JP2024503214A - 結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシルを得るための方法 - Google Patents
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Abstract
特許請求される本発明は、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシルを得るための方法に関する。更に、特許請求される本発明は、当該方法によって得られる結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシルと、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシルを含む化粧品組成物とに関する。特許請求される本発明の方法によって得られる結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシルは、１～２５０ｐｐｍの範囲のフタル酸ジヘキシルエステル（ＰＳＤＨＥ）含有量を有する。【選択図】なし
Description
特許請求される本発明は、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシルを得るための方法に関する。更に、特許請求される本発明は、当該方法によって得られる結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシルと、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシルを含む化粧品組成物とに関する。
紫外線は、日焼け、光毒性、及び光アレルギー反応、皮膚老化の加速、並びに皮膚がんのリスクの増加など、ヒトの皮膚に有害な影響をもたらす。ヒトの皮膚を紫外線から保護するために、ＵＶフィルター（ＵＶ吸収剤とも呼ばれる）を含む日焼け止め又は化粧品組成物が使用される。
一般に、ＵＶ光は、ＵＶ－Ａ放射（３２０～４００ｎｍ）とＵＶ－Ｂ放射（２８０～３２０ｎｍ）とに分けることができる。２００６年以来、ＥＵ委員会は、すべての日焼け止め又は化粧品組成物が、表示されている日焼け防止指数（ＳＰＦ）の少なくとも３分の１であるＵＶ－Ａ保護指数を有するべきであることを推奨しており、日焼け防止指数とは、主にＵＶ－Ｂ保護を指している。
２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステルは、効果的なＵＶ－Ａフィルターである。それは式（Ｉ）で表される。
２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステル（Ｉ）の調製は、例えば、ＤＥ１００１１３１７、ＥＰ２１５５６６０、及びＷＯ２００３／０９７５７８から知られる。
しかしながら、既知のプロセスから得られる製品には、いくつかの欠点がある。
通常は、２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステル（Ｉ）は、合成プロセスの終了後に溶融物として得られ、そのままの形態で保存される。結晶成長は、室温で約６週間後に溶融物中で起る。使用時に、使用者はパック全体を（Ｉ）の融点を超える温度に加熱して、貯蔵容器から生成物を取り出すことができるようにする必要がある。
生成物は、不純物としてフタル酸ジヘキシルエステル（ＩＩ）（ｐｈｔｈａｌｉｃ ａｃｉｄ ｄｉｈｅｘｙｌ ｅｓｔｅｒ、ＰＳＤＨＥ、フタル酸ジヘキシルとしても知られている）を含有している。この物質は有毒であり、受胎能力を損なう可能性があり、胎児に有害な影響を与え得るため、ＰＳＤＨＥの含有量はできる限り低くするべきである。統一された分類及び表示（ＡＴＰ０５）によると、最終生成物中のＰＳＤＨＥ（ＩＩ）の許容量は最大１５０ｐｐｍである。
更に、既知のプロセスによって得られる生成物は、ローダミンＢ型色素（例えば、［９－（２－カルボキシフェニル）－６－ジエチルアミノ－３－キサンテニリデン］－ジエチルアンモニウム塩）（ＩＩＩ）及び対応するエステル（ＩＶ）を不純物として含有し、それらは最終製品に望ましくない変色をもたらす。
これらの課題により、結晶性２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステル（Ｉ）を得るための迅速かつ効率的な方法、並びに（ＩＩ）の量が少なく、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）の量が少ない結晶（Ｉ）を得ることが、常に求められている。
したがって、本発明の目的は、結晶性２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステル（Ｉ）を得るための方法を提供することにある。更に、フタル酸ジヘキシルエステル（ＩＩ）の量が少ない結晶性２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステル（Ｉ）を得る方法を提供することが目的である。更に、当該方法は、ローダミン系不純物（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）の量が少ない結晶性２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステルを提供することが望ましい。
驚くべきことに、上記の目的のうちの少なくとも１つが、特許請求される本発明による方法によって達成されることが見出される。特許請求される本発明の方法は、ＰＳＤＨＥ（ＩＩ）の含有量が少ない（１～２５０ｐｐｍの範囲）、ローダミン（ＩＩＩ）の含有量が少ない（１～１００ｐｐｍの範囲）、及びローダミンヘキシルエステル（ＩＶ）の含有量が少ない（１～１２０ｐｐｍの範囲）を有する結晶性２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステル（Ｉ）を提供する。
したがって、特許請求される本発明の態様は、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を得るための方法に関し、当該方法は、工程（ａ）～（ｄ）、
（ａ）ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）及び少なくとも１つの結晶化溶媒を含む供給物を提供し、その供給物を加熱して溶液を得る工程であって、
ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）が、
ｉ）５０００～３００００ｐｐｍの範囲のフタル酸ジヘキシルエステル（ＰＳＤＨＥ）（ＩＩ）含有量、
ｉｉ）５００～１００００ｐｐｍの範囲のローダミン（ＩＩＩ）含有量、及び
ｉｉｉ）５００～１００００ｐｐｍの範囲のローダミンヘキシルエステル（ＩＶ）含有量、を有し、各含有量が、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいており、
供給物中にジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の量が、供給物の総重量に基づいて１５．０～６５．０重量％の範囲である、溶液を得る工程と、
（ｂ）溶解したジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の濃度ｃ対ある温度でのジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の平衡溶解度ｃ＊のｃ：ｃ＊の比が、１．１：１．０～９．０：１．０の範囲であるように、工程（ａ）の溶液をある温度まで冷却して、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の過飽和溶液を得る工程と、
（ｃ）工程（ｂ）で得られた過飽和溶液に、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の種結晶を播種し、続いて、種結晶を含む過飽和溶液を１～８時間撹拌する工程であって、
種結晶の量が、溶液中のジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいて、０．１～１５．０重量％の範囲にある、撹拌する工程と、
（ｄ）工程（ｃ）で得られた溶液を、－１０～１５℃の範囲の温度に冷却して、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を含む溶液を得て、続いて、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を分離する工程と、
（ｅ）任意選択的に、工程（ｄ）で得られたジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を、工程（ａ）で使用された少なくとも１つの結晶化溶媒と混合して供給物を得ること、その供給物を加熱して溶液を得ること、続いて、方法工程（ｂ）～（ｄ）を使用すること、を含む、工程（ｄ）で得られたジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を再結晶化させる工程と、を含む。
（ａ）ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）及び少なくとも１つの結晶化溶媒を含む供給物を提供し、その供給物を加熱して溶液を得る工程であって、
ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）が、
ｉ）５０００～３００００ｐｐｍの範囲のフタル酸ジヘキシルエステル（ＰＳＤＨＥ）（ＩＩ）含有量、
ｉｉ）５００～１００００ｐｐｍの範囲のローダミン（ＩＩＩ）含有量、及び
ｉｉｉ）５００～１００００ｐｐｍの範囲のローダミンヘキシルエステル（ＩＶ）含有量、を有し、各含有量が、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいており、
供給物中にジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の量が、供給物の総重量に基づいて１５．０～６５．０重量％の範囲である、溶液を得る工程と、
（ｂ）溶解したジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の濃度ｃ対ある温度でのジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の平衡溶解度ｃ＊のｃ：ｃ＊の比が、１．１：１．０～９．０：１．０の範囲であるように、工程（ａ）の溶液をある温度まで冷却して、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の過飽和溶液を得る工程と、
（ｃ）工程（ｂ）で得られた過飽和溶液に、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の種結晶を播種し、続いて、種結晶を含む過飽和溶液を１～８時間撹拌する工程であって、
種結晶の量が、溶液中のジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいて、０．１～１５．０重量％の範囲にある、撹拌する工程と、
（ｄ）工程（ｃ）で得られた溶液を、－１０～１５℃の範囲の温度に冷却して、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を含む溶液を得て、続いて、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を分離する工程と、
（ｅ）任意選択的に、工程（ｄ）で得られたジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を、工程（ａ）で使用された少なくとも１つの結晶化溶媒と混合して供給物を得ること、その供給物を加熱して溶液を得ること、続いて、方法工程（ｂ）～（ｄ）を使用すること、を含む、工程（ｄ）で得られたジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を再結晶化させる工程と、を含む。
好ましい実施形態では、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を得るための方法は、工程（ａ）～（ｄ）、
（ａ）ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）及び少なくとも１つの結晶化溶媒を含む供給物を提供し、その供給物を加熱して溶液を得る工程であって、
ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）が、
ｉ）５０００～３００００ｐｐｍの範囲のフタル酸ジヘキシルエステル（ＰＳＤＨＥ）（ＩＩ）含有量、
ｉｉ）５００～１００００ｐｐｍの範囲のローダミン（ＩＩＩ）含有量、及び
ｉｉｉ）５００～１００００ｐｐｍの範囲のローダミンヘキシルエステル（ＩＶ）含有量、を有し、各含有量が、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいており、
供給物におけるジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の量が、供給物の総重量に基づいて１５．０～６５．０重量％の範囲である、溶液を得る工程と、
（ｂ）工程（ａ）で得られた溶液を冷却して、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の過飽和溶液を得る工程と、
（ｃ）工程（ｂ）で得られた過飽和溶液に、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の種結晶を播種し、続いて、種結晶を含む過飽和溶液を１～８時間撹拌する工程であって、
種結晶の量が、溶液中のジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいて、０．１～１５．０重量％の範囲にある、撹拌する工程と、
（ｄ）工程（ｃ）で得られた溶液を、－１０～１５℃の範囲の温度に冷却して、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を含む溶液を得て、続いて、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を分離する工程と、
（ｅ）任意選択的に、工程（ｄ）で得られたジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を、工程（ａ）で使用された少なくとも１つの結晶化溶媒と混合して供給物を得ること、その供給物を加熱して溶液を得ること、続いて、方法工程（ｂ）～（ｄ）を使用すること、を含む、工程（ｄ）で得られたジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を再結晶化させる工程と、を含む。
（ａ）ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）及び少なくとも１つの結晶化溶媒を含む供給物を提供し、その供給物を加熱して溶液を得る工程であって、
ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）が、
ｉ）５０００～３００００ｐｐｍの範囲のフタル酸ジヘキシルエステル（ＰＳＤＨＥ）（ＩＩ）含有量、
ｉｉ）５００～１００００ｐｐｍの範囲のローダミン（ＩＩＩ）含有量、及び
ｉｉｉ）５００～１００００ｐｐｍの範囲のローダミンヘキシルエステル（ＩＶ）含有量、を有し、各含有量が、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいており、
供給物におけるジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の量が、供給物の総重量に基づいて１５．０～６５．０重量％の範囲である、溶液を得る工程と、
（ｂ）工程（ａ）で得られた溶液を冷却して、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の過飽和溶液を得る工程と、
（ｃ）工程（ｂ）で得られた過飽和溶液に、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の種結晶を播種し、続いて、種結晶を含む過飽和溶液を１～８時間撹拌する工程であって、
種結晶の量が、溶液中のジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいて、０．１～１５．０重量％の範囲にある、撹拌する工程と、
（ｄ）工程（ｃ）で得られた溶液を、－１０～１５℃の範囲の温度に冷却して、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を含む溶液を得て、続いて、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を分離する工程と、
（ｅ）任意選択的に、工程（ｄ）で得られたジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を、工程（ａ）で使用された少なくとも１つの結晶化溶媒と混合して供給物を得ること、その供給物を加熱して溶液を得ること、続いて、方法工程（ｂ）～（ｄ）を使用すること、を含む、工程（ｄ）で得られたジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を再結晶化させる工程と、を含む。
特許請求される本発明の別の態様は、上記の方法によって得られる結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）に関する。
特許請求される本発明の別の態様は、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいて、１～２５０ｐｐｍ範囲のフタル酸ジヘキシルエステル（ＰＳＤＨＥ）含有量を有する、本請求項に係る発明の方法によって得られる結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）に関する。
結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）は、
ｉ）１～２５０ｐｐｍの範囲のフタル酸ジヘキシルエステル（ＰＳＤＨＥ）含有量、
ｉｉ）１～１００ｐｐｍの範囲のローダミン含有量、及び
ｉｉｉ）１～１２０ｐｐｍの範囲のローダミンヘキシルエステル含有量、を有し、
各含有量は、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいている。
ｉ）１～２５０ｐｐｍの範囲のフタル酸ジヘキシルエステル（ＰＳＤＨＥ）含有量、
ｉｉ）１～１００ｐｐｍの範囲のローダミン含有量、及び
ｉｉｉ）１～１２０ｐｐｍの範囲のローダミンヘキシルエステル含有量、を有し、
各含有量は、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいている。
本明細書に記載される開示は、添付の図において、限定としてではなく、例として図示される。
特許請求される本発明の本組成物及び配合物を説明する前に、本発明は、このような組成物及び配合物が、当然のことながら、変化し得るため、記載された特定の組成物及び配合物に限定されないことを理解されたい。また、本明細書で使用される専門用語は、特許請求される本発明の範囲が添付の特許請求の範囲によってのみ限定されるため、限定を意図するものではないことも理解されたい。
以下、グループが少なくとも特定の数の実施形態を含むと定義される場合、これは、好ましくはこれらの実施形態のみからなるグループも包含することを意味する。さらに、説明及び特許請求の範囲における「第１の」、「第２の」、「第３の」、又は「ａ」、「ｂ」、「ｃ」などの用語及び同様のものは、類似の要素間で区別するために使用され、必ずしも連続的又は時系列の順序を説明するものではない。そのように使用される用語は、適切な状況下で交換可能であり、本明細書に記載される特許請求される本発明の実施形態は、本明細書に記載又は図示されている以外の順序で動作可能であることを理解されたい。方法又は使用又は分析の工程に関連する、「第１の」、「第２の」、「第３の」、又は「（Ａ）」、「（Ｂ）」、及び「（Ｃ）」、若しくは「（ａ）」、「（ｂ）」、「（ｃ）」、「（ｄ）」、「ｉ」、「ｉｉ」などの用語の場合、工程間に時間又は時間間隔の一貫性がなく、つまり、工程は同時に実行されるか、又は本明細書の上記若しくは下記に記載されているように用途内で特に指示されていない限り、かかる工程の間には、秒、分、時間、日、週、月、又は年の時間間隔があり得る。
更に、明細書全体で定義されている範囲は、最終値も含み、すなわち、１～１０の範囲は、１及び１０の両方が、範囲に含まれることを意味する。誤解を避けるために付言すると、出願人は、適用法に従って、任意の等価物を受け取る権利を有するものとする。
以下の節では、特許請求される本発明の様々な態様が、より詳細に定義される。そのように定義された各側面は、反対のことが明確に示されない限り、任意の他の態様又は複数の態様と組み合わせられてもよい。特に、好ましい又は有利であるとして示された任意の特徴は、好ましい又は有利であるとして示された任意の他の特徴又は複数の特徴と組み合わされてもよい。
本明細書全体を通して「一実施形態（ｏｎｅ ｅｍｂｏｄｉｍｅｎｔ）」、又は「一実施形態（ａｎ ｅｍｂｏｄｉｍｅｎｔ）」への参照は、実施形態に関連して説明される特定の特徴、構造、又は特性が、現在特許請求されている本発明の少なくとも１つの実施形態に含まれることを意味する。したがって、本明細書全体を通して様々な箇所での「一実施形態では」又は「実施形態では」といった表現は、必ずしも全てが同じ実施形態を指しているわけではない。
更に、１つ以上の実施形態では、本開示から当業者には明らかであるように、特定の特徴、構造、又は特性は、任意の好適な方式で組み合わせられ得る。更には、本明細書に記載のいくつかの実施形態はいくつかの特徴を含むが、他の実施形態に含まれる他の特徴を含まないとしても、異なる実施形態の特徴の組み合わせは、現在特許請求されている発明の範囲内であることを意図し、当業者によって理解されるように、異なる実施形態を形成する。例えば、添付の特許請求の範囲では、特許請求された実施形態のいずれかを、任意の組み合わせで使用することができる。
驚くべきことに、特許請求される本発明による方法は、低ＰＳＤＨＥ（ＩＩ）含有量並びに低含有量のローダミン系不純物（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する結晶性２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステル（Ｉ）を提供する。特許請求される本発明の方法は、迅速かつ効率的である。
特許請求される本発明の方法は、結晶化溶媒、過飽和度、（Ｉ）の種結晶の量、播種の温度、及び各プロセス工程の温度並びに時間などの適切な結晶化プロセスパラメータを選択することによって、結晶（Ｉ）の品質及び純度を改善し、結晶化に必要な時間を短縮する。
したがって、特許請求される本発明の態様は、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を得るための方法に関し、工程（ａ）～（ｄ）、
（ａ）ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）及び少なくとも１つの結晶化溶媒を含む供給物を提供し、その供給物を加熱して溶液を得る工程であって、
ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）は、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に各々基づいて、
ｉ）５０００～３００００ｐｐｍの範囲のフタル酸ジヘキシルエステル（ＰＳＤＨＥ）（ＩＩ）含有量、
ｉｉ）５００～１００００ｐｐｍの範囲のローダミン（ＩＩＩ）含有量、及び
ｉｉｉ）５００～１００００ｐｐｍの範囲のローダミンヘキシルエステル（ＩＶ）含有量、を有し、
供給物におけるジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の量が、供給物の総重量に基づいて１５．０～６５．０重量％の範囲である、溶液を得る工程と、
（ｂ）溶解したジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の濃度ｃ対ある温度でのジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の平衡溶解度ｃ＊のｃ：ｃ＊の比が、１．１：１．０～９．０：１．０の範囲であるように、工程（ａ）の溶液をある温度まで冷却して、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の過飽和溶液を得る工程と、
（ｃ）工程（ｂ）で得られた過飽和溶液に、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の種結晶を播種し、続いて、種結晶を含む過飽和溶液を１～８時間撹拌する工程であって、
種結晶の量が、溶液中のジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいて、０．１～１５．０重量％の範囲にある、撹拌する工程と、
（ｄ）工程（ｃ）で得られた溶液を、－１０～１５℃の範囲の温度に冷却して、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を含む溶液を得て、続いて、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を分離する工程と、
（ｅ）任意選択的に、工程（ｄ）で得られたジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を、工程（ａ）で使用された少なくとも１つの結晶化溶媒と混合して供給物を得ること、その供給物を加熱して溶液を得ること、続いて、方法工程（ｂ）～（ｄ）を使用すること、を含む、工程（ｄ）で得られたジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を再結晶化させる工程と、を含む。
（ａ）ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）及び少なくとも１つの結晶化溶媒を含む供給物を提供し、その供給物を加熱して溶液を得る工程であって、
ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）は、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に各々基づいて、
ｉ）５０００～３００００ｐｐｍの範囲のフタル酸ジヘキシルエステル（ＰＳＤＨＥ）（ＩＩ）含有量、
ｉｉ）５００～１００００ｐｐｍの範囲のローダミン（ＩＩＩ）含有量、及び
ｉｉｉ）５００～１００００ｐｐｍの範囲のローダミンヘキシルエステル（ＩＶ）含有量、を有し、
供給物におけるジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の量が、供給物の総重量に基づいて１５．０～６５．０重量％の範囲である、溶液を得る工程と、
（ｂ）溶解したジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の濃度ｃ対ある温度でのジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の平衡溶解度ｃ＊のｃ：ｃ＊の比が、１．１：１．０～９．０：１．０の範囲であるように、工程（ａ）の溶液をある温度まで冷却して、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の過飽和溶液を得る工程と、
（ｃ）工程（ｂ）で得られた過飽和溶液に、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の種結晶を播種し、続いて、種結晶を含む過飽和溶液を１～８時間撹拌する工程であって、
種結晶の量が、溶液中のジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいて、０．１～１５．０重量％の範囲にある、撹拌する工程と、
（ｄ）工程（ｃ）で得られた溶液を、－１０～１５℃の範囲の温度に冷却して、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を含む溶液を得て、続いて、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を分離する工程と、
（ｅ）任意選択的に、工程（ｄ）で得られたジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を、工程（ａ）で使用された少なくとも１つの結晶化溶媒と混合して供給物を得ること、その供給物を加熱して溶液を得ること、続いて、方法工程（ｂ）～（ｄ）を使用すること、を含む、工程（ｄ）で得られたジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を再結晶化させる工程と、を含む。
本明細書で使用される「紫外線フィルター」又は「ＵＶフィルター」という用語は、太陽光によって引き起こされるＵＶ放射を吸収及び／又は反射することができる有機又は無機化合物を指す。ＵＶフィルターは、ＵＶ保護曲線に基づいて、ＵＶ－Ａ、ＵＶ－Ｂ、又は広帯域フィルターに分類することができる。本出願の文脈では、広帯域フィルターは、ＵＶ－Ａ保護も提供することから、ＵＶ－Ａフィルターとして挙げることができる。換言すれば、好ましいＵＶ－Ａフィルターには広帯域フィルターも含まれる。
「広帯域」保護（広域スペクトル又は広域保護とも呼ばれる）の定義は、「臨界波長」に基づいている。広帯域をカバーするには、ＵＶ－Ｂ及びＵＶ－Ａ保護を提供する必要がある。米国の要件によると、広域スペクトル保護を実現するには、少なくとも３７０ｎｍの臨界波長が必要である。更に、欧州委員会は、全ての日焼け止め又は化粧品組成物が、表示されている日焼け防止指数（ＳＰＦ）の少なくとも３分の１であるＵＶＡ保護指数を有するべきであることを推奨しており、例えば、日焼け止め組成物が３０のＳＰＦを有する場合、ＵＶＡ保護指数は少なくとも１０でなければならない。
「日焼け止め組成物」又は「日焼け止め」又は「スキンケア製品」という用語は、ＵＶ放射の特定の部分を反射及び／又は吸収する任意の局所製品を指す。したがって、「日焼け止め組成物」という用語は、日焼け止め組成物だけでなく、ＵＶ保護を提供する任意の化粧品組成物も含むと理解されるべきである。「局所製品」という用語は、皮膚に適用される製品を指し、例えば、スプレー、ローション、クリーム、オイル、フォーム、粉末、又はゲルを指す場合がある。本発明によれば、日焼け止め組成物は、１つ以上の活性剤、例えば有機ＵＶフィルター、並びに他の配合成分又は添加剤、例えば乳化剤、皮膚軟化剤、粘度調節剤、安定剤、防腐剤、又は芳香剤を含み得る。
好ましい実施形態では、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を得るための方法は、工程（ａ）～（ｄ）、
（ａ）ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）及び少なくとも１つの結晶化溶媒を含む供給物を提供し、その供給物を加熱して溶液を得る工程であって、
ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）は、
ｉ）５０００～３００００ｐｐｍの範囲のフタル酸ジヘキシルエステル（ＰＳＤＨＥ）（ＩＩ）含有量、
ｉｉ）５００～１００００ｐｐｍの範囲のローダミン（ＩＩＩ）含有量、及び
ｉｉｉ）５００～１００００ｐｐｍの範囲のローダミンヘキシルエステル（ＩＶ）含有量、を有し、各含有量が、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいており、
供給物におけるジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の量が、供給物の総重量に基づいて１５．０～６５．０重量％の範囲である、溶液を得る工程と、
（ｂ）工程（ａ）で得られた溶液を冷却して、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の過飽和溶液を得る工程と、
（ｃ）工程（ｂ）で得られた過飽和溶液に、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の種結晶を播種し、続いて、種結晶を含む過飽和溶液を１～８時間撹拌する工程であって、
種結晶の量が、溶液中のジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいて、０．１～１５．０重量％の範囲にある、撹拌する工程と、
（ｄ）工程（ｃ）で得られた溶液を、－１０～１５℃の範囲の温度に冷却して、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を含む溶液を得て、続いて、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を分離する工程と、
（ｅ）任意選択的に、工程（ｄ）で得られたジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を、工程（ａ）で使用された少なくとも１つの結晶化溶媒と混合して供給物を得ること、その供給物を加熱して溶液を得ること、続いて、方法工程（ｂ）～（ｄ）を使用すること、を含む、工程（ｄ）で得られたジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を再結晶化させる工程と、を含む。
（ａ）ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）及び少なくとも１つの結晶化溶媒を含む供給物を提供し、その供給物を加熱して溶液を得る工程であって、
ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）は、
ｉ）５０００～３００００ｐｐｍの範囲のフタル酸ジヘキシルエステル（ＰＳＤＨＥ）（ＩＩ）含有量、
ｉｉ）５００～１００００ｐｐｍの範囲のローダミン（ＩＩＩ）含有量、及び
ｉｉｉ）５００～１００００ｐｐｍの範囲のローダミンヘキシルエステル（ＩＶ）含有量、を有し、各含有量が、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいており、
供給物におけるジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の量が、供給物の総重量に基づいて１５．０～６５．０重量％の範囲である、溶液を得る工程と、
（ｂ）工程（ａ）で得られた溶液を冷却して、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の過飽和溶液を得る工程と、
（ｃ）工程（ｂ）で得られた過飽和溶液に、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の種結晶を播種し、続いて、種結晶を含む過飽和溶液を１～８時間撹拌する工程であって、
種結晶の量が、溶液中のジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいて、０．１～１５．０重量％の範囲にある、撹拌する工程と、
（ｄ）工程（ｃ）で得られた溶液を、－１０～１５℃の範囲の温度に冷却して、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を含む溶液を得て、続いて、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を分離する工程と、
（ｅ）任意選択的に、工程（ｄ）で得られたジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を、工程（ａ）で使用された少なくとも１つの結晶化溶媒と混合して供給物を得ること、その供給物を加熱して溶液を得ること、続いて、方法工程（ｂ）～（ｄ）を使用すること、を含む、工程（ｄ）で得られたジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を再結晶化させる工程と、を含む。
好ましい実施形態では、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を得るための方法は、再結晶工程を含む。したがって、当該プロセスは、工程（ａ）～（ｅ）、
（ａ）ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）及び少なくとも１つの結晶化溶媒を含む供給物を提供し、その供給物を加熱して溶液を得る工程であって、
ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）は、
ｉ）５０００～３００００ｐｐｍの範囲のフタル酸ジヘキシルエステル（ＰＳＤＨＥ）（ＩＩ）含有量、
ｉｉ）５００～１００００ｐｐｍの範囲のローダミン含有量（ＩＩＩ）、及び
ｉｉｉ）５００～１００００ｐｐｍの範囲のローダミンヘキシルエステル（ＩＶ）含有量、を有し、各含有量が、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいており、
供給物におけるジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の量が、供給物の総重量に基づいて１５．０～６５．０重量％の範囲である、溶液を得る工程と、
（ｂ）溶解したジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の濃度ｃ対ある温度でのジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の平衡溶解度ｃ＊のｃ：ｃ＊の比が、１．１：１．０～９．０：１．０の範囲であるように、工程（ａ）の溶液をある温度まで冷却して、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の過飽和溶液を得る工程と、
（ｃ）工程（ｂ）で得られた過飽和溶液に、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の種結晶を播種し、続いて、種結晶を含む過飽和溶液を１～８時間撹拌する工程であって、
種結晶の量が、溶液中のジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいて、０．１～１５．０重量％の範囲にある、撹拌する工程と、
（ｄ）工程（ｃ）で得られた溶液を、－１０～１５℃の範囲の温度に冷却して、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を含む溶液を得て、続いて、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を分離する工程と、
（ｅ）任意選択的に、工程（ｄ）で得られたジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を、工程（ａ）で使用された少なくとも１つの結晶化溶媒と混合して供給物を得ること、その供給物を加熱して溶液を得ること、続いて、方法工程（ｂ）～（ｄ）を使用すること、を含む、工程（ｄ）で得られたジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を再結晶化させる工程と、を含む。
（ａ）ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）及び少なくとも１つの結晶化溶媒を含む供給物を提供し、その供給物を加熱して溶液を得る工程であって、
ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）は、
ｉ）５０００～３００００ｐｐｍの範囲のフタル酸ジヘキシルエステル（ＰＳＤＨＥ）（ＩＩ）含有量、
ｉｉ）５００～１００００ｐｐｍの範囲のローダミン含有量（ＩＩＩ）、及び
ｉｉｉ）５００～１００００ｐｐｍの範囲のローダミンヘキシルエステル（ＩＶ）含有量、を有し、各含有量が、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいており、
供給物におけるジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の量が、供給物の総重量に基づいて１５．０～６５．０重量％の範囲である、溶液を得る工程と、
（ｂ）溶解したジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の濃度ｃ対ある温度でのジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の平衡溶解度ｃ＊のｃ：ｃ＊の比が、１．１：１．０～９．０：１．０の範囲であるように、工程（ａ）の溶液をある温度まで冷却して、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の過飽和溶液を得る工程と、
（ｃ）工程（ｂ）で得られた過飽和溶液に、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の種結晶を播種し、続いて、種結晶を含む過飽和溶液を１～８時間撹拌する工程であって、
種結晶の量が、溶液中のジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいて、０．１～１５．０重量％の範囲にある、撹拌する工程と、
（ｄ）工程（ｃ）で得られた溶液を、－１０～１５℃の範囲の温度に冷却して、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を含む溶液を得て、続いて、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を分離する工程と、
（ｅ）任意選択的に、工程（ｄ）で得られたジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を、工程（ａ）で使用された少なくとも１つの結晶化溶媒と混合して供給物を得ること、その供給物を加熱して溶液を得ること、続いて、方法工程（ｂ）～（ｄ）を使用すること、を含む、工程（ｄ）で得られたジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を再結晶化させる工程と、を含む。
好ましい実施形態では、結晶化溶媒は、Ｃ４～Ｃ８アルコールからなる群から選択される少なくとも１つである。
好ましい実施形態では、結晶化溶媒は１－ヘキサノールである。
一般に、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の合成の最後の工程は、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸を１－ヘキサノールでエステル化することである。エステル化工程から得られる生成物は、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）と１－ヘキサノールとの混合物を含む。
好ましい実施形態では、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）及び１－ヘキサノールを含むエステル化から得られる生成物は、結晶化のための供給物として直接使用される。
好ましい実施形態では、供給物中の（Ｉ）の量は、供給物の総重量に基づいて、１５．０～６５．０重量％の範囲、より好ましくは２５．０～６０．０重量％の範囲、更により好ましくは３５．０～５０．０重量％の範囲、最も好ましくは、４０．０～５０．０重量％の範囲、及び特に好ましくは４５．０～４９．０重量％の範囲である。
好ましい実施形態では、供給物中の１－ヘキサノールの量は、供給物の総重量に基づいて、３５．０～８５．０重量％の範囲、より好ましくは４０．０～７５．０重量％の範囲、最も好ましくは５０．０～６５．０％の範囲、及び特に好ましくは５０．０～６０．０重量％の範囲である。
供給物には不純物も含有されている。
好ましい実施形態では、供給物中のフタル酸ジヘキシルエステル（ＰＳＤＨＥ）（ＩＩ）の量は、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいて、８０００～２００００ｐｐｍの範囲であり、より好ましくは１２０００～１８０００ｐｐｍの範囲である。
好ましい実施形態では、供給物中のローダミン（ＩＩＩ）の量は、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいて、５００～６０００ｐｐｍの範囲であり、より好ましくは１０００～４０００ｐｐｍの範囲である。
好ましい実施形態では、ローダミンヘキシルエステル（ＩＶ）の量は、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいて、１０００～１００００ｐｐｍの範囲であり、より好ましくは５０００～１００００ｐｐｍの範囲である。
好ましい実施形態では、追加の量の１－ヘキサノールを、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）及び１－ヘキサノールを含むエステル化から得られる生成物と混合して、供給物を得る。必要とされる１－ヘキサノールの量は、工程（ａ）の供給物中で達成される（Ｉ）の濃度に依存する。
好ましい実施形態では、工程（ａ）において、供給物は２５～８０℃の範囲の温度に加熱される。より好ましい実施形態では、工程（ａ）において、供給物は、３５～８０℃の範囲、最も好ましくは３５～６０℃の範囲、及び特に好ましくは３８～６０℃の範囲の温度に加熱される。
好ましい実施形態では、工程（ａ）において、供給物は４８℃に加熱される。
好ましい実施形態では、工程（ａ）において、供給物は４９℃に加熱される。
好ましい実施形態では、工程（ｂ）において、溶液は、１８～３５℃の範囲、より好ましくは１８～３０℃の範囲、及び最も好ましくは１８～２８℃の範囲の温度に冷却される。
好ましい実施形態では、工程（ｂ）において、溶液は２５℃に冷却される。
好ましい実施形態では、工程（ｂ）において、溶液は２６℃に冷却される。
過飽和度
過飽和度（ｃ：ｃ＊）は、特許請求される本発明の結晶化プロセスの重要な態様である。
過飽和度（ｃ：ｃ＊）は、特許請求される本発明の結晶化プロセスの重要な態様である。
好ましい実施形態では、ｃ：ｃ＊の比は、１．１：１．０～９．０：１．０の範囲、より好ましくは１．５：１．０～７．０：１．０の範囲、及び最も好ましくは２．０：１．０～６．０：１．０の範囲である。
好ましい実施形態では、ｃ：ｃ＊の比は３．８：１．０である。
好ましい実施形態では、ｃ：ｃ＊の比は４．０：１．０である。
好ましい実施形態では、ｃ：ｃ＊の比は４．１：１．０である。
播種
（Ｉ）それ自体の結晶化は、液体（Ｉ）の準安定性が高いため、非常に遅い。過飽和溶液の播種は、特許請求される本発明の結晶化中の重要な工程である。播種によって、種結晶がない場合に比べて結晶化が早期に始まる。したがって、特許請求される本発明の全体的なプロセスは、播種の工程を含まないプロセスと比較して、より早く結晶（Ｉ）を提供する。
（Ｉ）それ自体の結晶化は、液体（Ｉ）の準安定性が高いため、非常に遅い。過飽和溶液の播種は、特許請求される本発明の結晶化中の重要な工程である。播種によって、種結晶がない場合に比べて結晶化が早期に始まる。したがって、特許請求される本発明の全体的なプロセスは、播種の工程を含まないプロセスと比較して、より早く結晶（Ｉ）を提供する。
他のプロセスパラメータに加えて、適当な温度で播種を行い、適当な量の（Ｉ）の結晶を使用し、続いて播種温度で撹拌することは、特許請求される本発明の成功にとって重要である。
結晶化中に得られる結晶（Ｉ）の品質は、種結晶の量だけでなく、播種が行われる温度にも依存する。
好ましい実施形態では、工程（ｃ）において、播種は、１８～３５℃の範囲、より好ましくは１８～３０℃の範囲、及び最も好ましくは１８～２８℃の範囲の温度で行われる。
好ましい実施形態では、工程（ｃ）において、播種は２５℃で行われる。
好ましい実施形態では、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の種結晶は、固体結晶塊及び溶媒中の懸濁液から選択される少なくとも１つの形態で、工程（ｃ）において用いられる。
好ましい実施形態では、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の種結晶は、工程（ａ）の結晶化溶媒中の懸濁液の形態で、工程（ｃ）において用いられる。
より好ましい実施形態では、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の種結晶は、１－ヘキサノール中の懸濁液の形態で、工程（ｃ）において用いられる。
好ましい実施形態では、種結晶の量は、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいて、０．１～１５．０重量％の範囲、より好ましくは０．５～１０．０重量％の範囲、更により好ましくは１．０～５．０重量％の範囲、及び最も好ましくは１．５～４．５重量％の範囲である。
好ましい実施形態では、種結晶の量は、溶液中のジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいて、１．５重量％である。
好ましい実施形態では、種結晶の量は、溶液中のジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいて、３．６重量％である。
好ましい実施形態では、播種後、種結晶を含む過飽和溶液は、１～８時間、より好ましくは２～６時間、及び最も好ましくは３～４時間、撹拌される。
好ましい実施形態では、工程（ｄ）は、工程（ｃ）で得られた溶液を、－１０～１５℃、より好ましくは－５～１０℃、及び最も好ましくは０～５℃に冷却することを含む。
好ましい実施形態では、工程（ｄ）において、溶液は０℃に冷却される。
好ましい実施形態では、工程（ｄ）は、工程（ｃ）で得られた溶液を、１～１５℃／時、より好ましくは３～１０℃／時、及び最も好ましくは３～８℃／時の冷却速度で冷却することを含む。
好ましい実施形態では、工程（ｄ）において、溶液は５℃／時の冷却速度で冷却される。
好ましい実施形態では、工程（ｄ）において、溶液は線形的に冷却される。
好ましい実施形態では、工程（ｄ）において、溶液は、区分的線形冷却プロファイルで冷却される。
好ましい実施形態では、工程（ｄ）において、溶液は、冷却速度を増加させながら放物線冷却プロファイルで冷却される。
好ましい実施形態では、工程（ｄ）において、結晶化装置内で相対的に一定の過飽和を維持するために、動的冷却プロファイルで溶液は冷却される。
好ましい実施形態では、工程（ｄ）において、溶液は真空冷却法で冷却される。
好ましい実施形態では、工程（ｄ）において、結晶の分離は、工程（ｄ）において溶液が冷却される温度の±５℃以内に溶液の温度を維持しながら、濾過によって行われる。
好ましい実施形態では、工程（ｄ）は、分離された結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を洗浄溶媒で洗浄する工程を更に含む。
好ましい実施形態では、分離された結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の洗浄は、工程（ｄ）で溶液が冷却される温度の±５℃以内の温度を有する洗浄溶媒を用いて行われる。
好ましい実施形態では、洗浄溶媒は、工程（ａ）で使用される結晶化溶媒、供給物、及び工程（ａ）で使用される溶媒中の飽和溶液（Ｉ）から選択される少なくとも１つである。
好ましい実施形態では、洗浄溶媒は、工程（ａ）で使用される結晶化溶媒である。
好ましい実施形態では、洗浄溶媒は、－５～５℃の範囲の温度に冷却される。
好ましい実施形態では、特許請求される本発明の方法は、以下の工程、すなわち、
ｉ．工程（ｄ）又は工程（ｅ）で得られた結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を、トルエン及びシクロヘキサンから選択される精製溶媒に溶解する工程と、
ｉｉ．工程（ｉ）で得られた溶液を、シリカ及び木炭から選択される吸着剤と接触させる工程と、
ｉｉｉ．工程（ｉｉ）で得られた溶液から溶媒を除去して、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を得る工程と、を更に含む。
ｉ．工程（ｄ）又は工程（ｅ）で得られた結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を、トルエン及びシクロヘキサンから選択される精製溶媒に溶解する工程と、
ｉｉ．工程（ｉ）で得られた溶液を、シリカ及び木炭から選択される吸着剤と接触させる工程と、
ｉｉｉ．工程（ｉｉ）で得られた溶液から溶媒を除去して、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を得る工程と、を更に含む。
好ましい実施形態では、結晶化は、バッフル付き撹拌容器、強制循環結晶化装置、ドラフトチューブ結晶化装置、ドラフトチューブバッフル付き結晶化装置、及びオスロ型結晶化装置から選択される結晶化装置において行われる。
特許請求される本発明の方法は、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を、供給物中の（Ｉ）の合計に基づいて、８５．０～９９．５％、より好ましくは９０．０～９９．０％の収率で提供する。
特許請求される本発明の方法によって得られる結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）は、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいて、１～２５０ｐｐｍの範囲、好ましくは１～２００ｐｐｍの範囲、より好ましくは１～１５０ｐｐｍの範囲、更により好ましくは１～１００ｐｐｍの範囲、更により好ましくは１～５０ｐｐｍの範囲、最も好ましくは１～２５ｐｐｍの範囲、特に好ましくは１～１０ｐｐｍの範囲の、フタル酸ジヘキシルエステル（ＰＳＤＨＥ）（ＩＩ）含有量を有する。
特許請求される本発明の方法は、
ｉ）１～２５０ｐｐｍの範囲のフタル酸ジヘキシルエステル（ＰＳＤＨＥ）（ＩＩ）含有量、
ｉｉ）１～１００ｐｐｍの範囲のローダミン（ＩＩＩ）含有量、及び
ｉｉｉ）１～１２０ｐｐｍの範囲のローダミンヘキシルエステル（ＩＶ）含有量、を有する結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシルを提供し、
各含有量は、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいている。
ｉ）１～２５０ｐｐｍの範囲のフタル酸ジヘキシルエステル（ＰＳＤＨＥ）（ＩＩ）含有量、
ｉｉ）１～１００ｐｐｍの範囲のローダミン（ＩＩＩ）含有量、及び
ｉｉｉ）１～１２０ｐｐｍの範囲のローダミンヘキシルエステル（ＩＶ）含有量、を有する結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシルを提供し、
各含有量は、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいている。
特許請求される本発明の方法によって得られる結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）は、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいて、１～２５０ｐｐｍの範囲、好ましくは１～２００ｐｐｍの範囲、より好ましくは１～１５０ｐｐｍの範囲、更により好ましくは１～１００ｐｐｍの範囲、更により好ましくは１～５０ｐｐｍの範囲、最も好ましくは１～２５ｐｐｍの範囲、特に好ましくは１～１０ｐｐｍの範囲の、フタル酸ジヘキシルエステル（ＰＳＤＨＥ）（ＩＩ）含有量を有する。
得られる結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）は、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいて、１～１００ｐｐｍの範囲、より好ましくは１～８０ｐｐｍの範囲、更により好ましくは１～５０ｐｐｍの範囲、最も好ましくは１～２５ｐｐｍの範囲、及び特に好ましくは１～１０ｐｐｍの範囲のローダミン（ＩＩＩ）含有量を有する。
得られる結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）は、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいて、１～１２０ｐｐｍの範囲、より好ましくは１～１００ｐｐｍの範囲、更により好ましくは１～８０ｐｐｍの範囲、更により好ましくは１～５０ｐｐｍの範囲、最も好ましくは１～２５ｐｐｍの範囲、及び特に好ましくは１～１０ｐｐｍの範囲のローダミンヘキシルエステル（ＩＶ）含有量を有する。
特許請求される本発明のプロセスは、狭い粒度分布を有する結晶性材料を提供する。結晶は均一であり、得られた結晶塊は微粉の量が少ない。
ＷＯ０３０９７５７８のプロセスで得られた（Ｉ）の結晶塊の高解像度写真と、特許請求される本発明のプロセスによって得られたものの高解像度写真とを、それぞれ図２と図３に示す。特許請求される本発明のプロセスによって得られた結晶塊は、均一な結晶及び少量の微粉を示した。
均一な結晶塊は、処方の容易さ、及び製品を含む化粧品組成物のより優れた性能などの様々な利点を提供するため、望ましい。
微粉の量が少ないため、製造中のフィルターの目詰まりの発生率が低く、高い濾過速度で、母液から結晶（Ｉ）を分離することができる。
有利なことに、播種による結晶化の早期開始、及び微粉の量が少ないことによるより速い濾過は、プロセスのためのバッチ時間の短縮をもたらす。そのようなバッチ時間の短縮は、当業において大きな経済的利点となる。
特許請求される本発明の別の態様は、上記の方法によって得られる結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）に関し、
ｉ）１～２５０ｐｐｍの範囲のフタル酸ジヘキシルエステル（ＰＳＤＨＥ）（ＩＩ）含有量、
ｉｉ）１～１００ｐｐｍの範囲のローダミン（ＩＩＩ）含有量、及び
ｉｉｉ）１～１２０ｐｐｍの範囲のローダミンヘキシルエステル（ＩＶ）含有量、を有し、
各含有量は、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいている。
ｉ）１～２５０ｐｐｍの範囲のフタル酸ジヘキシルエステル（ＰＳＤＨＥ）（ＩＩ）含有量、
ｉｉ）１～１００ｐｐｍの範囲のローダミン（ＩＩＩ）含有量、及び
ｉｉｉ）１～１２０ｐｐｍの範囲のローダミンヘキシルエステル（ＩＶ）含有量、を有し、
各含有量は、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいている。
特許請求される本発明の別の態様は、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）及び担体を含む化粧品組成物であって、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）が、
ｉ）１～２５０ｐｐｍの範囲のフタル酸ジヘキシルエステル（ＰＳＤＨＥ）（ＩＩ）含有量、
ｉｉ）１～１００ｐｐｍの範囲のローダミン（ＩＩＩ）含有量、及び
ｉｉｉ）１～１２０ｐｐｍの範囲のローダミンヘキシルエステル（ＩＶ）含有量、を有し、
各含有量が、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいている、化粧品組成物。
ｉ）１～２５０ｐｐｍの範囲のフタル酸ジヘキシルエステル（ＰＳＤＨＥ）（ＩＩ）含有量、
ｉｉ）１～１００ｐｐｍの範囲のローダミン（ＩＩＩ）含有量、及び
ｉｉｉ）１～１２０ｐｐｍの範囲のローダミンヘキシルエステル（ＩＶ）含有量、を有し、
各含有量が、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいている、化粧品組成物。
好ましい実施形態では、化粧品組成物は、添加剤及びアジュバントを更に含む。
好ましい実施形態では、化粧品組成物は、クリーム、ゲル、ローション、アルコール溶液及び水性／アルコール溶液、エマルジョン、ワックス／脂肪組成物、スティック製剤、粉末、又は軟膏の形態であることができる。
好ましい実施形態では、化粧品組成物は、マイルドな界面活性剤、過脂肪剤、真珠光沢ワックス、粘稠度調整剤、増粘剤、ポリマー、シリコーン化合物、脂肪、ワックス、安定剤、生体活性配合成分、脱臭活性配合成分、フケ防止剤、皮膜形成剤、膨潤剤、酸化防止剤、懸濁薬、防腐剤、防虫剤、セルフタンニング剤、可溶化剤、香油、着色剤、細菌抑制剤などから選択されるアジュバント及び添加剤を更に含む。
好ましい実施形態では、特許請求される本発明による化粧品組成物は、アジュバントとして、消泡剤、構造化剤、可溶化剤、乳白剤、錯化剤、噴射剤、カプラー、及び酸化染料前駆体として顕色剤成分、還元剤及び酸化剤を更に含み得る。
好ましい実施形態では、化粧品組成物は、多種多様な化粧品製剤、特に以下の製剤、すなわち、
－スキンケア製剤、例えば、錠剤形態又は液体石鹸、合成洗剤又は洗浄ペーストの形態の皮膚洗浄及びクレンジング製剤、
－入浴製剤、例えば、液体（フォームバス、ミルク、シャワー製剤）又は固形の入浴製剤、例えば、バスキューブ及びバスソルト；
－スキンケア製剤、例えば、スキンエマルジョン、マルチエマルジョン、スキンオイル；
－コスメティックパーソナルケア製剤、例えば、デイクリーム又はパウダークリームの形態のフェイシャルメイクアップ、フェイスパウダー（ルース又はプレスされた）、ルージュ又はクリームメイクアップ、アイケア製剤、例えば、アイシャドウ製剤、マスカラ、アイライナー、アイクリーム又はアイフィックスクリーム；リップケア製剤、例えば、リップスティック、リップグロス、リップ輪郭ペンシル、ネイルケア製剤、例えば、マニキュア液、マニキュア除去剤、ネイルハードナー、又はキューティクル除去剤；
－フットケア製剤、例えば、フットバス、フットパウダー、フットクリーム、又はフットバルサム、特殊な脱臭剤、及び制汗剤、又はカルス除去製剤；
－光防護製剤、例えば、サンミルク、ローション、クリーム又はオイル、日焼け止め又はトロピカル、日焼け前製剤又は日焼け後製剤；
－皮膚日焼け用製剤、例えば、セルフタンニングクリーム；
－脱色製剤、例えば、皮膚を漂白するための製剤又は皮膚ライトニング製剤；
－防虫剤、例えば防虫油、ローション、スプレー又はスティック；
－デオドラント、例えば、デオドラントスプレー、ポンプ式スプレー、デオドラントゲル、スティック、又はロールオン；
－制汗剤、例えば、制汗剤スティック、クリーム又はロールオン；
－傷のある肌をクレンジング及びケアするための製剤、例えば、合成洗剤（固体又は液体）、ピーリング又はスクラブ製剤、又はピーリングマスク；
－化学形態の脱毛製剤（脱毛法）、例えば、脱毛粉末、液体脱毛製剤、クリーム又はペースト形態の脱毛製剤、ゲル形態又はエアゾールフォームの脱毛製剤；
－シェービング製剤、例えば、シェービングソープ、発泡性シェービングクリーム、非発泡性シェービングクリーム、フォーム及びゲル、ドライシェービング用のプレシェーブ製剤、アフターシェーブ又はアフターシェーブローション；
－芳香製剤、例えば、フレグランス（オーデコロン、オードトワレ、オードパルファム、パルファムドトワレ、香水）、香水油又は香水クリーム；
－化粧用ヘアトリートメント製剤、例えばシャンプー及びコンディショナーの形態の洗髪製剤、ヘアケア製剤、例えば、前処理製剤、ヘアトニック、スタイリングクリーム、スタイリングゲル、ポマード、ヘアリンス、トリートメントパック、集中ヘアトリートメント、整髪製剤、例えば、パーマネントウェーブのためのヘアウェーブ製剤（ホットウェーブ、マイルドウェーブ、コールドウェーブ）、縮毛矯正製剤、リキッド整髪製剤、ヘアフォーム、ヘアスプレー、ブリーチング製剤、例えば、過酸化水素水溶液、ライトニングシャンプー、ブリーチングクリーム、ブリーチングパウダー、ブリーチングペースト又はオイル、一時的、半永久的又は永久的なヘアカラー剤、自己酸化染料を含有する製剤、又は天然ヘアカラー剤、例えば、ヘナ若しくはカモミールの中に含有される。
－スキンケア製剤、例えば、錠剤形態又は液体石鹸、合成洗剤又は洗浄ペーストの形態の皮膚洗浄及びクレンジング製剤、
－入浴製剤、例えば、液体（フォームバス、ミルク、シャワー製剤）又は固形の入浴製剤、例えば、バスキューブ及びバスソルト；
－スキンケア製剤、例えば、スキンエマルジョン、マルチエマルジョン、スキンオイル；
－コスメティックパーソナルケア製剤、例えば、デイクリーム又はパウダークリームの形態のフェイシャルメイクアップ、フェイスパウダー（ルース又はプレスされた）、ルージュ又はクリームメイクアップ、アイケア製剤、例えば、アイシャドウ製剤、マスカラ、アイライナー、アイクリーム又はアイフィックスクリーム；リップケア製剤、例えば、リップスティック、リップグロス、リップ輪郭ペンシル、ネイルケア製剤、例えば、マニキュア液、マニキュア除去剤、ネイルハードナー、又はキューティクル除去剤；
－フットケア製剤、例えば、フットバス、フットパウダー、フットクリーム、又はフットバルサム、特殊な脱臭剤、及び制汗剤、又はカルス除去製剤；
－光防護製剤、例えば、サンミルク、ローション、クリーム又はオイル、日焼け止め又はトロピカル、日焼け前製剤又は日焼け後製剤；
－皮膚日焼け用製剤、例えば、セルフタンニングクリーム；
－脱色製剤、例えば、皮膚を漂白するための製剤又は皮膚ライトニング製剤；
－防虫剤、例えば防虫油、ローション、スプレー又はスティック；
－デオドラント、例えば、デオドラントスプレー、ポンプ式スプレー、デオドラントゲル、スティック、又はロールオン；
－制汗剤、例えば、制汗剤スティック、クリーム又はロールオン；
－傷のある肌をクレンジング及びケアするための製剤、例えば、合成洗剤（固体又は液体）、ピーリング又はスクラブ製剤、又はピーリングマスク；
－化学形態の脱毛製剤（脱毛法）、例えば、脱毛粉末、液体脱毛製剤、クリーム又はペースト形態の脱毛製剤、ゲル形態又はエアゾールフォームの脱毛製剤；
－シェービング製剤、例えば、シェービングソープ、発泡性シェービングクリーム、非発泡性シェービングクリーム、フォーム及びゲル、ドライシェービング用のプレシェーブ製剤、アフターシェーブ又はアフターシェーブローション；
－芳香製剤、例えば、フレグランス（オーデコロン、オードトワレ、オードパルファム、パルファムドトワレ、香水）、香水油又は香水クリーム；
－化粧用ヘアトリートメント製剤、例えばシャンプー及びコンディショナーの形態の洗髪製剤、ヘアケア製剤、例えば、前処理製剤、ヘアトニック、スタイリングクリーム、スタイリングゲル、ポマード、ヘアリンス、トリートメントパック、集中ヘアトリートメント、整髪製剤、例えば、パーマネントウェーブのためのヘアウェーブ製剤（ホットウェーブ、マイルドウェーブ、コールドウェーブ）、縮毛矯正製剤、リキッド整髪製剤、ヘアフォーム、ヘアスプレー、ブリーチング製剤、例えば、過酸化水素水溶液、ライトニングシャンプー、ブリーチングクリーム、ブリーチングパウダー、ブリーチングペースト又はオイル、一時的、半永久的又は永久的なヘアカラー剤、自己酸化染料を含有する製剤、又は天然ヘアカラー剤、例えば、ヘナ若しくはカモミールの中に含有される。
特許請求される本発明の更に別の態様は、化粧品組成物におけるＵＶフィルターとしての、特許請求される方法に従って得られた結晶性２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステル（Ｉ）の使用に関する。
特許請求される本発明は、以下の利点のうちの１つ以上を提供する。
１）特許請求される本発明の方法は、高純度で不純物（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、及び（ＩＶ）の量が少ない結晶（Ｉ）を提供する。特許請求される本発明の方法は、１５０ｐｐｍ（ＩＩ）未満の結晶（Ｉ）を提供する。規制要件を考慮すると、（ＩＩ）の量が少ないのは重要である。
２）特許請求される本発明の方法は速い。
３）特許請求される本発明の方法は、（Ｉ）の高収率を提供するので効率的であり、収率は、供給物中の（Ｉ）の合計に対して８５～９９％の範囲である。
４）特許請求される本発明のプロセスによって得られる結晶（Ｉ）は微粉の量が少ない。
１）特許請求される本発明の方法は、高純度で不純物（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、及び（ＩＶ）の量が少ない結晶（Ｉ）を提供する。特許請求される本発明の方法は、１５０ｐｐｍ（ＩＩ）未満の結晶（Ｉ）を提供する。規制要件を考慮すると、（ＩＩ）の量が少ないのは重要である。
２）特許請求される本発明の方法は速い。
３）特許請求される本発明の方法は、（Ｉ）の高収率を提供するので効率的であり、収率は、供給物中の（Ｉ）の合計に対して８５～９９％の範囲である。
４）特許請求される本発明のプロセスによって得られる結晶（Ｉ）は微粉の量が少ない。
以下に、本開示を以下に列挙される特定の実施形態に限定することを意図することなく、本開示を更に例示するための実施形態の列挙が提供される。
１．結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を得るための方法であって、工程（ａ）～（ｄ）、
（ａ）ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）及び少なくとも１つの結晶化溶媒を含む供給物を提供し、その供給物を加熱して溶液を得る工程であって、
ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）は、
ｉ）５０００～３００００ｐｐｍの範囲のフタル酸ジヘキシルエステル（ＰＳＤＨＥ）（ＩＩ）含有量、
ｉｉ）５００～１００００ｐｐｍの範囲のローダミン（ＩＩＩ）含有量、及び
ｉｉｉ）５００～１００００ｐｐｍの範囲のローダミンヘキシルエステル（ＩＶ）含有量、を有し、各含有量が、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいており、
供給物におけるジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の量が、供給物の総重量に基づいて１５．０～６５．０重量％の範囲である、溶液を得る工程と、
（ｂ）溶解したジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の濃度ｃ対ある温度でのジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の平衡溶解度ｃ＊のｃ：ｃ＊の比が、１．１：１．０～９．０：１．０の範囲であるように、工程（ａ）の溶液をある温度まで冷却して、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の過飽和溶液を得る工程と、
（ｃ）工程（ｂ）で得られた過飽和溶液に、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の種結晶を播種し、続いて、種結晶を含む過飽和溶液を１～８時間撹拌する工程であって、
種結晶の量が、溶液中のジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいて、０．１～１５．０重量％の範囲である、撹拌する工程と、
（ｄ）工程（ｃ）で得られた溶液を、－１０～１５℃の範囲の温度に冷却して、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を含む溶液を得て、続いて、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を分離する工程と、
（ｅ）任意選択的に、工程（ｄ）で得られたジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を、工程（ａ）で使用された少なくとも１つの結晶化溶媒と混合して供給物を得ること、その供給物を加熱して溶液を得ること、続いて、方法工程（ｂ）～（ｄ）を用いること、を含む、工程（ｄ）で得られたジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を再結晶化させる工程と、を含む、方法。
（ａ）ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）及び少なくとも１つの結晶化溶媒を含む供給物を提供し、その供給物を加熱して溶液を得る工程であって、
ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）は、
ｉ）５０００～３００００ｐｐｍの範囲のフタル酸ジヘキシルエステル（ＰＳＤＨＥ）（ＩＩ）含有量、
ｉｉ）５００～１００００ｐｐｍの範囲のローダミン（ＩＩＩ）含有量、及び
ｉｉｉ）５００～１００００ｐｐｍの範囲のローダミンヘキシルエステル（ＩＶ）含有量、を有し、各含有量が、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいており、
供給物におけるジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の量が、供給物の総重量に基づいて１５．０～６５．０重量％の範囲である、溶液を得る工程と、
（ｂ）溶解したジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の濃度ｃ対ある温度でのジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の平衡溶解度ｃ＊のｃ：ｃ＊の比が、１．１：１．０～９．０：１．０の範囲であるように、工程（ａ）の溶液をある温度まで冷却して、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の過飽和溶液を得る工程と、
（ｃ）工程（ｂ）で得られた過飽和溶液に、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の種結晶を播種し、続いて、種結晶を含む過飽和溶液を１～８時間撹拌する工程であって、
種結晶の量が、溶液中のジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいて、０．１～１５．０重量％の範囲である、撹拌する工程と、
（ｄ）工程（ｃ）で得られた溶液を、－１０～１５℃の範囲の温度に冷却して、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を含む溶液を得て、続いて、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を分離する工程と、
（ｅ）任意選択的に、工程（ｄ）で得られたジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を、工程（ａ）で使用された少なくとも１つの結晶化溶媒と混合して供給物を得ること、その供給物を加熱して溶液を得ること、続いて、方法工程（ｂ）～（ｄ）を用いること、を含む、工程（ｄ）で得られたジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を再結晶化させる工程と、を含む、方法。
２．結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を得るための方法であって、工程（ａ）～（ｄ）、
（ａ）ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）及び少なくとも１つの結晶化溶媒を含む供給物を提供し、その供給物を加熱して溶液を得る工程であって、
ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）が、
ｉ）５０００～３００００ｐｐｍの範囲のフタル酸ジヘキシルエステル（ＰＳＤＨＥ）（ＩＩ）含有量、
ｉｉ）５００～１００００ｐｐｍの範囲のローダミン（ＩＩＩ）含有量、及び
ｉｉｉ）５００～１００００ｐｐｍの範囲のローダミンヘキシルエステル（ＩＶ）含有量、を有し、各含有量が、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいており、
供給物におけるジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の量が、供給物の総重量に基づいて１５．０～６５．０重量％の範囲である、溶液を得る工程と、
（ｂ）工程（ａ）で得られた溶液を冷却して、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の過飽和溶液を得る工程と、
（ｃ）工程（ｂ）で得られた過飽和溶液に、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の種結晶を播種し、続いて、種結晶を含む過飽和溶液を１～８時間撹拌する工程であって、
種結晶の量が、溶液中のジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいて、０．１～１５．０重量％の範囲である、撹拌する工程と、
（ｄ）工程（ｃ）で得られた溶液を、－１０～１５℃の範囲の温度に冷却して、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を含む溶液を得て、続いて、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を分離する工程と、
（ｅ）任意選択的に、工程（ｄ）で得られたジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を、工程（ａ）で使用された少なくとも１つの結晶化溶媒と混合して供給物を得ること、その供給物を加熱して溶液を得ること、続いて、方法工程（ｂ）～（ｄ）を用いること、を含む、工程（ｄ）で得られたジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を再結晶化させる工程と、を含む、方法。
（ａ）ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）及び少なくとも１つの結晶化溶媒を含む供給物を提供し、その供給物を加熱して溶液を得る工程であって、
ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）が、
ｉ）５０００～３００００ｐｐｍの範囲のフタル酸ジヘキシルエステル（ＰＳＤＨＥ）（ＩＩ）含有量、
ｉｉ）５００～１００００ｐｐｍの範囲のローダミン（ＩＩＩ）含有量、及び
ｉｉｉ）５００～１００００ｐｐｍの範囲のローダミンヘキシルエステル（ＩＶ）含有量、を有し、各含有量が、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいており、
供給物におけるジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の量が、供給物の総重量に基づいて１５．０～６５．０重量％の範囲である、溶液を得る工程と、
（ｂ）工程（ａ）で得られた溶液を冷却して、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の過飽和溶液を得る工程と、
（ｃ）工程（ｂ）で得られた過飽和溶液に、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の種結晶を播種し、続いて、種結晶を含む過飽和溶液を１～８時間撹拌する工程であって、
種結晶の量が、溶液中のジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいて、０．１～１５．０重量％の範囲である、撹拌する工程と、
（ｄ）工程（ｃ）で得られた溶液を、－１０～１５℃の範囲の温度に冷却して、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を含む溶液を得て、続いて、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を分離する工程と、
（ｅ）任意選択的に、工程（ｄ）で得られたジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を、工程（ａ）で使用された少なくとも１つの結晶化溶媒と混合して供給物を得ること、その供給物を加熱して溶液を得ること、続いて、方法工程（ｂ）～（ｄ）を用いること、を含む、工程（ｄ）で得られたジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を再結晶化させる工程と、を含む、方法。
３．結晶化溶媒が、Ｃ４～Ｃ８アルコールからなる群から選択される少なくとも１つである、実施形態１又は２に記載の方法。
４．結晶化溶媒が、１－ヘキサノールである、実施形態１～３のいずれか一つに記載の方法。
５．工程（ａ）において、供給物が、２５～８０℃の範囲の温度に加熱される、実施形態１～４のいずれか一つに記載の方法。
６．工程（ａ）において、供給物が、３５～８０℃の範囲の温度に加熱される、実施形態１～５のいずれか一つに記載の方法。
７．工程（ｂ）において、溶液が、２０～３５℃の範囲の温度に冷却される、実施形態１～６のいずれか一つに記載の方法。
８．工程（ｃ）において、播種が、２０～３５℃の範囲の温度で行われる、請求項１～７のいずれか一つに記載の方法。
９．ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の種結晶が、工程（ｃ）において、固体結晶塊及び溶媒中の懸濁液から選択される少なくとも１つの形態で使用される、実施形態１～８のいずれか一つに記載の方法。
１０．工程（ｄ）において、溶液が、１～１５℃／時の冷却速度で冷却される、実施形態１～９のいずれか一つに記載の方法。
１１．工程（ｄ）において、溶液が、線形的に冷却される、実施形態１～１０のいずれか一つに記載の方法。
１２．工程（ｄ）において、溶液が、区分的線形冷却プロファイルで冷却される、実施形態１～１０のいずれか一つに記載の方法。
１３．工程（ｄ）において、溶液が、冷却速度を増加させながら放物線冷却プロファイルで冷却される、実施形態１～１０のいずれか一つに記載の方法。
１４．工程（ｄ）において、溶液が、結晶化装置において、相対的に一定の過飽和を維持するために動的冷却プロファイルで冷却される、実施形態１～１０のいずれか一つに記載の方法。
１５．工程（ｄ）において、溶液が、真空冷却法で冷却される、実施形態１～１０のいずれか一つに記載の方法。
１６．工程（ｄ）において、結晶の分離が、工程（ｄ）において溶液が冷却される温度の±５℃以内に溶液の温度を維持しながら、濾過によって行われる、実施形態１～１５のいずれか一つに記載の方法。
１７．工程（ｄ）が、分離された結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を洗浄溶媒を用いて洗浄する工程を更に含む、実施形態１～１６のいずれか一つに記載の方法。
１８．分離された結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の洗浄が、工程（ｄ）において溶液が冷却される温度の±５℃以内の温度を有する洗浄溶媒を用いて行われる、実施形態１７に記載の方法。
１９．洗浄溶媒が、工程（ａ）で使用される結晶化溶媒、供給物、及び工程（ａ）で使用される結晶化溶媒中の（Ｉ）の飽和溶液から選択される少なくとも１つである、実施形態１７又は１８に記載の方法。
２０．以下の工程、
ｉ．工程（ｄ）又は工程（ｅ）で得られた結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を、トルエン及びシクロヘキサンから選択される精製溶媒中に溶解させる工程と、
ｉｉ．工程（ｉ）で得られた溶液を、シリカ及び木炭から選択される吸着剤と接触させる工程と、
ｉｉｉ．工程（ｉｉ）で得られた溶液から溶媒を除去して、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を得る工程と、を更に含む、実施形態１～１９のいずれか一つに記載の方法。
ｉ．工程（ｄ）又は工程（ｅ）で得られた結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を、トルエン及びシクロヘキサンから選択される精製溶媒中に溶解させる工程と、
ｉｉ．工程（ｉ）で得られた溶液を、シリカ及び木炭から選択される吸着剤と接触させる工程と、
ｉｉｉ．工程（ｉｉ）で得られた溶液から溶媒を除去して、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を得る工程と、を更に含む、実施形態１～１９のいずれか一つに記載の方法。
２１．結晶化が、バッフル付き撹拌容器、強制循環結晶化装置、ドラフトチューブ結晶化装置、ドラフトチューブバッフル付き結晶化装置、及びオスロ型結晶化装置から選択される結晶化装置において行われる、実施形態１～２０のいずれか一つに記載の方法。
２２．結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）が、
ｉ）１～２５０ｐｐｍの範囲のフタル酸ジヘキシルエステル（ＰＳＤＨＥ）（ＩＩＩ）含有量、
ｉｉ）１～１００ｐｐｍの範囲のローダミン（ＩＩＩ）含有量、及び
ｉｉｉ）１～１２０ｐｐｍの範囲のローダミンヘキシルエステル（ＩＶ）含有量、を有し、
各含有量が、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいている、実施形態１～２１のいずれか一つに記載の方法。
ｉ）１～２５０ｐｐｍの範囲のフタル酸ジヘキシルエステル（ＰＳＤＨＥ）（ＩＩＩ）含有量、
ｉｉ）１～１００ｐｐｍの範囲のローダミン（ＩＩＩ）含有量、及び
ｉｉｉ）１～１２０ｐｐｍの範囲のローダミンヘキシルエステル（ＩＶ）含有量、を有し、
各含有量が、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいている、実施形態１～２１のいずれか一つに記載の方法。
２３．請求項１～２２のいずれか一項に記載の方法によって得られる結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）であって、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいて、１～２５０ｐｐｍの範囲のフタル酸ジヘキシルエステル（ＰＳＤＨＥ）（ＩＩ）含有量を有する、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）。
２４．実施形態１～２２のいずれか一つに記載の方法によって得られる結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）であって、
ｉ）１～２５０ｐｐｍの範囲のフタル酸ジヘキシルエステル（ＰＳＤＨＥ）（ＩＩ）含有量、
ｉｉ）１～１００ｐｐｍの範囲のローダミン（ＩＩＩ）含有量、及び
ｉｉｉ）１～１２０ｐｐｍの範囲のローダミンヘキシルエステル（ＩＶ）含有量、を有し、
各含有量が、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいている、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）。
ｉ）１～２５０ｐｐｍの範囲のフタル酸ジヘキシルエステル（ＰＳＤＨＥ）（ＩＩ）含有量、
ｉｉ）１～１００ｐｐｍの範囲のローダミン（ＩＩＩ）含有量、及び
ｉｉｉ）１～１２０ｐｐｍの範囲のローダミンヘキシルエステル（ＩＶ）含有量、を有し、
各含有量が、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいている、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）。
２５．結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）と担体とを含む化粧品組成物であって、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）が、
ｉ）１～２５０ｐｐｍの範囲のフタル酸ジヘキシルエステル（ＰＳＤＨＥ）（ＩＩ）含有量、
ｉｉ）１～１００ｐｐｍの範囲のローダミン（ＩＩＩ）含有量、及び
ｉｉｉ）１～１２０ｐｐｍの範囲のローダミンヘキシルエステル（ＩＶ）含有量、を有し、
各含有量が、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいている、化粧品組成物。
ｉ）１～２５０ｐｐｍの範囲のフタル酸ジヘキシルエステル（ＰＳＤＨＥ）（ＩＩ）含有量、
ｉｉ）１～１００ｐｐｍの範囲のローダミン（ＩＩＩ）含有量、及び
ｉｉｉ）１～１２０ｐｐｍの範囲のローダミンヘキシルエステル（ＩＶ）含有量、を有し、
各含有量が、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいている、化粧品組成物。
特許請求される本発明がその特定の実施形態に関して記載されてきたが、特定の改変及び同等物は、当業者には明らかであり、特許請求される本発明の範囲内に含まれることが意図されている。
現在特許請求されている発明は、以下の非制限的な実施例によって詳細に説明されている。より詳細には、以下に指定される試験方法は、本出願の一般的な開示の一部であり、特定の実施例に制限されない。
概略
ヘキサノール中の２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステル（Ｉ）は、ＵＳ２００５／０１６５０９９の実施例２に従って調製した。
ヘキサノール中の２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステル（Ｉ）は、ＵＳ２００５／０１６５０９９の実施例２に従って調製した。
当該プロセスから得られた生成物を、実験で説明したように結晶化させた。
方法
２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステル（Ｉ）、フタル酸エステル（ＩＩ）、並びにローダミン型化合物（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）の定量のためのＨＰＬＣ法は、標準的な最先端の方法によって実行した。
２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステル（Ｉ）、フタル酸エステル（ＩＩ）、並びにローダミン型化合物（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）の定量のためのＨＰＬＣ法は、標準的な最先端の方法によって実行した。
フタル酸エステル及び溶媒残留物の定量のためのＧＣ法は、標準的な最先端の方法によって実行した。
キャリブレーションのための分析標準は、標準的な最先端の方法によって実行した。
１－ヘキサノール中の２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステル（Ｉ）の溶解度曲線
異なる温度での１－ヘキサノール中の（Ｉ）の平衡溶解度は、二重ジャケット付き７５０ｍＬ結晶化装置を使用して測定した。結晶化装置中の（Ｉ）と１－ヘキサノールとの混合物を、目標温度まで加熱し、その温度で平衡状態が確立された。フィルターフリットを使用して、固体を含まない母液から試料を抽出した。試料を、（Ｉ）含有量について分析した。
異なる温度での１－ヘキサノール中の（Ｉ）の平衡溶解度は、二重ジャケット付き７５０ｍＬ結晶化装置を使用して測定した。結晶化装置中の（Ｉ）と１－ヘキサノールとの混合物を、目標温度まで加熱し、その温度で平衡状態が確立された。フィルターフリットを使用して、固体を含まない母液から試料を抽出した。試料を、（Ｉ）含有量について分析した。
その結果は、表１に示してあり、図１にプロットされている。
ＷＯ０３０９７５７８による比較例
比較例Ｃ１：ＷＯ０３０９７５７８による結晶化
２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステル（上記参照）に基づいて計算された、１４８４７ｐｐｍのジ－ｎ－ヘキシルフタレート、２７８６ｐｐｍのローダミン、及び６３９７ｐｐｍのローダミンヘキシルエステルに相当する、０．７４重量％のジ－ｎ－ヘキシルフタレート、０．１４重量％のローダミン、及び０．３２重量％のローダミンヘキシルエステルを含有する、ヘキサノール中の４９．０重量％の２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステルを含む供給物６６４．３ｇを、１．６Ｌの反応器に入れた。
比較例Ｃ１：ＷＯ０３０９７５７８による結晶化
２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステル（上記参照）に基づいて計算された、１４８４７ｐｐｍのジ－ｎ－ヘキシルフタレート、２７８６ｐｐｍのローダミン、及び６３９７ｐｐｍのローダミンヘキシルエステルに相当する、０．７４重量％のジ－ｎ－ヘキシルフタレート、０．１４重量％のローダミン、及び０．３２重量％のローダミンヘキシルエステルを含有する、ヘキサノール中の４９．０重量％の２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステルを含む供給物６６４．３ｇを、１．６Ｌの反応器に入れた。
その供給物を４０℃で加熱して溶液を得た。溶液を１．３時間以内に２０℃に冷却して、５．４のａｃ：ｃ＊比を有する過飽和溶液を得た。
２０℃で４時間後、結晶化が始まった。その懸濁液を２０℃で一晩（１２時間）撹拌し、更に４時間以内に０℃に冷却し、０℃で攪拌した。生成物を、濾別し、１８３ｇの予冷した（０℃）１－ヘキサノールの一部で洗浄し、続いて２００ｇの予冷した（０℃）１－ヘキサノールのもう一部で洗浄して、８０．６重量％の２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステルの含有量を有する３７１．５ｇのヘキサノール湿潤２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステルを準備した。
（Ｉ）に基づいて計算された副生成物含有量：１１０ｐｐｍのローダミン、１３１ｐｐｍのローダミンヘキシルエステル、及び２７１ｐｐｍのジ－ｎ－ヘキシルフタレート
比較例Ｃ２：ＷＯ０３０９７５７８による結晶化
２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステルに基づいて計算された、１５５４６ｐｐｍのジ－ｎ－ヘキシルフタレート、１２９８ｐｐｍのローダミン、及び７２９２ｐｐｍのローダミンヘキシルエステルに相当する、０．７１重量％のジ－ｎ－ヘキシルフタレート、０．０６重量％のローダミン、及び０．３３重量％のローダミンヘキシルエステルを含有する、ヘキサノール中の４５．０重量％の２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステルを含む供給物６０５．６ｇを、１．６Ｌの反応器に入れ、その供給物を４０℃で加熱して溶液を得た。
２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステルに基づいて計算された、１５５４６ｐｐｍのジ－ｎ－ヘキシルフタレート、１２９８ｐｐｍのローダミン、及び７２９２ｐｐｍのローダミンヘキシルエステルに相当する、０．７１重量％のジ－ｎ－ヘキシルフタレート、０．０６重量％のローダミン、及び０．３３重量％のローダミンヘキシルエステルを含有する、ヘキサノール中の４５．０重量％の２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステルを含む供給物６０５．６ｇを、１．６Ｌの反応器に入れ、その供給物を４０℃で加熱して溶液を得た。
その溶液を１時間以内に２０℃に冷却して、ｃ：ｃ＊５．０のｃ：ｃ＊比を有する過飽和溶液を得た。
２０℃で３．５時間後に結晶化が始まった。その混合物を２０℃で更に１時間撹拌し、続いて４時間以内に０℃に冷却し、０℃で撹拌した。生成物を、濾別し、１６９ｇの予冷した（０℃）１－ヘキサノールの第１の部分で洗浄し、続いて１８３ｇの予冷した（０℃）１－ヘキサノールの第２の部分で洗浄して、７９．１重量％の２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステルの含有量を有する３１０．９ｇのヘキサノール湿潤２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステルを準備した。
（Ｉ）に基づいて計算された副生成物含有量：７３ｐｐｍのローダミン、１８７ｐｐｍのローダミンヘキシルエステル、及び３４４ｐｐｍのジ－ｎ－ヘキシルフタレート
比較例１及び２のプロセスパラメータ及び結果を、表２に要約する。
本発明による結晶化
実施例Ｐ１：比較例１と同じ出発材料を使用する本発明による結晶化
２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステル（上記参照）に基づいて計算された、１４８４７ｐｐｍのジ－ｎ－ヘキシルフタレート、２７８６ｐｐｍのローダミン、及び６３９７ｐｐｍのローダミンヘキシルエステルに相当する、０．７４重量％のジ－ｎ－ヘキシルフタレート、０．１４重量％のローダミン、及び０．３２重量％のローダミンヘキシルエステルを含有する、ヘキサノール中の４９．０重量％の２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステルを含む供給物５８９．０ｇを、１．６Ｌの反応器に入れ、その供給物を４９℃で加熱して溶液を得た。
実施例Ｐ１：比較例１と同じ出発材料を使用する本発明による結晶化
２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステル（上記参照）に基づいて計算された、１４８４７ｐｐｍのジ－ｎ－ヘキシルフタレート、２７８６ｐｐｍのローダミン、及び６３９７ｐｐｍのローダミンヘキシルエステルに相当する、０．７４重量％のジ－ｎ－ヘキシルフタレート、０．１４重量％のローダミン、及び０．３２重量％のローダミンヘキシルエステルを含有する、ヘキサノール中の４９．０重量％の２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステルを含む供給物５８９．０ｇを、１．６Ｌの反応器に入れ、その供給物を４９℃で加熱して溶液を得た。
その溶液を１．５時間以内に２５℃に冷却して、４．１のｃ：ｃ＊比を有する過飽和溶液を得た。
その過飽和溶液に１２．３ｇ（３．６重量％）の２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステル（８４．３重量％）を播種し、続いて２５℃で３．４時間撹拌した。その懸濁液を、更に、５時間以内に０℃に冷却し、０℃で撹拌した。生成物を、濾別し、１６２ｇの予冷した１－ヘキサノール（０℃）の第１の部分で洗浄し、続いて１７７ｇの予冷した１－ヘキサノール（０℃）の第２の部分で洗浄して、８０．２重量％の２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステル（Ｉ）の含有量を有する３３８ｇのヘキサノール湿潤２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステル（Ｉ）を準備した。
（Ｉ）に基づいて計算された副生成物含有量：６０ｐｐｍのローダミン、６７ｐｐｍのローダミンヘキシルエステル、及び６８ｐｐｍのジ－ｎ－ヘキシルフタレート。
実施例Ｐ２：比較例２と同じ出発材料を使用する本発明による結晶化
２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステル（上記参照）に基づいて計算された、１５５４６ｐｐｍのジ－ｎ－ヘキシルフタレート、１２９８ｐｐｍのローダミン、及び７２９２ｐｐｍのローダミンヘキシルエステルに相当する、０．７１重量％のジ－ｎ－ヘキシルフタレート、０．０６重量％のローダミン、及び０．３３重量％のローダミンヘキシルエステルを含有する、ヘキサノール中の４５．０重量％の２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステルを含む供給物６０１．８ｇを、１．６Ｌの反応器に入れ、その供給物を６０℃で加熱して溶液を得た。
２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステル（上記参照）に基づいて計算された、１５５４６ｐｐｍのジ－ｎ－ヘキシルフタレート、１２９８ｐｐｍのローダミン、及び７２９２ｐｐｍのローダミンヘキシルエステルに相当する、０．７１重量％のジ－ｎ－ヘキシルフタレート、０．０６重量％のローダミン、及び０．３３重量％のローダミンヘキシルエステルを含有する、ヘキサノール中の４５．０重量％の２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステルを含む供給物６０１．８ｇを、１．６Ｌの反応器に入れ、その供給物を６０℃で加熱して溶液を得た。
その溶液を１時間以内に２５℃に冷却して、３．８のｃ：ｃ＊比を有する過飽和溶液を得た。
その過飽和溶液に１１ｇ（３．５重量％）のヘキサノール湿潤２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステル（８６．７重量％）を播種し、続いて２５℃で３．５時間撹拌した。その溶液を、５時間以内に０℃に冷却し、０℃で撹拌した。生成物を、濾別し、１６８ｇの予冷した（０℃）１－ヘキサノールの第１の部分で洗浄し、続いて１８２ｇの予冷した（０℃）１－ヘキサノールの第２の部分で洗浄して、８２．１重量％の２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステルの含有量を有する３０６．４ｇのヘキサノール湿潤２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステルを準備した。
（Ｉ）に基づいて計算された副生成物含有量：３０ｐｐｍのローダミン、１０５ｐｐｍのローダミンヘキシルエステル、及び８２ｐｐｍのジ－ｎ－ヘキシルフタレート
特許請求される本発明のプロセスによって得られる結晶（Ｉ）中の不純物（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、及び（ＩＶ）の量は、比較例によって得られるそれと比較して低いことが明らかである。
特許請求される本発明のプロセスによって得られる結晶（Ｉ）中の不純物（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、及び（ＩＶ）の量は、比較例によって得られるそれと比較して低いことが明らかである。
実施例Ｐ３～Ｐ１１
実施例Ｐ３～Ｐ１１の結晶化に使用された方法は、特許請求される本発明による実施例Ｐ１のための結晶化に使用された方法と同様であった。
実施例Ｐ３～Ｐ１１の結晶化に使用された方法は、特許請求される本発明による実施例Ｐ１のための結晶化に使用された方法と同様であった。
実施例Ｐ１～Ｐ１１のプロセスパラメータ及び結果を、表３に要約する。
結晶化
実施例Ｒ１：Ｃ１から得られた結晶（Ｉ）の再結晶化
２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステル（８０．６重量％）と、１２０ｇのヘキサノールとを含む、Ｃ１から得られた１８０．０ｇのヘキサノール湿潤フィルターケーク（ヘキサノール中の４８．４重量％の２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステル）を、１．６Ｌの反応器に入れ、その供給物を４０℃で加熱して溶液を得た。
実施例Ｒ１：Ｃ１から得られた結晶（Ｉ）の再結晶化
２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステル（８０．６重量％）と、１２０ｇのヘキサノールとを含む、Ｃ１から得られた１８０．０ｇのヘキサノール湿潤フィルターケーク（ヘキサノール中の４８．４重量％の２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステル）を、１．６Ｌの反応器に入れ、その供給物を４０℃で加熱して溶液を得た。
その溶液を１．５時間以内に２５℃に冷却して、４．１のｃ：ｃ＊比を有する過飽和溶液を得た。
その過飽和溶液に６．３ｇ（３．７重量％）の２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステル（８４．３重量％）を播種し、続いて２５℃で３．６時間撹拌した。その懸濁液を、更に、５時間以内に０℃に冷却し、０℃で撹拌した。その懸濁液を、濾過し、８１ｇの予冷した（０℃）１－ヘキサノールの第１の部分及び８９ｇの予冷した（０℃）１－ヘキサノールで洗浄して、７９．０重量％の２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステルの含有量を有する１６６．７ｇのヘキサノール湿潤２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステルを準備した。
（Ｉ）に基づいて計算された副生成物含有量：１４ｐｐｍのローダミン、５ｐｐｍのローダミンヘキシルエステル、及び１２ｐｐｍのジ－ｎ－ヘキシルフタレート
実施例Ｒ２：再結晶化
２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステル（上記参照）に基づいて計算された、４４ｐｐｍのローダミン、１２１ｐｐｍのローダミンヘキシルエステル、及び１６５ｐｐｍのジ－ｎ－ヘキシルフタレートを含有する２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステル（８８．９重量％）と、１７２ｇのヘキサノールとを含む２０１．５ｇのヘキサノール湿潤供給物（ヘキサノール中の４８．０重量％の２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステル）を、１．６Ｌの反応器に入れ、その供給物を４９℃に加熱して溶液を得た。
実施例Ｒ２：再結晶化
２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステル（上記参照）に基づいて計算された、４４ｐｐｍのローダミン、１２１ｐｐｍのローダミンヘキシルエステル、及び１６５ｐｐｍのジ－ｎ－ヘキシルフタレートを含有する２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステル（８８．９重量％）と、１７２ｇのヘキサノールとを含む２０１．５ｇのヘキサノール湿潤供給物（ヘキサノール中の４８．０重量％の２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステル）を、１．６Ｌの反応器に入れ、その供給物を４９℃に加熱して溶液を得た。
その溶液を１．５時間以内に２５℃に冷却して、４．０のｃ：ｃ＊比を有する過飽和溶液を得た。
その過飽和溶液に６．８ｇ（３．２重量％）の２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステル（８４．３重量％）を播種し、続いて２５℃で３．６時間撹拌した。その懸濁液を、更に、５時間以内に０℃に冷却し、０℃で撹拌した。その懸濁液を濾過し、その生成物を、１０５ｇの予冷した（０℃）１－ヘキサノールの第１の部分及び１１５ｇの予冷した（０℃）１－ヘキサノールの第２の部分で洗浄して、８２．５重量％の２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステルの含有量を有する、１８７ｇのヘキサノール湿潤２－（４’－ジエチルアミノ－２’－ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステルを準備した。
１００％の（Ｉ）に基づいて計算された副生成物含有量：４ｐｐｍのローダミン、４ｐｐｍのローダミンヘキシルエステル、及び４．５ｐｐｍのジ－ｎ－ヘキシルフタレート。
実施例Ｒ３及びＲ４
実施例Ｒ３及びＲ４の結晶化に使用された方法は、特許請求される本発明による実施例Ｒ２のための結晶化に使用された方法と同様であった。
実施例Ｒ３及びＲ４の結晶化に使用された方法は、特許請求される本発明による実施例Ｒ２のための結晶化に使用された方法と同様であった。
実施例Ｒ１～Ｒ４のプロセスパラメータ及び結果を、表４に要約する。
Claims (25)
- 結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を得るための方法であって、工程（ａ）～（ｄ）、
（ａ）ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）及び少なくとも１つの結晶化溶媒を含む供給物を提供し、前記供給物を加熱して溶液を得る工程であって、
ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）が、
ｉ）５０００～３００００ｐｐｍの範囲のフタル酸ジヘキシルエステル（ＰＳＤＨＥ）（ＩＩ）含有量、
ｉｉ）５００～１００００ｐｐｍの範囲のローダミン（ＩＩＩ）含有量、及び
ｉｉｉ）５００～１００００ｐｐｍの範囲のローダミンヘキシルエステル（ＩＶ）含有量、を有し、各含有量が、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいており、
前記供給物におけるジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の量が、前記供給物の総重量に基づいて１５．０～６５．０重量％の範囲である、溶液を得る工程と、
（ｂ）溶解したジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の濃度ｃ対ある温度でのジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の平衡溶解度ｃ＊のｃ：ｃ＊の比が、１．１：１．０～９．０：１．０の範囲であるように、工程（ａ）の溶液を前記ある温度まで冷却して、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の過飽和溶液を得る工程と、
（ｃ）工程（ｂ）で得られた前記過飽和溶液に、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の種結晶を播種し、続いて、種結晶を含む前記過飽和溶液を１～８時間撹拌する工程であって、
前記種結晶の量が、前記溶液中のジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいて、０．１～１５．０重量％の範囲である、撹拌する工程と、
（ｄ）工程（ｃ）で得られた前記溶液を、－１０～１５℃の範囲の温度に冷却して、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を含む溶液を得て、続いて、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を分離する工程と、
（ｅ）任意選択的に、工程（ｄ）で得られた前記ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を、工程（ａ）で使用された前記少なくとも１つの結晶化溶媒と混合して供給物を得ること、前記供給物を加熱して溶液を得ること、及び前記方法工程（ｂ）～（ｄ）を使用すること、を含む、工程（ｄ）で得られた前記ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を再結晶化させる工程と、を含む、方法。 - 結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を得るための方法であって、工程（ａ）～（ｄ）、
（ａ）ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）及び少なくとも１つの結晶化溶媒を含む供給物を提供し、前記供給物を加熱して溶液を得る工程であって、
前記ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）が、
ｉ）５０００～３００００ｐｐｍの範囲のフタル酸ジヘキシルエステル（ＰＳＤＨＥ）（ＩＩ）含有量、
ｉｉ）５００～１００００ｐｐｍの範囲のローダミン（ＩＩＩ）含有量、及び
ｉｉｉ）５００～１００００ｐｐｍの範囲のローダミンヘキシルエステル（ＩＶ）含有量、を有し、各含有量が、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいており、
前記供給物におけるジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の量が、前記供給物の総重量に基づいて１５．０～６５．０重量％の範囲である、溶液を得る工程と、
（ｂ）工程（ａ）で得られた前記溶液を冷却して、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の過飽和溶液を得る工程と、
（ｃ）工程（ｂ）で得られた前記過飽和溶液に、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の種結晶を播種し、続いて、種結晶を含む前記過飽和溶液を１～８時間撹拌する工程であって、
前記種結晶の量が、前記溶液中のジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいて、０．１～１５．０重量％の範囲である、撹拌する工程と、
（ｄ）工程（ｃ）で得られた前記溶液を、－１０～１５℃の範囲の温度に冷却して、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を含む溶液を得て、続いて、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を分離する工程と、
（ｅ）任意選択的に、工程（ｄ）で得られた前記ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を、工程（ａ）で使用された前記少なくとも１つの結晶化溶媒と混合して供給物を得ること、前記供給物を加熱して溶液を得ること、及び前記方法工程（ｂ）～（ｄ）を使用すること、を含む、工程（ｄ）で得られた前記ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を再結晶化させる工程と、を含む、方法。 - 前記結晶化溶媒が、Ｃ４～Ｃ８アルコールからなる群から選択される少なくとも１つである、請求項１又は２に記載の方法。
- 前記結晶化溶媒が、１－ヘキサノールである、請求項１～３のいずれか一項に記載の方法。
- 工程（ａ）において、前記供給物が、２５～８０℃の範囲の温度に加熱される、請求項１～４のいずれか一項に記載の方法。
- 工程（ａ）において、前記供給物が、３５～８０℃の範囲の温度に加熱される、請求項１～５のいずれか一項に記載の方法。
- 工程（ｂ）において、前記溶液が、２０～３５℃の範囲の温度に冷却される、請求項１～６のいずれか一項に記載の方法。
- 工程（ｃ）において、前記播種が、２０～３５℃の範囲の温度で行われる、請求項１～７のいずれか一項に記載の方法。
- ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の前記種結晶が、固体結晶塊及び溶媒中の懸濁液から選択される少なくとも１つの形態で、工程（ｃ）において使用される、請求項１～８のいずれか一項に記載の方法。
- 工程（ｄ）において、前記溶液が、１～１５℃／時の冷却速度で冷却される、請求項１～９のいずれか一項に記載の方法。
- 工程（ｄ）において、前記溶液が、線形的に冷却される、請求項１～１０のいずれか一項に記載の方法。
- 工程（ｄ）において、前記溶液が、区分的線形冷却プロファイルで冷却される、請求項１～１０のいずれか一項に記載の方法。
- 工程（ｄ）において、前記溶液が、冷却速度を増加させながら、放物線冷却プロファイルで冷却される、請求項１～１０のいずれか一項に記載の方法。
- 工程（ｄ）において、前記溶液が、前記結晶化装置において、相対的に一定の過飽和を維持するために動的冷却プロファイルで冷却される、請求項１～１０のいずれか一項に記載の方法。
- 工程（ｄ）において、前記溶液が、真空冷却法で冷却される、請求項１～１０のいずれか一項に記載の方法。
- 工程（ｄ）において、前記結晶の分離が、工程（ｄ）において前記溶液が冷却される温度の±５℃以内に前記溶液の温度を維持しながら、濾過によって行われる、請求項１～１５のいずれか一項に記載の方法。
- 工程（ｄ）が、前記分離された結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を洗浄溶媒を用いて洗浄する工程を更に含む、請求項１～１６のいずれか一項に記載の方法。
- 前記分離された結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の前記洗浄が、工程（ｄ）において前記溶液が冷却される温度の±５℃以内の温度を有する洗浄溶媒を用いて行われる、請求項１７に記載の方法。
- 前記洗浄溶媒が、工程（ａ）で使用される前記結晶化溶媒、前記供給物、及び工程（ａ）で使用される前記結晶化溶媒中の（Ｉ）の飽和溶液から選択される少なくとも１つである、請求項１７又は１８に記載の方法。
- 以下の工程、
ｉ．工程（ｄ）又は工程（ｅ）で得られた前記結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を、トルエン及びシクロヘキサンから選択される精製溶媒中に溶解させる工程と、
ｉｉ．工程（ｉ）で得られた前記溶液を、シリカ及び木炭から選択される吸着剤と接触させる工程と、
ｉｉｉ．工程（ｉｉ）で得られた前記溶液から溶媒を除去して、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）を得る工程と、を更に含む、請求項１～１９のいずれか一項に記載の方法。 - 前記結晶化が、バッフル付き撹拌容器、強制循環結晶化装置、ドラフトチューブ結晶化装置、ドラフトチューブバッフル付き結晶化装置、及びオスロ型結晶化装置から選択される結晶化装置において行われる、請求項１～２０のいずれか一項に記載の方法。
- 前記結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）が、
ｉ）１～２５０ｐｐｍの範囲のフタル酸ジヘキシルエステル（ＰＳＤＨＥ）（ＩＩ）含有量、
ｉｉ）１～１００ｐｐｍの範囲のローダミン（ＩＩＩ）含有量、及び
ｉｉｉ）１～１２０ｐｐｍの範囲のローダミンヘキシルエステル（ＩＶ）含有量、を有し、
各含有量が、前記結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいている、請求項１～２１のいずれか一項に記載の方法。 - 請求項１～２２のいずれか一項に記載の方法によって得られる結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）であって、前記結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいて、１～２５０ｐｐｍの範囲のフタル酸ジヘキシルエステル（ＰＳＤＨＥ）含有量を有する、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル。
- 請求項１～２２のいずれか一項に記載の方法によって得られる結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）であって、
ｉ）１～２５０ｐｐｍの範囲のフタル酸ジヘキシルエステル（ＰＳＤＨＥ）（ＩＩ）含有量、
ｉｉ）１～１００ｐｐｍの範囲のローダミン（ＩＩＩ）含有量、及び
ｉｉｉ）１～１２０ｐｐｍの範囲のローダミンヘキシルエステル（ＩＶ）含有量、を有し、
各含有量が、前記結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいている、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）。 - 結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）と担体とを含む化粧品組成物であって、前記結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）が、
ｉ）１～２５０ｐｐｍの範囲のフタル酸ジヘキシルエステル（ＰＳＤＨＥ）（ＩＩ）含有量、
ｉｉ）１～１００ｐｐｍの範囲のローダミン（ＩＩＩ）含有量、及び
ｉｉｉ）１～１２０ｐｐｍの範囲のローダミンヘキシルエステル（ＩＶ）含有量、を有し、
各含有量が、結晶性ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（Ｉ）の重量に基づいている、化粧品組成物。
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