JP2533772B2 - リン脂質類似構造を有するオルガノポリシロキサン - Google Patents
リン脂質類似構造を有するオルガノポリシロキサンInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、リン脂質類似構造を有する直鎖状または環
状のオルガノポリシロキサンに関する。
状のオルガノポリシロキサンに関する。
アミノ基、グリシジロキシ基、カルボキシル基、メル
カプト基、水酸基、ポリオキシアルキレン基のような官
能基がアルキレン基を介してケイ素原子に結合したオル
ガノポリシロキサンは従来から周知であり、リン酸ジフ
ェニルエステル分子がアルキレン基を介してケイ素原子
に結合したオルガノポリシロキサンは従来から知られて
いる（例えば特開昭54−48718号公報参照）。
カプト基、水酸基、ポリオキシアルキレン基のような官
能基がアルキレン基を介してケイ素原子に結合したオル
ガノポリシロキサンは従来から周知であり、リン酸ジフ
ェニルエステル分子がアルキレン基を介してケイ素原子
に結合したオルガノポリシロキサンは従来から知られて
いる（例えば特開昭54−48718号公報参照）。
しかしながら、式 （式中Ｒはアルキル基、R1は炭素数３〜50のアルキレン
基、R2は水素原子または炭素数１〜25のアルキル基であ
る）で示されるシロキサン単位または式 （式中R,R1,R2は前述どおりである）で示されるシロキ
サン単位を必ず有し、場合によてジアルキルシロキサン
単位、アルキルヒドロジエンシロキサン単位、トリアル
キルシロキシ単位、ジアルキルヒドロジエンシロキシ単
位のいずれか１以上を有する、すなわち、リン脂質類似
構造を有する直鎖状オルガノポリシロキサン、ならびに （式中、R,R1,R2は前述どおりである）で示されるシロ
キサン単位を必ず有し、場合によってジアルキルシロキ
サン単位および／またはアルキルヒドロジエンシロキサ
ン単位を有する、すなわち、リン脂質類似構造を有する
環状オルガノポリシロキサンは従来知られていない。
基、R2は水素原子または炭素数１〜25のアルキル基であ
る）で示されるシロキサン単位または式 （式中R,R1,R2は前述どおりである）で示されるシロキ
サン単位を必ず有し、場合によてジアルキルシロキサン
単位、アルキルヒドロジエンシロキサン単位、トリアル
キルシロキシ単位、ジアルキルヒドロジエンシロキシ単
位のいずれか１以上を有する、すなわち、リン脂質類似
構造を有する直鎖状オルガノポリシロキサン、ならびに （式中、R,R1,R2は前述どおりである）で示されるシロ
キサン単位を必ず有し、場合によってジアルキルシロキ
サン単位および／またはアルキルヒドロジエンシロキサ
ン単位を有する、すなわち、リン脂質類似構造を有する
環状オルガノポリシロキサンは従来知られていない。
この発明は上述のような従来知られていないリン脂質
類似構造を有する直鎖状または環状のオルガノポリシロ
キサンを提供することを目的とする。
類似構造を有する直鎖状または環状のオルガノポリシロ
キサンを提供することを目的とする。
本発明は、一般式 〔式中、Ｒはアルキル基、Ａは式 （式中、R1は炭素数３〜50のアルキル基、R2は水素原子
または炭素数１〜25のアルキル基である）で示される有
機基、ＢはR,水素原子またはＡ、ｌは０または１以上の
整数、ｍは０または１以上の整数、ｎは０または１以上
の整数、ただしｌ＋ｍ＋ｎは０〜2000の整数である〕で
示され、１分子中にＡ基を少なくとも１個有することを
特徴とする、リン脂質類似構造を有する直鎖状オルガノ
ポリシロキサンまたは 一般式 〔式中、Ｒはアルキル基、Ａは式 （式中、R1は炭素数３〜50のアルキレン基、R2は水素原
子または炭素数１〜25のアルキル基である）で示される
有機基、ｘは０または１以上の整数、ｙは１以上の整
数、ｚは０または１以上の整数、ただし、ｘ＋ｙ＋ｚは
３〜20の整数である〕で示されることを特徴とする、リ
ン脂質類似構造を有する環状オルガノシロキサンに関す
る。
または炭素数１〜25のアルキル基である）で示される有
機基、ＢはR,水素原子またはＡ、ｌは０または１以上の
整数、ｍは０または１以上の整数、ｎは０または１以上
の整数、ただしｌ＋ｍ＋ｎは０〜2000の整数である〕で
示され、１分子中にＡ基を少なくとも１個有することを
特徴とする、リン脂質類似構造を有する直鎖状オルガノ
ポリシロキサンまたは 一般式 〔式中、Ｒはアルキル基、Ａは式 （式中、R1は炭素数３〜50のアルキレン基、R2は水素原
子または炭素数１〜25のアルキル基である）で示される
有機基、ｘは０または１以上の整数、ｙは１以上の整
数、ｚは０または１以上の整数、ただし、ｘ＋ｙ＋ｚは
３〜20の整数である〕で示されることを特徴とする、リ
ン脂質類似構造を有する環状オルガノシロキサンに関す
る。
本発明の一般式（Ｉ）で示されるオルガノポリシロキ
サンは直鎖状であり、式 で示されるシロキサン単位〔式中Ｒはアルキル基、Ａは
式 （式中、R1は炭素数３〜50のアルキレン基、R2は水素原
子または炭素数１〜25のアルキル基である）で示される
有機基である〕を、主鎖中に有するか、式 で示されるシロキサン単位を分子鎖末端に有するか、上
記両単位を同一分子中に有する。そして、ジアルキルシ
ロキサン単位かアルキルヒドロジエンシロキサン単位
か、この両シロキサン単位を主鎖中に有することもあり
うる。
サンは直鎖状であり、式 で示されるシロキサン単位〔式中Ｒはアルキル基、Ａは
式 （式中、R1は炭素数３〜50のアルキレン基、R2は水素原
子または炭素数１〜25のアルキル基である）で示される
有機基である〕を、主鎖中に有するか、式 で示されるシロキサン単位を分子鎖末端に有するか、上
記両単位を同一分子中に有する。そして、ジアルキルシ
ロキサン単位かアルキルヒドロジエンシロキサン単位
か、この両シロキサン単位を主鎖中に有することもあり
うる。
式 で示されるシロキサン単位を主鎖中に有するときは、分
子鎖末端は式 で示されるシロキサン単位または式 で示されるシロキサン単位であってもよい。
子鎖末端は式 で示されるシロキサン単位または式 で示されるシロキサン単位であってもよい。
一般式（Ｉ）で示されるオルガノポリシロキサンの典
形例は、 である。
形例は、 である。
で示されるシロキサン単位の他にジアルキルシロキサン
単位またはアルキルヒドロジエンシロキサン単位あるい
はこれら２種のシロキサン単位が共存するときは、これ
らシロキサン単位は通常ランダムに配置している。一般
式（Ｉ）において、l,m,nのいずれも０または１以上の
整数であり、ｌ＋ｍ＋ｎは０〜2000の整数である。した
がって、l,m,nいずれも2000を越えることがない。ｌ＋
ｍ＋ｎの上限を2000としたのは、一般式（Ｉ）で示され
るオルガノポリシロキサンの原料であるアルキルヒドロ
ジエンポリシロキサンの合成技術上の制約にもとづく。
単位またはアルキルヒドロジエンシロキサン単位あるい
はこれら２種のシロキサン単位が共存するときは、これ
らシロキサン単位は通常ランダムに配置している。一般
式（Ｉ）において、l,m,nのいずれも０または１以上の
整数であり、ｌ＋ｍ＋ｎは０〜2000の整数である。した
がって、l,m,nいずれも2000を越えることがない。ｌ＋
ｍ＋ｎの上限を2000としたのは、一般式（Ｉ）で示され
るオルガノポリシロキサンの原料であるアルキルヒドロ
ジエンポリシロキサンの合成技術上の制約にもとづく。
本発明の一般式（II）で示されるオルガノポリシロキ
サンは環状であり、式 で示されるシロキサン単位を少なくとも１個有し、場合
によってジアルキルシロキサン単位またはアルキルヒド
ロジエンシロキサン単位、あるいはジアルキルシロキサ
ン単位とアルキルヒドロジエンシロキサン単位の両方を
さらに有することができる。
サンは環状であり、式 で示されるシロキサン単位を少なくとも１個有し、場合
によってジアルキルシロキサン単位またはアルキルヒド
ロジエンシロキサン単位、あるいはジアルキルシロキサ
ン単位とアルキルヒドロジエンシロキサン単位の両方を
さらに有することができる。
一般式（II）で示されるオルガノポリシロキサンの典
形例は、 である。
形例は、 である。
式 で示されるシロキサン単位の他にジアルキルシロキサン
単位またはアルキルヒドロジエンシロキサン単位あるい
はこれら２種のシロキサン単位が共存するときは、これ
らシロキサン単位は通常ランダムに配置されている。
単位またはアルキルヒドロジエンシロキサン単位あるい
はこれら２種のシロキサン単位が共存するときは、これ
らシロキサン単位は通常ランダムに配置されている。
一般式（II）において、ｘは０または１以上の整数で
あり、ｙは１以上の整数であり、ｚは０または１以上の
整数であり、ｘ＋ｙ＋ｚは３〜20の整数である。
あり、ｙは１以上の整数であり、ｚは０または１以上の
整数であり、ｘ＋ｙ＋ｚは３〜20の整数である。
したがって、ｘは19を越えることがなく、ｙは20を越
えることがなく、ｚは19を越えることはない。
えることがなく、ｚは19を越えることはない。
ｘ＋ｙ＋ｚの上限を20としたのは、一般式（II）で示
されるオルガノポリシロキサンの原料である環状アルキ
ルヒドロジエンポリシロキサンの合成技術上の制約にも
とづく。
されるオルガノポリシロキサンの原料である環状アルキ
ルヒドロジエンポリシロキサンの合成技術上の制約にも
とづく。
一般式（Ｉ）および一般式（II）においてＲはアルキ
ル基であり、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基が例示され
る。Ｒは一分子中に異なるものが混在していてもよい。
Ｒの代表例はメチル基である。
ル基であり、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基が例示され
る。Ｒは一分子中に異なるものが混在していてもよい。
Ｒの代表例はメチル基である。
Ａは、式 で示されるリン脂質類似構造を有する有機基であり、こ
こでR1は炭素数３〜50のアルキレン基であり、アルキレ
ン基としてプロピレン基、ブチレン基、ヘキシレン基、
オクチレン基、ドデシレン基が例示され、R2は水素原子
または炭素数１〜25のアルキル基であり、アルキル基と
してＲと同様なものが例示される。N+に結合した３個の
R2はすべてが同一のものである必要はない。
こでR1は炭素数３〜50のアルキレン基であり、アルキレ
ン基としてプロピレン基、ブチレン基、ヘキシレン基、
オクチレン基、ドデシレン基が例示され、R2は水素原子
または炭素数１〜25のアルキル基であり、アルキル基と
してＲと同様なものが例示される。N+に結合した３個の
R2はすべてが同一のものである必要はない。
一般式（Ｉ）で示される直鎖状のオルガノポリシロキ
サンは、両末端がトリアルキルシロキシ基またはジアル
キルヒドロジエンシロキシ基で封鎖されたアルキルヒド
ロジエンポリシロキサンまたは両末端がトリアルキルシ
ロキシ基またはジアルキルヒドロジエンシロキシ基で封
鎖されたジアルキルシロキサン・アルキルヒドロジエン
シロキサン共重合体と式 （式中、ｗは１〜48の整数であり、R2は前述どおりであ
る）で示される化合物とをヒドロキシル化触媒存在下で
ヒドロキシル化反応させることにより製造することがで
きる。
サンは、両末端がトリアルキルシロキシ基またはジアル
キルヒドロジエンシロキシ基で封鎖されたアルキルヒド
ロジエンポリシロキサンまたは両末端がトリアルキルシ
ロキシ基またはジアルキルヒドロジエンシロキシ基で封
鎖されたジアルキルシロキサン・アルキルヒドロジエン
シロキサン共重合体と式 （式中、ｗは１〜48の整数であり、R2は前述どおりであ
る）で示される化合物とをヒドロキシル化触媒存在下で
ヒドロキシル化反応させることにより製造することがで
きる。
一般式（II）で示される環状のオルガノポリシロキサ
ンは、環状のアルキルヒドロジエンポリシロキサンまた
は環状のジアルキルシロキサン・アルキルヒドロジエン
シロキサン共重合体と式（IV）で示される化合物とをヒ
ドロキシル化触媒存在下でヒドロシリル化反応させるこ
とにより製造することができる。
ンは、環状のアルキルヒドロジエンポリシロキサンまた
は環状のジアルキルシロキサン・アルキルヒドロジエン
シロキサン共重合体と式（IV）で示される化合物とをヒ
ドロキシル化触媒存在下でヒドロシリル化反応させるこ
とにより製造することができる。
その際、式（IV）で示される化合物中のビニル基の当
量数をアルキルヒドロジエンポリシロキサンやジアルキ
ルシロキサン・アルキルヒドロジエンシロキサン共重合
体中のヒドロシリル基の当量数以上とすれば、一般式
（Ｉ）においてｎが０であり、Ｂが水素原子でないオル
ガノポリシロキサンが得られ、また、一般式（II）にお
いてｚが０であるオルガノポリシロキサン、すなわちア
ルキルヒドロジエンシロキサン単位を有しないオルガノ
ポリシロキサンが得られる。
量数をアルキルヒドロジエンポリシロキサンやジアルキ
ルシロキサン・アルキルヒドロジエンシロキサン共重合
体中のヒドロシリル基の当量数以上とすれば、一般式
（Ｉ）においてｎが０であり、Ｂが水素原子でないオル
ガノポリシロキサンが得られ、また、一般式（II）にお
いてｚが０であるオルガノポリシロキサン、すなわちア
ルキルヒドロジエンシロキサン単位を有しないオルガノ
ポリシロキサンが得られる。
また、式（IV）で示される化合物中のビニル基の当量
数をアルキルヒドロジエンポリシロキサンやジアルキル
シロキサン・アルキルヒドロジエンシロキサン共重合体
中のヒドロシリル基の当量数未満とすれば、一般式
（Ｉ）においてｎが１以上であるか、Ｂが水素原子であ
るオルガノポリシロキサンまた、一般式（II）において
ｚが１以上であるオルガノポリシロキサン、すなわちア
キルヒドロジエンシロキサン単位を有するオルガノポリ
シロキサンが得られる。
数をアルキルヒドロジエンポリシロキサンやジアルキル
シロキサン・アルキルヒドロジエンシロキサン共重合体
中のヒドロシリル基の当量数未満とすれば、一般式
（Ｉ）においてｎが１以上であるか、Ｂが水素原子であ
るオルガノポリシロキサンまた、一般式（II）において
ｚが１以上であるオルガノポリシロキサン、すなわちア
キルヒドロジエンシロキサン単位を有するオルガノポリ
シロキサンが得られる。
一般式（Ｉ）で示される直鎖状オルガノポリシロキサ
ンの原料である両末端がトリアルキルシロキサン基もし
くはジアルキルヒドロジエンシロキシ基で封鎖されたア
ルキルヒドロジエンポリシロキサンの代表例は、両末端
トリメチルシロキシ基もしくはジメチルヒドロジエンシ
ロキシ基封鎖メチルハイドロジエンポリシロキサンであ
り、同じく両末端がトリアルキルシロキシ基もしくはジ
アルキルヒドロジエンシロキシ基で封鎖されたジアルキ
ルシロキサン・アルキルヒドロジエンシロキサン共重合
体の代表例は、両末端トリメチルシロキシ基もしくはジ
メチルヒドロジエンシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン
・メチルヒドロジエンシロキサン共重合体である。
ンの原料である両末端がトリアルキルシロキサン基もし
くはジアルキルヒドロジエンシロキシ基で封鎖されたア
ルキルヒドロジエンポリシロキサンの代表例は、両末端
トリメチルシロキシ基もしくはジメチルヒドロジエンシ
ロキシ基封鎖メチルハイドロジエンポリシロキサンであ
り、同じく両末端がトリアルキルシロキシ基もしくはジ
アルキルヒドロジエンシロキシ基で封鎖されたジアルキ
ルシロキサン・アルキルヒドロジエンシロキサン共重合
体の代表例は、両末端トリメチルシロキシ基もしくはジ
メチルヒドロジエンシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン
・メチルヒドロジエンシロキサン共重合体である。
一般式（II）で示される環状オルガノポリシロキサン
の原料である環状のアルキルヒドロジエンポリシロキサ
ンの代表例は、テトラメチルテトラヒドロジエンシクロ
テトラシロキサンであり、同じく環状のジアルキルシロ
キサン・アルキルヒドロジエンシロキサン共重合体の代
表例は式 で示されるものである。
の原料である環状のアルキルヒドロジエンポリシロキサ
ンの代表例は、テトラメチルテトラヒドロジエンシクロ
テトラシロキサンであり、同じく環状のジアルキルシロ
キサン・アルキルヒドロジエンシロキサン共重合体の代
表例は式 で示されるものである。
上述のポリシロキサンのメチル基の一部を他のアルキ
ル基で置換したものも例示される。
ル基で置換したものも例示される。
式（IV）で示される化合物の具体例として がある。
式（IV）で示される化合物は、例えば、式CH2＝CH（C
H2 WOHで示されるアルコールと２−オキソ−1,3,2−ジ
オキソホスホランを脱塩酸剤存在下で縮合反応させ、そ
の生成物に第三級アミン又はアンモニアを反応させるこ
とにより合成することができる。
H2 WOHで示されるアルコールと２−オキソ−1,3,2−ジ
オキソホスホランを脱塩酸剤存在下で縮合反応させ、そ
の生成物に第三級アミン又はアンモニアを反応させるこ
とにより合成することができる。
アルキルヒドロジエンポリシロキサンと式（IV）で示
される化合物をヒドロシリル化反応させるには、ヒドロ
シリル化触媒を使用することが必要である。
される化合物をヒドロシリル化反応させるには、ヒドロ
シリル化触媒を使用することが必要である。
ヒドロシリル化触媒として、白金，ルテニウム，ロジ
ウムまたはパラジュウムの化合物、例えば二塩化白金，
塩化白金酸，塩化白金酸ナトリウム，白金−オレフィン
錯塩，白金−β−ジケトン錯塩，白金−β−ケトン酸エ
ステル錯塩，塩化白金酸と1,3−ジビニル−1,1,3,3−テ
トラメチルジシロキサンの錯塩，白金微粉末，白金微粉
末をアルミナに担持させたものがある。
ウムまたはパラジュウムの化合物、例えば二塩化白金，
塩化白金酸，塩化白金酸ナトリウム，白金−オレフィン
錯塩，白金−β−ジケトン錯塩，白金−β−ケトン酸エ
ステル錯塩，塩化白金酸と1,3−ジビニル−1,1,3,3−テ
トラメチルジシロキサンの錯塩，白金微粉末，白金微粉
末をアルミナに担持させたものがある。
アルキルヒドロジエンポリシロキサンと式（IV）で示
される化合物をヒドロシリル化反応させるには、両化合
物を直接反応させてもよいが、できうれば共通溶媒に溶
解し、その溶液にヒドロシリル化触媒を所定量投入し室
温下または加熱下撹拌すればよい。
される化合物をヒドロシリル化反応させるには、両化合
物を直接反応させてもよいが、できうれば共通溶媒に溶
解し、その溶液にヒドロシリル化触媒を所定量投入し室
温下または加熱下撹拌すればよい。
共通溶媒としてはトルエン、キシレン、クロロホル
ム、1,1,1−トリクロルエタンが例示される。反応終了
後にヒドロシリル化触媒をろ別等により除去し、使用し
た有機溶媒を留去すると目的物が得らえる。あるいは反
応液を多量の貧溶媒中に投入して生成物を再沈殿させ、
ろ別してもよい。
ム、1,1,1−トリクロルエタンが例示される。反応終了
後にヒドロシリル化触媒をろ別等により除去し、使用し
た有機溶媒を留去すると目的物が得らえる。あるいは反
応液を多量の貧溶媒中に投入して生成物を再沈殿させ、
ろ別してもよい。
式（III）で示される有機基は、原料であるアルキル
ヒドロジエンポリシロキサン中のヒドロシリル基の存在
したケイ素原子に直結している。
ヒドロジエンポリシロキサン中のヒドロシリル基の存在
したケイ素原子に直結している。
したがって、アルキルヒドロジエンポリシロキサン中
のヒドロシリル基が分子の側鎖に存在すれば式（III）
で示される有機基も側鎖に位置し、ヒドロシリル基が分
子鎖末端に存在すれば式（III）で示される有機基も側
鎖に位置し、ヒドロシリル基が分子の側鎖と分子鎖末端
の両方に存在すれば式（III）で示される有機基も側鎖
と分子鎖末端の両方に位置することになる。
のヒドロシリル基が分子の側鎖に存在すれば式（III）
で示される有機基も側鎖に位置し、ヒドロシリル基が分
子鎖末端に存在すれば式（III）で示される有機基も側
鎖に位置し、ヒドロシリル基が分子の側鎖と分子鎖末端
の両方に存在すれば式（III）で示される有機基も側鎖
と分子鎖末端の両方に位置することになる。
本発明のオルガノポリシロキサンは、常温で主に固形
状を呈するが液状を呈することもある。式（III）で示
される有機基を有するので、その濃度が大きいときは吸
湿性・親水性を有する。
状を呈するが液状を呈することもある。式（III）で示
される有機基を有するので、その濃度が大きいときは吸
湿性・親水性を有する。
式（III）で示される有機基中のｎ数が大きいものは
液晶性を有する。
液晶性を有する。
式（III）で示されるリン脂質類似構造の有機基を有
するので生体適合性を有する。
するので生体適合性を有する。
また、ヒドロシリル基を１分子中に３個以上有するも
のは、縮合触媒が存在すると自己架橋して弾性体を形成
することができ、ヒドロシリル基を１分子中に２個以上
有するものは、ビニル基またはシラノール基を１分子中
に３個以上または２個有するオルガノポリシロキサンお
よび硬化触媒と混合すると弾性体を形成することができ
る。
のは、縮合触媒が存在すると自己架橋して弾性体を形成
することができ、ヒドロシリル基を１分子中に２個以上
有するものは、ビニル基またはシラノール基を１分子中
に３個以上または２個有するオルガノポリシロキサンお
よび硬化触媒と混合すると弾性体を形成することができ
る。
本発明のリン脂質類似構造を有するオルガノポリシロ
キサンは、液晶ディスプレイー、人工臓器、イオン交換
膜、湿度センサ、ガスセンサ、バイオセンサなどの広い
用途において有用である。
キサンは、液晶ディスプレイー、人工臓器、イオン交換
膜、湿度センサ、ガスセンサ、バイオセンサなどの広い
用途において有用である。
次に本発明の実施例をかかげる。参考例中と実施例
中、IRは赤外線吸収スペクトルを意味する。
中、IRは赤外線吸収スペクトルを意味する。
参考例１ 22−トリコセニル−２−（トリメチルアンモニオ）エチ
ルホスフェート の合成 22−トリコセニルアルコール3.38g（0.010モル）を乾
燥したテトラヒドロフラン150mlに溶解し、トリエチル
アミン1.21g（0.012モル）を加え、−５℃に冷却してか
ら、撹拌しつつ２−クロロ−２−オキソ−1,3,2−ジオ
キソホスホラン1.74g（0.012モル）を30分間かけて滴下
した。
ルホスフェート の合成 22−トリコセニルアルコール3.38g（0.010モル）を乾
燥したテトラヒドロフラン150mlに溶解し、トリエチル
アミン1.21g（0.012モル）を加え、−５℃に冷却してか
ら、撹拌しつつ２−クロロ−２−オキソ−1,3,2−ジオ
キソホスホラン1.74g（0.012モル）を30分間かけて滴下
した。
滴下終了後５〜10℃で２時間撹拌して反応させ、沈澱
したトリエチルアミン塩酸塩をろ別し、ろ液を減圧濃縮
してテトラヒドロフランを除去した。その残液にジメチ
ルホルムアミド100mlとトリメチルアミン2.95g（0.050
モル）を加え、耐圧ガラスビンに注入し、密封して振温
しつつ75℃で36時間反応させた。
したトリエチルアミン塩酸塩をろ別し、ろ液を減圧濃縮
してテトラヒドロフランを除去した。その残液にジメチ
ルホルムアミド100mlとトリメチルアミン2.95g（0.050
モル）を加え、耐圧ガラスビンに注入し、密封して振温
しつつ75℃で36時間反応させた。
ジメチルホルムアミドを減圧留去し、生じた粘稠な液
体をメタノール5mlに溶解し、大量のジエチルエーテル
中に投入したところ白色沈澱が生成した。
体をメタノール5mlに溶解し、大量のジエチルエーテル
中に投入したところ白色沈澱が生成した。
白色沈澱をガラスフィルター上に集め、減圧乾燥して
白色粉末を得た。
白色粉末を得た。
この白色粉末をIR分析にかけたところ、メチレン基
（2925cm-1,2850cm-1,1450cm-1）、ビニル基（1620c
m-1）、Ｐ＝Ｏ基（1230cm-1）、（Ｐ＝Ｏ）−CH2−基
（1040cm-1,930cm-1）の存在が確認された。
（2925cm-1,2850cm-1,1450cm-1）、ビニル基（1620c
m-1）、Ｐ＝Ｏ基（1230cm-1）、（Ｐ＝Ｏ）−CH2−基
（1040cm-1,930cm-1）の存在が確認された。
この白色粉末を1HNMR分析にかけたところ、 −CH2−（δ＝1.3,60H）,C＝Ｃ−CH2（δ＝1.9,2H） N+−CH3（δ＝3.4,9H）,N+−CH2（δ＝3.8,2H） Ｏ−CH2（δ＝4.0,4H）， の存在が確認された。
したがって、この白色粉末は22−トリコセニル−２−
（トリメチルアンモニオ）エチルフォスフェートである
ことが判明した。
（トリメチルアンモニオ）エチルフォスフェートである
ことが判明した。
参考例２ 28−ノナコセニル−２−（トリメチルアンモニオ）エチ
ルホスフェート の合成 28−ノナコセニルアルコール4.22g（0.010モル）を乾
燥したテトラヒドロフラン150mlに溶解し、トリエチル
アミン1.21g（0.012モル）を加え、−５℃に冷却してか
ら、撹拌しつつ２−クロロ−２−オキソ−1,3,2−ジオ
キソホスホラン1.74g（0.012モル）を30分間かけて滴下
した。
ルホスフェート の合成 28−ノナコセニルアルコール4.22g（0.010モル）を乾
燥したテトラヒドロフラン150mlに溶解し、トリエチル
アミン1.21g（0.012モル）を加え、−５℃に冷却してか
ら、撹拌しつつ２−クロロ−２−オキソ−1,3,2−ジオ
キソホスホラン1.74g（0.012モル）を30分間かけて滴下
した。
滴下終了後５〜10℃で２時間撹拌して反応させ、沈澱
したトリエチルアミン塩酸塩をろ別し、ろ液を減圧濃縮
してテトラヒドロフランを除去した。その残液にジメチ
ルホルムアミド100mlとトリメチルアミン2.95g（0.050
モル）を加え、耐圧ガラスビンに注入し、密封して振温
しつつ75℃で36時間反応させた。
したトリエチルアミン塩酸塩をろ別し、ろ液を減圧濃縮
してテトラヒドロフランを除去した。その残液にジメチ
ルホルムアミド100mlとトリメチルアミン2.95g（0.050
モル）を加え、耐圧ガラスビンに注入し、密封して振温
しつつ75℃で36時間反応させた。
ジメチルホルムアミドを減圧留去し、生じた粘稠な液
体をメタノール5mlに溶解し、大量のジエチルエーテル
中に投入したところ白色沈澱が生成した。
体をメタノール5mlに溶解し、大量のジエチルエーテル
中に投入したところ白色沈澱が生成した。
白色沈澱をガラスフィルター上に集め、減圧乾燥して
白色粉末を得た。
白色粉末を得た。
この白色粉末をIR分析にかけたところ、メチレン基
（2925cm-1,2850cm-1,1450cm-1）、ビニル基（1620c
m-1）,P＝Ｏ基（1230cm-1）、（Ｐ＝Ｏ）−CH2−基（10
40cm-1,930cm-1）の存在が確認された。
（2925cm-1,2850cm-1,1450cm-1）、ビニル基（1620c
m-1）,P＝Ｏ基（1230cm-1）、（Ｐ＝Ｏ）−CH2−基（10
40cm-1,930cm-1）の存在が確認された。
この白色粉末を1HNMR分析にかけたところ、 −CH2−（δ＝1.3,60H）,C＝Ｃ−CH2（δ＝1.9,2H） N+−CH3（δ＝3.4,9H）,N+−CH2（δ＝3.8,2H） Ｏ−CH2（δ＝4.0,4H）， の存在が確認された。
したがって、この白色粉末は28−ノナコセニル−２−
（トリメチルアンモニオ）エチルフォスフェートである
ことが判明した。
（トリメチルアンモニオ）エチルフォスフェートである
ことが判明した。
参考例３ 10−ウンデセニル−２−（トリメチルアンモニオ）エチ
ルホスフェート の合成 10−ウンデセン−１−オール7.60g（0.0451モル）を
乾燥したテトラヒドロフラン200mlに溶解し、トリエチ
ルアミン6.85g（0.0670モル）を加え、−20℃に冷却し
てから、撹拌しつつ２−クロロ−２−オキソ−1,3,2−
ジオキソホスホラン7.85g（0.0540モル）を30分間かけ
て滴下した。
ルホスフェート の合成 10−ウンデセン−１−オール7.60g（0.0451モル）を
乾燥したテトラヒドロフラン200mlに溶解し、トリエチ
ルアミン6.85g（0.0670モル）を加え、−20℃に冷却し
てから、撹拌しつつ２−クロロ−２−オキソ−1,3,2−
ジオキソホスホラン7.85g（0.0540モル）を30分間かけ
て滴下した。
滴下終了後５℃で２時間撹拌して反応させ、沈澱した
トリエチルアミン塩酸塩をろ別し、ろ液を減圧濃縮して
テトラヒドロフランを除去した。その残液にジメチルホ
ルムアミド150mlとトリメチルアミン5.00g（0.0847モ
ル）を加え、耐圧ガラスビンに注入し、密封して振温し
つつ75℃で20時間反応させた。
トリエチルアミン塩酸塩をろ別し、ろ液を減圧濃縮して
テトラヒドロフランを除去した。その残液にジメチルホ
ルムアミド150mlとトリメチルアミン5.00g（0.0847モ
ル）を加え、耐圧ガラスビンに注入し、密封して振温し
つつ75℃で20時間反応させた。
ジメチルホルムアミドを減圧留去し、生じた粘稠な液
体をメタノール5mlに溶解し、大量のジエチルエーテル
中に投入したところ白色沈澱が生成した。
体をメタノール5mlに溶解し、大量のジエチルエーテル
中に投入したところ白色沈澱が生成した。
白色沈澱をガラスフィルター上に集め、減圧乾燥して
白色粉末を得た。
白色粉末を得た。
この白色粉末をIR分析にかけたところ、メチレン基
（2925cm-1,2850cm-1,1450cm-1）、ビニル基（1620c
m-1）,P＝Ｏ基（1230cm-1）、（Ｐ＝Ｏ）−CH2−基（10
40cm-1,930cm-1）の存在が確認された。
（2925cm-1,2850cm-1,1450cm-1）、ビニル基（1620c
m-1）,P＝Ｏ基（1230cm-1）、（Ｐ＝Ｏ）−CH2−基（10
40cm-1,930cm-1）の存在が確認された。
この白色粉末を1HNMR分析にかけたところ、 −CH2−（δ＝1.3,60H）,C＝Ｃ−CH2（δ＝1.9,2H） N+−CH3（δ＝3.4,9H）,N+−CH2（δ＝3.8,2H） Ｏ−CH2（δ＝4.0,4H）， の存在が確認された。
したがって、この白色粉末は10−ウンデセニル−２−
（トリメチルアンモニオ）エチルフォスフェートである
ことが判明した。
（トリメチルアンモニオ）エチルフォスフェートである
ことが判明した。
実施例１ 式 で示されるメチルヒドロジエンポリシロキサン0.0503g
（0.159×10-4モル）と、参考例１の22−トリコセニル
−２−（トリメチルアンモニオ）エチルフォスフェート
0.4000g（7.94×10-4モル）を30mlの加温したトルエン
に溶かし、さらに、塩化白金酸を220〜275マイクロモル
／リットルの割合で上記トルエン溶液に添加して溶か
し、生成溶液を耐圧ガラスビンに注入して密封し、80℃
の水浴に24時間浸漬してヒドロシリル化反応を行なっ
た。
（0.159×10-4モル）と、参考例１の22−トリコセニル
−２−（トリメチルアンモニオ）エチルフォスフェート
0.4000g（7.94×10-4モル）を30mlの加温したトルエン
に溶かし、さらに、塩化白金酸を220〜275マイクロモル
／リットルの割合で上記トルエン溶液に添加して溶か
し、生成溶液を耐圧ガラスビンに注入して密封し、80℃
の水浴に24時間浸漬してヒドロシリル化反応を行なっ
た。
反応終了後、内容物をとりだし、大過剰のアセトン中
に投入して沈澱を行ない、沈澱物をろ別し、乾燥した。
に投入して沈澱を行ない、沈澱物をろ別し、乾燥した。
生成物は白色でごく少し吸湿性の固形物であった。生
成物をIR分析にかけたところ、ビニル基（1670cm-1）、
ヒドロシリル基（2240cm-1）は消失しており、メチレン
基（2925cm-1,2850cm-1,1460cm-1）、Ｐ＝Ｏ基（1200cm
-1）、（Ｐ＝Ｏ）−CH2−基（1060cm-1）の存在が確認
された。
成物をIR分析にかけたところ、ビニル基（1670cm-1）、
ヒドロシリル基（2240cm-1）は消失しており、メチレン
基（2925cm-1,2850cm-1,1460cm-1）、Ｐ＝Ｏ基（1200cm
-1）、（Ｐ＝Ｏ）−CH2−基（1060cm-1）の存在が確認
された。
したがって、生成物は 式 で示されるで示されるポリシロキサン、 すなわち、両末端がトリメチルシロキシ基で封鎖され
たメチル〔（トリメチルアンモニウム）エチルホスファ
チジルトリコシル〕ポリシロキサンであることが判明し
た。
たメチル〔（トリメチルアンモニウム）エチルホスファ
チジルトリコシル〕ポリシロキサンであることが判明し
た。
また、生成物の熱的変化を偏光顕微鏡で調べたとこ
ろ、25〜195℃の温度幅でネマチック液晶になることが
認められた。
ろ、25〜195℃の温度幅でネマチック液晶になることが
認められた。
実施例２ 式 で示されるメチルヒドロジエンポリシロキサン0.111g
（0.173×10-4モル）と、参考例１の22−トリコセニル
−２−（トリメチルアンモニオ）エチルフォスフェート
0399g（7.94×10-4モル）を30mlの加温したトルエンに
溶かし、さらに、塩化白金酸を220〜275マイクロモル／
リットルの割合で上記トルエン溶液に添加して溶かし、
生成溶液を耐圧ガラスビンに注入して密封し、80℃の水
浴に24時間浸漬してヒドロシリル化反応を行なった。
（0.173×10-4モル）と、参考例１の22−トリコセニル
−２−（トリメチルアンモニオ）エチルフォスフェート
0399g（7.94×10-4モル）を30mlの加温したトルエンに
溶かし、さらに、塩化白金酸を220〜275マイクロモル／
リットルの割合で上記トルエン溶液に添加して溶かし、
生成溶液を耐圧ガラスビンに注入して密封し、80℃の水
浴に24時間浸漬してヒドロシリル化反応を行なった。
反応終了後、内容物をとりだし、大過剰のアセトン中
に投入して再沈澱を行ない、沈澱物をろ別し、乾燥し
た。
に投入して再沈澱を行ない、沈澱物をろ別し、乾燥し
た。
生成物は、白色でごく少し吸湿性の固形物であった。
生成物をIR分析にかけたところ、ビニル基（1670c
m-1）、ヒドロシリル基（2240cm-1）は消失しており、
メチレン基（2925cm-1,2850cm-1,1460cm-1）、Ｐ＝Ｏ基
（1200cm-1）、（Ｐ＝Ｏ）−CH2基（1060cm-1）の存在
が確認された。
生成物をIR分析にかけたところ、ビニル基（1670c
m-1）、ヒドロシリル基（2240cm-1）は消失しており、
メチレン基（2925cm-1,2850cm-1,1460cm-1）、Ｐ＝Ｏ基
（1200cm-1）、（Ｐ＝Ｏ）−CH2基（1060cm-1）の存在
が確認された。
したがって、生成物は、 式 で示されるポリシロキサン、 すなわち、両末端がトリメチルシロキシ基で封鎖され
たメチル〔（トリメチルアンモニウム）エチルホスファ
チジルトリコシル〕シロキサン・ジメチルシロキサン共
重合体であることが判明した。
たメチル〔（トリメチルアンモニウム）エチルホスファ
チジルトリコシル〕シロキサン・ジメチルシロキサン共
重合体であることが判明した。
また、生成物の熱的変化を偏光顕微鏡で調べたとこ
ろ、83〜185℃の温度幅でネマチック液晶になることが
認められた。
ろ、83〜185℃の温度幅でネマチック液晶になることが
認められた。
実施例３ 実施例１で使用したメチルヒドロジエンポリシロキサ
ン0.0503g（0.159×10-4モル）と、参考例２の28−ノナ
コセニル−２−（トリメチルアンモニオ）エチルフォス
フェート0.466g（7.94×10-4モル）を30mlの加温したト
ルエンに溶かし、さらに、塩化白金酸を220〜275マイク
ロモル／リットルの割合で上記トルエン溶液に添加して
溶かし、生成溶液を耐圧ガラスビンに注入して密封し、
80℃の水浴に24時間浸漬してヒドロシリル化反応を行な
った。
ン0.0503g（0.159×10-4モル）と、参考例２の28−ノナ
コセニル−２−（トリメチルアンモニオ）エチルフォス
フェート0.466g（7.94×10-4モル）を30mlの加温したト
ルエンに溶かし、さらに、塩化白金酸を220〜275マイク
ロモル／リットルの割合で上記トルエン溶液に添加して
溶かし、生成溶液を耐圧ガラスビンに注入して密封し、
80℃の水浴に24時間浸漬してヒドロシリル化反応を行な
った。
反応終了後、内容物をとりだし、大過剰のアセトン中
に投入して再沈澱を行ない、沈澱物をろ別し、乾燥し
た。
に投入して再沈澱を行ない、沈澱物をろ別し、乾燥し
た。
生成物は白色でごく少し吸湿性の固形物であった。生
成物をIR分析にかけたところ、ビニル基（1670cm-1）、
ヒドロシリル基（2240cm-1）は消失しており、メチレン
基（2925cm-1,2850cm-1,1460cm-1）、Ｐ＝Ｏ基（1200cm
-1）、（Ｐ＝Ｏ）−CH2基（1060cm-1）の存在が確認さ
れた。
成物をIR分析にかけたところ、ビニル基（1670cm-1）、
ヒドロシリル基（2240cm-1）は消失しており、メチレン
基（2925cm-1,2850cm-1,1460cm-1）、Ｐ＝Ｏ基（1200cm
-1）、（Ｐ＝Ｏ）−CH2基（1060cm-1）の存在が確認さ
れた。
式 で示されるポリシロキサン、 すなわち、両末端がトリメチルシロキシ基で封鎖され
たメチル〔（トリメチルアンモニウム）エチルホスファ
チジルノナコシル〕ポリシロキサンであることが判明し
た。
たメチル〔（トリメチルアンモニウム）エチルホスファ
チジルノナコシル〕ポリシロキサンであることが判明し
た。
また、生成物の熱的変化を偏光顕微鏡で調べたとこ
ろ、20〜209℃の温度幅でネマチック液晶になることが
認められた。
ろ、20〜209℃の温度幅でネマチック液晶になることが
認められた。
実施例４ 実施例２で使用したメチルヒドロジエンポリシロキサ
ン0.111g（0.173×10-4モル）と、参考例２の28−ノナ
コセニル−２−（トリメチルアンモニオエチルフォスフ
ェート0.466g（7.94×10-4モル）を30mlの加温したトル
エンに溶かし、さらに、塩化白金酸を220〜275マイクロ
モル／リットルの割合で上記トルエン溶液に添加して溶
かし、生成溶液を耐圧ガラスビンに注入して密封し、80
℃の水浴に24時間浸漬してヒドロシリル化反応を行なっ
た。
ン0.111g（0.173×10-4モル）と、参考例２の28−ノナ
コセニル−２−（トリメチルアンモニオエチルフォスフ
ェート0.466g（7.94×10-4モル）を30mlの加温したトル
エンに溶かし、さらに、塩化白金酸を220〜275マイクロ
モル／リットルの割合で上記トルエン溶液に添加して溶
かし、生成溶液を耐圧ガラスビンに注入して密封し、80
℃の水浴に24時間浸漬してヒドロシリル化反応を行なっ
た。
反応終了後、内容物をとりだし、大過剰のアセトン中
に投入して再沈澱を行ない、沈澱物をろ別し、乾燥し
た。
に投入して再沈澱を行ない、沈澱物をろ別し、乾燥し
た。
生成物は白色でごく少し吸湿性の固形物であった。生
成物をIR分析にかけたところ、ビニル基（1670cm-1）、
ヒドロシリル基（2240cm-1）は消失しており、メチレン
基（2925cm-1,2850cm-1,1460cm-1）、Ｐ＝Ｏ基（1200cm
-1）、（Ｐ＝Ｏ）−CH2基（1060cm-1）の存在が確認さ
れた。
成物をIR分析にかけたところ、ビニル基（1670cm-1）、
ヒドロシリル基（2240cm-1）は消失しており、メチレン
基（2925cm-1,2850cm-1,1460cm-1）、Ｐ＝Ｏ基（1200cm
-1）、（Ｐ＝Ｏ）−CH2基（1060cm-1）の存在が確認さ
れた。
したがって、生成物は、 式 で示されるポリシロキサン、 すなわち、両末端がトリメチルシロキシ基で封鎖され
たメチル〔（トリメチルアンモニウム）エチルホスファ
チジルノナコシル〕シロキサン・ジメチルシロキサン共
重合体であることが判明した。
たメチル〔（トリメチルアンモニウム）エチルホスファ
チジルノナコシル〕シロキサン・ジメチルシロキサン共
重合体であることが判明した。
また、生成物の熱的変化を偏光顕微鏡で調べたとこ
ろ、75〜198℃の温度幅でネマチック液晶になることが
認められた。
ろ、75〜198℃の温度幅でネマチック液晶になることが
認められた。
実施例５ 式 で示されるメチルヒドロジエンポリシロキサン0.476g
（1.99×10-4モル）と、参考例３の10−ウンデセニル−
２−（トリメチルアンモニオ）エチルフォスフェート0.
133g（3.97×10-4モル）を30mlの加温したトルエンに溶
かし、さらに、塩化白金酸を220〜275マイクロモル／リ
ットルの割合で上記トルエン溶液に添加して溶かし、生
成溶液を耐圧ガラスビンに注入して密封し、75℃の水浴
に20時間浸漬してヒドロシリル化反応を行なった。
（1.99×10-4モル）と、参考例３の10−ウンデセニル−
２−（トリメチルアンモニオ）エチルフォスフェート0.
133g（3.97×10-4モル）を30mlの加温したトルエンに溶
かし、さらに、塩化白金酸を220〜275マイクロモル／リ
ットルの割合で上記トルエン溶液に添加して溶かし、生
成溶液を耐圧ガラスビンに注入して密封し、75℃の水浴
に20時間浸漬してヒドロシリル化反応を行なった。
反応終了後、内容物をとりだし、大過剰のアセトン中
に投入して再沈澱を行ない、沈澱物をろ別し、乾燥し
た。
に投入して再沈澱を行ない、沈澱物をろ別し、乾燥し
た。
生成物は白色でごく少し吸湿性の固形物であった。生
成物をIR分析にかけたところ、ビニル基（1670cm-1）は
消失しており、ヒドロシリル基（2240cm-1）は半減して
おり、メチレン基（2925cm-1,2850cm-1,1460cm-1）、Ｐ
＝Ｏ基（1200cm-1）、（Ｐ＝Ｏ）−CH2基（1060cm-1）
の存在が認めらされた。
成物をIR分析にかけたところ、ビニル基（1670cm-1）は
消失しており、ヒドロシリル基（2240cm-1）は半減して
おり、メチレン基（2925cm-1,2850cm-1,1460cm-1）、Ｐ
＝Ｏ基（1200cm-1）、（Ｐ＝Ｏ）−CH2基（1060cm-1）
の存在が認めらされた。
また、生成物のトルエン溶液（固形分１重量％）に生
成物の１重量％のジブチルチンジラウレートを添加して
混合したところ水素ガスを発生しつつ縮合した。したが
って、生成物は 式 で示されるポリシロキサン、 すなわち、テトラメチルージ〔（トリメチルアンモニ
ウム）エチルホスファチジルウンデシル〕−ジヒドロジ
エンシクロテトラシロキサンであることが判明した。
成物の１重量％のジブチルチンジラウレートを添加して
混合したところ水素ガスを発生しつつ縮合した。したが
って、生成物は 式 で示されるポリシロキサン、 すなわち、テトラメチルージ〔（トリメチルアンモニ
ウム）エチルホスファチジルウンデシル〕−ジヒドロジ
エンシクロテトラシロキサンであることが判明した。
実施例６ 式 で示されるメチルヒドロジエンポリシロキサン0.0617g
（0.195×10-4モル）と、参考例36の10−ウンデセニル
−２−（トリメチルアンモニオ）エチルフォスフェート
0.228g（6.81×10-4モル）を30mlの加温したクロロホル
ムに溶かし、さらに、塩化白金酸を220〜275マイクロモ
ル／リットルの割合で上記トルエン溶液に添加して溶か
し、生成溶液を耐圧ガラスビンに注入して密封し、75℃
の水浴に60時間浸漬してヒドロシリル化反応を行なっ
た。
（0.195×10-4モル）と、参考例36の10−ウンデセニル
−２−（トリメチルアンモニオ）エチルフォスフェート
0.228g（6.81×10-4モル）を30mlの加温したクロロホル
ムに溶かし、さらに、塩化白金酸を220〜275マイクロモ
ル／リットルの割合で上記トルエン溶液に添加して溶か
し、生成溶液を耐圧ガラスビンに注入して密封し、75℃
の水浴に60時間浸漬してヒドロシリル化反応を行なっ
た。
反応終了後、内容物をとりだし、大過剰のアセトン中
に投入して再沈澱を行ない、沈澱物をろ別し、乾燥し
た。
に投入して再沈澱を行ない、沈澱物をろ別し、乾燥し
た。
生成物は白色でごく少し吸湿性の固形物であった。生
成物をIR分析にかけたところ、ビニル基（1670cm-1）は
消失しており、ヒドロシリル基（2240cm-1）は７割方減
少しており、メチレン基（2925cm-1,2850cm-1,1460c
m-1）、Ｐ＝Ｏ基（1200cm-1）、（Ｐ＝Ｏ）−CH2基（10
60cm-1）の存在が認められた。
成物をIR分析にかけたところ、ビニル基（1670cm-1）は
消失しており、ヒドロシリル基（2240cm-1）は７割方減
少しており、メチレン基（2925cm-1,2850cm-1,1460c
m-1）、Ｐ＝Ｏ基（1200cm-1）、（Ｐ＝Ｏ）−CH2基（10
60cm-1）の存在が認められた。
また、生成物のトルエン溶液（固形分１重量％）に生
成物の１重量％のジブチルチンジラウレートを添加して
混合したところ水素ガスを発生しつつ縮合した。したが
って生成物は式 で示されるポリシロキサン、すなわち、両末端がトリメ
チルシロキシ基で封鎖されたメチル〔（トリメチルアン
モニウム）ホスファチジルウンデシル〕シロキサン・メ
チルヒドロジエンシロキサン共重合体であることが判明
した。
成物の１重量％のジブチルチンジラウレートを添加して
混合したところ水素ガスを発生しつつ縮合した。したが
って生成物は式 で示されるポリシロキサン、すなわち、両末端がトリメ
チルシロキシ基で封鎖されたメチル〔（トリメチルアン
モニウム）ホスファチジルウンデシル〕シロキサン・メ
チルヒドロジエンシロキサン共重合体であることが判明
した。
実施例７ 式 で示されるメチルヒドロジエンポリシロキサン0.347グ
ラム（3.97×10-4モル）と参考例１の22−トリコセニル
−２−（トリメチルアンモニオ）エチルフォスフェート
0.400グラム（7.94×10-4モル）を30ミリリットルの加
温したトルエンに溶かし、さらに塩化白金酸を220〜275
マイクロモル／リットルの割合で上記トルエン溶液に添
加して溶かし、生成溶液を耐圧ガラスビンに注入して密
封し、80℃の水溶に24時間浸漬してヒドロシリル化反応
を行なった。反応終了後、内容物をとりだし、大過剰の
アセトン中に投入して再沈殿を行ない、沈殿物をろ別
し、乾燥した。生成物は白色でごく少し吸湿性の固形物
であった。生成物をIR分析にかけたところ、ビニル基
（1670cm-1）、ヒドロシリル基（2240cm-1）は消失して
おり、メチレン基（2925cm-1,2850cm-1,1460cm-1）、Ｐ
＝Ｏ基（1200cm-1）、（Ｐ＝Ｏ）−CH2基（1600cm-1）
の存在が確認された。
ラム（3.97×10-4モル）と参考例１の22−トリコセニル
−２−（トリメチルアンモニオ）エチルフォスフェート
0.400グラム（7.94×10-4モル）を30ミリリットルの加
温したトルエンに溶かし、さらに塩化白金酸を220〜275
マイクロモル／リットルの割合で上記トルエン溶液に添
加して溶かし、生成溶液を耐圧ガラスビンに注入して密
封し、80℃の水溶に24時間浸漬してヒドロシリル化反応
を行なった。反応終了後、内容物をとりだし、大過剰の
アセトン中に投入して再沈殿を行ない、沈殿物をろ別
し、乾燥した。生成物は白色でごく少し吸湿性の固形物
であった。生成物をIR分析にかけたところ、ビニル基
（1670cm-1）、ヒドロシリル基（2240cm-1）は消失して
おり、メチレン基（2925cm-1,2850cm-1,1460cm-1）、Ｐ
＝Ｏ基（1200cm-1）、（Ｐ＝Ｏ）−CH2基（1600cm-1）
の存在が確認された。
したがって、生成物は式 で示されるポリシロキサン、すなわち、両末端がジメチ
ル〔（トリメチルアンモニウム）エチルフォスファチジ
ルトリコシル〕シロキシ基で封鎖されたジメチルポリシ
ロキサンであることが判明した。
ル〔（トリメチルアンモニウム）エチルフォスファチジ
ルトリコシル〕シロキシ基で封鎖されたジメチルポリシ
ロキサンであることが判明した。
〔発明の効果〕 本発明によれば、トリアルキルアンモニウムフォスフ
ァチジルアルキル基というリン脂質類似構造を有する官
能基とアルキル基が同一ケイ素原子に結合した、直鎖状
もしくは環状のアルキルポリシロキサンもしくはアルキ
ルヒドロジエンポリシロキサンが提供される。
ァチジルアルキル基というリン脂質類似構造を有する官
能基とアルキル基が同一ケイ素原子に結合した、直鎖状
もしくは環状のアルキルポリシロキサンもしくはアルキ
ルヒドロジエンポリシロキサンが提供される。
Claims (2)
- 【請求項１】一般式 ［式中、Ｒはアルキル基、Ａは式 （式中R1は炭素数３〜50のアルキレン基、R2は水素原子
または炭素数１〜25のアルキル基である）で示される有
機基、ＢはR,水素原子またはＡ、ｌは０または１以上の
整数、ｍは０または１以上の整数、ｎは０または１以上
の整数、ただしｌ＋ｍ＋ｎは０〜2000の整数である］で
示され、１分子中にＡ基を少なくとも１個有することを
特徴とする、リン脂質類似構造を有する直鎖状オルガノ
ポリシロキサン。 - 【請求項２】一般式 ［式中、Ｒはアルキル基、Ａは式 （式中、R1は炭素数３〜50のアルキレン基、R2は水素原
子または炭素数１〜25のアルキル基である）で示される
有機基、ｘは０または１以上の整数、ｙは１以上の整
数、ｚは０または１以上の整数、ただしｘ＋ｙ＋ｚは３
〜20の整数である］で示されることを特徴とする、リン
脂質類似構造を有する環状オルガノポリシロキサン。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62112741A JP2533772B2 (ja) | 1987-05-08 | 1987-05-08 | リン脂質類似構造を有するオルガノポリシロキサン |
| DE19883875800 DE3875800T2 (de) | 1987-05-07 | 1988-05-06 | Organopolysiloxane mit phospholipidaehnlichen strukturen und verfahren zu ihrer herstellung. |
| CA000566101A CA1304190C (en) | 1987-05-07 | 1988-05-06 | Organopolysiloxanes containing a phospholipid-like structure and a process for their preparation |
| EP19880107318 EP0292760B1 (en) | 1987-05-07 | 1988-05-06 | Organopolysiloxanes containing a phospholipid-like structure and a process for their preparation |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62112741A JP2533772B2 (ja) | 1987-05-08 | 1987-05-08 | リン脂質類似構造を有するオルガノポリシロキサン |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63277246A JPS63277246A (ja) | 1988-11-15 |
| JP2533772B2 true JP2533772B2 (ja) | 1996-09-11 |
Family
ID=14594389
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62112741A Expired - Lifetime JP2533772B2 (ja) | 1987-05-07 | 1987-05-08 | リン脂質類似構造を有するオルガノポリシロキサン |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2533772B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005094758A1 (ja) * | 2004-03-31 | 2005-10-13 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | シリコーン重合体を含有する化粧料 |
| WO2019189608A1 (ja) | 2018-03-30 | 2019-10-03 | 株式会社コーセー | ホスホリルコリン基及びシリコーン基含有共重合体、当該共重合体で被覆された粉体及びその製造方法、並びに当該共重合体及び当該粉体の化粧料への利用 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006199749A (ja) * | 2005-01-18 | 2006-08-03 | Nof Corp | ホスホリルコリン基含有シロキサン化合物、その製造方法及び用途 |
| JP2012530052A (ja) * | 2009-06-15 | 2012-11-29 | ディーエスエム アイピー アセッツ ビー．ブイ． | ホスロリルコリンをベースにする医療用両親媒性シリコーン |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2995594A (en) | 1958-12-23 | 1961-08-08 | Union Carbide Corp | Process for making phosphorus-containing silicon compounds |
| GB1473211A (en) | 1975-02-10 | 1977-05-11 | Ici Ltd | Phosphorus and nitrogen-containing silicon compounds |
-
1987
- 1987-05-08 JP JP62112741A patent/JP2533772B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2995594A (en) | 1958-12-23 | 1961-08-08 | Union Carbide Corp | Process for making phosphorus-containing silicon compounds |
| GB1473211A (en) | 1975-02-10 | 1977-05-11 | Ici Ltd | Phosphorus and nitrogen-containing silicon compounds |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| WO2005094758A1 (ja) * | 2004-03-31 | 2005-10-13 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | シリコーン重合体を含有する化粧料 |
| US7713520B2 (en) | 2004-03-31 | 2010-05-11 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Cosmetic comprising a silicone polymer |
| WO2019189608A1 (ja) | 2018-03-30 | 2019-10-03 | 株式会社コーセー | ホスホリルコリン基及びシリコーン基含有共重合体、当該共重合体で被覆された粉体及びその製造方法、並びに当該共重合体及び当該粉体の化粧料への利用 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63277246A (ja) | 1988-11-15 |
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