JP2512941B2 - 光アイソレ−タ - Google Patents

光アイソレ−タ

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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、光通信あるいは、光ディスク等の光源とし
て用いられている半導体レーザに、各種光学素子からの
反射光が戻るのを阻止し、半導体レーザの発振を安定化
させる一方向性導波路である光アイソレータに関する。
[従来技術] 従来、この種の光アイソレータを薄膜で構成したもの
で十分な特性をもつものは実現されていない。第1図に
従来の二領域型光アイソレータの構成例を示す。GGG(G
d3Ga5O12)等の基盤1上に作製されたYIG(Y3Fe5O12),
Bi:YIG(BixY3xFe5O12)等の磁性薄膜2及びAl等の金属
クラッド3から成る。金属クラッド3を用いたモード選
択部10ではTMモードを大きく減衰させTEモードのみを通
す。モード変換部11は非相反部12と相反部13とから成
り、それぞれ磁化20は光の伝搬方向と平行及び光の伝搬
方向と垂直で膜面に垂直方向からθだけ傾いている。非
相反部12と相反部13とではTE-TMモード変換がそれぞれ5
0%ずつ生じ順方向ではそれらが打消し合い逆方向では
加え合わさる。すなわち、左端から入射した光は、モー
ド選択部10でTEモード成分のみ伝送される。非相反部12
においてファラデー効果により、TEモードはTMモードに
50%変換され、相反部13でコットン・ムートン効果によ
るモード変換でファラデー効果によるモード変換が打ち
消され、再びTMモードはTEモードへ変換される。従っ
て、モード選択部10を通過し右端から出射される。逆
に、右端から入射した光は、モード選択部10でTEモード
成分になり、相反部13でTMモードに50%変換される。さ
らに非相反部12でのモード変換が加え合わさり、残りの
TEモードもすべてTMモードに変換される。よって、モー
ド選択部10でTMモードは減衰させられるので左端からは
出射しない。
従来の光アイソレータの他の例として、植木・宮崎,
電子通信学会技術研究報告MW86-124(1986)及び滝・宮
崎,電子通信学会技術研究報告MW86-126(1986)に示さ
れているような単一領域型光アイソレータが知られてい
る。
[発明が解決しようとする問題点] 二領域型光アイソレータでは、隣接した2つの領域1
2,13の磁化をそれぞれ互いに異なった方向へ配向させな
ければならないが、実際には困難であり、非相反部12と
相反部13との境界付近で磁化の配向が複雑に変化し、そ
れに伴いモード変換の大きさも変化するため所望の特性
が得られていない。また、一領域型光アイソレータで
は、磁界の印加法等が明確ではなく、十分な特性をもつ
ものは実現されていない。
[発明の目的] この発明は、上記した問題点を解決するためになされ
たものであり、非相反部,相反部を一体化することによ
り、構造が簡単で実際に作製が容易な光アイソレータを
提供することを目的としている。
[問題点を解決するための手段] この目的を達成するために、この発明は、モード変換
部の磁性薄膜に、光の伝搬方向に平行な磁界及び、光の
伝搬方向と垂直で膜面に垂直方向とある角度をなす磁界
を同時に印加することにより膜の磁化が、光の伝搬方向
と平行及び垂直方向から傾くようにしている。
[作用] 上記の構成を有する発明によれば、モード変換部の磁
化が、光の伝搬方向と平行及び光の伝搬方向と垂直な成
分をもっているため、ファラデー効果とコットン・ムー
トン効果が同時に生じるため、一方向性のモード変換を
実現できる。このときモード変換部の磁化方向は、場所
によらず均一であるため、容易に実現できる。
[実施例] 以下、この発明を具体化した実施例を図面を参照して
説明する。
すなわち、GGG基板20上にスパッタ法あるいはLPE(Li
quid Phase Epitaxy)法により作製したBi:YIG薄膜21及
びAlクラッド22から成る。モード選択部23は従来と同じ
である。モード変換部24には、光の伝搬方向と平行な磁
界HFと、光の伝搬方向に垂直で膜面に垂直方向からθ′
だけ傾いた磁界HCMが印加されている。従って、モード
選択部に印加されている合成磁界は、第2図で示したH
となる。
第3図には、磁性薄膜30に磁界の印加するための具体
的構成が示されており、Alクラッド22と磁性薄膜30との
間には、SiO2等のバッファ層23が設けられている。バッ
ファ層23は、スパッタ法、蒸着法等により作製される。
光の伝搬方向に垂直方向の磁界HCMは1000e程度必要であ
るので、例えばSmCo等の外部永久磁石31,32によって印
加する。永久磁石31,32の対向する面は、例えばそれぞ
れNSに磁化されており、2つの永久磁石31,32の間隙に
NからSへ向かう磁界を発生する。この2つの永久磁石
31,32の対向する面を磁性膜の膜面から傾けることによ
り、光の伝搬方向と垂直で膜面に垂直方向からθだけ傾
いた磁界を印加することができる。磁界の方向は、永久
磁石31,32を回転させて調整する。光の伝搬方向と平行
な磁界HFは70e程度と非常に小さいため、外部コイル33
によって印加する。コイル33に流す電流によりHFの大き
さを制御することができる。
第4図は、光アイソレータの動作を実験的に確認した
結果である。波長1.15μmのHe-Neレーザを光源として
用い、膜厚2.13μmのBi:YIG薄膜にTEモードを導波させ
たときの順方向と逆方向との出射光強度の比を測定した
ものである。伝搬距離2.4mm,θ′=5(°),HCM=100
(Oe),HF=7(Oe)において13dBの順逆比が得られて
いる。また、HCMと比べてHFが順逆比に及ぼす影響が非
常に大きいことがわかった。
尚、本実施例では2つの永久磁石と1つのコイルで磁
界を印加したが、第5図に示すように、永久磁石41と樹
脂等で作られたスペーサ42を導波路に密着させて光の伝
搬方向に垂直な磁界を印加し、またバッファ層上に光の
伝搬方向と垂直に電流が流れるような電極43を作製し、
光の伝搬方向に平行な磁界を印加してもよい。こうする
ことにより、さらに光アイソレータを小型化することが
できる。
磁界印加は永久磁石の代わりに電磁石を用いてもよ
い。光の伝搬方向に平行な磁界も永久磁石あるいは電磁
石で印加してもよい。
磁性薄膜材料には、YIG,Bi:YIG,Bi:GdIG等が用いられ
るが、磁気光学効果を有し、使用波長で透明であれば、
特に限定はしない。また、バッファ層は設けなくてもよ
い。基板材料も、使用波長で透明であれば限定しない。
また、モード選択部としてAlクラッドの代わりに、異
方性結晶を密着してもよい。
[発明の効果] 以上説明したように、本発明では、光アイソレータの
モード変換部が一様方向に磁化されるように磁界を印加
すればよいため、簡単な構成で磁界を印加することがで
きる。従って、光アイソレータの構成も簡単となり容易
に実現することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、従来の光アイソレータを示す図、第2図は、
本発明の光アイソレータを示す概念図、第3図は、本発
明の光アイソレータの具体的構成を示す図、第4図は、
伝搬距離と順逆比との関係を示す図、第5図は、他の実
施例を示す図である。 図において、20は基板、21は薄膜、23はモード選択部、
24はモード変換部、31,32は永久磁石、33はコイルであ
る。

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】誘電体基板上に作製された磁気光学効果を
    有する磁性薄膜と、 その両端に設けられたモード選択部と、 前記磁性薄膜に光の伝搬方向と平行に磁界を印加する手
    段と、 前記磁性薄膜に光の伝搬方向と垂直に磁界を印加する手
    段とよりなることを特徴とする光アイソレータ。
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