JP2510581B2 - ベンゾハイドロキノン誘導体 - Google Patents
ベンゾハイドロキノン誘導体Info
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- JP2510581B2 JP2510581B2 JP62123546A JP12354687A JP2510581B2 JP 2510581 B2 JP2510581 B2 JP 2510581B2 JP 62123546 A JP62123546 A JP 62123546A JP 12354687 A JP12354687 A JP 12354687A JP 2510581 B2 JP2510581 B2 JP 2510581B2
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- solvent
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- benzohydroquinone
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Epoxy Compounds (AREA)
- Pyrane Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、天然ビタミンＥであるｄ−α−トコフェロ
ールを製造する際に有用な中間体に関する。
ールを製造する際に有用な中間体に関する。
ｄ−α−トコフェロールは、天然に広く分布している
ビタミンＥの最も代表的なもので、そのもの自体のみな
らず各種の誘導体は、医薬品、食品、飼料などとして広
く汎用されており、ビタミンＥの中でも極めて重要な物
質である。
ビタミンＥの最も代表的なもので、そのもの自体のみな
らず各種の誘導体は、医薬品、食品、飼料などとして広
く汎用されており、ビタミンＥの中でも極めて重要な物
質である。
しかしながら、ｄ−α−トコフェロールは天然物、主
として植物油から単離しなければならず、工業的に大量
生産するには適さない。即ち、植物油中のｄ−α−トコ
フェロールの含量は極めて少量であるために極めて多量
の植物油を必要とし、しかもβ，γ，δ−体などの同族
体との分離精製が必要であり、単離にも困難を伴うとい
う欠点がある。
として植物油から単離しなければならず、工業的に大量
生産するには適さない。即ち、植物油中のｄ−α−トコ
フェロールの含量は極めて少量であるために極めて多量
の植物油を必要とし、しかもβ，γ，δ−体などの同族
体との分離精製が必要であり、単離にも困難を伴うとい
う欠点がある。
そこで、光学活性α−トコフェロール、殊にｄ−α−
トコフェロールを化学的に合成しようとする試みは種々
なされている（例えばH.Mayler,O.Islerら、Helv.Chim.
Acta,46,650（1963）;J.W.Scott,W.M.Cort,H.Harley,F.
T.Bizzarro,D.R.Panish,G.Sauey,J.A.C.S.51,200（197
4），52,174（1975）;Helv.Chim.Acta.59,290（1976）;
K.K.Chan.N.Cohenら,J.Org.Chem.41,3497,3512（197
6），43,3435（1978）などが、工業的に有用な方法は皆
無である。
トコフェロールを化学的に合成しようとする試みは種々
なされている（例えばH.Mayler,O.Islerら、Helv.Chim.
Acta,46,650（1963）;J.W.Scott,W.M.Cort,H.Harley,F.
T.Bizzarro,D.R.Panish,G.Sauey,J.A.C.S.51,200（197
4），52,174（1975）;Helv.Chim.Acta.59,290（1976）;
K.K.Chan.N.Cohenら,J.Org.Chem.41,3497,3512（197
6），43,3435（1978）などが、工業的に有用な方法は皆
無である。
即ち、従来提案されているこれらの方法はすべて何れ
かの時点において中間物質でdl体の光学分割を必要とす
る。この光学分割が必要であることは、この分割により
収率が30〜40％と大幅にダウンするという大きな欠点が
あり、工業的な方法とは言い難い。
かの時点において中間物質でdl体の光学分割を必要とす
る。この光学分割が必要であることは、この分割により
収率が30〜40％と大幅にダウンするという大きな欠点が
あり、工業的な方法とは言い難い。
そこで本発明者等は、dl体の光学分割を必要としない
方法について長年研究を重ねた結果、先に天然フィトー
ルを出発物質とする方法について特許出願した（特開昭
57−136582）。その後、更に検討した結果、天然フィー
トルを使用しない方法について発明を完成するに至っ
た。
方法について長年研究を重ねた結果、先に天然フィトー
ルを出発物質とする方法について特許出願した（特開昭
57−136582）。その後、更に検討した結果、天然フィー
トルを使用しない方法について発明を完成するに至っ
た。
本発明は、この方法における中間体である次の構造式
で表されるベンゾハイドロキノン誘導体及びその製造方
法に関する。
で表されるベンゾハイドロキノン誘導体及びその製造方
法に関する。
（式中、Ｘは水素原子又は水酸基の保護基を意味する） 式（Ｉ）において、水酸基の保護基としては、例えば
ベンジル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、ｐ
−ニトロベンジル基などのほか、ｔ−ブチルジメチルシ
リル基、トリメチルシリル基、トリベンジルシリル基な
どのトリ有機シリル基、２−テトラヒドロピラニル基、
２−テロラヒドロフラニル基、１−エトキシエチル基な
どの水酸基の酸素原子と共にエーテル結合する基が望ま
しい。
ベンジル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、ｐ
−ニトロベンジル基などのほか、ｔ−ブチルジメチルシ
リル基、トリメチルシリル基、トリベンジルシリル基な
どのトリ有機シリル基、２−テトラヒドロピラニル基、
２−テロラヒドロフラニル基、１−エトキシエチル基な
どの水酸基の酸素原子と共にエーテル結合する基が望ま
しい。
上記の中間体を使用し、天然型のｄ−α−トコフェロ
ールを製造する方法を図示すれば次の通りである。
ールを製造する方法を図示すれば次の通りである。
（式中、Ｘは前記の意味を有する） 〔第一工程〕 本発明化合物である中間体（Ｉ）と式（III）で表さ
れるグリニャール化合物とを、常方により反応せしめ化
合物（IV）を得る工程である。この反応は、銅（Ｉ又は
II）触媒、特に銅（Ｉ）−ｎ−プロピルアセチリド又は
銅（Ｉ）ハライド−ジメチルサルファイド錯体の存在下
に実施することが望ましい。
れるグリニャール化合物とを、常方により反応せしめ化
合物（IV）を得る工程である。この反応は、銅（Ｉ又は
II）触媒、特に銅（Ｉ）−ｎ−プロピルアセチリド又は
銅（Ｉ）ハライド−ジメチルサルファイド錯体の存在下
に実施することが望ましい。
この際溶媒としては、例えばジエチルエーテル、テト
ラヒドロフランなどのエーテル溶媒など、グリニャール
反応において通常使用される溶媒であればいずれでもよ
い。また反応温度は０℃〜溶媒の沸点までのかなりの広
範囲で実施可能である。
ラヒドロフランなどのエーテル溶媒など、グリニャール
反応において通常使用される溶媒であればいずれでもよ
い。また反応温度は０℃〜溶媒の沸点までのかなりの広
範囲で実施可能である。
本反応は、化合物（IV）の母核水酸基の保護基を除去
すると同時に、酸化剤を用いて酸化せしめてｄ−α−ト
コフェリルキノン（Ｖ）を得る反応である。
すると同時に、酸化剤を用いて酸化せしめてｄ−α−ト
コフェリルキノン（Ｖ）を得る反応である。
この保護基の酸化的開裂には、硝酸セリウムアンモニ
ウム〔Ce（NH4）2（NO3）6〕、次亜臭素酸ナトリウム、
EDTAを用いるのが好ましく、この際溶媒としては、アセ
トニトリル、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、水
などの混合溶媒を用いる。温度は特に限定されないが、
通常は０〜40℃の間で行うのが好ましい。
ウム〔Ce（NH4）2（NO3）6〕、次亜臭素酸ナトリウム、
EDTAを用いるのが好ましく、この際溶媒としては、アセ
トニトリル、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、水
などの混合溶媒を用いる。温度は特に限定されないが、
通常は０〜40℃の間で行うのが好ましい。
本反応は、第二工程で得られたｄ−α−トコフェリル
キノン（Ｖ）を環化反応せしめ、クロマノール誘導体
（VI）を得る方法である。
キノン（Ｖ）を環化反応せしめ、クロマノール誘導体
（VI）を得る方法である。
本方法は、キノン誘導体（Ｖ）を還元して、ハイドロ
キノン体とし、非プロトン系溶媒中、ルイス酸を添加す
ることにより容易に環化することができる。
キノン体とし、非プロトン系溶媒中、ルイス酸を添加す
ることにより容易に環化することができる。
反応温度は特に限定されないが、通常０〜120℃、好
ましくは約50〜80℃である。
ましくは約50〜80℃である。
本反応は、第三工程で得られたクロマノール誘導体
（VI）の脱ベンジロキシ化反応である。具体的に述べれ
ば、まず接触還元による脱ベンジル化し、次いでメシル
化後、例えばLiAlH4などにより脱メシロキシ化するが、
それ自体既知の方法により容易に実施することができ
る。
（VI）の脱ベンジロキシ化反応である。具体的に述べれ
ば、まず接触還元による脱ベンジル化し、次いでメシル
化後、例えばLiAlH4などにより脱メシロキシ化するが、
それ自体既知の方法により容易に実施することができ
る。
本発明化合物であるエポキシ体（Ｉ）は、次のような
方法によって製造することができる。
方法によって製造することができる。
〔第五工程〕 本反応は、dl体である化合物（VIII）を立体選択的に
不斉エポキシ化する反応であり、下記に示す方法でエリ
スロ体（IX）を得ることができる。
不斉エポキシ化する反応であり、下記に示す方法でエリ
スロ体（IX）を得ることができる。
即ち化合物（VIII）に、エナンシオセレクチブ・オキ
シデーション（enantioselective oxidation）の操作を
行いエリスロ体（IX）を得る。具体的な方法の一例を述
べれば、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロ
エタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒中で、上記化合
物（VIII）、酒石酸ジエステル体、チタニウムテトライ
ソプロポキサイド及びｔ−ブチルハイドロパーオキサイ
ドを、好ましくは−30℃〜０℃の温度で酸化を行いエポ
キシ化せしめる。酒石酸ジエステルとしては、例えば酒
石酸ジエチル、酒石酸ジメチル、酒石酸ジイソプロピル
などが利用できる。触媒としては、上記のチタニウムテ
トライソプロポキサイド〔Ti（Ｏ−ｉ−Pr）4〕のほ
か、Ti（Ｏ−nBu）4、Ti（Ｏ−ｉ−Bu）4などのチタニ
ウムテトラブトキサイド類も使用できる。
シデーション（enantioselective oxidation）の操作を
行いエリスロ体（IX）を得る。具体的な方法の一例を述
べれば、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロ
エタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒中で、上記化合
物（VIII）、酒石酸ジエステル体、チタニウムテトライ
ソプロポキサイド及びｔ−ブチルハイドロパーオキサイ
ドを、好ましくは−30℃〜０℃の温度で酸化を行いエポ
キシ化せしめる。酒石酸ジエステルとしては、例えば酒
石酸ジエチル、酒石酸ジメチル、酒石酸ジイソプロピル
などが利用できる。触媒としては、上記のチタニウムテ
トライソプロポキサイド〔Ti（Ｏ−ｉ−Pr）4〕のほ
か、Ti（Ｏ−nBu）4、Ti（Ｏ−ｉ−Bu）4などのチタニ
ウムテトラブトキサイド類も使用できる。
本反応は２級アルコール基の保護であり、エーテル系
の保護が適しており、代表的なものを掲げれば、ベンジ
ル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、ｐ−ニト
ロベンジル基などである。
の保護が適しており、代表的なものを掲げれば、ベンジ
ル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、ｐ−ニト
ロベンジル基などである。
本反応は常法によるが、ジクロロメタン、トリクロロ
エタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、又はTHFなど
のエーテル系溶媒を使用し、０℃〜還流温度で行う。
エタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、又はTHFなど
のエーテル系溶媒を使用し、０℃〜還流温度で行う。
なお、本発明の目的物質を製造するための出発物質
（VIII）は公知の化合物であるが、例えば次のような製
造方法で得ることができる。
（VIII）は公知の化合物であるが、例えば次のような製
造方法で得ることができる。
即ち、2,3,5−トリメチルハイドロキノン（XI）をジ
オキサン中、例えば三フッ化ホウ素−エーテラート（BF
3−Et2O）触媒下、プレノールと縮合し、化合物（XII）
を得、次いで、例えばこれに硫酸ジメチルと30％水酸化
ナトリウムを用いて、エタノール中70〜80℃でＯ−メチ
ル化反応を行い、化合物（XIII）を得、次いで、例えば
ジクロロメタンなどの溶媒中、好ましくは０〜３℃で冷
却しつつ、メタクロロ過安息香酸にて酸化を行い、アル
ミニウムイソプロポキサイドで転移させて、化合物（VI
II）を得ることができる。化合物（VIII）は、融点84〜
86℃の白色針状晶である。
オキサン中、例えば三フッ化ホウ素−エーテラート（BF
3−Et2O）触媒下、プレノールと縮合し、化合物（XII）
を得、次いで、例えばこれに硫酸ジメチルと30％水酸化
ナトリウムを用いて、エタノール中70〜80℃でＯ−メチ
ル化反応を行い、化合物（XIII）を得、次いで、例えば
ジクロロメタンなどの溶媒中、好ましくは０〜３℃で冷
却しつつ、メタクロロ過安息香酸にて酸化を行い、アル
ミニウムイソプロポキサイドで転移させて、化合物（VI
II）を得ることができる。化合物（VIII）は、融点84〜
86℃の白色針状晶である。
なお、前記の化合物（XII）は、融点74〜76℃であ
る。
る。
以下に本発明の実施例を述べる。
実施例１ （２′S,3′Ｒ）−2,3,5−トリメチル−６−（２′−ヒ
ドロキシ−３′,4′−エポキシ−イソペンチル）−ベン
ゾヒドロキノン−1,4−ジメチルエーテル（２）の合成 １−４頚フラスコ中、塩化メチレン300mlに−20℃
でチタニウムテトライソプロポキサイド｛Ti（OiP
r）4｝14.2g（0.05M）、Ｌ−（＋）−酒石酸ジイソプロ
ピル14g（0.06M）を加え、同温で30分撹拌、次いで
（２′R,3′Ｓ）−2,3,5−トリメチル−６−（２′−ヒ
ドロキシ−３′−メチルブト−３′−エニル）−ベンゾ
ヒドロキノン−1,4−ジメチルエーテル（１）13.2g（0.
05M）を加えて15分撹拌、最後に無水ｔ−ブチルヒドロ
ペルオキシド3Mトルエン溶液10ml（0.03M）をゆっくり
加え、同温にて17時間反応する。
ドロキシ−３′,4′−エポキシ−イソペンチル）−ベン
ゾヒドロキノン−1,4−ジメチルエーテル（２）の合成 １−４頚フラスコ中、塩化メチレン300mlに−20℃
でチタニウムテトライソプロポキサイド｛Ti（OiP
r）4｝14.2g（0.05M）、Ｌ−（＋）−酒石酸ジイソプロ
ピル14g（0.06M）を加え、同温で30分撹拌、次いで
（２′R,3′Ｓ）−2,3,5−トリメチル−６−（２′−ヒ
ドロキシ−３′−メチルブト−３′−エニル）−ベンゾ
ヒドロキノン−1,4−ジメチルエーテル（１）13.2g（0.
05M）を加えて15分撹拌、最後に無水ｔ−ブチルヒドロ
ペルオキシド3Mトルエン溶液10ml（0.03M）をゆっくり
加え、同温にて17時間反応する。
この反応液をアセトン500ml、水15mlの混液にあけ、
室温にて３時間撹拌し、セライトを用いて濾過し、固型
物はアセトン300mlにて洗滌し、同様の濾過を行い、濾
液は濃縮後、ジエチルエーテル300mlに溶解し、氷冷下
にて1N−水酸化ナトリウム100mlを加え30分撹拌し、ジ
エチルエーテル400mlにて２回抽出し、飽和塩化ナトリ
ウム水洗後、硫酸マグネシウム乾燥、溶媒留去し、残渣
を200メッシュシリカゲルを用い、ｎ−ヘキサン−ジエ
チルエーテル系にてフラッシュカラムクロマト精製し、
融点69〜70℃の白色結晶として不斉エポキシ化体２を6.
4g得た（収率45.7％）。
室温にて３時間撹拌し、セライトを用いて濾過し、固型
物はアセトン300mlにて洗滌し、同様の濾過を行い、濾
液は濃縮後、ジエチルエーテル300mlに溶解し、氷冷下
にて1N−水酸化ナトリウム100mlを加え30分撹拌し、ジ
エチルエーテル400mlにて２回抽出し、飽和塩化ナトリ
ウム水洗後、硫酸マグネシウム乾燥、溶媒留去し、残渣
を200メッシュシリカゲルを用い、ｎ−ヘキサン−ジエ
チルエーテル系にてフラッシュカラムクロマト精製し、
融点69〜70℃の白色結晶として不斉エポキシ化体２を6.
4g得た（収率45.7％）。
Eu（hfbc）3による1H−NMRにおいて光学純度（e.e）
は95％以上である。
は95％以上である。
〔α〕D 25＝−29.2°（Ｃ＝2.07,クロロホルム） 元素分析値；C16H24O4（280.37） Ｃ Ｈ 理論値（％） 68.54 8.63 実測値（％） 68.77 8.60 IR（cm-1）;3.400（OH基） NMR（CDCl3，δ）； 1.4（3H,s）,2.18（6H.s）,2.2（3H,s）,2.65（2H,
d）,2.8〜2.95（2H,m）,3.02（1H,d）,3.55（1H,t）,3.
58（3H,s）,3.65（3H,s） 質量分析値値；M+＝280 上記２とは別にカラムクロマト精製中に先に溶離して
くる融点74〜75℃を有する白色結晶6.7gを得た（収率5
0.8％）。このものはIR,NMRスペクトルより１のカイネ
チック・レゾルーション（Kinetic Resolution）物３で
あることが判明した。
d）,2.8〜2.95（2H,m）,3.02（1H,d）,3.55（1H,t）,3.
58（3H,s）,3.65（3H,s） 質量分析値値；M+＝280 上記２とは別にカラムクロマト精製中に先に溶離して
くる融点74〜75℃を有する白色結晶6.7gを得た（収率5
0.8％）。このものはIR,NMRスペクトルより１のカイネ
チック・レゾルーション（Kinetic Resolution）物３で
あることが判明した。
〔α〕D 25＝＋50.3°（Ｃ＝2.24,クロロホルム） IR（cm-1）;3,400（OH基） NMR（CDCl3，δ）； 1.86（3H,s）,2.20（6H,s）,2.25（3H,s）,2.87（2H,
d）,3.65（3H,s）,3.70（3H,s）,4.17（1H,t）,4.88（1
H,s）,5.08（1H,s） 質量分析値；M+＝264 実施例２ （２′S,3′Ｒ）−2,3,5−トリメチル−６−（２′−ベ
ンジルオキシ−３′,4′−エポキシ−イソペンチル）−
ベンゾヒドロキノン−1,4−ジメチルエーテル（４）の
合成 200ml4頚フラスコ中、０℃でテトラヒドロフラン30ml
に55％水素化ナトリウム0.8g（0.02M）を加え、撹拌し
つつ、化合物2 5g（0.018M）のテトラヒドロフラン溶液
20mlを徐々に滴下し、１時間同温にて撹拌する。
d）,3.65（3H,s）,3.70（3H,s）,4.17（1H,t）,4.88（1
H,s）,5.08（1H,s） 質量分析値；M+＝264 実施例２ （２′S,3′Ｒ）−2,3,5−トリメチル−６−（２′−ベ
ンジルオキシ−３′,4′−エポキシ−イソペンチル）−
ベンゾヒドロキノン−1,4−ジメチルエーテル（４）の
合成 200ml4頚フラスコ中、０℃でテトラヒドロフラン30ml
に55％水素化ナトリウム0.8g（0.02M）を加え、撹拌し
つつ、化合物2 5g（0.018M）のテトラヒドロフラン溶液
20mlを徐々に滴下し、１時間同温にて撹拌する。
この混液にベンジルブロマイド3.4g（0.02M）のテト
ラヒドロフラン溶液20mlを滴下し、滴下終了後は室温に
て４時間撹拌し、薄層クロマトグラフィーにて原料消失
を確認後、氷水300ml中にあけ、生成物はジエチルエー
ル200mlにて２回抽出し、飽和塩化ナトリウム水洗後、
硫酸マグネシウム乾燥、溶媒留去し、残渣を200メッシ
ュシリカゲルを用いｎ−ヘキサン−ジエチルエーテル系
にてフラッシュカラムクロマト精製し、４を5.9g得た
（収率88.9％）。
ラヒドロフラン溶液20mlを滴下し、滴下終了後は室温に
て４時間撹拌し、薄層クロマトグラフィーにて原料消失
を確認後、氷水300ml中にあけ、生成物はジエチルエー
ル200mlにて２回抽出し、飽和塩化ナトリウム水洗後、
硫酸マグネシウム乾燥、溶媒留去し、残渣を200メッシ
ュシリカゲルを用いｎ−ヘキサン−ジエチルエーテル系
にてフラッシュカラムクロマト精製し、４を5.9g得た
（収率88.9％）。
〔α〕D 25＝−37.4°（Ｃ＝1.73,クロロホルム） 元素分析値；C23H30O4（370.49） Ｃ Ｈ 理論値（％） 74.56 8.16 実測値（％） 74.82 8.10 NMR（CDCl3，δ）； 1.40（3H,s）,2.14（9H.s）,2.70（2H,d）,3.15（1H,
t）,3.50（3H,s）,3.55（3H,s）,4.4（2H,dd）,6.8〜7.
2（5H,m） 質量分析値；M+＝370 実施例３ （２′S,3′R,7′R,11′Ｒ）−2,3,5−トリメチル−６
−（２′−ベンジルオキシ−３′−ヒドロキシ−３′,
7′,11′,15′−テトラメチルヘキサデカニル）−ベン
ゾヒドロキノン−1,4−ジメチルエーテル（６）の合成 200mlナスコル中、金属マグネシウム243mgとテトラヒ
ドロフラン30mlをアルゴン気流中室温下に撹拌しつつ、
エチレンブロマイド100mgを加え、次いで（3R,7R）−3,
7,11−トリメチルドデシルブロマイド（〔α〕D 25＝−
4.73°,C＝4.5,クロロホルム）2.92gのテトラヒドロフ
ラン溶液200mlを滴下し、滴下終了後、反応温度を６℃
に上昇させ、２時間撹拌する。
t）,3.50（3H,s）,3.55（3H,s）,4.4（2H,dd）,6.8〜7.
2（5H,m） 質量分析値；M+＝370 実施例３ （２′S,3′R,7′R,11′Ｒ）−2,3,5−トリメチル−６
−（２′−ベンジルオキシ−３′−ヒドロキシ−３′,
7′,11′,15′−テトラメチルヘキサデカニル）−ベン
ゾヒドロキノン−1,4−ジメチルエーテル（６）の合成 200mlナスコル中、金属マグネシウム243mgとテトラヒ
ドロフラン30mlをアルゴン気流中室温下に撹拌しつつ、
エチレンブロマイド100mgを加え、次いで（3R,7R）−3,
7,11−トリメチルドデシルブロマイド（〔α〕D 25＝−
4.73°,C＝4.5,クロロホルム）2.92gのテトラヒドロフ
ラン溶液200mlを滴下し、滴下終了後、反応温度を６℃
に上昇させ、２時間撹拌する。
次いで反応液を０℃に冷却しつつ、化合物4 3.7g（0.
01M）及び硫化メチル・臭化銅付加物（Me2S・CuBr）1.3
gを添加し、室温まで上昇させ一夜撹拌する。
01M）及び硫化メチル・臭化銅付加物（Me2S・CuBr）1.3
gを添加し、室温まで上昇させ一夜撹拌する。
次いで、飽和塩化アンモニウム水溶液20mlを添加し、
この混合物をジエチルエーテル100mlにて２回抽出し、
飽和塩化ナトリウム水洗後、硫酸マグネシウム乾燥、溶
媒留去し、残渣を200メッシュシリカゲルを用い、ｎ−
ヘキサン−ジエチルエーテル系にてフラッシュカラムク
ロマト精製し、６を無色油状物として4.02g得た（収率6
9.1％）。
この混合物をジエチルエーテル100mlにて２回抽出し、
飽和塩化ナトリウム水洗後、硫酸マグネシウム乾燥、溶
媒留去し、残渣を200メッシュシリカゲルを用い、ｎ−
ヘキサン−ジエチルエーテル系にてフラッシュカラムク
ロマト精製し、６を無色油状物として4.02g得た（収率6
9.1％）。
〔α〕D 25＝−31° （Ｃ＝1.30,クロロホルム） 元素分析値；C38H62O4（582.9） Ｃ Ｈ 理論値（％） 78.30 10.72 実測値（％） 78.48 10.65 IR（Neat,cm-1）;3,400（OH基） NMR（CDCl3，δ）； 0.85（12H,d）,2.17（6H,s）,2.25（3H,s）,2.8（2H,
d）,3.52（3H,s）,3.62（3H,s）,4.0（2H,dd）,6.8〜7.
2（5H,m） 質量分析値；M+＝582 実施例４ （２′S,3′R,7′R,11′Ｒ）−2,3,5−トリメチル−６
−（２′−ベンジルオキシ−３′−ヒドロキシ−３′,
7′,11′,15′−テトラメチルヘキサデカニル）−ベン
ゾキノン（７）の合成 200mlのナスコル中にアセトニトリル100ml、化合物
（６）2.91g（0.005M）を混合溶解させ、室温下撹拌し
つつ、硝酸セリウム（IV）アンモニウム2.5gの水溶液10
mlを徐々に滴下し、滴下終了後も同温にて１時間撹拌
し、薄層クトマトグラフィーにて原料消失を確認した
後、反応液を氷水200ml中にあけ、生成物はｎ−ヘキサ
ン100mlにて２回抽出し、抽出液は飽和塩化ナトリウム
水溶液にて洗滌、硫酸マグネシウム乾燥、溶媒留去し、
残渣を200メッシュシリカゲルを用い、ｎ−ヘキサン−
ジエチルエーテル系にてフラッシュカラムクロマト精製
し、７を黄色油状物として2.04g得た（収率74.0％）。
d）,3.52（3H,s）,3.62（3H,s）,4.0（2H,dd）,6.8〜7.
2（5H,m） 質量分析値；M+＝582 実施例４ （２′S,3′R,7′R,11′Ｒ）−2,3,5−トリメチル−６
−（２′−ベンジルオキシ−３′−ヒドロキシ−３′,
7′,11′,15′−テトラメチルヘキサデカニル）−ベン
ゾキノン（７）の合成 200mlのナスコル中にアセトニトリル100ml、化合物
（６）2.91g（0.005M）を混合溶解させ、室温下撹拌し
つつ、硝酸セリウム（IV）アンモニウム2.5gの水溶液10
mlを徐々に滴下し、滴下終了後も同温にて１時間撹拌
し、薄層クトマトグラフィーにて原料消失を確認した
後、反応液を氷水200ml中にあけ、生成物はｎ−ヘキサ
ン100mlにて２回抽出し、抽出液は飽和塩化ナトリウム
水溶液にて洗滌、硫酸マグネシウム乾燥、溶媒留去し、
残渣を200メッシュシリカゲルを用い、ｎ−ヘキサン−
ジエチルエーテル系にてフラッシュカラムクロマト精製
し、７を黄色油状物として2.04g得た（収率74.0％）。
〔α〕D 25＝−29.1°（Ｃ＝2.75,クロロホルム） 元素分析値；C36H56O4（552.84） Ｃ Ｈ 理論値（％） 78.21 10.21 実測値（％） 78.44 10.18 IR（Neat,cm-1）;3,450（OH基）,1,640（ベンゾキノ
ン） NMR（CDCl3，δ）； 0.85（12H,d）,1.24（3H,s）,2.00（6H,s）,2.03（3
H,s）,2.45〜2.6（2H,m）,4.0（2H,dd）,6.8〜7.2（5H,
m） 質量分析値；M+＝552 実施例５ （2R,3R,4′R,8′Ｒ）−３−ベンジルオキシ−α−トコ
フェロール（８）の合成 300mlナスコル中に化合物7 1.38g（0.0025M）、ベン
ゼン50mlを混合溶解し、室温にて撹拌しつつチオ硫酸ナ
トリウム5gの水溶液20mlを加え、30分間撹拌して原料の
黄色が消失する。
ン） NMR（CDCl3，δ）； 0.85（12H,d）,1.24（3H,s）,2.00（6H,s）,2.03（3
H,s）,2.45〜2.6（2H,m）,4.0（2H,dd）,6.8〜7.2（5H,
m） 質量分析値；M+＝552 実施例５ （2R,3R,4′R,8′Ｒ）−３−ベンジルオキシ−α−トコ
フェロール（８）の合成 300mlナスコル中に化合物7 1.38g（0.0025M）、ベン
ゼン50mlを混合溶解し、室温にて撹拌しつつチオ硫酸ナ
トリウム5gの水溶液20mlを加え、30分間撹拌して原料の
黄色が消失する。
有機層は硫酸マグネシウム乾燥後、ｐ−トルエンスル
ホン酸2.5gを加え、80℃で１時間加温、撹拌する。
ホン酸2.5gを加え、80℃で１時間加温、撹拌する。
次いで反応液を氷水100mlにあけ、ｎ−ヘキサン100ml
にて２回抽出し、飽和塩化ナトリウム水洗、硫酸マグネ
シウム乾燥後、溶媒留去し、残渣を200メッシュシリカ
ゲルを用い、ｎ−ヘキサン−ジエチルエーテル系にてフ
ラッシュカラムクロマト精製し、８を無色油状物として
1.18g得た（収率88.0％）。
にて２回抽出し、飽和塩化ナトリウム水洗、硫酸マグネ
シウム乾燥後、溶媒留去し、残渣を200メッシュシリカ
ゲルを用い、ｎ−ヘキサン−ジエチルエーテル系にてフ
ラッシュカラムクロマト精製し、８を無色油状物として
1.18g得た（収率88.0％）。
〔α〕D 25＝−5.8°（Ｃ＝1.62,クロロホルム） 元素分析値；C36H56O3（536.84） Ｃ Ｈ 理論値（％） 80.55 10.52 実測値（％） 80.67 10.55 IR（Neat,cm-1）;3,450（OH基） NMR（CDCl3，δ）； 0.85（12H,d）,2.0（9H,s）,2.45（2H,t）,4.0（2H,d
d）,6.8〜7.2（5H,m） 質量分析値；M+＝536 実施例６ 2R,4′R,8′Ｒ−α−トコフェロール（９）の合成 化合物8 1.07g（0.002M）をエタノール100mlに溶解
し、５％パラジウム−炭素上で水素添加し、反応液はセ
ライト545を用いて濾過し、濾液は濃縮して脱ベンジル
体を得る。
d）,6.8〜7.2（5H,m） 質量分析値；M+＝536 実施例６ 2R,4′R,8′Ｒ−α−トコフェロール（９）の合成 化合物8 1.07g（0.002M）をエタノール100mlに溶解
し、５％パラジウム−炭素上で水素添加し、反応液はセ
ライト545を用いて濾過し、濾液は濃縮して脱ベンジル
体を得る。
上記で得た脱ベンジル体を塩化メチレン50mlに溶解
し、トリエタノールアミン0.3gを加えて、０℃にて撹拌
しつつ、塩化メタンスルホニル0.34g（0.003M）の塩化
メチレン溶液5mlを徐々に滴下し、滴下終了後も同温に
て１時間撹拌する。
し、トリエタノールアミン0.3gを加えて、０℃にて撹拌
しつつ、塩化メタンスルホニル0.34g（0.003M）の塩化
メチレン溶液5mlを徐々に滴下し、滴下終了後も同温に
て１時間撹拌する。
次いで溶媒留去し、残渣にジエチルエーテル100mlを
加え、不溶物を濾過し、濾液は硫酸マグネシウム乾燥
し、溶媒留去して淡黄色油状物1.0gを得る。
加え、不溶物を濾過し、濾液は硫酸マグネシウム乾燥
し、溶媒留去して淡黄色油状物1.0gを得る。
次いで、水素化アルミニウムリチウム0.3g、ジエチル
エーテル50mlの懸濁液を０℃に冷却撹拌しつつ、先に得
た油状物のジエチルエーテル溶液10mlを徐々に滴下し、
滴下終了後も同温にて２時間撹拌する。
エーテル50mlの懸濁液を０℃に冷却撹拌しつつ、先に得
た油状物のジエチルエーテル溶液10mlを徐々に滴下し、
滴下終了後も同温にて２時間撹拌する。
薄層クロマトグラフィーにて原料消失を確認後、０℃
にて強く撹拌しつつ、水0.3ml、15％水酸化ナトリウム
水溶液0.3ml、水0.9mlを順次、発泡に注意しつつ滴下
し、室温でしばらく撹拌し、水素化アルミニウムリチウ
ムの灰色が完全に消失したら白い沈澱をセライト545を
用いて濾過し、濾液を濃縮し、残油状物を200メッシュ
シリカゲルを用い、ｎ−ヘキサン−ジエチルエーテル系
にてフラッシュカラムクロマト精製し、９を無色油状物
として0.56g得た（収率65％）。
にて強く撹拌しつつ、水0.3ml、15％水酸化ナトリウム
水溶液0.3ml、水0.9mlを順次、発泡に注意しつつ滴下
し、室温でしばらく撹拌し、水素化アルミニウムリチウ
ムの灰色が完全に消失したら白い沈澱をセライト545を
用いて濾過し、濾液を濃縮し、残油状物を200メッシュ
シリカゲルを用い、ｎ−ヘキサン−ジエチルエーテル系
にてフラッシュカラムクロマト精製し、９を無色油状物
として0.56g得た（収率65％）。
〔α〕D 25＝＋0.29°（Ｃ＝1.72,クロロホルム） K3Fe（CN）6酸化物〔α〕D 25＝＋28.9°（Ｃ＝1.51,イ
ソオクタン） アセテート〔α〕D 25＝＋3.4°（Ｃ＝1.1,エタノール） 上記の方法で得られた2R,4′R,8′Ｒ−α−トコフェ
ロールの光学的純度に対しては94.7％の値が測定され
た。
ソオクタン） アセテート〔α〕D 25＝＋3.4°（Ｃ＝1.1,エタノール） 上記の方法で得られた2R,4′R,8′Ｒ−α−トコフェ
ロールの光学的純度に対しては94.7％の値が測定され
た。
Claims (1)
- 【請求項１】次の化学構造式 （式中、Ｘは水素原子又は水酸基の保護基を意味する） で表されるベンゾハイドロキノン誘導体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62123546A JP2510581B2 (ja) | 1987-05-20 | 1987-05-20 | ベンゾハイドロキノン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62123546A JP2510581B2 (ja) | 1987-05-20 | 1987-05-20 | ベンゾハイドロキノン誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63287775A JPS63287775A (ja) | 1988-11-24 |
| JP2510581B2 true JP2510581B2 (ja) | 1996-06-26 |
Family
ID=14863273
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62123546A Expired - Lifetime JP2510581B2 (ja) | 1987-05-20 | 1987-05-20 | ベンゾハイドロキノン誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2510581B2 (ja) |
-
1987
- 1987-05-20 JP JP62123546A patent/JP2510581B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63287775A (ja) | 1988-11-24 |
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