法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NZ239070A (en) * | 1990-07-25 | 1992-11-25 | Anglo Amer Corp South Africa | Recovery of titanium values from a complex matrix by chlorinating titanium nitride in the matrix |
CN100383266C (zh) * | 2006-08-11 | 2008-04-23 | 遵义钛业股份有限公司 | 一种镁法生产海绵钛的四氯化钛雾化方法 |
CN201151738Y (zh) * | 2007-12-17 | 2008-11-19 | 贵阳铝镁设计研究院 | 还原蒸馏反应器 |
-
2010
- 2010-05-28 US US13/322,779 patent/US8871303B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2010-05-28 JP JP2011516068A patent/JP5425196B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2010-05-28 AU AU2010252965A patent/AU2010252965B2/en not_active Ceased
- 2010-05-28 CN CN201080021606.3A patent/CN102428195B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2010-05-28 CA CA2762897A patent/CA2762897C/en not_active Expired - Fee Related
- 2010-05-28 WO PCT/JP2010/059084 patent/WO2010137688A1/ja active Application Filing
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2997385A (en) * | 1958-10-29 | 1961-08-22 | Du Pont | Method of producing refractory metal |
JPS6415334A (en) * | 1987-07-09 | 1989-01-19 | Toho Titanium Co Ltd | Production of metal from metal halide |
JPH03150327A (ja) * | 1989-11-06 | 1991-06-26 | Osaka Titanium Co Ltd | 金属Tiの製造方法 |
JPH03150326A (ja) * | 1989-11-06 | 1991-06-26 | Osaka Titanium Co Ltd | 還元による金属の製造方法 |
US20090120239A1 (en) * | 2004-07-30 | 2009-05-14 | Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation | Industrial process |
JP2010516893A (ja) * | 2007-01-22 | 2010-05-20 | マテリアルズ アンド エレクトロケミカル リサーチ コーポレイション | TiCl4の金属熱還元によるチタンの連続的製造法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN102428195A (zh) | 2012-04-25 |
CN102428195B (zh) | 2014-12-10 |
JPWO2010137688A1 (ja) | 2012-11-15 |
WO2010137688A1 (ja) | 2010-12-02 |
CA2762897C (en) | 2013-08-20 |
AU2010252965B2 (en) | 2013-05-23 |
US20120070578A1 (en) | 2012-03-22 |
CA2762897A1 (en) | 2010-12-02 |
US8871303B2 (en) | 2014-10-28 |
AU2010252965A1 (en) | 2011-12-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5425196B2 (ja) | 金属チタンの製造方法 | |
JP5427452B2 (ja) | 金属チタンの製造方法 | |
JP5571537B2 (ja) | 金属チタン製造装置および金属チタンの製造方法 | |
JP4988741B2 (ja) | 流動床反応器中で粒状の多結晶ケイ素を製造する方法および装置 | |
WO2012070461A1 (ja) | 金属チタン製造装置および金属チタンの製造方法 | |
JP2001220123A (ja) | 酸化珪素粉末の連続製造方法及び連続製造装置 | |
JP2011219286A (ja) | シリコン及び炭化珪素の製造方法及び製造装置 | |
JP5698221B2 (ja) | 金属チタン製造装置および金属チタンの製造方法 | |
JP4295823B2 (ja) | マグネトロン容量結合型プラズマによる気化性金属化合物からの高純度金属の還元精製方法及びそのための装置 | |
JP5586005B2 (ja) | シリコンの製造方法 | |
JP5383573B2 (ja) | 多結晶シリコン製造用の反応炉及びそれを用いる多結晶シリコンの製造方法 | |
WO2011071032A1 (ja) | 多結晶シリコンの製造方法及び多結晶シリコン製造用の反応炉 | |
JP5088966B2 (ja) | 多結晶シリコンの製造方法及び多結晶シリコン製造用の反応炉 | |
JP5419971B2 (ja) | 多結晶シリコンの製造方法及び多結晶シリコン製造用の反応炉 | |
JP2013071881A (ja) | 多結晶シリコンの製造方法 | |
JP2008280246A (ja) | 高純度酸化マグネシウム微粉末の製造装置、及びこれを用いた高純度酸化マグネシウム微粉末の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20121228 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20131101 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20131126 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5425196 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |