JP2532885B2 - ハイポフルオライト及びビス―ハイポフルオライト、並びにその製造方法 - Google Patents
ハイポフルオライト及びビス―ハイポフルオライト、並びにその製造方法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C71/00—Esters of oxyacids of halogens
-
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- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C309/00—Sulfonic acids; Halides, esters, or anhydrides thereof
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 本発明は、弗素とそれぞれ1個若しくは2個の弗化ア
シル基: を有する出発化合物との反応によるハイポフルオライト
及びビス−ハイポフルオライトの改良製造方法、並びに
製造される化合物に関するものである。
シル基: を有する出発化合物との反応によるハイポフルオライト
及びビス−ハイポフルオライトの改良製造方法、並びに
製造される化合物に関するものである。
この方法は、弗化スルホニル基−SO2Fを有しかつ次
式: FO2S−Rf−CF2CO (I) [式中、Rfは1〜4個の炭素原子を有するペルフルオロ
アルキレン基若しくはフルオロクロルアルキレン基であ
り、特に式: −CF2−、−CF2CF2−、 −CFCl−、 から選択される] により示されるモノ−ハイポフルオライトを製造するの
に特に適している。
式: FO2S−Rf−CF2CO (I) [式中、Rfは1〜4個の炭素原子を有するペルフルオロ
アルキレン基若しくはフルオロクロルアルキレン基であ
り、特に式: −CF2−、−CF2CF2−、 −CFCl−、 から選択される] により示されるモノ−ハイポフルオライトを製造するの
に特に適している。
式(I)のハイポフルオライトを製造するための出発
化合物は対応の弗化アシル: であり、これはSO3とフルオロオレフィン(若しくはフ
ルオロクロルオレフィン)との反応に基づく公知方法に
したがって、或いはスルトンを発生させかつ次いでこの
スルトン環の開環を特にアルカリ弗化物若しくはアミン
のような塩基性触媒の存在下で行なう電気化学的合成に
より容易に製造することができる[アンゲバンテ・ヘミ
ー、インターナショナル・エディション、第2巻(197
2)、第7号、第583頁及び米国特許第4,466,881号]。
化合物は対応の弗化アシル: であり、これはSO3とフルオロオレフィン(若しくはフ
ルオロクロルオレフィン)との反応に基づく公知方法に
したがって、或いはスルトンを発生させかつ次いでこの
スルトン環の開環を特にアルカリ弗化物若しくはアミン
のような塩基性触媒の存在下で行なう電気化学的合成に
より容易に製造することができる[アンゲバンテ・ヘミ
ー、インターナショナル・エディション、第2巻(197
2)、第7号、第583頁及び米国特許第4,466,881号]。
さらに、本発明による方法は、一般式: FOCF2−R´fCF2OF (II) [式中、R´fは特に1〜8個の炭素原子を有するペル
フルオロアルキレン−CF2−、−CF2CF2−などであるか
又はこれは特に1〜10個の炭素原子を有しかつ−CF2OCF
2CF2−若しくは(−CF2O−CF2CF2−)2から選択される
ペルフルオロアルキレン基を示す] のペルフルオロアルカン若しくはペルフルオロエーテル
のビス−ハイポフルオライトを製造するにも特に適して
いる。
フルオロアルキレン−CF2−、−CF2CF2−などであるか
又はこれは特に1〜10個の炭素原子を有しかつ−CF2OCF
2CF2−若しくは(−CF2O−CF2CF2−)2から選択される
ペルフルオロアルキレン基を示す] のペルフルオロアルカン若しくはペルフルオロエーテル
のビス−ハイポフルオライトを製造するにも特に適して
いる。
出発化合物は対応の弗化アシル: である。
これは一般に、対応のジカルボン酸の電気化学的弗素
化により、或いは溶剤中でのKFとの反応により対応の塩
化物から製造される[J.A.C.S.(89)第12巻、第2841〜
2843頁]。出発化合物としてはマロニル及びスクシニル
の酸二弗化物に特に興味がある。R´fがエーテル基で
ある化合物の場合、これらの先駆体は分別蒸留によって
C2F4光酸化法で得られたペルフルオロポリエーテル混合
物から得ることができる。
化により、或いは溶剤中でのKFとの反応により対応の塩
化物から製造される[J.A.C.S.(89)第12巻、第2841〜
2843頁]。出発化合物としてはマロニル及びスクシニル
の酸二弗化物に特に興味がある。R´fがエーテル基で
ある化合物の場合、これらの先駆体は分別蒸留によって
C2F4光酸化法で得られたペルフルオロポリエーテル混合
物から得ることができる。
ビス−ハイポフルオライトの製造については極めて少
ない引例しか技術文献に含まれていない。特に、J.H.プ
ラガーによるJ.O.C.(1966年2月)、第392頁における
「直接的弗素化による1,3−ビス(フルオロオキシ)ペ
ルフルオロプロパン及びその他の酸素含有化合物」と題
する論文は、気体弗素とOH基を有する弗素化化合物との
反応を記載しており、この反応は化合物: をも生ずるが、その収率は2%であってその他に2%の
モノ−ハイポフルオライトを伴う。この方法は実用的興
味を持たないことが明らかである。
ない引例しか技術文献に含まれていない。特に、J.H.プ
ラガーによるJ.O.C.(1966年2月)、第392頁における
「直接的弗素化による1,3−ビス(フルオロオキシ)ペ
ルフルオロプロパン及びその他の酸素含有化合物」と題
する論文は、気体弗素とOH基を有する弗素化化合物との
反応を記載しており、この反応は化合物: をも生ずるが、その収率は2%であってその他に2%の
モノ−ハイポフルオライトを伴う。この方法は実用的興
味を持たないことが明らかである。
本発明の方法は、工業規模で用いうる連続法によって
上記種類のハイポフルオライト及びビス−ハイポフルオ
ライトを高収率で得ることを可能にする。
上記種類のハイポフルオライト及びビス−ハイポフルオ
ライトを高収率で得ることを可能にする。
本発明による方法は、気相にて弗素と式: 又は式: のアシル弗化物とを、必要に応じ理論量に対し小過剰の
弗素と共に0〜60℃の範囲の温度、好ましくは20〜30℃
の温度にてアルカリ若しくはアルカリ土類金属、好まし
くはK、Rb、Cs及びBaから選択される弗化物(特にCs
F)からなりかつ好ましくは金属上に支持され或いは金
属と混合してなる固定触媒の存在下に反応させることか
らなっている。
弗素と共に0〜60℃の範囲の温度、好ましくは20〜30℃
の温度にてアルカリ若しくはアルカリ土類金属、好まし
くはK、Rb、Cs及びBaから選択される弗化物(特にCs
F)からなりかつ好ましくは金属上に支持され或いは金
属と混合してなる固定触媒の存在下に反応させることか
らなっている。
使用する触媒の粒度は好ましくは250〜500μの範囲で
あり、かつ磨砕によって得ることができる。いずれの場
合にも、粒度は固定床を得るように選択される。
あり、かつ磨砕によって得ることができる。いずれの場
合にも、粒度は固定床を得るように選択される。
好ましくは、触媒を数mm程度の寸法を有する金属粒子
と混合する。この金属は、たとえばCu、Ni、Fe若しくは
Alとして反応器の熱交換を容易化させることができる。
と混合する。この金属は、たとえばCu、Ni、Fe若しくは
Alとして反応器の熱交換を容易化させることができる。
さらに触媒は、本出願人による従前の特許出願に記載
されたように、好ましくは金属材料に担持することがで
きる。特に、触媒の製造方法は、小片若しくは粒子の形
状(ビーズ状、小円筒状など)を有する酸化銅(CuO若
しくはCu2O又はその混合物)を窒素希釈された水素によ
る還元に200〜50℃、好ましくは250〜350℃の温度でか
けて、上記特許出願に示されたような多孔質性と特定表
面とを有する金属銅キャリヤを得ることからなってい
る。次いで、このキャリヤにアルカリ弗化物溶液、特に
弗化セシウム溶液を含浸させる。一般に、キャリヤ上に
固定しうるCsFの量は約10重量%までのようにかなり高
い。さらに、3%の量は良好な触媒を与える。最後に、
使用した溶剤を減圧蒸発によって除去する。
されたように、好ましくは金属材料に担持することがで
きる。特に、触媒の製造方法は、小片若しくは粒子の形
状(ビーズ状、小円筒状など)を有する酸化銅(CuO若
しくはCu2O又はその混合物)を窒素希釈された水素によ
る還元に200〜50℃、好ましくは250〜350℃の温度でか
けて、上記特許出願に示されたような多孔質性と特定表
面とを有する金属銅キャリヤを得ることからなってい
る。次いで、このキャリヤにアルカリ弗化物溶液、特に
弗化セシウム溶液を含浸させる。一般に、キャリヤ上に
固定しうるCsFの量は約10重量%までのようにかなり高
い。さらに、3%の量は良好な触媒を与える。最後に、
使用した溶剤を減圧蒸発によって除去する。
このように製造された触媒は、極めて長い連続操作の
後にさえ満足しうる高収率を示す。事実、数日間使用し
た後に、これは認めうる劣化を示さない。さらに、再生
が必要となった場合にも、たとえば200〜300℃の温度の
水素流によって同じ反応器で極めて簡単に達成すること
ができる。
後にさえ満足しうる高収率を示す。事実、数日間使用し
た後に、これは認めうる劣化を示さない。さらに、再生
が必要となった場合にも、たとえば200〜300℃の温度の
水素流によって同じ反応器で極めて簡単に達成すること
ができる。
高発熱性及び高反応速度により、一般により容易な温
度制御には試薬をたとえば窒素若しくはヘリウムのよう
な適切な不活性ガスにより、或いは蒸気状態かつ反応条
件下で不活性なクロルフルオロ炭化水素(特にC2F4C
l2、C2F5Cl)によって試薬を希釈することが推奨され
る。
度制御には試薬をたとえば窒素若しくはヘリウムのよう
な適切な不活性ガスにより、或いは蒸気状態かつ反応条
件下で不活性なクロルフルオロ炭化水素(特にC2F4C
l2、C2F5Cl)によって試薬を希釈することが推奨され
る。
反応は大気圧に等しい又はそれより高い圧力で行なう
ことができる。
ことができる。
反応は極めて短い接触時間、一般に1分間以内で生ず
る。変換は実質的に完結し、かつハイポフルオライトの
収率は極めて高く、一般に95%以上である。
る。変換は実質的に完結し、かつハイポフルオライトの
収率は極めて高く、一般に95%以上である。
公知のように、ハイポフルオライトは弗素化オレフィ
ンと反応してエーテルを生成することができ、これらの
エーテルはその後の反応によって弗素化ビニルエーテル
を生成する。これらの弗素化ビニルエーテルは、式
(I)の化合物から得られた場合、すなわちスルホニル
基を有する場合、高分子物質(樹脂)の製造に単量体と
して使用することができ、これらは不溶性の酸触媒とし
て或いはイオン交換膜若しくはダイヤグラムを製造する
際の材料として有用である。
ンと反応してエーテルを生成することができ、これらの
エーテルはその後の反応によって弗素化ビニルエーテル
を生成する。これらの弗素化ビニルエーテルは、式
(I)の化合物から得られた場合、すなわちスルホニル
基を有する場合、高分子物質(樹脂)の製造に単量体と
して使用することができ、これらは不溶性の酸触媒とし
て或いはイオン交換膜若しくはダイヤグラムを製造する
際の材料として有用である。
一般式(II)のビスーハイポフルオライトは、上記し
たように、両ハイポフルオライト基を有する弗素化オレ
フィンとの反応により対応のビス−ビニルエーテル(ジ
グリシジルエーテル)を製造する際に用いることができ
る。
たように、両ハイポフルオライト基を有する弗素化オレ
フィンとの反応により対応のビス−ビニルエーテル(ジ
グリシジルエーテル)を製造する際に用いることができ
る。
ビニルエーテルを製造するためのフルオロオレフィン
との反応に際し、不活性希釈剤を若干含有する反応混合
物を直接に使用することができる。何故なら、出発化合
物の変換が一般に完全でありかつハイポフルオライトの
収率が極めて高いからである。
との反応に際し、不活性希釈剤を若干含有する反応混合
物を直接に使用することができる。何故なら、出発化合
物の変換が一般に完全でありかつハイポフルオライトの
収率が極めて高いからである。
本発明の方法による幾種かの化合物は新規であり、特
にRfが−CFCl−若しくは である式(I)の種類のもの; R´fが−CF2O−CF2CH2−若しくは(−CF2O−CF2CF
2−)2である式(II)の種類のものが挙げられる。
にRfが−CFCl−若しくは である式(I)の種類のもの; R´fが−CF2O−CF2CH2−若しくは(−CF2O−CF2CF
2−)2である式(II)の種類のものが挙げられる。
以下、本発明による方法を、限定はしないが説明の目
的で可能な実施例につき説明する。
的で可能な実施例につき説明する。
例 1 1−フルオロオキシ−2(フルオロスルホニル)−テト
ラフルオロエタンの製造 直径50mmかつ可使容積500cm3を有し、銅チップを350g
のCsFと混合して製造され、窒素流中にて350℃で4時間
乾燥させ、磨砕し、かつ無水環境中で篩分けした触媒が
充填されているAISI316スチール反応器へ、1/1/1のモル
比におけるN2/F2/FO2S−CF2−C(O)Fよりなるガス
混合物を12Nl/hの全流速(各試薬につき触媒1g当り5×
10-4モル/h)にて1.1気圧の圧力で連続供給した。この
試薬混合物は予めHF、H2Oなど存在しうる不純物(アル
コール類)から精製した。反応器内の温度は恒温浴によ
って+20℃に維持した。流出するガス混合物は、IR分光
光度法、NMR F19及び沃度滴定法により分析してFO2S−
CF2−CF2OFの存在を示した。変換率及び収率は約100%
であった。
ラフルオロエタンの製造 直径50mmかつ可使容積500cm3を有し、銅チップを350g
のCsFと混合して製造され、窒素流中にて350℃で4時間
乾燥させ、磨砕し、かつ無水環境中で篩分けした触媒が
充填されているAISI316スチール反応器へ、1/1/1のモル
比におけるN2/F2/FO2S−CF2−C(O)Fよりなるガス
混合物を12Nl/hの全流速(各試薬につき触媒1g当り5×
10-4モル/h)にて1.1気圧の圧力で連続供給した。この
試薬混合物は予めHF、H2Oなど存在しうる不純物(アル
コール類)から精製した。反応器内の温度は恒温浴によ
って+20℃に維持した。流出するガス混合物は、IR分光
光度法、NMR F19及び沃度滴定法により分析してFO2S−
CF2−CF2OFの存在を示した。変換率及び収率は約100%
であった。
NMR分析は、ハイポフルオライトの典型的な信号(CFC
l3に関するδ:+150ppm)を示し、895cm-1におけるIR
バンドはハイポフルオライトに典型的であった。
l3に関するδ:+150ppm)を示し、895cm-1におけるIR
バンドはハイポフルオライトに典型的であった。
試薬の変換及び収率は、10時間の試験後にも変化せず
に保たれた。
に保たれた。
例 2 例1の反応器中へ、1/2/1のモル比におけるN2/F2/FO2
S−CF2−C(O)Fよりなるガス混合物を8Nl/hの全流
速(触媒1g当たり5×10-4モル/hのF2及び触媒1g当たり
2.5×10-4モル/hのFO2S−CF2−C(O)F)かつ1.1気
圧の圧力にて連続供給した。反応器内の温度は恒温浴に
よって+30℃に維持した。
S−CF2−C(O)Fよりなるガス混合物を8Nl/hの全流
速(触媒1g当たり5×10-4モル/hのF2及び触媒1g当たり
2.5×10-4モル/hのFO2S−CF2−C(O)F)かつ1.1気
圧の圧力にて連続供給した。反応器内の温度は恒温浴に
よって+30℃に維持した。
流出する混合物をIR分光光度分析及び沃度滴定分析に
かけたところ、FO2S−CF2−C(O)FからFO2S−CF2−
CF2OFへの完全変換を示した;事実、6.8μmと7μmと
の間のIRバンドが存在し、かつその強度は未変化に保た
れた(−SO2Fの典型的バンド)。5.3μmと5.5μmとの
間のバンド(COFの典型的バンド)は全く存在せず、基
−CF2OFに典型的な新たなバイドが出現した;ν(OF)
=895cm-1。
かけたところ、FO2S−CF2−C(O)FからFO2S−CF2−
CF2OFへの完全変換を示した;事実、6.8μmと7μmと
の間のIRバンドが存在し、かつその強度は未変化に保た
れた(−SO2Fの典型的バンド)。5.3μmと5.5μmとの
間のバンド(COFの典型的バンド)は全く存在せず、基
−CF2OFに典型的な新たなバイドが出現した;ν(OF)
=895cm-1。
例 3 例1の反応器中へ、1/2/1の試薬モル比における よりなるガス混合物を8Nl/hの全流速にて1.1気圧の圧力
で連続供給した。反応器内の温度は恒温浴によって+20
℃に維持した。
で連続供給した。反応器内の温度は恒温浴によって+20
℃に維持した。
流出する混合物をIR分光光度分析及び沃度滴定分析に
かけたところ、 から への完全変換を示した;事実、6.8μmと7μmとの間
のIRバンドが存在しかつその強度は未変化に保たれた
(−SO2Fの典型的バンド)。5.3μmと5.5μmとの間の
バンド(COFの典型的バンド)は全く存在せず、かつ−C
F2OFに寄与する約887cm-1を中心とした新たなバンドが
出現した。NMR分析はハイポフルオライトの典型的信号
を示した(CFCl3に関するδ:+157.7ppm)。
かけたところ、 から への完全変換を示した;事実、6.8μmと7μmとの間
のIRバンドが存在しかつその強度は未変化に保たれた
(−SO2Fの典型的バンド)。5.3μmと5.5μmとの間の
バンド(COFの典型的バンド)は全く存在せず、かつ−C
F2OFに寄与する約887cm-1を中心とした新たなバンドが
出現した。NMR分析はハイポフルオライトの典型的信号
を示した(CFCl3に関するδ:+157.7ppm)。
例 4 例1の反応器中へ、2/5/1の試薬モル比におけるN2/F2
/FOC−CF2−CF2−COFよりなるガス混合物を8Nl/hの全流
速かつ1.1気圧の圧力にて連続供給した。反応器内の温
度は恒温浴により+20℃に維持した。
/FOC−CF2−CF2−COFよりなるガス混合物を8Nl/hの全流
速かつ1.1気圧の圧力にて連続供給した。反応器内の温
度は恒温浴により+20℃に維持した。
流出する混合物は、IR分光光度分析及び沃度滴定分析
にかけたところ、FOC−CF2−CF2−COFからFOCF2−CF2−
CF2−CF2OFへの良好な変換を示した。事実、5.3μmと
5.5μmとの間のIRバンド(COFの典型的バンド)は殆ん
ど存在せず、かつ基−CF2OFに典型的な新たなバンドが
出現した。
にかけたところ、FOC−CF2−CF2−COFからFOCF2−CF2−
CF2−CF2OFへの良好な変換を示した。事実、5.3μmと
5.5μmとの間のIRバンド(COFの典型的バンド)は殆ん
ど存在せず、かつ基−CF2OFに典型的な新たなバンドが
出現した。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ラムベルト・ロベルティ イタリア国ミラノ、モンツァ、ビア・ボ ルガッツィ、 38
Claims (5)
- 【請求項1】それぞれ式: (I)FSO2−Rf−CF2OF及び (II)FOCF2−R´f−CF2OF [式中、Rfは1〜4個の炭素原子を有するペルフルオロ
アルキレン若しくはペルフルオロクロルアルキレンであ
り、かつR´fは1〜10個の炭素原子を有するペルフル
オロアルキレン若しくはペルフルオロオキシアルキレン
である] のハイポフルオライト及びビス−ハイポフルオライトを
製造するに際し、それぞれ式: 及び の酸弗化物を気相中にて弗素と反応させ、この反応を
K、Rb、Cs若しくはBaの弗化物からなる触媒の存在下に
0〜60℃にて連続的に行なうことを特徴とするハイポフ
ルオライト及びビス−ハイポフルオライトの製造方法。 - 【請求項2】触媒が金属材料に支持され、且つ固定触媒
床の形態で反応器内に配置されている、特許請求の範囲
第1項記載の方法。 - 【請求項3】Rfが−CF2−、−CF2CF2−、 である式(I)のハイポフルオライト、及び R´fが−CF2−、−CF2CF2−、 −CF2OCF2CF2−若しくは (−CF2O−CF2CF2−)2である式(II)のハイポフルオ
ライトを製造する特許請求項の範囲第1項または2項記
載の方法。 - 【請求項4】式: または を有する酸弗化物及び弗素を、不活性ガスにより希釈す
る、特許請求の範囲第1項または2項記載の方法。 - 【請求項5】不活性ガスが、窒素、ヘリウム及び、反応
条件下にて不活性であるクロルフルオロ炭化水素の蒸気
より選ばれる、特許請求の範囲第4項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| IT21658/86A IT1197476B (it) | 1986-09-10 | 1986-09-10 | Ipofluoriti e bis-ipofluoriti e procedimento per la loro preparazione |
| IT21658A/86 | 1986-09-10 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63126845A JPS63126845A (ja) | 1988-05-30 |
| JP2532885B2 true JP2532885B2 (ja) | 1996-09-11 |
Family
ID=11184944
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62224216A Expired - Lifetime JP2532885B2 (ja) | 1986-09-10 | 1987-09-09 | ハイポフルオライト及びビス―ハイポフルオライト、並びにその製造方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4801409A (ja) |
| EP (1) | EP0259817B1 (ja) |
| JP (1) | JP2532885B2 (ja) |
| CA (1) | CA1297122C (ja) |
| DE (1) | DE3770224D1 (ja) |
| IT (1) | IT1197476B (ja) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| IT1230718B (it) * | 1989-02-13 | 1991-10-29 | Ausimont Srl | Fluorurazione diretta di fluoro b sultoni ai corrispondenti fluorossi fluorosulfonil fluorocomposti. |
| US5252424A (en) * | 1992-09-04 | 1993-10-12 | Eastman Kodak Company | Photographic paper |
| IT1275568B (it) * | 1995-07-19 | 1997-08-07 | Ausimont Spa | Processo per la preparazione di fluorossi- o clorossi- perfluoroacilfluoruri |
| ITMI20020001A1 (it) * | 2002-01-03 | 2003-07-03 | Ausimont Spa | Esteri alchilici dell'acido 2-(2-fluorosulfoni l) perfluoretilenossi 3 alogeno propionico |
| ITMI20020198A1 (it) * | 2002-02-05 | 2003-08-05 | Ausimont Spa | (per)aloeteri |
| ITMI20021782A1 (it) * | 2002-08-06 | 2004-02-07 | Ausimont S P A Ora Solvay Solexis Spa | Processo per preparare fluoroalogenoeteri. |
| ITMI20030150A1 (it) * | 2003-01-30 | 2004-07-31 | Solvay Solexis Spa | Processo per preparare fluoroalogenoeteri. |
| ITMI20030444A1 (it) * | 2003-03-11 | 2004-09-12 | Solvay Solexis Spa | Processo per preparare (per)fluoroalogenoeteri. |
| ITMI20040133A1 (it) | 2004-01-29 | 2004-04-29 | Solvay Solexis Spa | Processo per preparare fluoroalogenoeteri |
| ITMI20040132A1 (it) | 2004-01-29 | 2004-04-29 | Solvay Solexis Spa | Processo per preparare fluoroalogenoeteri |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| IT1184149B (it) * | 1985-03-11 | 1987-10-22 | Montefluos Spa | Processo per la preparazione di fluorossi-alo-composti |
-
1986
- 1986-09-10 IT IT21658/86A patent/IT1197476B/it active
-
1987
- 1987-09-07 DE DE8787113058T patent/DE3770224D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1987-09-07 EP EP87113058A patent/EP0259817B1/en not_active Expired
- 1987-09-08 US US07/093,700 patent/US4801409A/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-09-09 CA CA000546432A patent/CA1297122C/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-09-09 JP JP62224216A patent/JP2532885B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4801409A (en) | 1989-01-31 |
| EP0259817A2 (en) | 1988-03-16 |
| CA1297122C (en) | 1992-03-10 |
| IT8621658A0 (it) | 1986-09-10 |
| DE3770224D1 (de) | 1991-06-27 |
| IT1197476B (it) | 1988-11-30 |
| EP0259817A3 (en) | 1988-05-04 |
| JPS63126845A (ja) | 1988-05-30 |
| EP0259817B1 (en) | 1991-05-22 |
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