|
US7061579B2
(en)
|
2003-11-13 |
2006-06-13 |
Asml Netherlands B.V. |
Lithographic apparatus and device manufacturing method
|
|
JP4666908B2
(ja)
*
|
2003-12-12 |
2011-04-06 |
キヤノン株式会社 |
露光装置、計測方法及びデバイス製造方法
|
|
US7375794B2
(en)
*
|
2004-08-04 |
2008-05-20 |
Asml Netherlands B.V. |
Lithographic apparatus and device manufacturing method
|
|
KR20160127160A
(ko)
|
2007-10-09 |
2016-11-02 |
칼 짜이스 에스엠테 게엠베하 |
광학 소자의 온도 제어 장치
|
|
DE102008002403A1
(de)
|
2008-06-12 |
2009-12-17 |
Carl Zeiss Smt Ag |
Verfahren zum Herstellen einer Mehrlagen-Beschichtung, optisches Element und optische Anordnung
|
|
TWI501046B
(zh)
*
|
2010-07-30 |
2015-09-21 |
卡爾蔡司Smt有限公司 |
超紫外線曝光裝置
|
|
KR101529807B1
(ko)
*
|
2011-01-20 |
2015-06-17 |
칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 |
투영 노광 도구를 조작하는 방법
|
|
DE102012216284A1
(de)
|
2011-09-27 |
2013-03-28 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
|
|
DE102013204427A1
(de)
|
2013-03-14 |
2014-09-18 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Anordnung zur thermischen Aktuierung eines Spiegels, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
|
|
DE102013219808A1
(de)
*
|
2013-09-30 |
2015-04-02 |
Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg |
Spiegelblank für EUV Lithographie ohne Ausdehnung unter EUV-Bestrahlung
|
|
DE102013219986A1
(de)
*
|
2013-10-02 |
2015-04-02 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Projektionsbelichtungsverfahren und Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie
|
|
DE102014216631A1
(de)
*
|
2014-08-21 |
2016-02-25 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage, Spiegelmodul hierfür, sowie Verfahren zum Betrieb des Spiegelmoduls
|
|
DE102014223750A1
(de)
*
|
2014-11-20 |
2016-05-25 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Projektionsbelichtungsanlage mit mindestens einem Manipulator
|
|
JP2017538156A
(ja)
*
|
2014-12-02 |
2017-12-21 |
エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. |
リソグラフィ方法及び装置
|
|
US10444643B2
(en)
*
|
2017-03-24 |
2019-10-15 |
Nikon Research Corporation Of America |
Lithographic thermal distortion compensation with the use of machine learning
|
|
DE102017205405A1
(de)
|
2017-03-30 |
2018-10-04 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Spiegel, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
|
|
NL2020353A
(en)
*
|
2017-04-11 |
2018-10-17 |
Asml Netherlands Bv |
Lithographic apparatus
|
|
DE102017207862A1
(de)
|
2017-05-10 |
2017-07-06 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie mit einer Heizlichtquelle und Verfahren zum Heizen einer Komponente der Projektionsbelichtungsanlage
|
|
DE102018208653A1
(de)
|
2018-05-30 |
2019-12-05 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren sowie Vorrichtung zum Bestimmen des Erwärmungszustandes eines Spiegels in einem optischen System
|
|
WO2020002143A1
(en)
*
|
2018-06-25 |
2020-01-02 |
Asml Netherlands B.V. |
Wavefront optimization for tuning scanner based on performance matching
|
|
DE102019202531A1
(de)
*
|
2019-02-25 |
2020-02-20 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches Korrekturelement, Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie mit einem Korrekturelement und Verfahren zur Auslegung eines Korrekturelementes
|
|
DE102019219289A1
(de)
|
2019-12-11 |
2021-06-17 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches System, sowie Heizanordnung und Verfahren zum Heizen eines optischen Elements in einem optischen System
|
|
WO2022008174A1
(en)
*
|
2020-07-09 |
2022-01-13 |
Asml Netherlands B.V. |
Method for adjusting a patterning process
|
|
WO2022008198A1
(en)
*
|
2020-07-09 |
2022-01-13 |
Asml Netherlands B.V. |
Motion control using an artificial neural network
|
|
DE102020209141A1
(de)
|
2020-07-21 |
2022-01-27 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zum Betreiben eines optischen Systems für die Mikrolithographie, sowie optisches System
|
|
EP4193222A1
(en)
|
2020-08-07 |
2023-06-14 |
Carl Zeiss SMT GmbH |
Mirror, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus
|
|
DE102021100995A1
(de)
|
2021-01-19 |
2022-07-21 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren sowie Vorrichtung zum Bestimmen des Erwärmungszustandes eines optischen Elements in einem optischen System
|
|
WO2023241849A1
(de)
*
|
2022-06-14 |
2023-12-21 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zum heizen eines optischen elements sowie optisches system
|