JP2024518460A - 電解プロセスにおけるガス発生のための電極 - Google Patents
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Abstract
本発明は、ニッケル系金属基板と、前記基板上に形成されたコーティングとを含む電解プロセスにおけるガス発生のための電極であって、前記コーティングが、ニッケル系金属または金属酸化物結合剤内に分散されたペロブスカイト型構造を示す触媒材料の予備形成された粒子を含む、電極に関する。本発明はまた、そのような電極の製造のための方法に関する。【選択図】図1
Description
本発明は、ニッケル基板およびニッケル系触媒コーティングを含む電解プロセスにおけるガス発生のための電極に関する。そのような電極は、特に、電気化学セルのアノードとして、例えばアルカリ水電解における酸素発生アノードとして使用することができる。
アルカリ水電解は、典型的には、アノードおよびカソード区画が隔膜またはメンブレンなどの適切なセパレータによって分割されている電気化学セル内で行われる。7より高いpHのアルカリ水溶液、例えばKOH水溶液がセルに供給され、カソードおよびアノードそれぞれの区画内の電極間、すなわちカソードとアノードとの間に、1.8~2.4Vの典型的な範囲の電位差(セル電圧)で電流の流れが確立される。これらの条件下では、水がその構成成分に分割されて、カソードでガス状水素が発生し、アノードでガス状酸素が発生する。ガス状生成物はセルから除去されるため、セルは、連続的に動作させることができる。アルカリ媒体中のアノード酸素発生反応は、以下のように要約することができる。
4OH-→O2+2H2O+4e-
4OH-→O2+2H2O+4e-
アルカリ水電解は、典型的には、40~90℃の温度範囲で行われる。アルカリ水電解は、エネルギー貯蔵、特に太陽光および風力エネルギーなどの変動する再生可能エネルギー源からのエネルギー貯蔵の分野において有望な技術である。
この点で、より安価な電極などのより安価な機器の観点からだけでなく、プロセス全体の効率の観点からも、技術のコストを低減することが特に重要である。セル効率の1つの重要な態様は、水電解を効果的に生成するために必要なセル電圧に関する。セル全体の電圧は、可逆電圧、すなわち反応全体への熱力学的寄与、システム内のオーミック抵抗による電圧損失、カソードでの水素発生反応の速度に関連する水素過電位、およびアノードでの酸素発生反応の速度に関連する酸素過電位によって本質的に支配される。
酸素発生反応は速度が遅く、これがアノードの高い過電位の原因である。その結果、動作セル電圧が上昇し、技術の大規模な商業化が困難になる。
さらに、水電解のための電極は、未保護でのシャットダウンに対して一定の耐性を示すべきである。実際、単一の電気化学セルのスタックで作られた電解プラントの典型的な動作中、技術的な問題の保守のために電力供給を停止することがしばしば要求され、電極にとって有害な極性の反転が引き起こされる。このような反転は、通常、電流の流れを所望の方向に維持する外部偏光システム(または偏光子)を使用して回避される。この補助的な構成要素は、金属溶解または電極腐食によって引き起こされる潜在的な電極劣化を回避するが、システムの投資コストを増加させる。
先行技術では、アルカリ水電解のための好ましいアノード/アノード触媒には、裸ニッケル(Ni)電極、Raneyニッケル(Ni+Al)電極、および酸化イリジウム(Ir)系触媒コーティングを有する電極が含まれる。
裸ニッケル電極は、Niメッシュなどのニッケル基板のみで形成され、低コストで容易に製造することができるが、高い酸素過電位を示し、反応速度が遅い。
Raneyニッケル電極は、プラズマ溶射技術によるNi+Alの触媒粉末の薄膜堆積によって製造される。工業レベルでは、プラズマ溶射技術は、製造コストが高く、技術に関連する騒音、爆発性、3000℃を超える温度での激しい火炎、ヒュームなどの健康および安全上の危険性のために、触媒コーティングにはあまり使用されない。さらに、Raneyニッケル製造プロセスは、触媒コーティングからアルミニウムを浸出させ、表面にほぼ純粋なニッケルを残し、表面積を実質的に増加させることによって達成される活性化プロセスを含む。Al溶解の反応中には、急激な発熱反応に起因して製造プロセス中に問題となるH2が生成される。プラズマ溶射によって堆積されるRaneyニッケルの別の技術的問題は、かなり鋸歯状の形態のコーティングが得られることである。電極がメンブレンと接触しているゼロギャップセルでは、鋭い鋸歯状の表面がメンブレンに損傷を引き起こす可能性がある。
イリジウム系触媒コーティングを有する電極は、危険性がより少ない確立された技術である熱分解によって製造される。しかしながら、これらの電極に使用されるイリジウムは、高価格であるだけでなく、工業規模の製造プロセスのためのバルク量を購入することが困難であるという結果をもたらす、地球の外皮中に最も少ない貴金属の1つである(例えば、金はイリジウムの40倍豊富であり、白金はイリジウムの10倍豊富である)。さらに、イリジウム系コーティングは、典型的には、高コストの製造プロセスをもたらす多層コーティングである。先行技術の多層触媒コーティングは、例えば、Ni基板上に直接塗布されたLiNiOx中間層と、中間層に塗布されたNiCoOx活性層と、酸化イリジウム外層とを含み得る。この多層組成物は、CoおよびIrが典型的には極性反転中に電解液中に溶解するため、未保護でのシャットダウンに対して低い耐性を示す。
英国特許出願公開第1391625号明細書は、導電性ペロブスカイト青銅酸化物を含むコーティングを有する、塩化アルカリ電解のための電極を記載している。
最近、ペロブスカイト構造を有する材料は、アルカリ水電解における酸素発生反応のための電極触媒として有望な性能を示している(DJ Donn Matienzo et al.,“Benchmarking Perovskite Elctrocatalysts’ OER Activity as Candidate Materials for Industrial Alkaline Water Electrolysis”,Catalysts 2020,10,1387を参照)。その結果、ペロブスカイト構造を有する材料は、アルカリ水電解で従来使用されている電極中の貴金属触媒の費用効果の高い代替物となり得る。しかしながら、この先行技術文献で使用されている調製技術は、空気中700℃でのその後の熱アニーリングを伴う共沈殿技術を含む。得られたペロブスカイト材料の粉末を、水と、イソプロパノールと、高分子結合剤とを含む溶液に分散させることによって調製されたインクを、炭素電極に塗布する。このような繊細な電極は、単に触媒材料の電気化学的特徴づけに適しているにすぎず、工業規模のアルカリ水電解には十分に安定していない。
欧州特許出願公開第3351659号明細書は、多孔質ニッケル基板と、基板の表面に形成された薄膜とを含む水電解のためのアノードを記載しており、薄膜は、ペロブスカイト構造を有する希土類元素(Ln)/ニッケル(Ni)/コバルト(Co)金属酸化物(LnNixCo(1-x)O3、0<x≦1)から作られる。薄膜は、ニッケル基板上に前駆体層を形成し、この前駆体層を摂氏400℃および1000℃の温度、特に800℃付近で焼成することによって得られる。これらの条件下では、ニッケル基板とペロブスカイト薄層との間に酸化ニッケル層が形成され、アルカリ水電解における酸素発生に対する過電位が増加する。
日本特許出願公開第2009179871号明細書は、ペロブスカイト型構造を有する金属酸化物を使用した水電解のための電極を記載している。電極は、金属酸化物粉末と高分子結合剤との混合物をステンレス鋼基板にプレスすることによって得られる。同様に、日本特許出願公開第2014203809号明細書は、弁金属担体上に担持されたペロブスカイト構造を有する触媒粒子が高分子結合剤を使用して電極基板上に塗布される水電解のためのアノードを記載している。高分子結合剤を使用するそのような電極の電気抵抗、ひいては酸素発生に対する過電位は高い。
日本特許出願公開第2014203809号明細書は、弁金属担体上に担持されたペロブスカイト構造を有する触媒粒子が高分子結合剤を使用して電極基板上に塗布される水電解のためのアノードを記載している。
欧州特許出願公開第3444383号明細書は、ニッケル-コバルトスピネル酸化物またはランタニド-ニッケル-コバルトペロブスカイト酸化物でできた第1の触媒成分と、酸化イリジウムおよび酸化ルテニウムのうちの少なくとも1つでできた第2の触媒成分とを含む1つまたは複数の触媒層を有する導電性ニッケルまたはニッケル合金基板を用いたアルカリ水電解のためのアノードを記載している。触媒層は、ニッケルまたはニッケル合金基板に塗布された前駆体溶液を熱処理することによって得られる。
米国特許第4497698号明細書は、アルカリ電解液からの電極触媒酸素発生のための、ニッケル酸ランタンでできたペロブスカイト型酸化物を含むアノードを記載している。アノードは、加圧焼結されたニッケル酸ランタン粉末でできている。このような電極は、工業規模のアルカリ水電解に必要な構造安定性を有さない。
要約すると、先行技術に記載のペロブスカイト型触媒を含むアルカリ水電解のためのアノードは、様々な欠点を抱えている。一方で、ペロブスカイト構造の形成に必要な高温は、例えばニッケルなどの一般的に使用される金属がこれらの温度で酸化を示すため、工業的アルカリ水電解で従来使用されている電極基板上に直接ペロブスカイト材料を合成するには有害である。一方、工業用途では、高い電流密度、および例えば電流密度の特定の変化、さらには突然のシャットダウンまたは極性反転を含む不利な動作条件で安定性を維持する安定した電極触媒コーティングを有する電極が必要である。しかしながら、高い電流密度では、電極表面でのガス発生は、損傷およびさらには触媒材料の部分的な脱離ももたらし得る。
したがって、本発明の目的は、アルカリ水電解用途において低い酸素過電圧を示しながら、不利な動作条件下で改善された機械的安定性を示す、工業的アルカリ水電解のための費用効果の高い電極を提供することである。
本発明の様々な態様は、添付の特許請求の範囲に記載されている。
本発明は、ニッケル系金属基板と、前記基板上に形成されたコーティングとを含む電解プロセスにおけるガス発生のための電極であって、前記コーティングが、ニッケル系金属または金属酸化物結合剤内に分散されたペロブスカイト型構造を示す触媒材料の予備形成された粒子を含む、電極に関する。
当技術分野で知られているように、「ペロブスカイト型構造を示す材料」は、鉱物ペロブスカイト(CaTiO3)と同様の結晶構造を有する材料を記載する。一般に、ペロブスカイト触媒は、ABX3による化学式を示し、式中、AおよびBは、しばしば非常に異なるサイズの2つのカチオンであり、Xはアニオンであり、典型的には両方のカチオンに結合する酸素である。簡単にするために、以下の説明では、ペロブスカイト型構造を示すこれらの粒子は、これらの粒子/材料を実際の鉱物ペロブスカイト(CaTiO3)に限定することを意図せずに、「ペロブスカイト粒子」または「ペロブスカイト材料」と示される。
驚くべきことに、ペロブスカイト触媒の予備形成された粒子を使用することによって、触媒材料の調製は、電極基板に使用される材料の熱的制限によって影響されないことが見出された。さらに、金属または金属酸化物結合剤を使用することにより、上記のDJ Donn Matienzoらの以前の調査で見出されたように、ペロブスカイト材料の、特にアルカリ水電解における酸素発生反応に対する高い触媒活性を維持しながら、アルカリ水電解の動作条件下で高度の機械的安定性を有する本発明のコーティングがもたらされる。
予備形成された触媒材料の粒子は、好ましくは、粉末の粒子が5~1000nmの粒径を有する粉末材料である。このサイズ分布は、より大きな粒子およびより小さな粒子のまれな発生を排除するものではないが、所与の試料の粒子数の少なくとも60%、好ましくは少なくとも90%が5~1000nmの範囲、好ましくは50~500nmの範囲のサイズを有することを意味すると理解されるべきである。本発明の文脈において、「粒径」は、粒子を内接させることができる球の直径を指す。粒径は、例えば、粉末の走査電子顕微鏡画像(SEM画像)を評価することによって決定することができる。
前記予備形成された触媒材料の前記粒子は、好ましくは100~500nmの範囲、より好ましくは150~300nmの範囲の平均サイズを有する。
予備形成された触媒の粒子は、好ましくは組成ABO3を有し、化合物Aは希土類および/またはアルカリ土類カチオンから選択され、化合物Bは遷移金属カチオンまたは複数の遷移金属カチオンの組み合わせから選択される。ペロブスカイト材料がAサイトに2つの異なるカチオン、例えば、あるカチオンの割合yおよび別のカチオンの割合(1-y)を含む場合、このとき0<y<1であり、そのような材料はしばしば「二重ペロブスカイト材料」と示される。典型的には、「二重ペロブスカイト材料」は、Aサイトに希土類カチオンとアルカリ土類カチオンとの組み合わせを含む。
本発明の特定の実施形態では、化合物Aは、La、Pr、Ba、Sr、Caまたはそれらの組み合わせから選択される。「二重ペロブスカイト」型の好ましいA化合物は、例えば、PryBa1-y、PrySr1-y、PryCa1-yである。これらの実施形態では、化合物Bは、好ましくはMn、Fe、Co、Ni、Cuまたはそれらの組み合わせから選択される。本発明で使用される特に好ましいペロブスカイト材料は、LaMnO3、LaNiO3、LaCoO3、PrCoO3、Pr0.8Ba0.2CoO3、Pr0.8Sr0.2CoO3、Pr0.9Ca0.1CoO3を含む。
ニッケル系基板には、ニッケル基板、ニッケル合金基板(特にNiFe合金およびNiCo合金ならびにそれらの組み合わせ)および酸化ニッケル基板が含まれる。金属ニッケル基板が本発明の文脈において特に好ましい。裸ニッケル電極と同様に、本発明の電極は、裸ニッケル電極の遅い反応速度を示さず、反応速度を改善するために追加の貴金属または他の金属を必要としない、ニッケルの触媒特性から利益を得る。
本発明の意味における「ニッケル系金属結合剤」または「ニッケル系金属酸化物結合剤」は、ニッケルもしくはニッケル合金金属またはニッケルもしくはニッケル合金金属酸化物の本質的に連続した本質的に均一の相である。このような連続相は、基板上に、金属塩を含む均一な前駆体溶液を例えばスプレーまたはブラッシングによって塗布し、続いて熱処理することによって製造することができる。当技術分野で知られているように、そのような熱処理は、本質的に均一なコーティングをもたらすが、本発明の文脈では、微粒子ペロブスカイト触媒材料の結合剤として作用する。結合剤自体は、すなわち粒子を添加しない場合、機械的に非常に安定であるが、酸素発生に対して高い過電位を示し、したがって、アルカリ水電解には適さない均一な金属または金属酸化物コーティングをもたらす。しかしながら、本発明によるこれらのコーティング内のペロブスカイト粒子の分散により、電気化学反応、特にアルカリ水電解に適した触媒コーティングを得ることができる。
一実施形態では、ニッケル系金属または金属酸化物結合剤は、ニッケルと、任意選択で少なくとも別の遷移金属、例えばマンガンまたはチタンとを含む。好ましくは、コーティングは酸化ニッケル結合剤を含む。
コーティングは、6~30g/m2投影表面積(pjt)の範囲、好ましくは8~16g/m2投影表面積(pjt)の範囲の触媒粒子の好ましい負荷量と、6~30g/m2の範囲、好ましくは8~16g/m2の範囲の、金属元素と呼ばれる金属または金属酸化物結合剤の負荷量とを有する。特に好ましい実施形態では、触媒粒子負荷量および結合剤負荷量の両方が10g/m2の範囲である。
本発明の電極は、広い範囲の金属または金属酸化物結合剤対触媒粒子比で製造することができる。好ましくは、予備形成された触媒の粒子に対する金属または金属酸化物結合剤の重量比は、0.2~5の範囲内、より好ましくは0.5~2の範囲内であり、典型的には約1、すなわち1:1の比に相当する。結合剤に関する限り、上記の重量比は、結合剤の金属成分、すなわち金属酸化物の場合、金属酸化物の金属成分を指す。同じ金属、例えばニッケルが結合剤および予備形成された触媒粒子に使用される場合、それぞれの量は、結合剤成分および粒子に別々に起因する。一般に、より高い比、すなわちより多くの結合剤は、コーティングの安定性に有利であり、より低い比、すなわちより多くの触媒粒子は、利用可能な触媒粒子の量がより多いことによってだけではなく、コーティングの多孔度を増加させ、したがって触媒と電解質が接触することができる面積を増加させることによっても、コーティングの触媒活性に有利である。
特定の実施形態では、特にニッケル基板が使用される実施形態では、コーティングは、ニッケル基板と触媒多孔質外層との間に堆積されたニッケル系中間層を含む。好ましくは、ニッケル系中間層は、金属基板上に直接塗布されたLiNiOx中間層である。そのような中間層およびそれらの製造方法は、貴金属系触媒コーティングから既に知られている。
コーティング、すなわち金属または金属酸化物結合剤中に分散された触媒粒子からなる層は、任意選択の中間層を含まずに、3~50マイクロメートル(μm)の範囲、例えば5~50μmの範囲、好ましくは5~20μmの範囲、例えば10~20μmの範囲の典型的な厚さを有する。
本発明の電極の基板は、好ましくは多孔質金属基板であり、したがって電解質とコーティングとの接触、ならびに電極触媒反応中に形成されたガス気泡の放出を容易にする。
好ましい実施形態では、本発明のコーティングは、イリジウムなどの貴金属を本質的に含まない。「本質的に含まない」とは、例えば、典型的な実験室用X線回折(XRD)技術を使用した場合に、対応する金属が典型的には任意の検出可能な範囲外であることを意味する。
好ましい実施形態では、金属基板はニッケル基板、特にエキスパンドニッケルメッシュである。ニッケルメッシュは、メッシュ厚さおよびメッシュ形状に関して様々な構成で使用することができる。好ましいメッシュ厚さは、0.2~1mmの範囲、好ましくは約0.5mmである。典型的なメッシュ開口部は、2~10mmの範囲の長い幅および1~5mmの範囲の短い幅を有する菱形開口部である。
本発明の電極は、様々な電気化学的用途に使用することができる。酸素過電圧の値が低いため、本発明の電極は、酸素発生のためのアノードとして、特にアルカリ水電解のための電解セルのアノードとして使用されることが好ましい。
本発明はまた、上記で定義されるような電極の製造のための方法であって、以下の工程を含む方法に関する。
最初の工程a)では、ペロブスカイト型構造を示す触媒材料の予備形成された粒子をニッケル系金属塩を含む溶液中に分散させて前駆体懸濁液を得る。予備形成された粒子は、当技術分野で知られているペロブスカイト触媒粒子を形成するための任意の適切な方法によって、例えば上記のDJ Donn Matienzoらによって記載された方法によって得ることができる。溶液中の予備形成された触媒粒子の分散は、当業者に利用可能な任意の適切な方法によって、例えば、予備形成された粒子を所望の粒径分布を有する粉末に粉砕し、撹拌機および/または超音波処理を使用して粉末を溶液中に分散させることによって達成することができる。
後続の工程b)では、前駆体懸濁液をニッケル系金属基板に塗布して、塗布されたコーティングを得る。前駆体懸濁液を金属基板に塗布するために、ブラッシングまたはスプレーコーティングなどの任意の適切な塗布技術を使用することができる。
後続の工程c)では、塗布されたコーティングを80~150℃の範囲の温度で乾燥させて溶媒のエバポレーションを促進する。
後続の工程d)では、塗布されたコーティングを前駆体化合物の熱分解に適した温度範囲で焼成する。熱処理は、金属基板の溶融温度より十分に低い温度で、かつ酸素含有雰囲気中で金属基板の酸化が起こらない温度で行うことが好ましい。さらに、予備形成された粒子は、前駆体溶液の塗布プロセスおよびその後の熱処理の間、安定で無傷のままであるべきである。例えば、電極のための金属基板としてニッケルを使用して、熱処理は、典型的には550℃までの温度で行われる。好ましくは、塗布されたコーティングは、300~600℃の範囲の温度で焼成される。
任意選択の工程e)によれば、予備形成された粒子および結合剤の所望の特定の負荷量を有するコーティングが得られるまで、工程b)~d)を繰り返すことができる。したがって、コーティングは、所望の負荷量を正確に調整するために一連の層に作成することができる。1つのコーティング組成物のみが使用されるので、コーティングされた電極の製造は、異なる組成物の複数の層を含む先行技術の方法よりも速く、より薄く、したがって、本発明の方法を行うことはより安価である。
任意選択の工程f)では、コーティングを300~500℃の範囲の温度で最終熱処理に供する。最終熱処理は、本質的に、電極の寿命を延ばす硬化プロセスであり、酸素過電位の低下を助けることもできる。
本発明の方法の一実施形態では、工程a)の溶液は、水、アルコール、好ましくはイソプロパノール、および任意選択で触媒粒子の分散を安定化させる適切な添加剤を含む。好ましくは、水対アルコールの体積比は、0.1~10、好ましくは0.1~9、特に0.5~2、例えば1:1の体積比から選択される。製造プロセスにおける健康および安全上の考慮事項に応じて、上記範囲の上端における水対アルコール比、例えばアルコールの燃焼性を考慮して9:1の比を選択することができる。適切な添加剤としては、水溶性高分子添加剤、例えば、Nafion(登録商標)またはポリエチレングリコール(PEG)の商品名で市販されているスルホン化テトラフルオロエチレン系フッ素重合体-共重合体が挙げられる。健康および安全上の理由から、PEGは本発明の方法における好ましい添加剤である。PEGは、広範囲の平均分子量で利用可能である。本発明の方法では、6000~40000の範囲の平均分子を有するPEG、好ましくはPEG 20000を使用することができる。PEG添加剤は、典型的には2~10重量%、好ましくは約5重量%の濃度で使用される。分散体の溶媒または添加剤は、乾燥工程中にエバポレートするか、または焼成工程中に焼失する。したがって、溶液中に最初に含まれていた高分子安定剤は、最終コーティング中にもはや存在しない。その結果、本発明の電極は、最終コーティングを安定化させるためにペロブスカイト触媒および高分子結合剤を使用する先行技術の電極とは区分される。
コーティング溶液中に分散したペロブスカイト粒子の流体力学的直径を動的光散乱(DLS)によって決定し、約3μmの結果を得た。所与の溶液について、得られた流体力学的直径は、ペロブスカイト粉末の粒径とは比較的無関係であった。100~300nmの範囲の平均サイズを有するペロブスカイト粉末は、コーティング溶液中で約3μmの流体力学的直径を得ることが決定された。
本発明のコーティング中の金属または金属酸化物結合剤を形成する金属塩を含む溶液は、予備形成された触媒粒子が懸濁された水溶液に金属塩を溶解することによって得ることができる。工程a)における金属塩は、好ましくは塩化ニッケルなどのハロゲン化ニッケルである。
本発明は特定の利点に関連する:驚くべきことに、本発明の電極の触媒コーティングには貴金属が使用されていないが、ペロブスカイト型粒子を含むことによって得られるコーティングの活性表面積の増加は、例えばアルカリ水電解における酸素発生に対する過電位を低下させることによって、材料の電気化学的活性を著しく増加させることが見出された。さらに、本発明によれば、酸化ニッケルなどの無機金属結合剤が使用される。電極がアルカリ水電解に使用される場合、酸化ニッケル結合剤が特に好ましい。
したがって、本発明はまた、アルカリ水電解のための電解セルにおけるアノードとしての上記で定義された電極の使用に関する。本発明はまた、アルカリ水電解のための方法であって、アノードおよびカソードを含む電解セルにアルカリ電解液を供給することと、前記アノードで酸素が発生し、前記カソードで水素が発生するように、前記アノードと前記カソードとの間で前記電解液に電流を流すこととを含み、前記アノードが上記で定義した電極である、方法に関する。
しかしながら、他の用途では、コーティングの所望の機械的安定性および意図する電気化学的用途に応じて、異なる金属結合剤を使用することができる。さらに、塗布された前駆体溶液の熱分解は、容易に大規模製造につながる確立されたプロセスである。さらに、熱分解技術は、基板の形状またはサイズとは無関係に、多種多様な金属基板に容易に調整可能である。コーティングは非常に豊富な金属のみを使用するので、本発明の電極およびその製造プロセスは、イリジウムなどの貴金属を使用する対応する電極およびプロセスよりもかなり安価である。非常に豊富であるため、工業規模の製造に必要なバルク購入が容易に達成される。最後に、本発明に従って製造されたコーティングの形態は平坦であり、したがってゼロギャップ電解セル内のメンブレンの損傷を回避する。
ここで、本発明を、特定の好ましい実施形態および対応する図に関連してより詳細に説明する。
図1は、本発明による電極10の概略図を図面a)に示す。電極は、金属基板、この場合、0.1~5mmの範囲の典型的な厚さを有するコーティングニッケルメッシュ11を含む。図1の図面b)およびc)は、本発明のコーティングの2つの代替形態によるメッシュ1のコーティングワイヤ12の拡大断面図を示す。代替形態b)によれば、断面図は、ニッケル基板、すなわちニッケルワイヤ12と、酸化ニッケル結合剤15中に分散された固体ペロブスカイト型粒子14を含む触媒コーティング層13とを示す。代替形態c)によるコーティングは、LiNi中間層16がニッケルワイヤ基板12上に直接塗布され、同様に酸化ニッケル結合剤15中に分散された固体ペロブスカイト型粒子14を含む触媒コーティング層13が中間層16の上に配置されることを除いて、代替形態b)に対応する。
実施例1:コーティング懸濁液の調製
a)化学合成による予備形成された固体触媒粒子の調製
上記のDJ Donn Matienzoらの共沈殿合成手順を使用して、予備形成されたペロブスカイト触媒粒子を合成した:A=La、Pr、Pr0.9Ca0.1、およびB=NiまたはCoであるABO3組成を有する様々なペロブスカイトの合成は、対応する化学量論量のAサイト金属硝酸塩(La(NO3)2・6H2O、Pr(NO3)3・6H2O,Ca(NO3)2)およびBサイト金属硝酸塩(Ni(NO3)2・6H2O、Co(NO3)2・6H2O)を脱イオン水に溶解して行った。室温で少なくとも1時間撹拌して完全に溶解させた後、KOH溶液を連続的に撹拌しながら、ゆっくりと滴下した。硝酸塩A:硝酸塩B:KOHのモル比は1:1:6であった。約10~15分間撹拌した後、形成された沈殿物をほぼ中性のpHになるまで脱イオン水で洗浄し、遠心分離機を使用して回収した。次いで、濾過した沈殿物を空気中60℃で3時間乾燥させた。最後に、所望のペロブスカイト構造を得るために、乾燥した沈殿物を空気中700℃で3時間焼成した。次いで、試料を粉砕して、200~300nmの範囲の平均粒径(ペロブスカイトの種類に依存する)を有する100~500nmの範囲の粒子を含む微粉末にした。
a)化学合成による予備形成された固体触媒粒子の調製
上記のDJ Donn Matienzoらの共沈殿合成手順を使用して、予備形成されたペロブスカイト触媒粒子を合成した:A=La、Pr、Pr0.9Ca0.1、およびB=NiまたはCoであるABO3組成を有する様々なペロブスカイトの合成は、対応する化学量論量のAサイト金属硝酸塩(La(NO3)2・6H2O、Pr(NO3)3・6H2O,Ca(NO3)2)およびBサイト金属硝酸塩(Ni(NO3)2・6H2O、Co(NO3)2・6H2O)を脱イオン水に溶解して行った。室温で少なくとも1時間撹拌して完全に溶解させた後、KOH溶液を連続的に撹拌しながら、ゆっくりと滴下した。硝酸塩A:硝酸塩B:KOHのモル比は1:1:6であった。約10~15分間撹拌した後、形成された沈殿物をほぼ中性のpHになるまで脱イオン水で洗浄し、遠心分離機を使用して回収した。次いで、濾過した沈殿物を空気中60℃で3時間乾燥させた。最後に、所望のペロブスカイト構造を得るために、乾燥した沈殿物を空気中700℃で3時間焼成した。次いで、試料を粉砕して、200~300nmの範囲の平均粒径(ペロブスカイトの種類に依存する)を有する100~500nmの範囲の粒子を含む微粉末にした。
b)コーティング溶液の調製
コーティングの酸化ニッケル結合剤成分は、塩化ニッケル(NiCl2・6H20)を水およびイソプロパノール(1:1体積比)に溶解することによって調製した。アイオノマーとしてNafion(登録商標)(DuPont de Nemours,Inc.によって市販されているスルホン化テトラフルオロエチレン系フッ素重合体-共重合体)を添加した。Nafion(登録商標)の代わりにPEG 20000および水/イソプロパノールを9:1体積比で使用したコーティング溶液をこの実施例の変形形態で使用し、同様のコーティング電極の調製を可能にした。
コーティングの酸化ニッケル結合剤成分は、塩化ニッケル(NiCl2・6H20)を水およびイソプロパノール(1:1体積比)に溶解することによって調製した。アイオノマーとしてNafion(登録商標)(DuPont de Nemours,Inc.によって市販されているスルホン化テトラフルオロエチレン系フッ素重合体-共重合体)を添加した。Nafion(登録商標)の代わりにPEG 20000および水/イソプロパノールを9:1体積比で使用したコーティング溶液をこの実施例の変形形態で使用し、同様のコーティング電極の調製を可能にした。
c)予備形成された固体触媒粒子およびコーティング溶液の分散
a)で得られた予備形成された固体粒子を、b)で調製された溶液および任意の凝集体に添加し、超音波処理および磁気撹拌によって分散させて、最終コーティング懸濁液を得た。
a)で得られた予備形成された固体粒子を、b)で調製された溶液および任意の凝集体に添加し、超音波処理および磁気撹拌によって分散させて、最終コーティング懸濁液を得た。
実施例2(EX2):LaNiO3粒子/NiOx結合剤コーティングを有するニッケルメッシュ電極の調製
1m2のコーティングメッシュを調製するために、5mmの長い幅および2.8mmの短い幅の菱形開口部を有する厚さ0.5mmの織ニッケルメッシュにサンドブラストし、塩酸溶液中でエッチングした。メッシュの両面をブラッシングすることによって実施例1のコーティング懸濁液を堆積させ、90℃で10分間乾燥させ、500℃で10分間ベークした。最終ニッケル負荷量10g/m2投影面積および最終LaNiO3粒子負荷量10g/m2投影面積に達するまで、堆積、乾燥および焼成工程を繰り返した。ポストベークは行わなかった。
1m2のコーティングメッシュを調製するために、5mmの長い幅および2.8mmの短い幅の菱形開口部を有する厚さ0.5mmの織ニッケルメッシュにサンドブラストし、塩酸溶液中でエッチングした。メッシュの両面をブラッシングすることによって実施例1のコーティング懸濁液を堆積させ、90℃で10分間乾燥させ、500℃で10分間ベークした。最終ニッケル負荷量10g/m2投影面積および最終LaNiO3粒子負荷量10g/m2投影面積に達するまで、堆積、乾燥および焼成工程を繰り返した。ポストベークは行わなかった。
実施例3(EX3):PrCoO3粒子/NiOx結合剤コーティングを有するニッケルメッシュ電極の調製
実施例2と同様の調製技術を採用して、最終ニッケル負荷量10g/m2投影面積および最終PrCoO3粒子負荷量10g/m2投影面積を有する電極を得た。
実施例2と同様の調製技術を採用して、最終ニッケル負荷量10g/m2投影面積および最終PrCoO3粒子負荷量10g/m2投影面積を有する電極を得た。
実施例4(EX4):PrCaCoO3粒子/NiOx結合剤コーティングを有するニッケルメッシュ電極の調製
実施例2と同様の調製技術を採用して、最終ニッケル負荷量10g/m2投影面積および最終PrCaCoO3粒子負荷量10g/m2投影面積を有する電極を得た。
実施例2と同様の調製技術を採用して、最終ニッケル負荷量10g/m2投影面積および最終PrCaCoO3粒子負荷量10g/m2投影面積を有する電極を得た。
反例5(CEx5)
反例5は、本出願人によって市販されている貴金属系触媒コーティングを有する電極に対応する。実施例2と同様のニッケルメッシュ上に、LiNiIrOxおよびIrO2を含む混合物でできたコーティングを塗布した。
反例5は、本出願人によって市販されている貴金属系触媒コーティングを有する電極に対応する。実施例2と同様のニッケルメッシュ上に、LiNiIrOxおよびIrO2を含む混合物でできたコーティングを塗布した。
反例6(CEx6)
コーティングのない実施例2の裸ニッケルメッシュ電極を、比較のためのさらなる反例として使用した。
コーティングのない実施例2の裸ニッケルメッシュ電極を、比較のためのさらなる反例として使用した。
反例7(CEx7)
ニッケル結合剤のみからなるコーティングを有する実施例2の裸ニッケルメッシュ電極を、さらなる反例として使用した。これは、実施例1b)のコーティング溶液を、実施例2のコーティング懸濁液について記載したのと同様に、結合剤コーティング中のニッケル負荷量10g/m2に達するまで塗布して行った。
ニッケル結合剤のみからなるコーティングを有する実施例2の裸ニッケルメッシュ電極を、さらなる反例として使用した。これは、実施例1b)のコーティング溶液を、実施例2のコーティング懸濁液について記載したのと同様に、結合剤コーティング中のニッケル負荷量10g/m2に達するまで塗布して行った。
A. 機械的および化学的コーティング特性
A.1 均一性
実施例2および3に従って調製された電極を、走査電子顕微鏡(SEM)およびエネルギー分散X線分光分析(EDX)技術を使用して特徴付けた。図2a)は、EDX走査の結果を重ね合わせた実施例2(Ex2)の電極の断面のSEM画像20を示す。SEM画像20は、裸ニッケル基板21、触媒コーティング22、および試料調製に使用された炭素樹脂を示す画像の右側のより暗い領域23を示す。画像20に重ね合わされているのは、走査線24に沿ったEDX走査の結果であり、それぞれニッケル(線25)、ランタン(線26)、および酸素(線27)の重量パーセント(wt%)を示す。図2b)は、実施例3(Ex3)の電極の断面の同様のSEM画像30を示し、再び、EDX走査の結果が重ねられている。SEM画像30は、裸ニッケル基板31、触媒コーティング32および炭素樹脂領域33を示す。再び画像30に重ね合わせられているのは、走査線34に沿ったEDX走査の結果であり、それぞれニッケル(線35)、プラセオジム(線36)、コバルト(線37)、および酸素(線38)の重量パーセント(wt%)を示す。
A.1 均一性
実施例2および3に従って調製された電極を、走査電子顕微鏡(SEM)およびエネルギー分散X線分光分析(EDX)技術を使用して特徴付けた。図2a)は、EDX走査の結果を重ね合わせた実施例2(Ex2)の電極の断面のSEM画像20を示す。SEM画像20は、裸ニッケル基板21、触媒コーティング22、および試料調製に使用された炭素樹脂を示す画像の右側のより暗い領域23を示す。画像20に重ね合わされているのは、走査線24に沿ったEDX走査の結果であり、それぞれニッケル(線25)、ランタン(線26)、および酸素(線27)の重量パーセント(wt%)を示す。図2b)は、実施例3(Ex3)の電極の断面の同様のSEM画像30を示し、再び、EDX走査の結果が重ねられている。SEM画像30は、裸ニッケル基板31、触媒コーティング32および炭素樹脂領域33を示す。再び画像30に重ね合わせられているのは、走査線34に沿ったEDX走査の結果であり、それぞれニッケル(線35)、プラセオジム(線36)、コバルト(線37)、および酸素(線38)の重量パーセント(wt%)を示す。
図2から分かるように、ペロブスカイト粒子および結合剤がニッケルを含む実施例2の電極では、ニッケルプロファイル(図2aの線25)は、基板21と触媒コーティング22との間に明確な界面を示さず、そのため、粒子と酸化ニッケル結合剤とを明確に区別することができない。しかしながら、LaおよびO(線26および27)は、界面での顕著な増加を示す。対照的に、実施例3の電極の図2b)から分かるように、ニッケルプロファイル線35は、基板31と触媒層32との間の界面で明確に低下し、そのため、実施例3の実施形態では、触媒粒子をNiO結合剤から容易に区別することができる。要約すると、触媒層22および32は、組成に関して良好な均一性を示す。
A.2 化学組成
電極の化学組成を、X線回折(XRD)技術を使用してさらに分析した。図3は、異なる予備形成されたペロブスカイトを含む実施例2(図3a)、実施例3(図3b)および実施例4(図3c)の電極についての対応する結果を示す。x軸は回折角2θを示し、y軸は任意単位(例えば、走査当たりのカウント数)での回折強度を示す。垂直線は、標準立方晶NiO(ICDD番号04-012-6347)および基板としての立方晶Ni(ICDD番号00-004-0850)の個々の反射の位置を示す。さらに、堆積されたペロブスカイト材料の結晶相について、20~40°の範囲の2θにおける小さなピークが識別される。垂直線は、標準菱面体晶LaNiO3(ICDD番号04-013-6811)および斜方晶PrCoO3(ICDD番号04-013-4301)の個々の反射の位置を示す。
電極の化学組成を、X線回折(XRD)技術を使用してさらに分析した。図3は、異なる予備形成されたペロブスカイトを含む実施例2(図3a)、実施例3(図3b)および実施例4(図3c)の電極についての対応する結果を示す。x軸は回折角2θを示し、y軸は任意単位(例えば、走査当たりのカウント数)での回折強度を示す。垂直線は、標準立方晶NiO(ICDD番号04-012-6347)および基板としての立方晶Ni(ICDD番号00-004-0850)の個々の反射の位置を示す。さらに、堆積されたペロブスカイト材料の結晶相について、20~40°の範囲の2θにおける小さなピークが識別される。垂直線は、標準菱面体晶LaNiO3(ICDD番号04-013-6811)および斜方晶PrCoO3(ICDD番号04-013-4301)の個々の反射の位置を示す。
A.3 形態的特徴づけ
実施例2および3による電極の表面および断面形態を、SEM画像によって調査した。結果を図4に示し、図4a)は上面図、図4b)は実施例2(Ex2)による電極の断面図、図4c)は上面図、図4d)は実施例3(Ex3)による電極の断面図である。同じペロブスカイト材料負荷量(10g/m2)をこれらの試料について目標とした。図4で使用される参照符号は、図2で使用される参照符号に対応する。断面分析は、6~9μmの範囲の平均膜厚を示す。図4から、本発明の触媒コーティングは、高い多孔度を示し、電解質が基板21、31とそれぞれの触媒コーティング22、32との間の界面に近い触媒部位にも到達することを可能にすることも分かる。
実施例2および3による電極の表面および断面形態を、SEM画像によって調査した。結果を図4に示し、図4a)は上面図、図4b)は実施例2(Ex2)による電極の断面図、図4c)は上面図、図4d)は実施例3(Ex3)による電極の断面図である。同じペロブスカイト材料負荷量(10g/m2)をこれらの試料について目標とした。図4で使用される参照符号は、図2で使用される参照符号に対応する。断面分析は、6~9μmの範囲の平均膜厚を示す。図4から、本発明の触媒コーティングは、高い多孔度を示し、電解質が基板21、31とそれぞれの触媒コーティング22、32との間の界面に近い触媒部位にも到達することを可能にすることも分かる。
B. 電気化学的コーティング特性
B.1 酸素過電圧
「補正インピーダンス単一電極電位」(CISEP)試験を使用して、アルカリ水電解で使用される先行技術のアノードと比較して、本発明の電極の電気化学的性能を特徴付けた。本発明の電極の酸素過電圧を決定するために、3電極ビーカーセルのアノードとして試験した。試験条件を表1に要約する。
表1:
B.1 酸素過電圧
「補正インピーダンス単一電極電位」(CISEP)試験を使用して、アルカリ水電解で使用される先行技術のアノードと比較して、本発明の電極の電気化学的性能を特徴付けた。本発明の電極の酸素過電圧を決定するために、3電極ビーカーセルのアノードとして試験した。試験条件を表1に要約する。
表1:
最初に、試料を、酸素過電圧(OOV)を安定化させるために10kA/m2で2時間の前電解(コンディショニング)に供する。次いで、いくつかのクロノポテンショメトリー工程を試料に適用する。CISEP試験の最終出力は、電解質のインピーダンスによって補正された、10kA/m2で実施された3つの工程の平均である。
図5は、それぞれ反例6(CEx6)の340mVの裸ニッケルアノード、反例5(CEx5)のイリジウム系アノード、ならびに実施例2、3および4(Ex2、Ex3、Ex4)による本発明の電極の比較を要約したものである。本発明のアノードを用いて得られるエネルギー節約(裸ニッケル電極よりも10~60mV低い酸素過電圧OOV)は、高価な貴金属を伴うことなく、コーティングされていないニッケルメッシュのアノード反応の遅い速度によって与えられる高い動作コストの問題を軽減する。
B.2 寿命試験
加速寿命試験(ALT)を使用して、触媒コーティングの寿命を推定した。試験は、2電極構成のビーカーセルでの長期電解と、それらに直接印加される連続電解電流とからなる。適用される条件は、CISEP試験のものと比較してより過酷であり、消費プロセスを加速するために典型的な動作条件を上回る。加速寿命試験で使用した条件を以下の表2に要約する。
表2
加速寿命試験(ALT)を使用して、触媒コーティングの寿命を推定した。試験は、2電極構成のビーカーセルでの長期電解と、それらに直接印加される連続電解電流とからなる。適用される条件は、CISEP試験のものと比較してより過酷であり、消費プロセスを加速するために典型的な動作条件を上回る。加速寿命試験で使用した条件を以下の表2に要約する。
表2
ALTデータを図6に示す。x軸は、試験の期間を日数で示し、y軸は、セル電圧をボルトで示す。データ点41は、2.7V~2.75Vの範囲の安定したセル電圧を示す、反例6によるコーティングされていない裸ニッケル電極の結果を示す。データ点42は、裸ニッケル電極と本質的に同様の挙動を示す、反例7による酸化ニッケル結合剤層のみでコーティングされた電極を示す。データ点43は、実施例2による電極を示し、35日間の動作にわたって2.50Vおよび2.55Vからのセル電圧のわずかな増加を示す。データ点44は、実施例3による電極を示し、70日間の動作にわたって増加/低下なしに2.48mVの低いセル電圧を示すことを示す。最後に、データ点45は、実施例4による電極を示し、これもまた、35日間の動作にわたって2.57Vから2.60Vまでのセル電圧のわずかな増加のみを示す。これらは、本発明の電極の良好なコーティング安定性および寿命を示す。
B.2 寿命試験
シャットダウンに対する耐性は、50サイクルのシャットダウン(S/D)の前および後の酸素過電圧(OOV)を比較することによって測定した。図7は、実施例3(Ex3)および4(Ex4)の電極のOOV値(10kA/m2で測定されたOER過電位値(V vs.RHE))の比較を、それぞれ、50サイクルのシャットダウン(電流反転)の前および後で示す。各実施例の左列は、シャットダウン試験前のOOV値を示し、右列は、50回のシャットダウン後のOVV値を示す。本発明の電極は、シャットダウンに対する良好な耐性を示すことが分かる:実施例3の電極の酸素過電圧は全く増加せず、実施例4の電極は2mVの中程度の増加を示すのみである。
シャットダウンに対する耐性は、50サイクルのシャットダウン(S/D)の前および後の酸素過電圧(OOV)を比較することによって測定した。図7は、実施例3(Ex3)および4(Ex4)の電極のOOV値(10kA/m2で測定されたOER過電位値(V vs.RHE))の比較を、それぞれ、50サイクルのシャットダウン(電流反転)の前および後で示す。各実施例の左列は、シャットダウン試験前のOOV値を示し、右列は、50回のシャットダウン後のOVV値を示す。本発明の電極は、シャットダウンに対する良好な耐性を示すことが分かる:実施例3の電極の酸素過電圧は全く増加せず、実施例4の電極は2mVの中程度の増加を示すのみである。
前述の説明は、本発明を限定することを意図するものではなく、本発明は、その目的から逸脱することなく様々な実施形態に従って使用することができ、その範囲は添付の特許請求の範囲によって一意的に定義される。本出願の説明および特許請求の範囲において、「含む(comprising)」、「含む(including)」および「含有する」という用語は、他の追加の要素、構成要素またはプロセス工程の存在を排除することを意図しない。本発明の文脈を提供することのみを目的として、文書、品目、材料、装置、物品などの説明が本明細書に含まれる。これらのトピックのいずれかまたはすべてが、本出願の各請求項の優先日前に、先行技術の一部を形成したこと、または本発明に関連する分野における共通の一般知識を形成したことは示唆も表示もされていない。
承認:
このプロジェクトは、Marie Sklodowska-Curie助成金契約第722614号-ELCOREL-H2020-MSCA-ITN-2016/H2020-MSCA-ITN-2016の下で、欧州連合のHorizon 2020研究およびイノベーションプログラムから資金供給を受けている。
このプロジェクトは、Marie Sklodowska-Curie助成金契約第722614号-ELCOREL-H2020-MSCA-ITN-2016/H2020-MSCA-ITN-2016の下で、欧州連合のHorizon 2020研究およびイノベーションプログラムから資金供給を受けている。
Claims (15)
- ニッケル系金属基板と、前記基板上に形成されたコーティングとを含む電解プロセスにおけるガス発生のための電極であって、前記コーティングが、ニッケル系金属または金属酸化物結合剤内に分散されたペロブスカイト型構造を示す触媒材料の予備形成された粒子を含む、電極。
- 前記予備形成された触媒材料の前記粒子が、5~1000nmの範囲の粒径を有する、請求項1に記載の電極。
- 前記予備形成された触媒材料の前記粒子が、100~300nmの範囲の平均サイズを有する、請求項2に記載の電極。
- 前記予備形成された触媒材料の前記粒子がABO3の組成を有し、化合物Aが希土類および/またはアルカリ土類カチオンから選択され、化合物Bが遷移金属カチオンまたは複数の遷移金属カチオンの組み合わせから選択される、請求項1から3のいずれか一項に記載の電極。
- 化合物Aが、La、Pr、Ba、Sr、Caまたはそれらの組み合わせから選択され、化合物Bが、Mn、Fe、Co、Ni、Cuまたはそれらの組み合わせから選択される、請求項4に記載の電極。
- 化合物Aが、PryBa1-y、PrySr1-yおよびPryCa1-yからなる群から選択され、0<y<1である、請求項5に記載の電極。
- 前記ニッケル系金属または金属酸化物結合剤が、ニッケルと、マンガンまたはチタンから選択される少なくとも別の遷移とを含む、請求項1から6のいずれか一項に記載の電極。
- 前記コーティングが、6~30g/m2の範囲、好ましくは8~16g/m2の範囲の触媒粒子の負荷量と、6~30g/m2の範囲、好ましくは8~16g/m2の範囲の、金属元素と呼ばれる金属または金属酸化物結合剤の負荷量とを有する、請求項1から7のいずれか一項に記載の電極。
- 前記予備形成された触媒の前記粒子に対する前記金属または金属酸化物結合剤の重量比が、0.2~5の範囲である、請求項1から8のいずれか一項に記載の電極。
- 前記基板がニッケルメッシュである、請求項1から9のいずれか一項に記載の電極。
- 前記電極が酸素発生のためのアノードである、請求項1から12のいずれか一項に記載の電極。
- 請求項1から11のいずれか一項に規定される電極の製造のための方法であって、以下の工程:
a)ペロブスカイト型構造を示す触媒材料の予備形成された粒子をニッケル系金属塩を含む溶液中に分散させて前駆体懸濁液を得る工程;
b)前駆体懸濁液をニッケル系金属基板に塗布して、塗布されたコーティングを得る工程;
c)塗布されたコーティングを80~150℃の範囲の温度で乾燥させる工程;
d)塗布されたコーティングを300~600℃の範囲の温度で焼成する工程;
e)任意選択で、予備形成された粒子および結合剤の所望の特定の負荷量を有するコーティングが得られるまで、工程b)~d)を繰り返す工程;
f)任意選択で、前記コーティングを300~500℃の範囲の温度で熱処理する工程
を含む方法。 - 工程a)の前記溶液が、水、アルコール、好ましくはイソプロパノール、および高分子安定剤を含む、請求項12に記載の方法。
- 工程a)の前記金属塩がハロゲン化金属である、請求項12または13に記載の方法。
- アルカリ水電解のための方法であって、アノードおよびカソードを含む電解セルにアルカリ電解液を供給することと、前記アノードで酸素が発生し、前記カソードで水素が発生するように、前記アノードと前記カソードとの間で前記電解液に電流を流すこととを含み、前記アノードが請求項1から11のいずれか一項に記載の電極である、方法。
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