JPH0733379B2 - 光学活性α−トコフエロ−ルの製造方法 - Google Patents
光学活性α−トコフエロ−ルの製造方法Info
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- JPH0733379B2 JPH0733379B2 JP61151181A JP15118186A JPH0733379B2 JP H0733379 B2 JPH0733379 B2 JP H0733379B2 JP 61151181 A JP61151181 A JP 61151181A JP 15118186 A JP15118186 A JP 15118186A JP H0733379 B2 JPH0733379 B2 JP H0733379B2
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Pyrane Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、工業的に有用な光学活性α−トコフェロール
の新規な製造方法に関する。
の新規な製造方法に関する。
d−α−トコフェロールは、天然に広く分布しているビ
タミンEの最も代表的なもので、そのもの自体のみなら
ず各種の誘導体は、医薬品、食品、飼料などとして広く
汎用されており、ビタミンEの中でも極めて重要な物質
である。
タミンEの最も代表的なもので、そのもの自体のみなら
ず各種の誘導体は、医薬品、食品、飼料などとして広く
汎用されており、ビタミンEの中でも極めて重要な物質
である。
しかしながら、d−α−トコフェロールは天然物、主と
して植物油から単離しなければならず、工業的に大量生
産するには適さない。即ち、植物油中のd−α−トコフ
ェロールの含量は極めて少量であるために極めて多量の
植物油を必要とし、しかもβ,γ,δ−体などの同族体
との分離精製が必要であり、単離にも困難を伴うという
欠点がある。
して植物油から単離しなければならず、工業的に大量生
産するには適さない。即ち、植物油中のd−α−トコフ
ェロールの含量は極めて少量であるために極めて多量の
植物油を必要とし、しかもβ,γ,δ−体などの同族体
との分離精製が必要であり、単離にも困難を伴うという
欠点がある。
そこで、光学活性α−トコフェロール、殊にd−α−ト
コフェロールを化学的に合成しようとする試みは種々な
されている(例えばH.Mayler,O.Islerら,Helv.Chim.Act
a,46,650(1963);J.W.Scott,W.M.Cort,H.Harley,F.T.B
izzarro,D.R.Panish,G.Sauey,J.A.C.S.51,200(197
4),52,174(1975);Helv.Chim.Acta.59,290(1976);
K.K.Chan,N.Cohenら,J.Org.Chem.41,3497,3512(197
6),43,3435(1978)など)が、工業的に有用な方法は
皆無である。
コフェロールを化学的に合成しようとする試みは種々な
されている(例えばH.Mayler,O.Islerら,Helv.Chim.Act
a,46,650(1963);J.W.Scott,W.M.Cort,H.Harley,F.T.B
izzarro,D.R.Panish,G.Sauey,J.A.C.S.51,200(197
4),52,174(1975);Helv.Chim.Acta.59,290(1976);
K.K.Chan,N.Cohenら,J.Org.Chem.41,3497,3512(197
6),43,3435(1978)など)が、工業的に有用な方法は
皆無である。
即ち、従来提案されているこれらの方法はすべて何れの
時点において中間物質でd1体の光学分割を必要とする。
この光学分割が必要であることは、この分割により収率
が30〜40%と大幅にダウンするという大きな欠点があ
り、工業的な方法とは言い難い。
時点において中間物質でd1体の光学分割を必要とする。
この光学分割が必要であることは、この分割により収率
が30〜40%と大幅にダウンするという大きな欠点があ
り、工業的な方法とは言い難い。
そこで本発明者等は、dl体の光学分割を必要としない方
法について長年研究を重ねた結果、先に天然フィトール
を出発物質とする方法について特許出願をした(特開昭
57−136582)。その後、更に検討した結果、天然フィト
ールを使用しない方法について発明を完成するに至っ
た。
法について長年研究を重ねた結果、先に天然フィトール
を出発物質とする方法について特許出願をした(特開昭
57−136582)。その後、更に検討した結果、天然フィト
ールを使用しない方法について発明を完成するに至っ
た。
即ち本発明において、d−α−トロフェロールを合成す
るプロセスを図示すれば次の通りである。
るプロセスを図示すれば次の通りである。
〔第一工程〕 出発物質である2,6,10,14−(6R,10R)−テトラメチル
−2−ペンタデセンを、SeO2、t−ブチルハイドロパー
オキサイドと反応せしめる。
−2−ペンタデセンを、SeO2、t−ブチルハイドロパー
オキサイドと反応せしめる。
本反応は通常、ジクロロメタン、トリクロロエタンなど
のハロゲン系炭化水素中で例えば0℃〜室温で反応が行
われる。
のハロゲン系炭化水素中で例えば0℃〜室温で反応が行
われる。
本反応は、化合物(II)で表される(6R,10R)−2,6,1
0,14−テトラメチル−2−ペンタデセン−1−オール
に、エナンシオセレクチブ・オキシデーション(enanti
oselective oxidation)の操作を行い、2,3−エポキシ
体を得る。具体的な方法の一例を述べれば、ジクロルエ
タン、トリクロロエタンなどのハロゲン系炭化水素中
で、上記化合物(II)、酒石酸ジエステル体、チタニウ
ムテトライソプロポキサイド、及びt−ブチルハイドロ
パーオキサイドを−30℃〜0℃の温度で酸化を行い、エ
ポキシ化せしめる。酒石酸エステルとしては、例えば酒
石酸ジエチル、酒石酸ジメチルなどが利用できる。酒石
酸ジエチルの場合L−(+)−酒石酸ジエチルを用いれ
ば(2S,3S)−エポキシ体のみが得られる。
0,14−テトラメチル−2−ペンタデセン−1−オール
に、エナンシオセレクチブ・オキシデーション(enanti
oselective oxidation)の操作を行い、2,3−エポキシ
体を得る。具体的な方法の一例を述べれば、ジクロルエ
タン、トリクロロエタンなどのハロゲン系炭化水素中
で、上記化合物(II)、酒石酸ジエステル体、チタニウ
ムテトライソプロポキサイド、及びt−ブチルハイドロ
パーオキサイドを−30℃〜0℃の温度で酸化を行い、エ
ポキシ化せしめる。酒石酸エステルとしては、例えば酒
石酸ジエチル、酒石酸ジメチルなどが利用できる。酒石
酸ジエチルの場合L−(+)−酒石酸ジエチルを用いれ
ば(2S,3S)−エポキシ体のみが得られる。
第二工程で得られた2,3−エポキシ体を還元的に開裂せ
しめ、化合物(IV)を得る工程である。還元的に開裂せ
しめるには、例えば水素化アルミニウムリチウムを用い
れば好結果が得られる。この際溶媒としては、例えばジ
エチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系
溶媒を用いる。温度は特に限定されないが、通常は約−
10℃〜40℃において反応を行う。
しめ、化合物(IV)を得る工程である。還元的に開裂せ
しめるには、例えば水素化アルミニウムリチウムを用い
れば好結果が得られる。この際溶媒としては、例えばジ
エチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系
溶媒を用いる。温度は特に限定されないが、通常は約−
10℃〜40℃において反応を行う。
第三工程で得られた化合物(IV)を立体選択的に脱水・
閉環して、光学的に活性なエポキシ体(V)を得る工程
である。
閉環して、光学的に活性なエポキシ体(V)を得る工程
である。
ジオール体(IV)を直接的に脱水・閉環するには、酸・
アルカリ溶液中での加熱などの苛酷な反応条件を必要と
し、しかもセラミ化する危険性もあるが、本工程では一
級アルコールのみをジクロルメタン、トリクロロエタン
等のハロゲン系炭化水素溶媒中、トリエチルアミン、ピ
リジン等の触媒存在下に0℃〜室温にてメタンスルフォ
ニルクロライドにてメシル化後、メタノール、エタノー
ル等のアルコール系溶媒中、−20℃〜室温にて濃アルカ
リにて処理することにより反応を行う。
アルカリ溶液中での加熱などの苛酷な反応条件を必要と
し、しかもセラミ化する危険性もあるが、本工程では一
級アルコールのみをジクロルメタン、トリクロロエタン
等のハロゲン系炭化水素溶媒中、トリエチルアミン、ピ
リジン等の触媒存在下に0℃〜室温にてメタンスルフォ
ニルクロライドにてメシル化後、メタノール、エタノー
ル等のアルコール系溶媒中、−20℃〜室温にて濃アルカ
リにて処理することにより反応を行う。
第四工程で得られた化合物(V)に、1,4−ジメトキシ
−2,3,5,6−テトラメチルベンゼン(VI)を縮合する全
く新規な反応工程である。
−2,3,5,6−テトラメチルベンゼン(VI)を縮合する全
く新規な反応工程である。
原料として用いる(VI)は例えば次の方法により製造す
ることができる。
ることができる。
1) 2,3,5,6−テトラメチルフェノール(X)を出発
物質とした場合は塩化第二鉄、次亜臭素酸ナトリウムに
て酸化して、テトラメチルベンゾキノン(XI)とし、こ
れを還元して、ハイドロキノン体(XII)とし、この水
酸基を保護し(VI)とする。
物質とした場合は塩化第二鉄、次亜臭素酸ナトリウムに
て酸化して、テトラメチルベンゾキノン(XI)とし、こ
れを還元して、ハイドロキノン体(XII)とし、この水
酸基を保護し(VI)とする。
2) 2,3,5−トリメチルハイドロキノン(XIII)を出
発物質とした場合はパラホルムアルデヒドとホウ酸を用
いてハイドロキシメチル化してジオキソラン誘導体(XI
V)とし、これを化学還元して2,3,5,6−テトラメチル−
1,4−ハイドロキノン(XII)とし、以下1)と同様にて
(VI)を製造することができる。
発物質とした場合はパラホルムアルデヒドとホウ酸を用
いてハイドロキシメチル化してジオキソラン誘導体(XI
V)とし、これを化学還元して2,3,5,6−テトラメチル−
1,4−ハイドロキノン(XII)とし、以下1)と同様にて
(VI)を製造することができる。
水酸基の保護基としてはアルキル基、アリール基、アル
コキシアルキル基、アルアルキル基などを挙げることが
できるが、簡便でしかも好ましい結果を与えるものの一
つは、低級アルキル基で保護したもの、即ち、2,3,5,6
−テトラメチル−1,4−ベンゾヒドロキノンジメチルエ
ーテル(VI)が用いられる。
コキシアルキル基、アルアルキル基などを挙げることが
できるが、簡便でしかも好ましい結果を与えるものの一
つは、低級アルキル基で保護したもの、即ち、2,3,5,6
−テトラメチル−1,4−ベンゾヒドロキノンジメチルエ
ーテル(VI)が用いられる。
この(VI)と先の工程にて得た光学活性なエポキシ体
(V)との縮合反応はリチウム塩を用いる反応が最適で
ある。
(V)との縮合反応はリチウム塩を用いる反応が最適で
ある。
更に詳細に述べれば、ベンゼン、ヘキサン、トルエン等
の不活性有機溶媒中にてN,N,N′,N′−テトラメチルエ
チレンジアミンの存在下、n−ブチルリチウム又はフェ
ニルリチウムを用いて−40℃〜室温下にて(VI)のリチ
ウム塩を生成させ、これに、光学活性エポキシ体(V)
を同様の溶媒中、−40℃〜室温下に反応させる工程であ
る。
の不活性有機溶媒中にてN,N,N′,N′−テトラメチルエ
チレンジアミンの存在下、n−ブチルリチウム又はフェ
ニルリチウムを用いて−40℃〜室温下にて(VI)のリチ
ウム塩を生成させ、これに、光学活性エポキシ体(V)
を同様の溶媒中、−40℃〜室温下に反応させる工程であ
る。
本反応は母核水酸基の保護基を除去すると同時に、酸化
剤を用いて酸化せしめて、公知の物質d−α−トコフェ
リルキノン(VIII)を得る反応である。
剤を用いて酸化せしめて、公知の物質d−α−トコフェ
リルキノン(VIII)を得る反応である。
この保護基の酸化的開裂には、硝酸セリウムアンモニウ
ム〔Ce(NH4)2(NO3)6〕、次亜臭素酸ナトリウム、
EDTAを用いるのが好ましく、この際、溶媒としてはアセ
トニトリル、テトラヒドロフラン、ジクロルメタン、水
などの混合溶媒を用いる。温度は特に限定されないが、
通常は常温〜60℃において反応を行う。
ム〔Ce(NH4)2(NO3)6〕、次亜臭素酸ナトリウム、
EDTAを用いるのが好ましく、この際、溶媒としてはアセ
トニトリル、テトラヒドロフラン、ジクロルメタン、水
などの混合溶媒を用いる。温度は特に限定されないが、
通常は常温〜60℃において反応を行う。
d−α−トコフェリルキノン(VIII)から最終物質の光
学活性α−トコフェロール(IX)に至る工程はd−α−
トコフェリルキノンを環化せしめて、光学活性α−トコ
フェロールとする工程であるが、通常の場合、例えばメ
タノール、エタノール、プロパノールなどのアルコール
系溶媒、或いは酢酸−エーテルの極性溶媒中、0〜90℃
の温度にてd−カンファースルフォン酸を添加するか、
又はメタノール溶媒中、硫酸、p−トルエンスルフォン
酸にて環化せしめ、最終物質の光学活性α−トコフェロ
ールを得る。
学活性α−トコフェロール(IX)に至る工程はd−α−
トコフェリルキノンを環化せしめて、光学活性α−トコ
フェロールとする工程であるが、通常の場合、例えばメ
タノール、エタノール、プロパノールなどのアルコール
系溶媒、或いは酢酸−エーテルの極性溶媒中、0〜90℃
の温度にてd−カンファースルフォン酸を添加するか、
又はメタノール溶媒中、硫酸、p−トルエンスルフォン
酸にて環化せしめ、最終物質の光学活性α−トコフェロ
ールを得る。
前述の本発明方法において、化合物(III)、(IV)及
び(V)は、何れも新規化合物である。また、本発明の
出発物質として用いる化合物(I)は、例えば次のよう
な方法で製造される。
び(V)は、何れも新規化合物である。また、本発明の
出発物質として用いる化合物(I)は、例えば次のよう
な方法で製造される。
〔実 施 例〕 以下、実施例により本発明を更に詳細に説明する。
実施例 1 (6R,10R)−2,6,10,14−テトラメチル−2−ペンタデ
セン−1−オール 2 500mlナス型フラスコ中CH2Cl2200mlに70%t−ブチルハ
イドロパーオキサイド80ml、SeO214gを加え室温で30分
撹拌、次いで氷冷下(6R,10R)−2,6,10,14−テトラメ
チル−2−ペンタデセン(1)65.9gを徐々に加え、同
温で約5時間撹拌し、T.L.C.(15%AcOEt/n−ヘキサン
−SiO2)で原料消失を確認した。反応液にベンゼン120m
lを加え、減圧下CH2Cl2を留去し、残液にEt2O300mlを加
え、10%KOH水溶液75ml×4回洗、飽和Na2S2O3水30ml、
飽和NaCl水100mlで洗、MgSO4乾燥、溶媒留去し、残渣に
MeOH150mlを加え、氷冷下NaBH42.5gを加え、一晩撹拌、
MeOHを留去し、n−ヘキサン(n−Hex)300ml、水100m
lを加え、濃塩酸を加えて酸性にて抽出した。n−Hex層
は水100ml×2回洗、飽和NaCl水100ml洗、MgSO4乾燥、
n−Hexを留去し、カラムクロマト(5%AcOEt/n−Hex
−SiO2)により精製し、2を40.9g得る。
セン−1−オール 2 500mlナス型フラスコ中CH2Cl2200mlに70%t−ブチルハ
イドロパーオキサイド80ml、SeO214gを加え室温で30分
撹拌、次いで氷冷下(6R,10R)−2,6,10,14−テトラメ
チル−2−ペンタデセン(1)65.9gを徐々に加え、同
温で約5時間撹拌し、T.L.C.(15%AcOEt/n−ヘキサン
−SiO2)で原料消失を確認した。反応液にベンゼン120m
lを加え、減圧下CH2Cl2を留去し、残液にEt2O300mlを加
え、10%KOH水溶液75ml×4回洗、飽和Na2S2O3水30ml、
飽和NaCl水100mlで洗、MgSO4乾燥、溶媒留去し、残渣に
MeOH150mlを加え、氷冷下NaBH42.5gを加え、一晩撹拌、
MeOHを留去し、n−ヘキサン(n−Hex)300ml、水100m
lを加え、濃塩酸を加えて酸性にて抽出した。n−Hex層
は水100ml×2回洗、飽和NaCl水100ml洗、MgSO4乾燥、
n−Hexを留去し、カラムクロマト(5%AcOEt/n−Hex
−SiO2)により精製し、2を40.9g得る。
収率 58.5% C19H38O(282.49) C H 計算値 80.78 13.56 実測値 81.02 13.69 IR(Neat,cm-1):3320(OH基) NMR(CDCl3,δ):5.35(1H,t),3.96(2H,d),2.00(2
H,d),1.65(3H,s),0.86(12H,d,t) 実施例 2 (2S,3S)−エポキシ−(2R,6R,10R)−2,6,10,14−テ
トラメチル−1−ペンタデセノール 3 1−4頚フラスコ中CH2Cl2400mlに−20℃でTi(OiP
r)421.2ml、L(+)−酒石酸ジエチル12.6mlを加え同
温で30分撹拌、次いで(2R,6R,10R)−2,6,10,14−テト
ラメチル−2−ペンタデセン−1−オール(2)19.3g
を加えて15分撹拌、最後に無水t−ブチハイドロパーオ
キサイドのClCH2CH2Cl溶液(1mmol=271.5mg)60gをゆ
っくり加え同温で3時間撹拌し、T.L.C.(15%AcOEt/n
−Hex−SiO2)で原料消失を確認した。10%酒石酸水溶
液200ml加え、凍結後ゆっくり室温に戻す。CH2Cl2層は
水洗、Na2S2O3水洗、飽和NaCl水洗後、MgSO4乾燥、CH2C
l2留去、残渣を7〜10%AcOEt/n−Hex−SiO2カラムクロ
マトにより精製し3を35.7g得る。
H,d),1.65(3H,s),0.86(12H,d,t) 実施例 2 (2S,3S)−エポキシ−(2R,6R,10R)−2,6,10,14−テ
トラメチル−1−ペンタデセノール 3 1−4頚フラスコ中CH2Cl2400mlに−20℃でTi(OiP
r)421.2ml、L(+)−酒石酸ジエチル12.6mlを加え同
温で30分撹拌、次いで(2R,6R,10R)−2,6,10,14−テト
ラメチル−2−ペンタデセン−1−オール(2)19.3g
を加えて15分撹拌、最後に無水t−ブチハイドロパーオ
キサイドのClCH2CH2Cl溶液(1mmol=271.5mg)60gをゆ
っくり加え同温で3時間撹拌し、T.L.C.(15%AcOEt/n
−Hex−SiO2)で原料消失を確認した。10%酒石酸水溶
液200ml加え、凍結後ゆっくり室温に戻す。CH2Cl2層は
水洗、Na2S2O3水洗、飽和NaCl水洗後、MgSO4乾燥、CH2C
l2留去、残渣を7〜10%AcOEt/n−Hex−SiO2カラムクロ
マトにより精製し3を35.7g得る。
収率 82.6% 〔α〕D 25=−5.36゜(C=4.13,EtOH) C19H38O2(298.49) C H 計算値 76.45 12.83 実測値 76.68 12.91 IR(Neat,cm-1):3400(OH基) NMR(CDCl3,δ):5.28(1H,d),3.65(2H,d,t),3.0(1
H,t),1.30(3H,s),0.88(12H,d,t) 実施例 3 (2R,6R,10R)−2,6,10,14−テトラメチルペンタデカン
−1,2−ジオール 4 1−ナス型フラスコ中0℃でEt2O400mlにLiAlH44.6g
を加え撹拌、発泡がおさまるのを待って(2S,3S)−エ
ポキシ−(2R,6R,10R)−2,6,10,14−テトラメチル−1
−ペンタデセノール(3)35.7gをゆっくり加える。同
温で3時間撹拌し、室温に戻してさらに2時間撹拌、T.
L.C.(30%AcOEt/n−Hex−SiO2)で原料消失を確認、再
び0℃に冷却し強く撹拌しながらH2O4.6ml、15%NaOH
水、H2O13.8mlを順次発泡に注意しながら滴下、室温で
しばらく撹拌し、LiAlH2の灰色が完全になくなったら白
い沈澱を濾去する。濾液を濃縮、残渣を20〜30%AcOEt/
n−Hex−SiO2カラムクロマトで精製し4を32.0g得る。
H,t),1.30(3H,s),0.88(12H,d,t) 実施例 3 (2R,6R,10R)−2,6,10,14−テトラメチルペンタデカン
−1,2−ジオール 4 1−ナス型フラスコ中0℃でEt2O400mlにLiAlH44.6g
を加え撹拌、発泡がおさまるのを待って(2S,3S)−エ
ポキシ−(2R,6R,10R)−2,6,10,14−テトラメチル−1
−ペンタデセノール(3)35.7gをゆっくり加える。同
温で3時間撹拌し、室温に戻してさらに2時間撹拌、T.
L.C.(30%AcOEt/n−Hex−SiO2)で原料消失を確認、再
び0℃に冷却し強く撹拌しながらH2O4.6ml、15%NaOH
水、H2O13.8mlを順次発泡に注意しながら滴下、室温で
しばらく撹拌し、LiAlH2の灰色が完全になくなったら白
い沈澱を濾去する。濾液を濃縮、残渣を20〜30%AcOEt/
n−Hex−SiO2カラムクロマトで精製し4を32.0g得る。
収率 89% 〔α〕D 25=+0.39゜(C=4.5,EtOH) C19H40O2(300.51) C H 計算値 75.93 13.42 実測値 76.14 13.55 IR(Neat,cm-1):3380(OH基) NMR(CDCl3,δ):3.4(2H,d),1.85(1H,t),0.85(12
H,d) 実施例 4 1,2−エポキシ−(2R,6R,10R)−2,6,10,14−テトラメ
チルペンタデカン 5 1−ナス型フラスコ中CH2Cl2300mlに(2R,6R,10R)−
2,6,10,14−テトラペンタデカン−1,2−ジオール(4)
32gを加え、氷冷下Et3N17.8mlを加え、次いでMsCl9.5ml
をゆっくり滴下(発熱注意)、同温で30分撹拌し、T.L.
C.(30%AcOEt/n−Hex−SiO2:2回展開)で原料消失を確
認した。CH2Cl2を留去、Et2O150mlを加え粉状フロリジ
ルの短いカラムを通して吸引濾過、フロリジル層は更に
Et2O250mlで洗う。濾液を濃縮し、粗モノメシレートと
する。
H,d) 実施例 4 1,2−エポキシ−(2R,6R,10R)−2,6,10,14−テトラメ
チルペンタデカン 5 1−ナス型フラスコ中CH2Cl2300mlに(2R,6R,10R)−
2,6,10,14−テトラペンタデカン−1,2−ジオール(4)
32gを加え、氷冷下Et3N17.8mlを加え、次いでMsCl9.5ml
をゆっくり滴下(発熱注意)、同温で30分撹拌し、T.L.
C.(30%AcOEt/n−Hex−SiO2:2回展開)で原料消失を確
認した。CH2Cl2を留去、Et2O150mlを加え粉状フロリジ
ルの短いカラムを通して吸引濾過、フロリジル層は更に
Et2O250mlで洗う。濾液を濃縮し、粗モノメシレートと
する。
1−ナス型フラスコ中粗モノメシレートをMeOH300ml
に溶解、氷冷下激しく撹拌しながら20%NaOH水30mlを徐
々に滴下、更に同温で15分撹拌、T.L.C.(30%AcOEt/n
−Hex−SiO2)で原料消失を確認し、H2O200ml、n−Hex
200mlを加え抽出、更にn−Hex100mlで抽出、n−Hex層
は合わせて水洗、飽和NaCl水洗、MaSO4乾燥、濃縮、ベ
ンゼン−フロリジルカラムクロマトで精製し5を29.05g
得る。
に溶解、氷冷下激しく撹拌しながら20%NaOH水30mlを徐
々に滴下、更に同温で15分撹拌、T.L.C.(30%AcOEt/n
−Hex−SiO2)で原料消失を確認し、H2O200ml、n−Hex
200mlを加え抽出、更にn−Hex100mlで抽出、n−Hex層
は合わせて水洗、飽和NaCl水洗、MaSO4乾燥、濃縮、ベ
ンゼン−フロリジルカラムクロマトで精製し5を29.05g
得る。
収率 96.6% 〔α〕D 25=−3.57゜(C=4.11,EtOH) C19H38O(282.49) C H 計算値 80.78 13.56 実測値 80.88 13.60 NMR(CDCl3,δ):2.58(2H,s),1.30(3H,s),0.86(12
H,d) 実施例 5 2−〔3′−ヒドロキシ−(3′R,7′R,11′R)−
3′,7′,11′,15′−テトラメチルヘキサデカニル〕−
1,4−ジメトキシ−3,5,6−トリメチルベンゼン 6 1−ナス型フラスコ中ベンゼン400mlに1,4−ジメトキ
シ−2,3,5,6−テトラメチルベンゼン(12)24.3gを溶か
し、氷冷下N,N,N′,N′−テトラメチルエチレンジアミ
ン19mlを加え、次いで1.6Mn−BuLi/n−Hex78mlを滴下、
同温で一時間撹拌する。氷冷下、1,2−エポキシ−(2R,
6R,10R)−2,6,10,14−テトラメチルペンタデカン
(5)28.25gをベンゼン50mlに溶かして滴下、更に1時
間撹拌、T.L.C.(15%AcOEt/n−Hex−SiO2)でエポキシ
ド(5)の消失を確認後、飽和NH4Cl水50mlを加える。
ベンゼン層は水洗、飽和NaCl水洗、MgSO4乾燥、濃縮、
7〜10%AcOEt/n−Hex−SiO2カラムクロマトで精製し6
を41.8g得る。
H,d) 実施例 5 2−〔3′−ヒドロキシ−(3′R,7′R,11′R)−
3′,7′,11′,15′−テトラメチルヘキサデカニル〕−
1,4−ジメトキシ−3,5,6−トリメチルベンゼン 6 1−ナス型フラスコ中ベンゼン400mlに1,4−ジメトキ
シ−2,3,5,6−テトラメチルベンゼン(12)24.3gを溶か
し、氷冷下N,N,N′,N′−テトラメチルエチレンジアミ
ン19mlを加え、次いで1.6Mn−BuLi/n−Hex78mlを滴下、
同温で一時間撹拌する。氷冷下、1,2−エポキシ−(2R,
6R,10R)−2,6,10,14−テトラメチルペンタデカン
(5)28.25gをベンゼン50mlに溶かして滴下、更に1時
間撹拌、T.L.C.(15%AcOEt/n−Hex−SiO2)でエポキシ
ド(5)の消失を確認後、飽和NH4Cl水50mlを加える。
ベンゼン層は水洗、飽和NaCl水洗、MgSO4乾燥、濃縮、
7〜10%AcOEt/n−Hex−SiO2カラムクロマトで精製し6
を41.8g得る。
収率 87.7% 〔α〕D 25=−0.24゜(C=4.12,EtOH) C31H56O3(476.76) C H 計算値 78.09 11.84 実測値 78.25 11.95 IR(Neat,cm-1):3450(OH基) NMR(CDCl3,δ):3.7(3H,s),3.62(3H,s),2.2(3H,
s),2.18(6H,s),0.85(12H,d) 実施例 6 2−〔3′−ヒドロキシ−(3′R,7′R,11′R)−
3′,7′,11′,15′−テトラメチルヘキサデカニル〕−
3,5,6−トリメチル−1,4−ベンゾキノン 7 2−4頚フラスコ中2−〔3′−ヒドロキシ−(3′
R,7′R,11′R)−3′,7′,11′,15′−テトラメチル
ヘキサデカニル〕−1,4−ジメトキシ−3,5,6−トリメチ
ルベンゼン(6)41.8gをアセトニトリル800ml、CH2Cl2
80mlに溶解、43〜47℃の水浴中撹拌下、EDTA5.3g、次い
でNaBrO313.3gの水340ml溶液、最後にCAN5.3gを加え同
温で5時間撹拌、室温に冷却後n−Hex500mlを加えると
n−Hex/アセトニトリル/H2Oの3層に分離する。水層だ
けを捨て、残りの2層を数回水洗してアセトニトリルを
除く、飽和NaCl水洗、MgSO4乾燥、濃縮、7〜10%AcOEt
/n−Hex−SiO2カラムクロマトで精製し7を22.26g得
る。
s),2.18(6H,s),0.85(12H,d) 実施例 6 2−〔3′−ヒドロキシ−(3′R,7′R,11′R)−
3′,7′,11′,15′−テトラメチルヘキサデカニル〕−
3,5,6−トリメチル−1,4−ベンゾキノン 7 2−4頚フラスコ中2−〔3′−ヒドロキシ−(3′
R,7′R,11′R)−3′,7′,11′,15′−テトラメチル
ヘキサデカニル〕−1,4−ジメトキシ−3,5,6−トリメチ
ルベンゼン(6)41.8gをアセトニトリル800ml、CH2Cl2
80mlに溶解、43〜47℃の水浴中撹拌下、EDTA5.3g、次い
でNaBrO313.3gの水340ml溶液、最後にCAN5.3gを加え同
温で5時間撹拌、室温に冷却後n−Hex500mlを加えると
n−Hex/アセトニトリル/H2Oの3層に分離する。水層だ
けを捨て、残りの2層を数回水洗してアセトニトリルを
除く、飽和NaCl水洗、MgSO4乾燥、濃縮、7〜10%AcOEt
/n−Hex−SiO2カラムクロマトで精製し7を22.26g得
る。
収率 56.8% 〔α〕D 25=+3.80゜(C=4.1,EtOH) C29H50O3(446.69) C H 計算値 77.97 11.28 実測値 78.11 11.37 IR(Neat,cm-1):3450,1640 NMR(CDCl3,δ):2.45〜2.7(2H,m),2.03(3H,s),2.0
0(6H,s),1.24(s,3H),0.87(6H,d) 実施例 7 d−α−トコフェロール 8 500mlナス型フラスコ中MeOH370mlに2−(3′−ヒドロ
キシ−(3′R,7′R,11′R)−3′,7′,11′,15′−
テトラメチルヘキサデカニル−3,5,6−トリメチル−1,4
−ベンゾキノン(7)18.48gを溶解、室温でNa2S2O414.
8g、次いでメタンスルホン酸11.0mlを加え、同温で1時
間撹拌、n−Hex200ml、H2O100mlを加え抽出、n−Hex
層は水洗、飽和NaCl水洗、MgSO4乾燥、濃縮、ベンゼン:
n−Hex=1:1−SiO2カラムクロマトで精製し8を11.02g
得る。
0(6H,s),1.24(s,3H),0.87(6H,d) 実施例 7 d−α−トコフェロール 8 500mlナス型フラスコ中MeOH370mlに2−(3′−ヒドロ
キシ−(3′R,7′R,11′R)−3′,7′,11′,15′−
テトラメチルヘキサデカニル−3,5,6−トリメチル−1,4
−ベンゾキノン(7)18.48gを溶解、室温でNa2S2O414.
8g、次いでメタンスルホン酸11.0mlを加え、同温で1時
間撹拌、n−Hex200ml、H2O100mlを加え抽出、n−Hex
層は水洗、飽和NaCl水洗、MgSO4乾燥、濃縮、ベンゼン:
n−Hex=1:1−SiO2カラムクロマトで精製し8を11.02g
得る。
収率 61.8% 〔α〕D 25=+0.68゜(C=4.20,EtOH) C29H50O2(430.69) C H 計算値 80.87 11.70 実測値 81.04 11.82 UVλmax=292nm、▲ε1% cm▼=69.7 K3Fe(CN)6酸化物の〔α〕D 25=+29.8゜(C=1.05,
イソオクタン)
イソオクタン)
Claims (1)
- 【請求項1】次の化学構造式で表される2,6,10,14−(6
R,10R)−テトラメチル−2−ペンタデセンを、 SeO2の存在下にt−ブチルハイドロパーオキサイドと反
応せしめ、次の化学構造式で表される(6R,10R)−2,6,
10,14−テトラメチル−2−ペンタデセン−1−オール
を得、 次いで得られた該化合物にエナンシオセレクティブオキ
シデーション(enantioselectiveoxidation)を行い、
次の化学構造式で表される2,3−エポキシ体を得、 次いで得られた2,3−エポキシ体を還元的に開裂せし
め、次の化学構造式で表される(2R,6R,10R)−2,6,10,
14−テトラメチルペンタデカン−1,2−ジオールを得、 次いで得られた該化合物を立体選択的に脱水・閉環し
て、次の化学構造式で表されるエポキシ体を得、 次いで得られた該エポキシ体に、1,4−ジメトキシ−2,
3,5,6−テトラメチルベンゼンを縮合反応せしめて次の
化学構造式で表される化合物を得、 次いで得られた該化合物を母核水酸基の保護基を除去す
ると同時に、酸化剤を用いて酸化せしめて、次の化学構
造式で表されるd−α−トコフェリルキノンを得、 次いで得られた該d−α−トコフェリルキノンを環化せ
しめて、次の化学構造式で表される 光学活性α−トコフェロールを得ることを特徴とする光
学活性α−トコフェロールの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61151181A JPH0733379B2 (ja) | 1986-06-27 | 1986-06-27 | 光学活性α−トコフエロ−ルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61151181A JPH0733379B2 (ja) | 1986-06-27 | 1986-06-27 | 光学活性α−トコフエロ−ルの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS638379A JPS638379A (ja) | 1988-01-14 |
JPH0733379B2 true JPH0733379B2 (ja) | 1995-04-12 |
Family
ID=15513064
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61151181A Expired - Lifetime JPH0733379B2 (ja) | 1986-06-27 | 1986-06-27 | 光学活性α−トコフエロ−ルの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0733379B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
UY36851A (es) * | 2015-08-16 | 2017-03-31 | Glaxosmithkline Ip Dev Ltd | Compuestos para uso en aplicaciones antibacterianas |
-
1986
- 1986-06-27 JP JP61151181A patent/JPH0733379B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS638379A (ja) | 1988-01-14 |
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