KR20230121829A - 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트를수득하는 방법 - Google Patents
결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트를수득하는 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20230121829A KR20230121829A KR1020237023888A KR20237023888A KR20230121829A KR 20230121829 A KR20230121829 A KR 20230121829A KR 1020237023888 A KR1020237023888 A KR 1020237023888A KR 20237023888 A KR20237023888 A KR 20237023888A KR 20230121829 A KR20230121829 A KR 20230121829A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- hexyl benzoate
- diethylamino hydroxybenzoyl
- hydroxybenzoyl hexyl
- solution
- range
- Prior art date
Links
- FDATWRLUYRHCJE-UHFFFAOYSA-N diethylamino hydroxybenzoyl hexyl benzoate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(CC)CC)C=C1O FDATWRLUYRHCJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 218
- 229960001630 diethylamino hydroxybenzoyl hexyl benzoate Drugs 0.000 title claims abstract description 188
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 125
- KCXZNSGUUQJJTR-UHFFFAOYSA-N Di-n-hexyl phthalate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCC KCXZNSGUUQJJTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 88
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 32
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 claims abstract description 19
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 151
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical group CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 78
- -1 rhodamine hexyl ester Chemical class 0.000 claims description 64
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 56
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 claims description 55
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 claims description 55
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 51
- PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N rhodamine B Chemical compound [Cl-].C=12C=CC(=[N+](CC)CC)C=C2OC2=CC(N(CC)CC)=CC=C2C=1C1=CC=CC=C1C(O)=O PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 41
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 39
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 claims description 32
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 18
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 14
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 11
- 239000000725 suspension Substances 0.000 claims description 11
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 9
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims description 5
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 5
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 claims description 3
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000003610 charcoal Substances 0.000 claims description 3
- 238000000746 purification Methods 0.000 claims description 3
- 239000012047 saturated solution Substances 0.000 claims description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 57
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 36
- UUGLJVMIFJNVFH-UHFFFAOYSA-N Benzoesaeure-n-hexylester Natural products CCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1 UUGLJVMIFJNVFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000000047 product Substances 0.000 description 19
- 239000006071 cream Substances 0.000 description 16
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 11
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 9
- 230000004224 protection Effects 0.000 description 9
- 230000000475 sunscreen effect Effects 0.000 description 9
- 239000000516 sunscreening agent Substances 0.000 description 9
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 7
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 6
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 6
- 239000004904 UV filter Substances 0.000 description 5
- 239000006210 lotion Substances 0.000 description 5
- 239000002304 perfume Substances 0.000 description 5
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 5
- 238000004061 bleaching Methods 0.000 description 4
- 239000002781 deodorant agent Substances 0.000 description 4
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 4
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 4
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 4
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 4
- 239000003205 fragrance Substances 0.000 description 4
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 4
- 230000001166 anti-perspirative effect Effects 0.000 description 3
- 239000003213 antiperspirant Substances 0.000 description 3
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 3
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 3
- 239000000077 insect repellent Substances 0.000 description 3
- 230000037072 sun protection Effects 0.000 description 3
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 3
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 239000002671 adjuvant Substances 0.000 description 2
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 2
- 239000003788 bath preparation Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000007854 depigmenting agent Substances 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 239000003925 fat Substances 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 2
- 239000000118 hair dye Substances 0.000 description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- 239000012452 mother liquor Substances 0.000 description 2
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 2
- 239000002453 shampoo Substances 0.000 description 2
- 239000000344 soap Substances 0.000 description 2
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 2
- 238000010561 standard procedure Methods 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000271 synthetic detergent Substances 0.000 description 2
- 229940025703 topical product Drugs 0.000 description 2
- FQNKTJPBXAZUGC-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(diethylamino)-2-hydroxybenzoyl]benzoic acid Chemical compound OC1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O FQNKTJPBXAZUGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHXXFKGUPZOOFC-UHFFFAOYSA-N 2-benzoyl-4-(diethylamino)-3-hydroxybenzoic acid Chemical compound CCN(CC)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(=O)C=2C=CC=CC=2)=C1O OHXXFKGUPZOOFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 1
- 235000007866 Chamaemelum nobile Nutrition 0.000 description 1
- 208000001840 Dandruff Diseases 0.000 description 1
- 206010020649 Hyperkeratosis Diseases 0.000 description 1
- 244000208060 Lawsonia inermis Species 0.000 description 1
- 244000042664 Matricaria chamomilla Species 0.000 description 1
- 235000007232 Matricaria chamomilla Nutrition 0.000 description 1
- 244000062730 Melissa officinalis Species 0.000 description 1
- 235000010654 Melissa officinalis Nutrition 0.000 description 1
- 208000000453 Skin Neoplasms Diseases 0.000 description 1
- 206010042496 Sunburn Diseases 0.000 description 1
- 230000006750 UV protection Effects 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 1
- 239000000443 aerosol Substances 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 238000003556 assay Methods 0.000 description 1
- 230000000975 bioactive effect Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000002178 crystalline material Substances 0.000 description 1
- 230000001877 deodorizing effect Effects 0.000 description 1
- 230000035614 depigmentation Effects 0.000 description 1
- 230000035617 depilation Effects 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000003974 emollient agent Substances 0.000 description 1
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 230000001815 facial effect Effects 0.000 description 1
- 230000035558 fertility Effects 0.000 description 1
- 239000012065 filter cake Substances 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000008266 hair spray Substances 0.000 description 1
- 230000009931 harmful effect Effects 0.000 description 1
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- 230000003165 hydrotropic effect Effects 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002372 labelling Methods 0.000 description 1
- 239000000865 liniment Substances 0.000 description 1
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 239000008267 milk Substances 0.000 description 1
- 210000004080 milk Anatomy 0.000 description 1
- 235000013336 milk Nutrition 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 239000002674 ointment Substances 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 231100000760 phototoxic Toxicity 0.000 description 1
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical group OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 1
- 239000003380 propellant Substances 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000002437 shaving preparation Substances 0.000 description 1
- 230000009759 skin aging Effects 0.000 description 1
- 201000000849 skin cancer Diseases 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 1
- 235000015961 tonic Nutrition 0.000 description 1
- 230000001256 tonic effect Effects 0.000 description 1
- 229960000716 tonics Drugs 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- 239000004034 viscosity adjusting agent Substances 0.000 description 1
- 230000002087 whitening effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C227/00—Preparation of compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton
- C07C227/38—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
- C07C227/40—Separation; Purification
- C07C227/42—Crystallisation
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/30—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
- A61K8/40—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing nitrogen
- A61K8/41—Amines
- A61K8/411—Aromatic amines, i.e. where the amino group is directly linked to the aromatic nucleus
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C227/00—Preparation of compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton
- C07C227/14—Preparation of compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton from compounds containing already amino and carboxyl groups or derivatives thereof
- C07C227/16—Preparation of compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton from compounds containing already amino and carboxyl groups or derivatives thereof by reactions not involving the amino or carboxyl groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C229/00—Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton
- C07C229/52—Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having amino and carboxyl groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of the same carbon skeleton
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07B—GENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
- C07B2200/00—Indexing scheme relating to specific properties of organic compounds
- C07B2200/13—Crystalline forms, e.g. polymorphs
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Birds (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Public Health (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Cosmetics (AREA)
Abstract
현재 청구된 발명은 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트를 수득하는 방법에 관한 것이다. 또한, 현재 청구된 발명은 방법에 의해 수득된 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 및 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트를 포함하는 화장품 조성물에 관한 것이다. 현재 청구된 발명의 방법에 의해 수득된 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트는 1 내지 250 ppm 범위의 프탈산 디헥실 에스테르(PSDHE) 함량을 갖는다.
Description
현재 청구된 발명은 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트를 수득하는 방법에 관한 것이다. 또한, 현재 청구된 발명은 방법에 의해 수득된 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 및 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트를 포함하는 화장품 조성물에 관한 것이다.
UV 선은 일광 화상, 광독성 및 광 알레르기 반응, 피부 노화의 가속화 및 피부암 위험 증가와 같은 인체 피부에 유해한 영향을 유발한다. UV 선으로부터 인간 피부를 보호하기 위해, 자외선차단제 또는 UV 필터(UV 흡수제로서 또한 지칭됨)를 포함하는 화장품 조성물이 사용된다.
일반적으로, UV선은 UV-A선(320 내지 400 nm)과 UV-B선(280 내지 320 nm)으로 나눌 수 있다. 2006년부터, EU 위원회는 모든 자외선차단제 또는 화장품 조성물에 라벨링된 자외선 차단 지수(SPF)의 1/3 이상인 UV-A 차단 지수를 가져야 한다고 권고하였으며, 여기서 자외선 차단 지수는 주로 UV- B 보호를 지칭한다.
2-(4'-디에틸아미노-2'-하이드록시벤조일)벤조산 헥실에스테르는 효과적인 UV-A 필터이다. 이는 화학식 (I)로 표시된다.
2-(4'-디에틸아미노-2'-하이드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르 (I) 제조법은 예를 들어, DE 10011317, EP2155660 및 WO 2003097578로부터 알려져 있다.
그러나, 알려진 공정으로부터 수득된 생성물은 몇 가지 단점과 연관된다.
일반적으로, 2-(4'-디에틸아미노-2'-하이드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르 (I)는 합성 공정이 완료된 후 용융물로서 수득되고 동일한 형태로 저장된다. 결정 성장은 실온에서 약 6주 후에 용융물에서 발생한다. 사용 시, 사용자는 저장 용기로부터 생성물을 꺼낼 수 있도록 전체 팩을 (I)의 녹는점 초과의 온도까지 가열해야 한다.
생성물은 불순물로서 프탈산 디헥실 에스테르 (II)(PSDHE, 디헥실프탈레이트로서 또한 알려짐)를 함유한다. 이 물질은 독성이 있으므로 PSDHE 함량은 가능한 한 낮아야 하며; 이는 생식력을 손상시킬 수 있으며 태어나지 않은 아이에게 해로운 영향을 미칠 수 있다. 조화 분류 및 라벨링(ATP05)에 따르면, 최종 생성물의 PSDHE(II)의 허용량은 최대 150 ppm이다.
또한, 알려진 공정에 의해 수득된 생성물은 로다민 B형 염료(예컨대, [9-(2-카복시페닐)-6-디에틸아미노-3-크산테닐리덴]-디에틸암모늄 염)(III) 및 상응하는 에스테르 (IV)를 불순물로 함유하여, 최종 생성물의 원하지 않은 변색을 야기한다.
이러한 도전으로 인해, 결정질 2-(4'-디에틸아미노-2'-하이드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르 (I)를 수득하는 것뿐만 아니라 (II)의 적은 양, 및 (III) 및 (IV)의 적은 양을 갖는 결정질 (I)을 수득하기 위한 빠르고 효율적인 방법에 대한 지속적인 요구가 있다.
따라서, 본 발명의 목적은 결정질 2-(4'-디에틸아미노-2'-하이드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르 (I)를 수득하는 방법을 제공하는 것이다. 또한, 프탈산 디헥실 에스테르 (II)의 양이 적은 결정질 2-(4'-디에틸아미노-2'-하이드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르 (I)를 수득하는 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또한, 방법은 적은 양의 로다민계 불순물 (III) 및 (IV)을 갖는 결정질 2-(4'-디에틸아미노-2'-하이드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르를 제공하는 것이 바람직하다.
발명의 요악
놀랍게도, 위의 목적 중 하나 이상이 현재 청구된 발명에 따른 방법에 의해 달성된다는 것이 밝혀졌다. 현재 청구된 발명의 방법은 낮은 PSDHE(II) 함량(1 내지 250 ppm 범위), 낮은 로다민 (III) 함량(1 내지 100 ppm 범위) 및 낮은 로다민 헥실 에스테르 (IV) 함량(1 내지 120 ppm 범위)을 갖는 결정질 2-(4'-디에틸아미노-2'-하이드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르 (I)를 제공한다.
따라서, 현재 청구된 발명의 양태는 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)를 수득하는 방법에 관한 것이며; 방법은 단계 (a) 내지 (d),
(a)
디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I) 및 하나 이상의 결정화 용매를 포함하는 공급물을 제공하고, 공급물을 가열하여 용액을 수득하는 단계이되,
여기서 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)는
i) 5000 내지 30000 ppm 범위의 프탈산 디헥실 에스테르(PSDHE)(II) 함량;
ii) 500 내지 10000 ppm 범위의 로다민(III) 함량; 및
iii) 500 내지 10000 ppm 범위의 로다민 헥실 에스테르 (IV) 함량을 가지며; 각각은 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 중량을 기준으로 하고; 그리고
여기서 공급물 내의 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 양은 공급물의 총 중량을 기준으로 15.0 내지 65.0 wt% 범위인, 단계,
(b)
온도에서 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 평형 용해도 c*에 대한 용해된 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 농도 c의 c:c*의 비가 1.1:1.0 내지 9.0:1.0 범위가 되도록 단계 (a)의 용액을 온도로 냉각시켜, 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 과포화 용액을 수득하는 단계;
(c)
단계 (b)에서 수득된 과포화 용액에 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 씨드 결정을 씨딩한 다음, 씨드 결정을 포함하는 과포화 용액을 1 내지 8시간 동안 교반하는 단계;
여기서 씨딩 결정의 양은 용액 내의 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 중량을 기준으로 0.1 내지 15.0 wt% 범위인, 단계; 및
(d)
단계 (c)에서 수득된 용액을 -10 내지 15℃ 범위의 온도로 냉각시켜, 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)를 포함하는 용액을 수득하는 단계; 이어서 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)를 분리하는 단계; 및
(e)
단계 (d)에서 수득된 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)를 단계 (a)에 사용된 하나 이상의 결정화 용매와 혼합하는 단계를 포함하는 단계 (d)에서 수득된 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)를 임의로 재결정화하여, 공급물을 수득하고, 공급물을 가열하여, 용액을 수득한 다음, 방법의 단계 (b) 내지 (d)를 사용하는, 단계를 포함한다.
바람직한 구현예에서, 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)를 수득하는 방법은 다음의 단계 (a) 내지 (d),
(a)
디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I) 및 하나 이상의 결정화 용매를 포함하는 공급물을 제공하고, 공급물을 가열하여 용액을 수득하는 단계이되,
여기서 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)는
i) 5000 내지 30000 ppm 범위의 프탈산 디헥실 에스테르(PSDHE)(II) 함량;
ii) 500 내지 10000 ppm 범위의 로다민(III) 함량; 및
iii) 500 내지 10000 ppm 범위의 로다민 헥실 에스테르 (IV) 함량을 가지며; 각각은 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 중량을 기준으로 하고; 그리고
여기서 공급물 내의 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 양은 공급물의 총 중량을 기준으로 15.0 내지 65.0 wt% 범위인, 단계;
(b)
단계 (a)에서 수득된 용액을 냉각시켜, 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 과포화 용액을 수득하는 단계;
(c)
단계 (b)에서 수득된 과포화 용액에 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 씨드 결정을 씨딩한 다음, 씨드 결정을 포함하는 과포화 용액을 1 내지 8시간 동안 교반하는 단계이되,
여기서 씨딩 결정의 양은 용액 내의 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 중량을 기준으로 0.1 내지 15.0 wt% 범위인, 단계; 및
(d)
단계 (c)에서 수득된 용액을 -10 내지 15℃ 범위의 온도로 냉각시켜, 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)를 포함하는 용액을 수득하는 단계; 이어서 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)를 분리하는 단계; 및
(e)
단계 (d)에서 수득된 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)를 단계 (a)에 사용된 하나 이상의 결정화 용매와 혼합하는 단계를 포함하는 단계 (d)에서 수득된 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)를 임의로 재결정화하여, 공급물을 수득하고, 공급물을 가열하여, 용액을 수득한 다음, 방법의 단계 (b) 내지 (d)를 사용하는, 단계를 포함한다.
현재 청구된 발명의 다른 양태는 위에 기재된 방법에 의해 수득된 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)에 관한 것이다.
현재 청구된 발명의 다른 양태는 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 중량을 기준으로, 1 내지 250 ppm 범위의 프탈산 디헥실 에스테르(PSDHE) 함량을 갖는, 현재 청구된 발명의 방법에 의해 수득된 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)에 관한 것이다..
결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)는
i) 1 내지 250 ppm 범위의 프탈산 디헥실 에스테르(PSDHE) 함량;
ii) 1 내지 100 ppm 범위의 로다민 함량; 및
iii) 1 내지 120 ppm 범위의 로다민 헥실 에스테르 함량을 가지며;
각각 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 중량을 기준으로 한다.
본원에 기재된 개시내용은 첨부된 도면에서 제한으로서가 아닌 예로서 예시된다.
도 1은 상이한 온도에서 1-헥산올 내의 (I)의 평형 용해도와 관련된 그래프이다.
도 2는 비교예 1의 공정에 의해 수득된 결정 (I)의 고-해상도 사진이다.
도 3은 본 발명의 공정에 의해 수득된 결정 (I)의 고-해상도 사진이다(실시예 1).
도 1은 상이한 온도에서 1-헥산올 내의 (I)의 평형 용해도와 관련된 그래프이다.
도 2는 비교예 1의 공정에 의해 수득된 결정 (I)의 고-해상도 사진이다.
도 3은 본 발명의 공정에 의해 수득된 결정 (I)의 고-해상도 사진이다(실시예 1).
본원에 청구된 발명의 본 조성물 및 제형을 기재하기 전에, 이러한 조성물 및 제형은 물론 다양할 수 있기 때문에, 본 발명이 기재된 특정 조성물 및 제형으로 제한되는 것이 아님을 이해해야 한다. 또한, 본원에서 청구되는 발명의 범위는 첨부된 청구 범위에 의해서만 제한될 것이기 때문에, 본원에서 사용되는 용어는 제한하려는 의도가 아님을 이해해야 한다.
이하에서, 그룹이 적어도 특정한 수의 실시형태를 포함하도록 정의되는 경우, 이는 바람직하게는 단지 이들 실시형태로만 구성된 그룹도 또한 포함한다는 것을 의미한다. 또한, 상세한 설명 및 청구범위에서 '제1', '제2', '제3' 또는 'a', 'b', 'c' 등의 용어는 유사한 요소들을 구별하기 위해 사용되는 것으로, 반드시 순차적 또는 시계열의 순서로 기술하려는 것이 아니다. 이렇게 사용되는 용어는 적절한 상황에서 상호 교환가능하며, 본원에서 기술되는 본원에서 청구되는 발명의 실시형태는 본원에서 기술되거나 예시된 것과 다른 순서로 작동할 수 있는 것으로 이해되어야 한다. '제1', '제2', '제3' 또는 '(A)', '(B)' 및 '(C)' 또는 '(a)', '(b)', '(c)', '(d)', 'i', 'ii' 등이 방법 또는 사용 또는 검정의 단계와 관련되는 경우, 위의 또는 하기에서 본원에 제시된 바와 같은 출원에서 달리 명시되지 않는 한, 이러한 단계 사이에는 시간 또는 시간 간격 일관성은 없으며, 즉, 이러한 단계는 동시에 수행될 수 있거나, 또는 이러한 단계 사이에는 초, 분, 시간, 일, 주, 월 또는 심지어 년 단위의 시간 간격이 있을 수 있다.
또한, 본 명세서 전반에 걸쳐 정의된 범위는 또한 종말 값을 또한 포함하고, 즉 1 내지 10의 범위는 1 및 10 둘 모두가 범위에 포함된다는 것을 의미한다. 의심의 여지를 없애기 위해, 본 출원인은 관련 법률에 따라 임의의 등가물을 소유할 권리가 있다.
이하, 본원에서 청구되는 발명의 다른 양태들이 더 상세하게 정의된다. 이렇게 정의되는 각각의 양태는 명백하게 달리 명시되지 않는 한은 임의의 다른 양태 또는 양태들과 조합될 수 있다. 특히, 바람직하거나 유리한 것으로 표시된 임의의 특징은 바람직하거나 유리한 것으로 표시된 임의의 다른 특징 또는 특징들과 조합될 수 있다.
본 명세서 전반에 걸쳐 '하나의 구현예' 또는 '구현예'에 대한 언급은 구현예와 관련하여 기재되는 특정 특징, 구조 또는 특성이 현재 청구된 발명의 하나 이상의 구현예에 포함된다는 것을 의미한다. 따라서, 본 명세서 전반에 걸친 여러 곳에서 "일 구현예에서" 또는 "구현예에서"라는 어구는 반드시 모두 동일한 구현예를 지칭하는 것은 아니다.
또한, 특정 특징, 구조 또는 특성은 하나 이상의 구현예에서 본 개시내용으로부터 당업자에게 명백할 것인 바와 같이 임의의 적합한 방식으로 조합될 수 있다. 추가로, 본원에 기재된 일부 실시형태는 다른 실시형태에 포함된 다른 특징이 아닌 일부를 포함하지만, 당업자에 의해 이해될 수 있는 바와 같이, 상이한 실시형태의 특징의 조합은 본 발명의 범위 내에 있고, 상이한 실시형태를 형성한다. 예를 들어, 첨부된 청구범위에서, 청구된 구현예 중 임의의 것이 임의의 조합으로 사용될 수 있다.
놀랍게도, 현재 청구된 발명에 따른 방법이 낮은 PSDHE(II) 함량뿐만 아니라 낮은 함량의 로다민계 불순물 (III) 및 (IV)를 갖는 결정질 2-(4'-디에틸아미노-2'-하이드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르 (I)를 제공한다는 것이 밝혀졌다. 현재 청구된 발명의 방법은 빠르고 효율적이다.
현재 청구된 발명의 방법은 결정화 용매, 과포화도, (I)의 씨드 결정의 양, 씨딩의 온도 및 각각의 공정 단계의 시간뿐만 아니라 온도와 같은 적절한 결정화 공정 매개변수를 선택하여 결정질 (I)의 품질 및 순도를 개선하고 결정화에 필요한 시간을 감소시킨다.
따라서, 현재 청구된 발명의 양태는 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)를 수득하는 방법에 관한 것이며, 방법은 단계 (a) 내지 (d),
(a)
디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I) 및 하나 이상의 결정화 용매를 포함하는 공급물을 제공하고, 공급물을 가열하여 용액을 수득하는 단계이되,
여기서 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)는
i) 5000 내지 30000 ppm 범위의 프탈산 디헥실 에스테르(PSDHE)(II) 함량;
ii) 500 내지 10000 ppm 범위의 로다민(III) 함량; 및
iii) 500 내지 10000 ppm 범위의 로다민 헥실 에스테르 (IV) 함량을 가지며; 각각은 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 중량을 기준으로 하고; 그리고
여기서 공급물 내의 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 양은 공급물의 총 중량을 기준으로 15.0 내지 65.0 wt% 범위인, 단계,
(b)
온도에서 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 평형 용해도 c*에 대한 용해된 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 농도 c의 c:c*의 비가 1.1:1.0 내지 9.0:1.0 범위가 되도록 단계 (a)의 용액을 온도로 냉각시켜, 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 과포화 용액을 수득하는 단계;
(c)
단계 (b)에서 수득된 과포화 용액에 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 씨드 결정을 씨딩한 다음, 씨드 결정을 포함하는 과포화 용액을 1 내지 8시간 동안 교반하는 단계이되,
여기서 씨딩 결정의 양은 용액 내의 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 중량을 기준으로 0.1 내지 15.0 wt% 범위인, 단계; 및
(d)
단계 (c)에서 수득된 용액을 -10 내지 15℃ 범위의 온도로 냉각시켜, 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)를 포함하는 용액을 수득하는 단계; 이어서 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)를 분리하는 단계; 및
(e)
단계 (d)에서 수득된 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)를 단계 (a)에 사용된 하나 이상의 결정화 용매와 혼합하는 단계를 포함하는 단계 (d)에서 수득된 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)를 임의로 재결정화하여, 공급물을 수득하고, 공급물을 가열하여, 용액을 수득한 다음, 방법의 단계 (b) 내지 (d)를 사용하는, 단계를 포함한다.
본원에 사용된 바와 같은 용어 "자외선 필터" 또는 "UV 필터"는 햇빛에 의해 유발되는 UV 선을 흡수 및/또는 반사할 수 있는 유기 또는 무기 화합물을 지칭한다. UV 필터는 UV 차단 곡선에 따라 UV-A, UV-B 또는 광대역 필터로 분류될 수 있다. 본 출원의 맥락에서, 광대역 필터는 UV-A 보호도 제공하기 때문에 UV-A 필터로서 나열될 수 있다. 즉, 바람직한 UV-A 필터는 광대역 필터를 또한 포함한다.
"광대역" 보호(광범위한 스펙트럼 또는 광역 보호로서 또한 지칭됨)의 정의는 "임계 파장"을 기반으로 한다. 광대역 커버리지를 위해, UV-B 및 UV-A 보호가 제공되어야 한다. 미국 요구사항에 따르면, 광범위한 스펙트럼 보호를 달성하려면 370 nm이상의 임계 파장이 필요하다. 또한, 모든 자외선차단제 또는 화장품 조성물은 라벨링된 자외선 차단 지수(SPF)의 1/3 이상인 UVA 차단 지수를 가져야 한다고 유럽 위원회(European Commission)에서 권장하며, 예컨대, 자외선차단제 조성물이 30의 SPF를 갖는 경우, UVA 보호 지수는 10 이상이어야 한다.
용어 "자외선차단제 조성물" 또는 "자외선차단제" 또는 "스킨-케어 제품"은 UV 선의 특정 부분을 반사 및/또는 흡수하는 임의의 국소 제품을 지칭한다. 따라서, 용어 "자외선차단제 조성물"은 자외선차단제 조성물뿐만 아니라 UV 보호를 제공하는 임의의 화장품 조성물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 용어 "국소 제품"은 피부에 적용되는 제품을 지칭하며, 예컨대, 스프레이, 로션, 크림, 오일, 폼, 분말 또는 겔을 지칭할 수 있다. 본 발명에 따르면 자외선차단제 조성물은 하나 이상의 활성제, 예컨대, 유기 UV 필터뿐만 아니라 다른 성분 또는 첨가제, 예컨대, 유화제, 연화제, 점도 조절제, 안정화제, 보존제 또는 방향제를 포함할 수 있다.
바람직한 구현예에서, 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)를 수득하는 방법은 다음의 단계 (a) 내지 (d),
(a)
디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I) 및 하나 이상의 결정화 용매를 포함하는 공급물을 제공하고, 공급물을 가열하여 용액을 수득하는 단계이되,
여기서 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)는
i) 5000 내지 30000 ppm 범위의 프탈산 디헥실 에스테르(PSDHE)(II) 함량;
ii) 500 내지 10000 ppm 범위의 로다민(III) 함량; 및
iii) 500 내지 10000 ppm 범위의 로다민 헥실 에스테르 (IV) 함량을 가지며; 각각은 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 중량을 기준으로 하고; 그리고
여기서 공급물 내의 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 양은 공급물의 총 중량을 기준으로 15.0 내지 65.0 wt% 범위인, 단계;
(b)
단계 (a)에서 수득된 용액을 냉각시켜, 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 과포화 용액을 수득하는 단계;
(c)
단계 (b)에서 수득된 과포화 용액에 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 씨드 결정을 씨딩한 다음, 씨드 결정을 포함하는 과포화 용액을 1 내지 8시간 동안 교반하는 단계이되,
여기서 씨딩 결정의 양은 용액 내의 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 중량을 기준으로 0.1 내지 15.0 wt% 범위인, 단계; 및
(d)
단계 (c)에서 수득된 용액을 -10 내지 15℃ 범위의 온도로 냉각시켜, 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)를 포함하는 용액을 수득하는 단계; 이어서 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)를 분리하는 단계; 및
(e)
단계 (d)에서 수득된 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)를 단계 (a)에 사용된 하나 이상의 결정화 용매와 혼합하는 단계를 포함하는 단계 (d)에서 수득된 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)를 임의로 재결정화하여, 공급물을 수득하고, 공급물을 가열하여, 용액을 수득한 다음, 방법의 단계 (b) 내지 (d)를 사용하는, 단계를 포함한다.
바람직한 구현예에서, 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)를 수득하는 방법은 재결정화 단계를 포함한다. 따라서, 공정은 단계 (a) 내지 (e),
(a)
디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I) 및 하나 이상의 결정화 용매를 포함하는 공급물을 제공하고, 공급물을 가열하여 용액을 수득하는 단계이되,
여기서 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)는
i) 5000 내지 30000 ppm 범위의 프탈산 디헥실 에스테르(PSDHE)(II) 함량;
ii) 500 내지 10000 ppm 범위의 로다민(III) 함량; 및
iii) 500 내지 10000 ppm 범위의 로다민 헥실 에스테르 (IV) 함량을 가지며; 각각은 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 중량을 기준으로 하고; 그리고
여기서 공급물 내의 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 양은 공급물의 총 중량을 기준으로 15.0 내지 65.0 wt% 범위인, 단계,
(b)
온도에서 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 평형 용해도 c*에 대한 용해된 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 농도 c의 c:c*의 비가 1.1:1.0 내지 9.0:1.0 범위가 되도록 단계 (a)의 용액을 온도로 냉각시켜, 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 과포화 용액을 수득하는 단계;
(c)
단계 (b)에서 수득된 과포화 용액에 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 씨드 결정을 씨딩한 다음, 씨드 결정을 포함하는 과포화 용액을 1 내지 8시간 동안 교반하는 단계이되,
여기서 씨딩 결정의 양은 용액 내의 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 중량을 기준으로 0.1 내지 15.0 wt% 범위인, 단계; 및
(d)
단계 (c)에서 수득된 용액을 -10 내지 15℃ 범위의 온도로 냉각시켜, 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)를 포함하는 용액을 수득하는 단계; 이어서 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)를 분리하는 단계; 및
(e)
단계 (d)에서 수득된 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)를 단계 (a)에 사용된 하나 이상의 결정화 용매와 혼합하는 단계를 포함하는 단계 (d)에서 수득된 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)를 재결정화하여, 공급물을 수득하고, 공급물을 가열하여, 용액을 수득한 다음, 방법의 단계 (b) 내지 (d)를 사용하는, 단계를 포함한다.
바람직한 구현예에서, 결정화 용매는 C4-C8 알콜로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상이다.
바람직한 구현예에서, 결정화 용매는 1-헥산올이다.
일반적으로, 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I) 합성의 마지막 단계는 디에틸아미노 하이드록시벤조일 벤조산과 1-헥산올의 에스테르화이다. 에스테르화 단계로부터 수득된 생성물은 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)와 1-헥산올의 혼합물을 포함한다.
바람직한 구현예에서, 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I) 및 1-헥산올을 포함하는 에스테르화로부터 수득된 생성물은 결정화를 위한 공급물로서 직접 사용된다.
바람직한 구현예에서, 공급물 내의 (I)의 양은 공급물의 총 중량을 기준으로, 15.0 및 65.0 wt% 범위, 보다 바람직하게는 25.0 내지 60.0 wt% 범위, 보다 더 바람직하게는 35.0 내지 50.0 wt% 범위, 가장 바람직하게는 40.0 내지 50.0 wt% 범위, 및 특히 바람직하게는 45.0 내지 49.0 wt% 범위이다.
바람직한 구현예에서, 공급물 내의 1-헥산올의 양은 공급물의 총 중량을 기준으로, 35.0 내지 85.0 wt% 범위, 보다 바람직하게는 40.0 내지 75.0 wt% 범위, 가장 바람직하게는 50.0 내지 65.0 wt% 범위, 및 특히 바람직하게는 50.0 내지 60.0 wt% 범위이다.
공급물은 불순물을 또한 함유한다.
바람직한 구현예에서, 공급물 내의 프탈산 디헥실 에스테르(PSDHE)(II)의 양은 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 중량을 기준으로, 8000 내지 20000 ppm 범위, 및 보다 바람직하게는 12000 내지 18000 ppm 범위이다.
바람직한 구현예에서, 공급물 내의 로다민 (III)의 양은 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 중량을 기준으로, 500 내지 6000 ppm 범위, 및 보다 바람직하게는 1000 내지 4000 ppm 범위이다.
바람직한 구현예에서, 로다민 헥실 에스테르 (IV)의 양은 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트(I)의 중량을 기준으로, 1000 내지 10000 ppm 범위, 및 보다 바람직하게는 5000 내지 10000 ppm 범위이다.
바람직한 구현예에서, 추가량의 1-헥산올은 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I) 및 1-헥산올을 포함하는 에스테르화로부터 수득된 생성물과 혼합되어, 공급물을 수득한다. 필요한 1-헥산올의 양은 단계 (a)의 공급물에서 달성되는 (I)의 농도에 따라 다르다.
바람직한 구현예에서, 단계 (a)에서 공급물은 25 내지 80℃ 범위의 온도까지 가열된다. 더 바람직한 구현예에서, 단계 (a)에서 공급물은 35 내지 80℃ 범위, 가장 바람직하게는 35 내지 60℃ 범위, 및 특히 바람직하게는 38 내지 60℃ 범위의 온도까지 가열된다.
바람직한 구현예에서, 단계 (a)에서 공급물은 48℃까지 가열된다.
바람직한 구현예에서, 단계 (a)에서 공급물은 49℃까지 가열된다.
바람직한 구현예에서, 단계 (b)에서 용액은 18 내지 35℃ 범위, 보다 바람직하게는 18 내지 30℃ 범위 및 가장 바람직하게는 18 내지 28℃ 범위의 온도까지 냉각된다.
바람직한 구현예에서, 단계 (b)에서 용액은 25℃까지 냉각된다.
바람직한 구현예에서, 단계 (b)에서 용액은 26℃까지 냉각된다.
과포화도
과포화도(c:c*)는 현재 청구된 발명의 결정화 공정의 중요한 양태이다.
바람직한 구현예에서, c:c*의 비율은 1.1:1.0 내지 9.0:1.0 범위, 보다 바람직하게는 1.5:1.0 내지 7.0:1.0 범위, 및 가장 바람직하게는 2.0:1.0 내지 6.0:1.0 범위이다.
바람직한 구현예에서, c:c*의 비율은 3.8:1.0이다.
바람직한 구현예에서, c:c*의 비율은 4.0:1.0이다.
바람직한 구현예에서, c:c*의 비율은 4.1:1.0이다.
씨딩
(I) 자체의 결정화는 액체 (I)의 준안정성 특성이 높기 때문에 매우 느리다. 과포화 용액의 씨딩은 현재 청구된 발명의 결정화 동안 중요한 단계이다. 씨딩으로 인해, 씨드 결정이 없는 경우에 비해 결정화가 일찍 시작된다. 따라서, 현재 청구된 발명의 전체 공정은 씨딩 단계를 포함하지 않는 공정에 비해 더 빠르게 결정질 (I)을 제공한다.
다른 공정 매개변수에 더하여, 적절한 온도에서 씨딩을 수행하고 적절한 양의 (I)의 결정을 사용한 다음, 씨딩 온도에서 교반하는 것이 현재 청구된 발명의 성공에 중요하다.
결정화 동안 수득된 결정 (I)의 품질은 씨딩이 수행되는 온도뿐만 아니라 씨드 결정의 양에 따라 달라진다.
바람직한 구현예에서, 단계 (c)에서 씨딩은 18 내지 35℃ 범위, 보다 바람직하게는 18 내지 30℃ 범위 및 가장 바람직하게는 18 내지 28℃ 범위의 온도에서 수행된다.
바람직한 구현예에서, 단계 (c)에서 씨딩은 25℃에서 수행된다.
바람직한 구현예에서, 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 씨드 결정은 고체 결정질 덩어리 및 용매 내의 현탁액으로부터 선택되는 하나 이상의 형태로 단계 (c)에서 사용된다.
바람직한 구현예에서, 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트(I)의 씨드 결정은 단계 (a)에서 결정화 용매 내의 현탁액 형태로 단계 (c)에서 사용된다.
보다 바람직한 구현예에서, 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 씨드 결정은 1-헥산올 내의 현탁액 형태로 단계 (c)에서 사용된다.
바람직한 구현예에서, 씨드 결정의 양은 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 중량을 기준으로, 0.1 내지 15.0 wt% 범위, 보다 바람직하게는 0.5 내지 10.0 wt% 범위, 보다 더 바람직하게는 1.0 내지 5.0 wt% 범위, 및 가장 바람직하게는 1.5 내지 4.5 wt% 범위이다.
바람직한 구현예에서, 씨드 결정의 양은 용액 내의 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 중량을 기준으로 1.5 wt%이다.
바람직한 구현예에서, 씨드 결정의 양은 용액 내의 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 중량을 기준으로 3.6 wt%이다.
바람직한 구현예에서, 씨딩 후, 씨드 결정을 포함하는 과포화 용액은 1 내지 8시간 동안, 보다 바람직하게는 2 내지 6시간 동안, 및 가장 바람직하게는 3 내지 4시간 동안 교반된다.
바람직한 구현예에서, 단계 (d)는 단계 (c)에서 수득된 용액을 -10 내지 15℃; 보다 바람직하게는 -5 내지 10℃, 및 가장 바람직하게는 0 내지 5℃로 냉각시키는 단계를 포함한다.
바람직한 구현예에서, 단계 (d)에서 용액은 0℃까지 냉각된다.
바람직한 구현예에서, 단계 (d)는 단계 (c)에서 수득된 용액을 1 내지 15℃/h 보다 바람직하게는 3 내지 10℃/h 및 가장 바람직하게는 3 내지 8℃/h의 냉각 속도로 냉각시키는 단계를 포함한다.
바람직한 구현예에서, 단계 (d)에서 용액은 5℃/h의 냉각 속도로 냉각된다.
바람직한 구현예에서, 단계 (d)에서 용액은 선형 방식으로 냉각된다.
바람직한 구현예에서, 단계 (d)에서 용액은 조각별 선형 냉각 프로파일로 냉각된다.
바람직한 구현예에서, 단계(d)에서 용액은 증가하는 냉각 속도와 함께 포물선형 냉각 프로파일로 냉각된다.
바람직한 구현예에서, 단계 (d)에서 용액은 결정화기에서 상대적으로 일정한 과포화를 유지하기 위해 동적 냉각 프로파일로 냉각된다.
바람직한 구현예에서, 단계 (d)에서 용액은 진공 냉각 방법으로 냉각된다.
바람직한 구현예에서, 단계 (d)에서 결정의 분리는 용액의 온도를 용액이 단계 (d)에서 냉각되는 온도의 ±5℃ 이내로 유지하면서 여과에 의해 수행된다.
바람직한 구현예에서, 단계 (d)는 분리된 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)를 세척 용매로 세척하는 단계를 추가로 포함한다.
바람직한 구현예에서, 분리된 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 세척은 단계 (d)에서 용액이 냉각되는 온도의 ±5℃ 이내의 온도를 갖는 세척 용매로 수행된다.
바람직한 구현예에서, 세척 용매는 단계 (a)에 사용된 결정화 용매, 공급물 및 단계 (a)에 사용된 용매 내의 (I)의 포화 용액으로부터 선택되는 하나 이상이다.
바람직한 구현예에서, 세척 용매는 단계 (a)에서 사용되는 결정화 용매이다.
바람직한 구현예에서, 세척 용매는 -5 내지 5℃ 범위의 온도까지 냉각된다.
바람직한 구현예에서, 현재 청구된 발명의 방법은 다음의 단계를 추가로 포함한다:
i.
단계 (d) 또는 단계 (e)에서 수득된 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)를 톨루엔 및 사이클로헥산으로부터 선택된 정제 용매에 용해시키는 단계;
ii.
단계 (i)에서 수득된 용액을 실리카 및 목탄으로부터 선택된 흡착제와 접촉시키는 단계; 및
iii.
단계 (ii)에서 수득된 용액으로부터 용매를 제거하여, 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)를 수득하는 단계.
바람직한 구현예에서, 결정화는 배플이 있는 교반 용기, 강제 순환 결정화기, 드래프트 튜브 결정화기, 드래프트 튜브 배플드 결정화기 및 오슬로형 결정화기로부터 선택된 결정화기에서 수행된다.
현재 청구된 발명의 방법은 공급물 내의 (I)의 총량을 기준으로 85.0 내지 99.5%, 보다 바람직하게는 90.0 내지 99.0%의 수율로 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)를 제공한다.
현재 청구된 발명의 방법에 의해 수득된 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)는 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 중량을 기준으로, 1 내지 250 ppm 범위, 바람직하게는 1 내지 200 ppm 범위, 보다 바람직하게는 1 내지 150 ppm 범위, 보다 더 바람직하게는 1 내지 100 ppm 범위, 보다 더 바람직하게는 1 내지 50 ppm 범위, 가장 바람직하게는 1 내지 25 ppm 범위, 및 특히 바람직하게는 1 내지 10 ppm 범위의 프탈산 디헥실 에스테르(PSDHE)(II) 함량을 갖는다.
현재 청구된 발명의 방법은
i) 1 내지 250 ppm 범위의 프탈산 디헥실 에스테르(PSDHE)(II) 함량;
ii) 1 내지 100 ppm 범위의 로다민 (III) 함량; 및
iii) 1 내지 120 ppm 범위의 로다민 헥실 에스테르 (IV) 함량을 갖는 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)를 제공하며;
각각 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 중량을 기준으로 한다.
현재 청구된 발명의 방법에 의해 수득된 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)는 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 중량을 기준으로, 1 내지 250 ppm 범위, 바람직하게는 1 내지 200 ppm 범위, 보다 바람직하게는 1 내지 150 ppm 범위, 보다 더 바람직하게는 1 내지 100 ppm 범위, 보다 더 바람직하게는 1 내지 50 ppm 범위, 가장 바람직하게는 1 내지 25 ppm 범위, 및 특히 바람직하게는 1 내지 10 ppm 범위의 프탈산 디헥실 에스테르(PSDHE)(II) 함량을 갖는다.
수득된 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)는 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 중량을 기준으로, 1 내지 100 ppm 범위, 보다 바람직하게는 1 내지 80 ppm 범위, 보다 더 바람직하게는 1 내지 50 ppm 범위, 가장 바람직하게는 1 내지 25 ppm 범위, 및 특히 바람직하게는 1 내지 10 ppm 범위의 로다민 (III) 함량을 갖는다.
수득된 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)는 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 중량을 기준으로, 1 내지 120 ppm 범위, 보다 바람직하게는 1 내지 100 ppm 범위, 보다 더 바람직하게는 1 내지 80 ppm 범위, 보다 더 바람직하게는 1 내지 50 ppm 범위, 가장 바람직하게는 1 내지 25 ppm 범위, 및 특히 바람직하게는 1 내지 10 ppm 범위의 로다민 헥실 에스테르 (IV) 함량을 갖는다.
현재 청구된 발명의 공정은 좁은 크기 분포를 갖는 결정질 물질을 제공한다. 결정은 균일하고, 수득된 결정질 덩어리는 적은 양의 미립자를 갖는다.
WO 03097578의 공정으로 수득된 (I)의 결정질 덩어리 및 현재 청구된 발명의공정에의해 수득된 것의 고 해상도 사진을 각각 도 2 및 도 3에 나타내었다. 현재 청구된 발명의 공정에 의해 수득된 결정질 덩어리는 균일한 결정 및 적은 양의 미립자를 나타낸다.
생성물을 포함하는 화장품 조성물의 제형화 용이성 및 더 나은 성능과 같은 다양한 이점을 제공하기 때문에 균일한 결정 덩어리가 요구된다.
미립자의 양이 적기 때문에, 제조 동안 필터 막힘 발생률이 낮고 높은 여과율로 모액으로부터 결정질 (I)을 분리할 수 있다.
유리하게는, 씨딩으로 인한 결정화의 조기 시작과 더 적은 양의 미립자로 인한 더 빠른 여과로 인해 공정의 배치 시간이 감소된다. 이러한 배치 시간 감소는 업계에서 유의한 경제적 이점으로 이어진다.
현재 청구된 발명의 다른 양태는
i) 1 내지 250 ppm 범위의 프탈산 디헥실 에스테르(PSDHE)(II) 함량;
ii) 1 내지 100 ppm 범위의 로다민 (III) 함량; 및
iii) 1 내지 120 ppm 범위의 로다민 헥실 에스테르 (IV) 함량을 갖는, 위에 기재된 바와 같은 방법에 의해 수득된 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)에 관한 것이며;
각각 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 중량을 기준으로 한다.
현재 청구된 발명의 다른 양태는 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I) 및 담체를 포함하는 화장품 조성물에 관한 것이며, 여기서 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)는
i) 1 내지 250 ppm 범위의 프탈산 디헥실 에스테르(PSDHE)(II) 함량;
ii) 1 내지 100 ppm 범위의 로다민 (III) 함량; 및
iii) 1 내지 120 ppm 범위의 로다민 헥실 에스테르(IV) 함량을 가지며,
각각 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 중량을 기준으로 한다.
바람직한 구현예에서, 화장품 조성물은 첨가제 및 보조제를 추가로 포함한다.
바람직한 구현예에서, 화장품 조성물은 크림, 겔, 로션, 알콜성 및 수성/알콜성 용액, 에멀젼, 왁스/지방 조성물, 스틱 제제, 분말 또는 연고의 형태일 수 있다.
바람직한 구현예에서, 화장품 조성물은 순한 계면활성제, 과지방제, 진주 광택 왁스, 농도 조절제, 증점제, 중합체, 실리콘 화합물, 지방, 왁스, 안정화제(stabiliser), 생체 활성 성분, 탈취 활성 성분, 항-비듬제, 필름 형성제, 팽윤제, 산화방지제, 하이드로트로픽제, 보존제, 방충제, 셀프-태닝제, 가용화제, 향유, 착색제 및 박테리아-억제제 등으로부터 선택된 보조제 및 첨가제를 추가로 포함한다.
바람직한 구현예에서, 현재 청구된 발명에 따른 화장품 조성물은 보조제, 소포제, 구조화제, 가용화제, 불투명화제, 착화제, 추진제, 커플러 및 산화 염료 전구체로서의 현상제 구성요소, 환원제 및 산화제를 추가로 포함할 수 있다.
바람직한 구현예에서, 화장품 조성물은 매우 다양한 화장품 제제, 특히 다음의 제제에 함유된다:
-
스킨-케어 제제, 예컨대, 정제-형태 또는 액체 비누의 형태의 피부-세척 및 세정 제제, 합성 세제 또는 세척 페이스트,
-
목욕 제제, 예컨대, 액체(거품 목욕제, 밀크, 샤워 제제) 또는 고체 목욕 제제, 예컨대, 목욕 큐브 및 목욕 소금;
-
스킨-케어 제제, 예컨대, 스킨 에멀젼, 멀티-에멀젼 또는 스킨 오일;
-
화장품 퍼스널 케어 제제, 예컨대, 데이 크림 또는 분말 크림의 형태의 페이셜 메이크업, 페이스 분말(낱개의 또는 압축된), 루즈 또는 크림 메이크업, 아이-케어 제제, 예컨대, 아이섀도우 제제, 마스카라, 아이라이너, 눈 크림 또는 아이-픽스 크림; 립-케어 제제, 예컨대, 립스틱, 립글로스, 립 컨투어 펜슬, 네일-케어 제제, 예컨대, 네일 광택제, 네일 광택제 제거제, 네일 경화제 또는 큐티클 제거제;
-
풋-케어 제제, 예컨대, 족욕제, 풋 분말, 풋 크림 또는 풋 발삼, 특수 데오도란트 및 발한 억제제 또는 굳은살-제거 제제;
-
광-보호 제제, 예컨대, 선밀크, 로션, 크림 또는 오일, 선블록 또는 열대 제품, 태닝-전 제제 또는 선탠-후 제제;
-
피부-태닝 제제, 예컨대, 셀프-태닝 크림;
-
탈색 제제, 예컨대, 피부 표백용 제제 또는 피부-미백 제제;
-
방충제, 예컨대, 방충제 오일, 로션, 스프레이 또는 스틱;
-
데오도란트, 예컨대, 데오도란트 스프레이, 펌프-액션 스프레이, 데오도란트 겔, 스틱 또는 롤-온;
-
발한 억제제, 예컨대, 발한 억제제 스틱, 크림 또는 롤-온;
-
잡티 피부를 위한 클렌징 및 케어용 제제, 예컨대, 합성 세제(고체 또는 액체), 필링 또는 스크럽 제제 또는 필링 마스크;
-
화학적 형태의 제모(hair-removal) 제제(제모(depilation)), 예컨대, 제모 분말, 액체 제모 제제, 크림- 또는 페이스트-형태의 제모 제제, 겔 형태 또는 에어로졸 폼의 제모 제제;
-
면도 제제, 예컨대, 면도 비누, 포밍 셰이빙 크림, 비-포밍 셰이빙 크림, 폼 및 겔, 건식 면도용 프리셰이브 제제, 애프터셰이브 또는 애프터셰이브 로션;
-
향료 제제, 예컨대, 방향제(오 드 쾰른, 오 드 뚜왈렛, 오 드 퍼퓸, 퍼퓸 드 뚜왈렛, 퍼퓸), 퍼퓸 오일 또는 퍼퓸 크림;
-
화장품 헤어-트리트먼트 제제, 예컨대, 샴푸 및 컨디셔너의 형태의 헤어-세척 제제, 헤어-케어 제제, 예컨대, 전-처리 제제, 헤어 토닉, 스타일링 크림, 스타일링 겔, 포마드, 헤어 린스, 트리트먼트 팩, 인텐시브 헤어 트리트먼트, 헤어-구조화 제제, 예컨대, 퍼머넌트 웨이브용 헤어-웨이브 제제(핫 웨이브, 마일드 웨이브, 콜드 웨이브), 헤어-스트레이트닝 제제, 액상 헤어-세팅 제제, 헤어 폼, 헤어스프레이, 탈색 제제, 예컨대, 과산화수소 용액, 미백제 샴푸, 탈색 크림, 탈색 분말, 탈색 페이스트 또는 오일, 일시적, 반-영구적 또는 영구적인 모발 착색제, 자가-산화 염료를 함유한 제제 또는 헤나 또는 카모마일과 같은 천연 모발 착색제.
현재 청구된 발명의 또 다른 양태는 화장품 조성물에서 UV 필터로서 청구된 공정에 따라 수득된 결정질 2-(4'-디에틸아미노-2'-하이드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르 (I)의 용도에 관한 것이다.
현재 청구된 발명은 다음의 이점 중 하나 이상을 제공한다:
1) 현재 청구된 발명의 방법은 순도가 높고 불순물 (II), (III) 및 (IV)의 양이 적은 결정질 (I)을 제공한다. 현재 청구된 발명의 방법은 150 ppm (II) 미만을 갖는 결정질 (I)을 제공한다. 적은 양의 (II)는 규제 요구사항과 관련이 있다.
2) 현재 청구된 발명의 방법이 빠르다.
3) 현재 청구된 발명의 방법은 (I)의 높은 수율; 공급물 내의 (I)의 합계를 기준으로 85 내지 99% 범위를 제공하므로 효율적이다.
4) 현재 청구된 발명의 공정에 의해 수득된 결정질 (I)은 적은 양의 미립자를 갖는다.
다음에서, 본 개시내용을 하기에 나열된 특이적 구현예로 제한하려는 의도 없이 본 개시내용을 추가로 예시하기 위한 구현예의 목록이 제공된다.
1.
결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)를 수득하는 방법으로서, 단계 (a) 내지 (d),
(a)
디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I) 및 하나 이상의 결정화 용매를 포함하는 공급물을 제공하고, 공급물을 가열하여 용액을 수득하는 단계이되,
여기서 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)는
i) 5000 내지 30000 ppm 범위의 프탈산 디헥실 에스테르(PSDHE)(II) 함량;
ii) 500 내지 10000 ppm 범위의 로다민(III) 함량; 및
iii) 500 내지 10000 ppm 범위의 로다민 헥실 에스테르 (IV) 함량을 가지며; 각각은 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 중량을 기준으로 하고; 그리고
여기서 공급물 내의 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 양은 공급물의 총 중량을 기준으로 15.0 내지 65.0 wt% 범위인, 단계,
(b)
온도에서 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 평형 용해도 c*에 대한 용해된 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 농도 c의 c:c*의 비가 1.1:1.0 내지 9.0:1.0 범위가 되도록 단계 (a)의 용액을 온도로 냉각시켜, 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 과포화 용액을 수득하는 단계;
(c)
단계 (b)에서 수득된 과포화 용액에 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 씨드 결정을 씨딩한 다음, 씨드 결정을 포함하는 과포화 용액을 1 내지 8시간 동안 교반하는 단계이되,
여기서 씨딩 결정의 양은 용액 내의 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 중량을 기준으로 0.1 내지 15.0 wt% 범위인, 단계; 및
(d)
단계 (c)에서 수득된 용액을 -10 내지 15℃ 범위의 온도로 냉각시켜, 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)를 포함하는 용액을 수득하는 단계; 이어서 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)를 분리하는 단계; 및
(e)
단계 (d)에서 수득된 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)를 단계 (a)에 사용된 하나 이상의 결정화 용매와 혼합하는 단계를 포함하는 단계 (d)에서 수득된 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)를 임의로 재결정화하여, 공급물을 수득하고, 공급물을 가열하여, 용액을 수득한 다음, 방법의 단계 (b) 내지 (d)를 따르는, 단계를 포함하는, 방법.
2.
결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)를 수득하는 방법으로서, 단계 (a) 내지 (d),
(a)
디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I) 및 하나 이상의 결정화 용매를 포함하는 공급물을 제공하고, 공급물을 가열하여 용액을 수득하는 단계이되,
여기서 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)는
i) 5000 내지 30000 ppm 범위의 프탈산 디헥실 에스테르(PSDHE)(II) 함량;
ii) 500 내지 10000 ppm 범위의 로다민(III) 함량; 및
iii) 500 내지 10000 ppm 범위의 로다민 헥실 에스테르 (IV) 함량을 가지며; 각각은 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 중량을 기준으로 하고; 그리고
여기서 공급물 내의 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 양은 공급물의 총 중량을 기준으로 15.0 내지 65.0 wt% 범위인, 단계;
(b)
단계 (a)에서 수득된 용액을 냉각시켜, 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 과포화 용액을 수득하는 단계;
(c)
단계 (b)에서 수득된 과포화 용액에 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 씨드 결정을 씨딩한 다음, 씨드 결정을 포함하는 과포화 용액을 1 내지 8시간 동안 교반하는 단계이되,
여기서 씨딩 결정의 양은 용액 내의 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 중량을 기준으로 0.1 내지 15.0 wt% 범위인, 단계; 및
(d)
단계 (c)에서 수득된 용액을 -10 내지 15℃ 범위의 온도로 냉각시켜, 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)를 포함하는 용액을 수득하는 단계; 이어서 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)를 분리하는 단계; 및
(e)
단계 (d)에서 수득된 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)를 단계 (a)에 사용된 하나 이상의 결정화 용매와 혼합하는 단계를 포함하는 단계 (d)에서 수득된 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)를 임의로 재결정화하여, 공급물을 수득하고, 공급물을 가열하여, 용액을 수득한 다음, 방법의 단계 (b) 내지 (d)를 따르는, 단계를 포함하는, 방법.
3.
구현예 1 또는 2에 있어서, 결정화 용매가 C4-C8 알콜로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상인, 방법.
4.
구현예 1 내지 3 중 어느 하나에 있어서, 결정화 용매가 1-헥산올인, 방법.
5.
구현예 1 내지 4 중 어느 하나에 있어서, 단계 (a)에서 공급물이 25 내지 80℃ 범위의 온도까지 가열되는, 방법.
6.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 단계 (a)에서 공급물이 35 내지 80℃ 범위의 온도까지 가열되는, 방법.
7.
구현예 1 내지 6 중 어느 하나에 있어서, 단계 (b)에서 용액이 20 내지 35℃ 범위의 온도까지 냉각되는, 방법.
8.
구현예 1 내지 7 중 어느 하나에 있어서, 단계 (c)에서 씨딩이 20 내지 35℃ 범위의 온도에서 수행되는, 방법.
9.
구현예 1 내지 8 중 어느 하나에 있어서, 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 씨드 결정이 고체 결정질 덩어리 및 용매 내의 현탁액으로부터 선택되는 하나 이상의 형태로 단계 (c)에서 사용되는, 방법.
10.
구현예 1 내지 9 중 어느 하나에 있어서, 단계 (d)에서 용액이 1 내지 15℃/h의 냉각 속도로 냉각되는, 방법.
11.
구현예 1 내지 10 중 어느 하나에 있어서, 단계 (d)에서 용액이 선형 방식으로 냉각되는, 방법.
12.
구현예 1 내지 10 중 어느 하나에 있어서, 단계 (d)에서 용액이 조각별 선형 냉각 프로파일로 냉각되는, 방법.
13.
구현예 1 내지 10 중 어느 하나에 있어서, 단계 (d)에서 용액이 증가하는 냉각 속도와 함께 포물선형 냉각 프로파일로 냉각되는, 방법.
14.
구현예 1 내지 10 중 어느 하나에 있어서, 단계 (d)에서 용액이 결정화기에서 상대적으로 일정한 과포화를 유지하기 위해 동적 냉각 프로파일로 냉각되는, 방법.
15.
구현예 1 내지 10 중 어느 하나에 있어서, 단계 (d)에서 용액이 진공 냉각 방법으로 냉각되는, 방법.
16.
구현예 1 내지 15 중 어느 하나에 있어서, 단계 (d)에서 결정의 분리가 용액의 온도를 용액이 단계 (d)에서 냉각되는 온도의 ±5℃ 이내로 유지하면서 여과에 의해 수행되는, 방법.
17.
구현예 1 내지 16 중 어느 하나에 있어서, (d) 단계가 분리된 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)를 세척 용매로 세척하는 단계를 추가로 포함하는, 방법.
18.
구현예 17에 있어서, 분리된 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 세척이 단계 (d)에서 용액이 냉각되는 온도의 ±5℃ 이내의 온도를 갖는 세척 용매로 수행되는, 방법.
19.
구현예 17 또는 18에 있어서, 세척 용매가 단계 (a)에 사용된 결정화 용매, 공급물 및 단계 (a)에 사용된 결정화 용매 내의 (I)의 포화 용액으로부터 선택되는 하나 이상인, 방법.
20.
구현예 1 내지 19 중 어느 하나에 있어서, 다음의 단계를 추가로 포함하는 방법:
i.
단계 (d) 또는 단계 (e)에서 수득된 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)를 톨루엔 및 사이클로헥산으로부터 선택된 정제 용매에 용해시키는 단계;
ii.
단계 (i)에서 수득된 용액을 실리카 및 목탄으로부터 선택된 흡착제와 접촉시키는 단계; 및
iii.
단계 (ii)에서 수득된 용액으로부터 용매를 제거하여, 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)를 수득하는 단계.
21.
실시양태 1 내지 20 중 어느 하나에 있어서, 결정화가 배플이 있는 교반 용기, 강제 순환 결정화기, 드래프트 튜브 결정화기, 드래프트 튜브 배플드 결정화기 및 오슬로형 결정화기로부터 선택된 결정화기에서 수행되는, 방법.
22.
구현예 1 내지 21 중 어느 하나에 있어서, 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)가
i) 1 내지 250 ppm 범위의 프탈산 디헥실 에스테르(PSDHE)(III) 함량;
ii) 1 내지 100 ppm 범위의 로다민 (III) 함량; 및
iii) 1 내지 120 ppm 범위의 로다민 헥실 에스테르 (IV) 함량을 가지며;
각각은 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 중량을 기준으로 하는, 단계.
23.
결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 중량을 기준으로 1 내지 250 ppm 범위의 프탈산 디헥실 에스테르(PSDHE) 함량을 갖는, 제1항 내지 제22항 중 어느 한 항에 따른 방법에 의해 수득된 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I).
24.
구현예 1 내지 22 중 어느 하나에 따른 방법에 의해 수득된, 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)로서,
i) 1 내지 250 ppm 범위의 프탈산 디헥실 에스테르(PSDHE)(II) 함량;
ii) 1 내지 100 ppm 범위의 로다민 (III) 함량; 및
iii) 1 내지 120 ppm 범위의 로다민 헥실 에스테르 (IV) 함량을 가지며;
각각은 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 중량을 기준으로 하는, 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I).
25.
결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I) 및 담체를 포함하는 화장품 조성물로서, 결정성 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)는
i) 1 내지 250 ppm 범위의 프탈산 디헥실 에스테르(PSDHE)(II) 함량;
ii) 1 내지 100 ppm 범위의 로다민 (III) 함량; 및
iii) 1 내지 120 ppm 범위의 로다민 헥실 에스테르(IV) 함량을 가지며,
각각은 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 중량을 기준으로 하는, 화장품 조성물.
현재 청구된 발명이 그 특이적 구현예와 관련하여 설명되었지만, 특정 변형 및 등가물은 당업자에게 자명할 것이며 현재 청구된 발명의 범주 내에 포함되도록 의도된다.
실시예
현재 청구된 발명은 다음의 비-제한적인 작업 실시예에 의해 상세하게 예시된다. 보다 상세하게는, 이하에 명시된 테스트 방법은 본 출원의 일반적인 개시내용의 일부이며 특이적인 작업 실시예에 제한되지 않는다.
일반적인
US20050165099, 실시예 2에 따라 헥산올 내의 2-(4'-디에틸아미노-2'-하이드록시벤조일) 벤조산 헥실 에스테르 (I)를 제조하였다.
공정으로부터 수득된 생성물을 실험에 기재된 바와 같이 결정화시켰다.
방법
2-(4'-디에틸아미노-2'-하이드록시벤조일) 벤조산 헥실 에스테르 (I), 프탈레이트 에스테르 (II) 및 로다민 유형 화합물 (III) 및 (IV)의 측정을 위한 HPLC 방법은 최신 방법의 표준 상태로 수행되었다.
프탈레이트 에스테르 및 용매 잔류물의 측정을 위한 GC 방법은 최신 표준 방법에 의해 수행되었다.
교정을 위한 분석 표준은 최신 표준 방법으로 수행되었다.
1-헥산올 내의 2-(4'-디에틸아미노-2'-하이드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르 (I)에 대한 용해도 곡선
상이한 온도에서 1-헥산올 내의 (I)의 평형 용해도를 이중 재킷 750 mL 결정화기를 사용하여 결정하였다. 결정화기에서 (I)과 1-헥산올의 혼합물을 목표 온도까지 가열하고, 해당 온도에서 평형 조건이 확립되도록 하였다. 고체가 없는 모액의 샘플을 필터 프릿을 사용하여 추출하였다. 샘플을 (I) 함량에 대해 분석하였다.
결과는 오류! 참조 소스를 찾을 수 없습니다. 1에 나타나 있으며, 도 1에 플롯되어 있다.
표 1: 상이한 온도에서 1-헥산올 내의 (I)의 평형 용해도
WO 03097578에 따른 비교예
비교예 C1: WO 03097578에 따른 결정화
2-(4'-디에틸아미노-2'-하이드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르(상기)에서 계산된 14847 ppm 디-n-헥실프탈레이트, 2786 ppm 로다민 및 6397 ppm 로다민-헥실에스테르에 상응하는, 0.74 wt% 디-n-헥실프탈레이트, 0.14 wt% 로다민 및 0.32 wt% 로다민-헥실에스테르를 함유하는 헥산올 내의 49.0 wt% 2-(4'-디에틸아미노-2'-하이드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르를 포함하는 664.3 g의 공급물을 1.6 L 반응기에 충전하였다.
공급물을 40℃에서 가열하여, 용액을 수득하였다. 용액을 1.3시간 이내에 20℃까지 냉각시켜, 5.4의 c:c* 비율을 갖는 과포화 용액을 수득하였다.
20℃에서 4시간 후 결정화가 시작되었다. 현탁액을 20℃에서 밤새(12시간) 교반하고, 추가로 4시간 이내에 0℃까지 냉각시키고, 0℃에서 교반하였다. 생성물을 여과 제거하고, 183 g의 사전-냉각된(0℃) 1-헥산올의 제1 부분에 이어 200 g의 사전-냉각된(0℃) 1-헥산올의 다른 부분으로 세척하여, 80.6 wt% 함량의 2-(4'-디에틸아미노-2'-하이드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르를 갖는 371.5 g의 헥산올-습윤 2-(4'-디에틸아미노-2'-하이드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르를 제공하였다.
(I)에 기초하여 계산된 부산물 함량: 110 ppm 로다민, 131 ppm 로다민-헥실에스테르 및 271 ppm 디-n-헥실프탈레이트.
비교예 C2: WO 03097578에 따른 결정화
2-(4'-디에틸아미노-2'-하이드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르에서 계산된 15546 ppm 디-n-헥실프탈레이트, 1298 ppm 로다민 및 7292 ppm 로다민-헥실에스테르에 상응하는, 0.71 wt% 디-n-헥실프탈레이트, 0.06 wt% 로다민 및 0.33 wt% 로다민-헥실에스테르를 함유하는 헥산올 내의 45.0 wt% 2-(4'-디에틸아미노-2'-하이드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르를 포함하는 605.6 g의 공급물을 1.6 l 반응기에 충전하고, 공급물을 40℃에서 가열하여, 용액을 수득하였다.
용액을 1시간 이내에 20℃까지 냉각시켜, c:c* 5.0의 c:c* 비율을 갖는 과포화 용액을 수득하였다.
20℃에서 3.5시간 후에 결정화가 시작되었다. 혼합물을 20℃에서 1시간 이상 동안 교반한 다음, 4시간 이내에 0℃까지 냉각하고, 0℃에서 교반하였다. 생성물을 여과 제거하고, 169 g의 사전-냉각된(0℃) 1-헥산올의 제1 부분에 이어 183 g의 사전-냉각된(0℃) 1-헥산올의 제2 부분으로 세척하여, 79.1 wt% 함량의 2-(4'-디에틸아미노-2'-하이드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르를 갖는 310.9 g의 헥산올-습윤 2-(4'-디에틸아미노-2'-하이드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르를 제공하였다.
(I)에 기초하여 계산된 부산물 함량: 73 ppm 로다민, 187 ppm 로다민-헥실에스테르 및 344 ppm 디-n-헥실프탈레이트.
비교예 1 및 2의 공정 매개변수 및 결과는 표 2에 요약되어 있다.
본 발명에 따른 결정화
실시예 P1: 비교예 1과 동일한 출발 물질을 사용한 본 발명에 따른 결정화
2-(4'-디에틸아미노-2'-하이드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르(상기)에서 계산된 14847 ppm 디-n-헥실프탈레이트, 2786 ppm 로다민 및 6397 ppm 로다민-헥실에스테르에 상응하는, 0.74 wt% 디-n-헥실프탈레이트, 0.14 wt% 로다민 및 0.32 wt% 로다민-헥실에스테르를 함유하는 헥산올 내의 49.0 wt% 2-(4'-디에틸아미노-2'-하이드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르를 포함하는 589.0 g의 공급물을 1.6 L 반응기에 충전하고, 공급물을 49℃에서 가열하여, 용액을 수득하였다.
용액을 1.5시간 이내에 25℃까지 냉각시켜, 4.1의 c:c* 비율을 갖는 과포화 용액을 수득하였다.
과포화 용액에 12.3 g(3.6 wt%)의 2-(4'-디에틸아미노-2'-하이드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르(84.3 wt%)를 씨딩한 다음, 25°C에서 3.4시간 동안 교반하였다. 현탁액을 5시간 이내에 0℃까지 추가로 냉각시키고, 0℃에서 교반하였다. 생성물을 여과 제거하고, 162 g의 사전-냉각된 1-헥산올(0℃)의 제1 부분에 이어 177 g의 사전-냉각된 1-헥산올(0℃)의 제2 부분으로 세척하여, 80.2 wt% 함량의 2-(4'-디에틸아미노-2'-하이드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르 (I)를 갖는 338 g의 헥산올-습윤 2-(4'-디에틸아미노-2'-하이드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르 (I)를 제공하였다.
(I)에 기초하여 계산된 부산물 함량: 60 ppm 로다민, 67 ppm 로다민-헥실에스테르 및 68 ppm 디-n-헥실프탈레이트.
실시예 P2: 비교예 2와 동일한 출발 물질을 사용한 본 발명에 따른 결정화
2-(4'-디에틸아미노-2'-하이드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르(상기)에서 계산된 15546 ppm 디-n-헥실프탈레이트, 1298 ppm 로다민 및 7292 ppm 로다민-헥실에스테르에 상응하는, 0.71 wt% 디-n-헥실프탈레이트, 0.06 wt% 로다민 및 0.33 wt% 로다민-헥실에스테르를 함유하는 헥산올 내의 45.0 wt% 2-(4'-디에틸아미노-2'-하이드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르를 포함하는 601.8 g의 공급물을 1.6 L 반응기에 충전하고, 공급물을 60℃에서 가열하여, 용액을 수득하였다.
용액을 1시간 이내에 25℃까지 냉각시켜, 3.8의 c:c* 비율을 갖는 과포화 용액을 수득하였다.
과포화 용액에 11 g(3.5 wt%)의 헥산올 습윤 2-(4'-디에틸아미노-2'-하이드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르(86.7 wt%)를 씨딩한 다음, 25℃에서 3.5시간 동안 교반하였다. 용액을 5시간 이내에 0℃까지 냉각시키고 0℃에서 교반하였다. 생성물을 여과 제거하고, 168 g의 사전-냉각된(0℃) 1-헥산올의 제1 부분에 이어 182 g의 사전-냉각된(0℃) 헥산올의 제2 부분으로 세척하여, 82.1 wt% 함량의 2-(4'-디에틸아미노-2'-하이드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르를 갖는 306.4 g의 헥산올-습윤 2-(4'-디에틸아미노-2'-하이드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르를 제공하였다.
(I)에서 계산된 부산물 함량: 30 ppm 로다민, 105 ppm 로다민-헥실에스테르 및 82 ppm 디-n-헥실프탈레이트.
현재 청구된 발명의 공정에 의해 수득된 결정질 (I)에서 불순물 (II), (III) 및 (IV)의 양이 비교예에 의해 수득된 것과 비교하여 낮다는 것이 명백하다.
실시예 P3-P11
실시예 P3-P11의 결정화에 사용된 방법은 현재 청구된 발명에 따른 실시예 P1의 결정화에 사용된 방법과 유사하였다.
실시예 P1 내지 P11의 공정 매개변수 및 결과는 표 3에 요약되어 있다.
재결정화
실시예 R1: C1로부터 수득된 결정(I)의 재결정화
2-(4'-디에틸아미노-2'-하이드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르(80.6 wt%) 및 120 g의 헥산올을 포함하는 C1으로부터 수득된 180.0 g의 헥산올 습윤 필터 케이크(48.4 wt%의 헥산올 내의 2-(4'-디에틸아미노-2'-하이드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르)를 1.6 l 반응기에 충전하고, 공급물을 40℃에서 가열하여 용액을 수득하였다.
용액을 1.5시간 이내에 25℃까지 냉각시켜, 4.1의 c:c* 비율을 갖는 과포화 용액을 수득하였다.
과포화 용액에 6.3 g(3.7 wt%)의 2-(4'-디에틸아미노-2'-하이드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르(84.3 wt%)를 씨딩한 다음, 25°C에서 3.6시간 동안 교반하였다. 현탁액을 5시간 이내에 0℃까지 추가로 냉각시키고, 0℃에서 교반하였다. 현탁액을 여과하고, 생성물을 81 g의 사전-냉각된(0℃) 1-헥산올의 제1 부분 및 89 g의 사전-냉각된(0℃) 1-헥산올로 세척하여, 79.0 wt% 함량의 2-(4'-디에틸아미노-2'-하이드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르를 갖는 166.7 g의 헥산올-습윤 2-(4'-디에틸아미노-2'-하이드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르를 제공하였다.
(I)에서 계산된 부산물 함량: 14 ppm 로다민, 5 ppm 로다민-헥실에스테르 및 12 ppm 디-n-헥실프탈레이트.
실시예 R2: 재결정화
2-(4'-디에틸아미노-2'-하이드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르 (상기)에 대해 계산된, 44 ppm 로다민, 121 ppm 로다민-헥실에스테르 및 165 ppm 디-n-헥실프탈레이트를 함유하는 2-(4'-디에틸아미노-2'-하이드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르 (88.9 wt%) 및 172 g의 헥산올(헥산올 내의 48.0 wt% 2-(4'-디에틸아미노-2'-하이드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르)를 포함하는 201.5 g의 헥산올 습식 공급물을 1.6 l 반응기에 충전하고, 공급물을 49℃까지 가열하여, 용액을 수득하였다.
용액을 1.5시간 이내에 25℃까지 냉각시켜, 4.0의 c:c* 비율을 갖는 과포화 용액을 수득하였다.
과포화 용액에 6.8 g(3.2 wt%)의 2-(4'-디에틸아미노-2'-하이드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르(84.3 wt%)를 씨딩한 다음, 25°C에서 3.6시간 동안 교반하였다. 현탁액을 5시간 이내에 0℃까지 추가로 냉각시키고, 0℃에서 교반하였다. 현탁액을 여과하고, 생성물을 105 g의 사전-냉각된(0℃) 1-헥산올의 제1 부분 및 115 g의 사전-냉각된(0℃) 1-헥산올의 제2 부분으로 세척하여, 82.5 wt% 함량의 2-(4'-디에틸아미노-2'-하이드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르를 갖는 187 g의 헥산올-습윤 2-(4'-디에틸아미노-2'-하이드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르를 제공하였다.
100% (I)에 기초하여 계산된 부산물 함량: 4 ppm 로다민, 4 ppm 로다민-헥실에스테르 및 4.5 ppm 디-n-헥실프탈레이트.
실시예 R3 및 R4
실시예 R3 및 R4의 결정화에 사용된 방법은 현재 청구된 발명에 따른 실시예 R2에 대한 결정화에 사용된 방법과 유사하였다.
실시예 R1 내지 R4의 공정 매개변수 및 결과는 표 4에 요약되어 있다.
표 2: 비교예
표 3: 현재 청구된 발명의 실시예
표 4: 재결정화
Claims (25)
- 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)를 수득하는 방법으로서, 단계 (a) 내지 (d),
(a) 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I) 및 하나 이상의 결정화 용매를 포함하는 공급물을 제공하고, 공급물을 가열하여 용액을 수득하는 단계이되,
여기서 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)는
i) 5000 내지 30000 ppm 범위의 프탈산 디헥실 에스테르(PSDHE)(II) 함량;
ii) 500 내지 10000 ppm 범위의 로다민(III) 함량; 및
iii) 500 내지 10000 ppm 범위의 로다민 헥실 에스테르 (IV) 함량을 가지며; 각각은 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 중량을 기준으로 하고; 그리고
여기서 공급물 내의 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 양은 공급물의 총 중량을 기준으로 15.0 내지 65.0 wt% 범위인, 단계,
(b) 온도에서 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 평형 용해도 c*에 대한 용해된 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 농도 c의 c:c*의 비가 1.1:1.0 내지 9.0:1.0 범위가 되도록 단계 (a)의 용액을 온도로 냉각시켜, 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 과포화 용액을 수득하는 단계;
(c) 단계 (b)에서 수득된 과포화 용액에 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 씨드 결정을 씨딩한 다음, 씨드 결정을 포함하는 과포화 용액을 1 내지 8시간 동안 교반하는 단계이되,
여기서 씨딩 결정의 양은 용액 내의 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 중량을 기준으로 0.1 내지 15.0 wt% 범위인, 단계; 및
(d) 단계 (c)에서 수득된 용액을 -10 내지 15℃ 범위의 온도로 냉각시켜, 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)를 포함하는 용액을 수득하는 단계; 이어서 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)를 분리하는 단계; 및
(e) 단계 (d)에서 수득된 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)를 단계 (a)에 사용된 바와 같은 하나 이상의 결정화 용매와 혼합하는 단계를 포함하는 단계 (d)에서 수득된 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)를 임의로 재결정화하여, 공급물을 수득하고, 공급물을 가열하여, 용액을 수득하고, 방법의 단계 (b) 내지 (d)를 사용하는, 단계를 포함하는, 방법. - 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)를 수득하는 방법으로서, 단계 (a) 내지 (d),
(a) 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I) 및 하나 이상의 결정화 용매를 포함하는 공급물을 제공하고, 공급물을 가열하여 용액을 수득하는 단계이되,
여기서 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)는
i) 5000 내지 30000 ppm 범위의 프탈산 디헥실 에스테르(PSDHE)(II) 함량;
ii) 500 내지 10000 ppm 범위의 로다민(III) 함량; 및
iii) 500 내지 10000 ppm 범위의 로다민 헥실 에스테르 (IV) 함량을 가지며; 각각은 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 중량을 기준으로 하고; 그리고
여기서 공급물 내의 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 양은 공급물의 총 중량을 기준으로 15.0 내지 65.0 wt% 범위인, 단계;
(b) 단계 (a)에서 수득된 용액을 냉각시켜, 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 과포화 용액을 수득하는 단계;
(c) 단계 (b)에서 수득된 과포화 용액에 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 씨드 결정을 씨딩한 다음, 씨드 결정을 포함하는 과포화 용액을 1 내지 8시간 동안 교반하는 단계이되,
여기서 씨딩 결정의 양은 용액 내의 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 중량을 기준으로 0.1 내지 15.0 wt% 범위인, 단계; 및
(d) 단계 (c)에서 수득된 용액을 -10 내지 15℃ 범위의 온도로 냉각시켜, 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)를 포함하는 용액을 수득하는 단계; 이어서 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)를 분리하는 단계; 및
(e) 단계 (d)에서 수득된 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)를 단계 (a)에 사용된 바와 같은 하나 이상의 결정화 용매와 혼합하는 단계를 포함하는 단계 (d)에서 수득된 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)를 임의로 재결정화하여, 공급물을 수득하고, 공급물을 가열하여, 용액을 수득하고, 방법의 단계 (b) 내지 (d)를 사용하는, 단계를 포함하는, 방법. - 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 결정화 용매가 C4-C8 알콜로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상인, 방법.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 결정화 용매가 1-헥산올인, 방법.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 단계 (a)에서 상기 공급물이 25 내지 80℃ 범위의 온도까지 가열되는, 방법.
- 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 단계 (a)에서 상기 공급물이 35 내지 80℃ 범위의 온도까지 가열되는, 방법.
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 단계 (b)에서 상기 용액이 20 내지 35℃ 범위의 온도까지 냉각되는, 방법.
- 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 단계 (c)에서 상기 씨딩이 20 내지 35℃ 범위의 온도에서 수행되는, 방법.
- 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 씨드 결정이 고체 결정질 덩어리 및 용매 내의 현탁액으로부터 선택되는 하나 이상의 형태로 단계 (c)에서 사용되는, 방법.
- 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 단계 (d)에서 상기 용액이 1 내지 15℃/h의 냉각 속도로 냉각되는, 방법.
- 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 단계 (d)에서 상기 용액이 선형 방식으로 냉각되는, 방법.
- 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 단계 (d)에서 상기 용액이 조각별 선형 냉각 프로파일로 냉각되는, 방법.
- 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 단계 (d)에서 상기 용액이 증가하는 냉각 속도와 함께 포물선형 냉각 프로파일로 냉각되는, 방법.
- 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 단계 (d)에서 상기 용액이 결정화기에서 상대적으로 일정한 과포화를 유지하기 위해 동적 냉각 프로파일로 냉각되는, 방법.
- 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 단계 (d)에서 상기 용액이 진공 냉각 방법으로 냉각되는, 방법.
- 제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서, 단계 (d)에서 상기 결정의 분리가 용액의 온도를 용액이 단계 (d)에서 냉각되는 온도의 ±5℃ 이내로 유지하면서 여과에 의해 수행되는, 방법.
- 제1항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서, (d) 단계가 분리된 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)를 세척 용매로 세척하는 단계를 추가로 포함하는, 방법.
- 청구항 17에 있어서, 상기 분리된 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 세척이 단계 (d)에서 용액이 냉각되는 온도의 ±5℃ 이내의 온도를 갖는 세척 용매로 수행되는, 방법.
- 제17항 또는 제18항에 있어서, 상기 세척 용매가 단계 (a)에 사용된 결정화 용매, 공급물 및 단계 (a)에 사용된 결정화 용매 내의 (I)의 포화 용액으로부터 선택되는 하나 이상인, 방법.
- 제1항 내지 제19항 중 어느 한 항에 있어서, 다음의 단계를 추가로 포함하는 방법:
i. 단계 (d) 또는 단계 (e)에서 수득된 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)를 톨루엔 및 사이클로헥산으로부터 선택된 정제 용매에 용해시키는 단계;
ii. 단계 (i)에서 수득된 용액을 실리카 및 목탄으로부터 선택된 흡착제와 접촉시키는 단계; 및
iii. 단계 (ii)에서 수득된 용액으로부터 용매를 제거하여, 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)를 수득하는 단계. - 제1항 내지 제20항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 결정화가 배플이 있는 교반 용기, 강제 순환 결정화기, 드래프트 튜브 결정화기, 드래프트 튜브 배플드 결정화기 및 오슬로형 결정화기로부터 선택된 결정화기에서 수행되는, 방법.
- 제1항 내지 제21항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)가
i) 1 내지 250 ppm 범위의 프탈산 디헥실 에스테르(PSDHE)(II) 함량;
ii) 1 내지 100 ppm 범위의 로다민 (III) 함량; 및
iii) 1 내지 120 ppm 범위의 로다민 헥실 에스테르 (IV) 함량을 가지며;
각각은 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 중량을 기준으로 하는, 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I). - 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 중량을 기준으로 1 내지 250 ppm 범위의 프탈산 디헥실 에스테르(PSDHE) 함량을 갖는, 제1항 내지 제22항 중 어느 한 항에 따른 방법에 의해 수득된 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I).
- 제1항 내지 제22항 중 어느 한 항에 따른 방법에 의해 수득된 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)로서,
i) 1 내지 250 ppm 범위의 프탈산 디헥실 에스테르(PSDHE)(II) 함량;
ii) 1 내지 100 ppm 범위의 로다민 (III) 함량; 및
iii) 1 내지 120 ppm 범위의 로다민 헥실 에스테르 (IV) 함량을 가지며;
각각은 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 중량을 기준으로 하는, 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I). - 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I) 및 담체를 포함하는 화장품 조성물로서, 결정성 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)는
i) 1 내지 250 ppm 범위의 프탈산 디헥실 에스테르(PSDHE)(II) 함량;
ii) 1 내지 100 ppm 범위의 로다민 (III) 함량; 및
iii) 1 내지 120 ppm 범위의 로다민 헥실 에스테르(IV) 함량을 가지며,
각각은 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트 (I)의 중량을 기준으로 하는, 화장품 조성물.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP20215330.0 | 2020-12-18 | ||
| EP20215330 | 2020-12-18 | ||
| PCT/EP2021/086103 WO2022129284A1 (en) | 2020-12-18 | 2021-12-16 | Method for obtaining crystalline diethylamino hydroxybenzoyl hexyl benzoate |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20230121829A true KR20230121829A (ko) | 2023-08-21 |
Family
ID=73855700
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020237023888A KR20230121829A (ko) | 2020-12-18 | 2021-12-16 | 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트를수득하는 방법 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20240025841A1 (ko) |
| EP (1) | EP4263490A1 (ko) |
| JP (1) | JP2024503214A (ko) |
| KR (1) | KR20230121829A (ko) |
| CN (1) | CN116096701A (ko) |
| TW (1) | TW202241843A (ko) |
| WO (1) | WO2022129284A1 (ko) |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10011317A1 (de) | 2000-03-10 | 2001-09-13 | Basf Ag | Verwendung von aminosubstituierten Hydroxybenzophenonen als Lichtschutzmittel und Stabilisatoren für nicht lenbendes organisches Material |
| DE10221805A1 (de) | 2002-05-15 | 2003-11-27 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von 2-(4-N,N-Dialkylamino-2-hydroxybenzoyl)benzoesäureestern |
| ES2402170T3 (es) * | 2007-05-02 | 2013-04-29 | Basf Se | Procedimiento para la cristalización de 2-(4-N,N-dietilamino-2-hidroxibenzoil)-benzoato de N-hexilo |
| KR102179649B1 (ko) * | 2019-10-11 | 2020-11-18 | (주)에이에스텍 | 디에틸아미노하이드록시벤조일헥실벤조에이트의 제조 방법 |
-
2021
- 2021-12-16 EP EP21824603.1A patent/EP4263490A1/en active Pending
- 2021-12-16 US US18/265,993 patent/US20240025841A1/en active Pending
- 2021-12-16 KR KR1020237023888A patent/KR20230121829A/ko unknown
- 2021-12-16 JP JP2023536902A patent/JP2024503214A/ja active Pending
- 2021-12-16 WO PCT/EP2021/086103 patent/WO2022129284A1/en active Application Filing
- 2021-12-16 CN CN202180051804.2A patent/CN116096701A/zh active Pending
- 2021-12-17 TW TW110147510A patent/TW202241843A/zh unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP4263490A1 (en) | 2023-10-25 |
| US20240025841A1 (en) | 2024-01-25 |
| TW202241843A (zh) | 2022-11-01 |
| JP2024503214A (ja) | 2024-01-25 |
| WO2022129284A1 (en) | 2022-06-23 |
| CN116096701A (zh) | 2023-05-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0507691B1 (fr) | Dérivés s-triaziniques portant des substituants benzalmalonates, leur procédé de préparation, compositions cosmétiques filtrantes les contenant et leur utilisation pour protéger la peau et les cheveux du rayonnement ultraviolet | |
| CA2065117C (fr) | Derives s-triaziniques portant des substituants benzalmalonates, leur procede de preparation, compositions cosmetiques filtrantes les contenant et leur utilisation pour proteger la peau et les cheveux du rayonnement ultraviolet | |
| EP1380583B1 (de) | Bis-Resorcinyl-Triazine und deren Verwendung als Sonnenschutzmittel | |
| JP4252627B2 (ja) | 対称トリアジン誘導体 | |
| CH653254A5 (fr) | Compositions cosmetiques contenant des derives hydroxyles du dibenzoylmethane, derives hydroxyles du dibenzoylmethane utilises et leur procede de preparation. | |
| EP0350386B1 (fr) | Nouveaux dérivés insaturés liposolubles des benzalmalonates et leur utilisation en tant qu'absorbeurs du rayonnement ultra-violet en cosmétique | |
| KR20070058518A (ko) | 광안정성 화장품 또는 피부학적 조성물 | |
| EP2016059A2 (en) | Triazine derivatives | |
| US20240109838A1 (en) | Process of manufacturing 2-(4'-diethylamino-2'-hydroxybenzoyl)benzoic acid hexyl ester | |
| CN115175896A (zh) | 分离2-(4’-二乙氨基-2’-羟苯甲酰基)苯甲酸己酯的方法 | |
| KR20230121829A (ko) | 결정질 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트를수득하는 방법 | |
| WO2023242181A1 (en) | Method for obtaining crystalline diethylamino hydroxybenzoyl hexyl benzoate | |
| TW202413322A (zh) | 用於獲得結晶二乙胺基羥苯甲醯基苯甲酸己酯之方法 | |
| US7999128B2 (en) | Hydroxybenzophenone derivatives | |
| EP1117638A1 (en) | Biphenyl compounds substituted by camphor or hydantoin derivatives as sunscreen compositions | |
| JP2612922B2 (ja) | 不飽和３―ベンジリデンカンファー誘導体および化粧品組成物 | |
| TW202200535A (zh) | 純化2-(4’-二乙基胺基-2’-羥基苯甲醯基)苯甲酸己酯之方法 | |
| AU2007247213B2 (en) | Triazine derivatives | |
| FR2488252A1 (fr) | Derives de dibenzoylmethane quaternaire, leur utilisation comme agent filtrant solaire et composition cosmetique les contenant | |
| JP2004224770A (ja) | フェルラ酸誘導体含有化粧料 | |
| JP2001081092A (ja) | アクリジン誘導体及び紫外線吸収剤 | |
| JP2001089456A (ja) | アクリジン誘導体及び紫外線吸収剤 | |
| JP2001089457A (ja) | アクリジン誘導体及び紫外線吸収剤 |