JP2529398B2 - 透過型電子顕微鏡用資料の作成方法及びその観察方法 - Google Patents
透過型電子顕微鏡用資料の作成方法及びその観察方法Info
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- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 title claims description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 16
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims description 14
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims description 7
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- 238000005464 sample preparation method Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は透過型電子顕微鏡用の試料作製方法に関する
ものである。
ものである。
従来の技術 透過型電子顕微鏡で観察するには、試料をできるかぎ
り薄膜化する必要がある。そのため断面観察用の試料作
製は困難であり、種々の手法が考案されている。
り薄膜化する必要がある。そのため断面観察用の試料作
製は困難であり、種々の手法が考案されている。
以下、従来の一般的な断面観察用の試料作製方法につ
いて図面を用いて説明する。
いて図面を用いて説明する。
第2図は従来の断面観察用の試料作製方法についての
説明図であり、1は観察試料、2は試料を薄膜化するた
めのイオンビームである。
説明図であり、1は観察試料、2は試料を薄膜化するた
めのイオンビームである。
以下その試料作製方法について説明する。
まず第2図aに示すような試料1を第2図bに示すよ
うにダイヤモンドカッタを用い約0.5mm厚に切断する。
次に機械的な研磨法により10〜20μmとできるだけ薄膜
とした後に、第2図cに示すように最終仕上げとしてイ
オンビーム2を用いたエッチング法により透過型電子顕
微鏡観察が可能な膜厚まで試料を薄くして断面観察用試
料としている。
うにダイヤモンドカッタを用い約0.5mm厚に切断する。
次に機械的な研磨法により10〜20μmとできるだけ薄膜
とした後に、第2図cに示すように最終仕上げとしてイ
オンビーム2を用いたエッチング法により透過型電子顕
微鏡観察が可能な膜厚まで試料を薄くして断面観察用試
料としている。
発明が解決しようとする課題 しかしながら、上記従来の透過型電子顕微鏡用の試料
作製方法では、特定部の断面を観察するための試料を作
製することが困難であるという課題があった。
作製方法では、特定部の断面を観察するための試料を作
製することが困難であるという課題があった。
課題を解決するための手段 この問題点を解決するために本発明の透過型電子顕微
鏡用の試料作製方法は、断面観察される試料の一面を前
記試料の観察部の近傍まで機械的または化学的に研磨す
る工程、前記観察部が前記研磨した面の側との間に位置
するように、前記観察部の側面に前記観察部よりも深い
溝を集束イオンビームを用いて形成した電子顕微鏡用試
料の作製方法である。また、断面観察される試料の一面
を前記試料の観察部の近傍まで機械的または化学的に研
磨し、前記観察部が前記研磨した面の側との間に位置す
るように、前記観察部の側面に前記観察部よりも深い溝
を集束イオンビームを用いて形成したのち、前記観察部
に前記溝を介して電子ビームを照射して前記観察部を観
察する観察方法である。
鏡用の試料作製方法は、断面観察される試料の一面を前
記試料の観察部の近傍まで機械的または化学的に研磨す
る工程、前記観察部が前記研磨した面の側との間に位置
するように、前記観察部の側面に前記観察部よりも深い
溝を集束イオンビームを用いて形成した電子顕微鏡用試
料の作製方法である。また、断面観察される試料の一面
を前記試料の観察部の近傍まで機械的または化学的に研
磨し、前記観察部が前記研磨した面の側との間に位置す
るように、前記観察部の側面に前記観察部よりも深い溝
を集束イオンビームを用いて形成したのち、前記観察部
に前記溝を介して電子ビームを照射して前記観察部を観
察する観察方法である。
作用 この試料作製方法では高い精度での位置合わせが可能
な機械的な研磨法と集束イオンビーム法を用い試料断面
の膜厚を薄くしているため、透過型電子顕微鏡による特
定部の断面観察が可能となる。
な機械的な研磨法と集束イオンビーム法を用い試料断面
の膜厚を薄くしているため、透過型電子顕微鏡による特
定部の断面観察が可能となる。
実施例 以下、本発明の一実施例について、図面を参照しなが
ら説明する。
ら説明する。
第1図は本発明の一実施例における透過型電子顕微鏡
用の試料作製方法を示すものである。第1図において、
1は観察試料、3は断面観察を必要とする部分、4は集
束イオンビーム、5は集束イオンビーム4で掘った溝で
ある。
用の試料作製方法を示すものである。第1図において、
1は観察試料、3は断面観察を必要とする部分、4は集
束イオンビーム、5は集束イオンビーム4で掘った溝で
ある。
以下その試料作製方法について説明する。
まず、第1図aに示すような試料1の一辺より断面観
察位置3の近く、約500nmの位置まで機械的に研磨する
(第1図b)。次に断面観察位置3を残して、この研磨
した側面より約300nm離れた試料表面から集束イオンビ
ーム4用い、試料表面より0.5μmにある断面観察位置
3より深い、深さ約1.0μmの溝5を掘る(第1図
c)。
察位置3の近く、約500nmの位置まで機械的に研磨する
(第1図b)。次に断面観察位置3を残して、この研磨
した側面より約300nm離れた試料表面から集束イオンビ
ーム4用い、試料表面より0.5μmにある断面観察位置
3より深い、深さ約1.0μmの溝5を掘る(第1図
c)。
この方法で作製した試料は第3図に示す配置によっ
て、透過型電子顕微鏡による断面観察が可能である。す
なわち、断面観察位置3に向かって、溝5を介して電子
ビーム6を照射することができる。しかも溝5の底部7
は、観察位置3よりも深く形成されているために、電子
ビーム6は溝5の底部7で遮られることなく確実に、観
察位置3に到達できる。このために精度の高い観察が実
現できる。
て、透過型電子顕微鏡による断面観察が可能である。す
なわち、断面観察位置3に向かって、溝5を介して電子
ビーム6を照射することができる。しかも溝5の底部7
は、観察位置3よりも深く形成されているために、電子
ビーム6は溝5の底部7で遮られることなく確実に、観
察位置3に到達できる。このために精度の高い観察が実
現できる。
発明の効果 本発明は、高い精度での位置合わせが可能な機械的な
研磨法と集束イオンビーム法を用い断面観察用試料を作
製しているため、特定部の断面観察が可能な透過型電子
顕微鏡用試料の作製を実現するものである。また、断面
観察位置に溝を介して確実に電子ビームを照射すること
ができるので信頼性の高い観察が奏される。
研磨法と集束イオンビーム法を用い断面観察用試料を作
製しているため、特定部の断面観察が可能な透過型電子
顕微鏡用試料の作製を実現するものである。また、断面
観察位置に溝を介して確実に電子ビームを照射すること
ができるので信頼性の高い観察が奏される。
第1図は本発明の一実施例における透過型電子顕微鏡用
の試料作製方法を示す図、第2図は従来の透過型電子顕
微鏡用の試料作製方法を示す図、第3図は本発明の方法
で作製した試料の透過型電子顕微鏡による観察配置図で
ある。 1……観察試料、2……試料研磨用イオンビーム、3…
…断面観察場所、4……集束イオンビーム、5……集束
イオンビームで掘った溝、6……電子ビーム、7……溝
の底部。
の試料作製方法を示す図、第2図は従来の透過型電子顕
微鏡用の試料作製方法を示す図、第3図は本発明の方法
で作製した試料の透過型電子顕微鏡による観察配置図で
ある。 1……観察試料、2……試料研磨用イオンビーム、3…
…断面観察場所、4……集束イオンビーム、5……集束
イオンビームで掘った溝、6……電子ビーム、7……溝
の底部。
Claims (2)
- 【請求項1】断面観察される試料の一面を前記試料の観
察部の近傍まで機械的または化学的に研磨する工程、前
記観察部が前記研磨した面の側との間に位置するよう
に、前記観察部の側面に前記観察部よりも深い溝を集束
イオンビームを用いて形成することを特徴とする透過電
子顕微鏡用試料の作製方法。 - 【請求項2】断面観察される試料の一面を前記試料の観
察部の近傍まで機械的または化学的に研磨し、前記観察
部が前記研磨した面の側との間に位置するように、前記
観察部の側面に前記観察部よりも深い溝を集束イオンビ
ームを用いて形成したのち、前記観察部に前記溝を介し
て電子ビームを照射して前記観察部を観察することを特
徴とする透過型電子顕微鏡用試料の観察方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1155401A JP2529398B2 (ja) | 1989-06-16 | 1989-06-16 | 透過型電子顕微鏡用資料の作成方法及びその観察方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1155401A JP2529398B2 (ja) | 1989-06-16 | 1989-06-16 | 透過型電子顕微鏡用資料の作成方法及びその観察方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0320946A JPH0320946A (ja) | 1991-01-29 |
JP2529398B2 true JP2529398B2 (ja) | 1996-08-28 |
Family
ID=15605163
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1155401A Expired - Lifetime JP2529398B2 (ja) | 1989-06-16 | 1989-06-16 | 透過型電子顕微鏡用資料の作成方法及びその観察方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2529398B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2774884B2 (ja) * | 1991-08-22 | 1998-07-09 | 株式会社日立製作所 | 試料の分離方法及びこの分離方法で得た分離試料の分析方法 |
-
1989
- 1989-06-16 JP JP1155401A patent/JP2529398B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0320946A (ja) | 1991-01-29 |
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