JP2024061047A - 低屈折率膜を含む積層体及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 異形形状のシリカ粒子を含有するコーティング組成物を、特定膜厚で塗膜を形成する事により基板上に密着性の高く低屈折率の被膜を形成する事が可能なコーティング組成物と、それらコーティング組成物を塗布し硬化した低屈折率の透明性積層体を提供。【解決手段】 シリカゾルに由来するシリカ粒子を含み、該シリカ粒子は動的光散乱法による測定粒子径(D1)と窒素ガス吸着法による測定粒子径(D2)の比(D1)/(D2)が2以上であり、1.20~1.33の屈折率と、100~2000nmの膜厚と、得られた基板上の硬化被膜に1mm×1mmの25マスのクロスカットを入れ粘着テープの貼り付け引き剥がしによる残マス割合が(20~25)/(25)となる密着性を有する基板上の透明性積層体。全光線透過率が93%以上である。HAZEが2.0以下である。炭素含有率がシリカ粒子のSiO2に対して1質量%以下。【選択図】 なし
Description
本発明は、低屈折率膜を含む積層体及びその製造方法に関する。
低屈折率膜を有する積層体は、外光の移りを防止し画質を向上させるため液晶表示パネルや有機ELディスプレイ等の各種表示パネルや窓ガラス、光学レンズ、イメージセンサ等として用いられている。
反射防止膜用途の低屈折率膜用材料として、例えば、フッ素重合体を含むフッ素樹脂系の低屈折率膜用材料(特許文献1~3)や金属酸化物と樹脂とを含む低屈折率膜用材料(特許文献4~5)、金属酸化物やフッ素含有有機化合物などを単層で用いる低屈折率膜用材料などが開示されている(特許文献6~7)。
金属酸化物やフッ素含有有機化合物などを単層で用いる場合、真空蒸着法、イオンアシスト蒸着法やスパッタリング法等の気相法が用いられてきたが、装置等が高価であることから製造コストが高くなるという欠点がある。
異形形状のシリカ粒子を含有するコーティング組成物を、特定膜厚で塗膜を形成する事により基板上に密着性の高く低屈折率の被膜を形成する事が可能なコーティング組成物と、それらコーティング組成物を塗布し硬化した低屈折率の透明性積層体を提供する。
本発明は第1観点として、シリカゾルに由来するシリカ粒子を含み、該シリカ粒子は動的光散乱法による測定粒子径(D1)と窒素ガス吸着法による測定粒子径(D2)の比(D1)/(D2)が2以上であり、1.20~1.33の屈折率と、100~2000nmの膜厚と、得られた基板上の硬化被膜に1mm×1mmの25マスのクロスカットを入れ粘着テープの貼り付け引き剥がしによる残マス割合が(20~25)/(25)となる密着性を有する基板上の透明性積層体、
第2観点として、動的光散乱法による測定粒子径(D1)と窒素ガス吸着法による測定粒子径(D2)の比(D1)/(D2)が5~100である第1観点に記載の透明性積層体、
第3観点として、全光線透過率が93%以上である第1観点又は第2観点に記載の透明性積層体、
第4観点として、HAZEが2.0以下である第1観点乃至第3観点の何れか一つに記載の透明性積層体、
第5観点として、炭素含有率がシリカ粒子のSiO2に対して1質量%以下である第1観点乃至第4観点の何れか一つに記載の透明性積層体、
第6観点として、第1観点乃至第5観点の何れか一つに記載の透明性積層体を形成するための透明性積層体用コーティング組成物であって、該コーティング組成物はシリカ粒子と溶媒を含み、該コーティング組成物は試験条件としてSiO2濃度として1~15質量%を有する該コーティング組成物を被覆後に50~130℃焼成を経た塗膜厚である事を特徴とする上記透明性積層体用コーティング組成物、
第7観点として、溶媒が水、又はエーテル結合を含んでいても良い炭素原子数1~5のアルコールである第6観点に記載の透明性積層体用コーティング組成物、及び
第8観点として、基板に、第1観点乃至第7観点の何れか一つに記載の透明性積層体用コーティング組成物を被覆して50~130℃の温度で硬化する透明性積層体の製造方法である。
第2観点として、動的光散乱法による測定粒子径(D1)と窒素ガス吸着法による測定粒子径(D2)の比(D1)/(D2)が5~100である第1観点に記載の透明性積層体、
第3観点として、全光線透過率が93%以上である第1観点又は第2観点に記載の透明性積層体、
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第5観点として、炭素含有率がシリカ粒子のSiO2に対して1質量%以下である第1観点乃至第4観点の何れか一つに記載の透明性積層体、
第6観点として、第1観点乃至第5観点の何れか一つに記載の透明性積層体を形成するための透明性積層体用コーティング組成物であって、該コーティング組成物はシリカ粒子と溶媒を含み、該コーティング組成物は試験条件としてSiO2濃度として1~15質量%を有する該コーティング組成物を被覆後に50~130℃焼成を経た塗膜厚である事を特徴とする上記透明性積層体用コーティング組成物、
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動的光散乱法による測定粒子径(D1)と窒素ガス吸着法による測定粒子径(D2)の比(D1)/(D2)が2以上、典型的には5~100であるシリカ粒子は異形シリカ粒子であり、異形シリカ粒子を含むコーティング組成物を基板上に塗布し乾燥と硬化を行う事で基板上に3次元のシリカ粒子の構造体が形成される。3次元のシリカ粒子の構造体の形成は、それらシリカ粒子を含む水性シリカゾルを含むコーティング組成物を基板上に塗布する時に、3次元のシリカ粒子間のマトリックス(構造体)中に水性溶媒や、大気中のガス(例えば空気)を巻き込む事により、それらマトリックスは乾燥と硬化を経て、マトリックスに空洞が形成される。この空洞は空気からなるものであって、基板上に形成されたこれらマトリックスを含む被膜の屈折率は密なシリカからなる構造の被膜に比べて低くなる。
基板上に3次元のシリカ粒子間のマトリックス(構造体)を形成する場合に、例えばスピンコート法を用いる場合に、コーティング組成物の投入部分から円形状にコーティング組成物が空気を巻き込みながら広がる事によって、上記構造の被膜が形成されるものと考えられる。同様にバーコーターを用いる場合にも同様な現象がみられる。
また、基板が平面であればスピンコート法やバーコート法により、空気を巻き込みながら膜内に気泡を形成し、乾燥硬化後に空洞が空気層となり低屈折率を有する被膜になる。同様な現象は基板が傾斜した面を持つ傾斜基板においても傾斜面をコーティング組成物が流れ下る際に形成され、塗布膜中に空気を巻き込む事で乾燥硬化後に空洞が形成され、結果的に低屈折率を有する被膜となる。
基板上に3次元のシリカ粒子間のマトリックス(構造体)は、コーティング組成物のシリカ粒子の濃度が関係し、それは得られた被膜(積層体)の膜厚に関係する。即ち、コーティング組成物中のシリカ粒子が低濃度であっても、高濃度であっても、基板上に3次元のシリカ粒子間のマトリックス(構造体)の形成は難しく、特定のシリカ濃度(例えば1~15質量%)範囲において達成され、その結果として基板上に特定膜厚(例えば100~2000nm)の低屈折率膜が形成されるものと考えられる。
上記コーティング組成物から形成された積層体は、有機成分が特定量(積層体中のSiO2分に対して1質量%以下)とする事で、乾燥後の3次元のシリカ粒子とシリカ粒子のマトリックス(構造体)の形成と、密着性に影響を生じる。即ち、揮発性有機成分が多くなることによりマトリックスの形成が十分でなかったり、有機成分は高い硬化温度を必要とする時に低温での硬化が不十分となった時に完全な硬化がなされない状態の積層体では、密着性が低下する。本発明では基材として透明性基材が有機樹脂基板である場合に高温焼成はできず、低温焼成時に有機成分が一定量以下である事が求められる。従って、積層体中のSiO2分に対して1質量%以下になる様なコーティング組成物を用いて被膜を製造する事が求められる。
本発明はシリカゾルに由来するシリカ粒子を含み、該シリカ粒子は動的光散乱法による測定粒子径(D1)と窒素ガス吸着法による測定粒子径(D2)の比(D1)/(D2)が2以上であり、1.20~1.33の屈折率と、100~2000nmの膜厚と、得られた基板上の硬化被膜に1mm×1mmの25マスのクロスカットを入れ粘着テープの貼り付け引き剥がしによる残マス割合が(20~25)/(25)となる密着性を有する基板上の透明性積層体である。
上記積層体は全光線透過率が93%以上である事が好ましい。典型的には93~99%である。全光線透過率(%)とは透過前の光線を100%とした場合に、透過前の光線に対して積層体を通過した時の透過量を示すものである。
上記膜厚は乾燥状態の膜厚として100~2000nmであり、厚膜では透過率が低下し問題があり、また薄膜では膜強度や耐久性に問題がある。
本発明は透明性基板に対して被覆して用いる場合に、高透過率が求められるため93%以上の全光線透過率が好ましい。
また、透明性は積層体のHAZE(曇り度)により影響を受ける。これはコーティング組成物に用いられるシリカ粒子の状態によるものであり、コロイド状シリカ粒子が水性媒体に分散したシリカゾルを用いる事で達成される。本発明では異形なコロイド状シリカ粒子の水性媒体を用いる事で積層体のHAZEが2.0以下にすることができる。典型的には0.08~2.0である。
そして、積層体は炭素含有率がシリカ粒子のSiO2に対して1質量%以下とする事で、屈折率と密着性を両立する事が可能である。炭素含有率は元素分析から求める事ができる。
透明性積層体は透明性基板(基材)上に積層されるものであるが、透明性基板はガラス、透明樹脂が挙げられる。透明樹脂としてはポリアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、又はポリスチレン樹脂等が挙げられる。特にポリメチルメタクリレート樹脂は好ましく例示される。
上記基板上の透明性積層体を形成するためのコーティング組成物は、該コーティング組成物はシリカ粒子と溶媒を含み、該コーティング組成物は試験条件としてSiO2濃度として1~15質量%を有する該コーティング組成物を被覆後に50~130℃、又は50~100℃、又は50~90℃、又は50~80℃、又は60~80℃焼成を経て上記塗布膜厚が得られる。
コーティング組成物を上記温度で硬化して透明性積層体を製造する事ができる。
例えば、塗布方法としてスピンコート法やバーコート法が挙げられる。スピンコート法としては、例えばローターの回転数600~3500rpmでスピンコーターを用いて塗布する方法が挙げられる。バーコート法では例えば湿潤状態で1~6μm厚になる様なバーコーターで塗布する方法が挙げられる。典型的にはこのような湿潤状態の膜厚を得るには20~150mm/秒、又は40~120mm/秒のバーコーターの移動速度で達成され、例えば4μm厚の湿潤状態の塗膜を得るために80mm/秒のバーコーターの移動速度で達成する事ができる。
組成物の基板上への塗布方法は、例えば、フローコーティング法、スプレーコーティング法、スクリーン印刷法、キャスト法、カーテンコーティング法、ロールコーティング法、グラビアコーティング法、ディッピング法、スリットコート法、インクジェット法なども用いる事が可能である。
組成物の基板上への塗布方法は、例えば、フローコーティング法、スプレーコーティング法、スクリーン印刷法、キャスト法、カーテンコーティング法、ロールコーティング法、グラビアコーティング法、ディッピング法、スリットコート法、インクジェット法なども用いる事が可能である。
シリカゾルに由来するシリカ粒子を含み、該シリカ粒子は動的光散乱法による測定粒子径(D1)と窒素ガス吸着法による測定粒子径(D2)の比(D1)/(D2)が2以上、典型的には2~100、又は5~100、又は5~50である。これら(D1)/(D2)が2以上のシリカ粒子は細長い形状のシリカ粒子である。(D1)/(D2)が2未満のシリカ粒子は球状乃至球状に近い形状のシリカ粒子である。本発明では細長い形状のシリカ粒子を用いる事によって上記物性を達成する事ができる。
この様なシリカ粒子は、シリカ粒子の形状において長径と短径が長径>短径を有する異形シリカ粒子、シリカ粒子が鎖状に連結した鎖状シリカ粒子が挙げられる。
動的光散乱法による測定粒子径(D1)は40~500nm、窒素ガス吸着法による測定粒子径(D2)は5~40nmの範囲に有する事が好ましい。
本発明では基本的に有機成分を含有しない事が望ましいが、炭素含有率がシリカ粒子のSiO2に対して1質量%以下で含む事は可能である。上記積層体に炭素含有率が1質量%以下になるような有機成分の添加としては、シリカ粒子の被覆成分としてのシラン化合物、界面活性剤、有機溶媒成分のシリカ粒子への吸着成分等が挙げられる。
動的光散乱法による測定粒子径(D1)は40~500nm、窒素ガス吸着法による測定粒子径(D2)は5~40nmの範囲に有する事が好ましい。
本発明では基本的に有機成分を含有しない事が望ましいが、炭素含有率がシリカ粒子のSiO2に対して1質量%以下で含む事は可能である。上記積層体に炭素含有率が1質量%以下になるような有機成分の添加としては、シリカ粒子の被覆成分としてのシラン化合物、界面活性剤、有機溶媒成分のシリカ粒子への吸着成分等が挙げられる。
上記組成として、シリカが媒体に分散するシリカゾルであり、媒体としては水、又は水溶性有機溶媒が挙げられる。水溶性有機溶媒としては、例えばアルコール、グリコール、エーテル、エステル、ケトン、含窒素溶媒、又は芳香族系溶媒である。具体的には、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、アセトン、メチルエチルケトン、ジメチルホルムアミド、N-メチル-2-ピロリドン、トルエン、キシレン、ジメチルエタン等の有機溶媒を例示する事ができる。特に溶媒が水、又はエーテル結合を含んでいても良い炭素原子数1~5のアルコールを好ましく挙げる事ができる。
エーテル結合を含んでいても良い炭素原子数1~5のアルコールとしては、メタノール、エタノール、i-プロパノール、n-プロパノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等が挙げられる。
本発明では金属酸化物粒子(A)が式(1)乃至式(3)からなるシランカップリング剤の加水分解物、及びアクリル系ポリマーからなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物の被覆物とする事も可能である。
エーテル結合を含んでいても良い炭素原子数1~5のアルコールとしては、メタノール、エタノール、i-プロパノール、n-プロパノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等が挙げられる。
本発明では金属酸化物粒子(A)が式(1)乃至式(3)からなるシランカップリング剤の加水分解物、及びアクリル系ポリマーからなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物の被覆物とする事も可能である。
式(1)中、R3はそれぞれアルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルケニル基、アリール基、又は(メタ)アクリロイル基、メルカプト基、アミノ基、ウレイド基、もしくはシアノ基を有する有機基で且つSi-C結合によりケイ素原子と結合しているものであって、R4はそれぞれアルコキシ基、アシルオキシ基、又はハロゲン基を示し、aは1~3の整数を示し、
式(2)及び式(3)中、R5及びR7はそれぞれ炭素原子数1~3のアルキル基、又は炭素原子数6~30のアリール基で且つSi-C結合によりケイ素原子と結合しているものであり、R6及びR8はそれぞれアルコキシ基、アシルオキシ基、又はハロゲン基を示し、Yはアルキレン基、NH基、又は酸素原子を示し、bは1~3の整数であり、cは0又は1の整数であり、dは1~3の整数である。
式(2)及び式(3)中、R5及びR7はそれぞれ炭素原子数1~3のアルキル基、又は炭素原子数6~30のアリール基で且つSi-C結合によりケイ素原子と結合しているものであり、R6及びR8はそれぞれアルコキシ基、アシルオキシ基、又はハロゲン基を示し、Yはアルキレン基、NH基、又は酸素原子を示し、bは1~3の整数であり、cは0又は1の整数であり、dは1~3の整数である。
上記アルキル基は炭素原子数1~18のアルキル基であり、例えばメチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、シクロプロピル基、n-ブチル基、i-ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、シクロブチル基、1-メチル-シクロプロピル基、2-メチル-シクロプロピル基、n-ペンチル基、1-メチル-n-ブチル基、2-メチル-n-ブチル基、3-メチル-n-ブチル基、1,1-ジメチル-n-プロピル基、1,2-ジメチル-n-プロピル基、2,2-ジメチル-n-プロピル基、1-エチル-n-プロピル基、シクロペンチル基、1-メチル-シクロブチル基、2-メチル-シクロブチル基、3-メチル-シクロブチル基、1,2-ジメチル-シクロプロピル基、2,3-ジメチル-シクロプロピル基、1-エチル-シクロプロピル基、2-エチル-シクロプロピル基、n-ヘキシル基、1-メチル-n-ペンチル基、2-メチル-n-ペンチル基、3-メチル-n-ペンチル基、4-メチル-n-ペンチル基、1,1-ジメチル-n-ブチル基、1,2-ジメチル-n-ブチル基、1,3-ジメチル-n-ブチル基、2,2-ジメチル-n-ブチル基、2,3-ジメチル-n-ブチル基、3,3-ジメチル-n-ブチル基、1-エチル-n-ブチル基、2-エチル-n-ブチル基、1,1,2-トリメチル-n-プロピル基、1,2,2-トリメチル-n-プロピル基、1-エチル-1-メチル-n-プロピル基、1-エチル-2-メチル-n-プロピル基、シクロヘキシル基、1-メチル-シクロペンチル基、2-メチル-シクロペンチル基、3-メチル-シクロペンチル基、1-エチル-シクロブチル基、2-エチル-シクロブチル基、3-エチル-シクロブチル基、1,2-ジメチル-シクロブチル基、1,3-ジメチル-シクロブチル基、2,2-ジメチル-シクロブチル基、2,3-ジメチル-シクロブチル基、2,4-ジメチル-シクロブチル基、3,3-ジメチル-シクロブチル基、1-n-プロピル-シクロプロピル基、2-n-プロピル-シクロプロピル基、1-i-プロピル-シクロプロピル基、2-i-プロピル-シクロプロピル基、1,2,2-トリメチル-シクロプロピル基、1,2,3-トリメチル-シクロプロピル基、2,2,3-トリメチル-シクロプロピル基、1-エチル-2-メチル-シクロプロピル基、2-エチル-1-メチル-シクロプロピル基、2-エチル-2-メチル-シクロプロピル基及び2-エチル-3-メチル-シクロプロピル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基等があげられるが、これらに限定されない。
また、アルキレン基は上述のアルキル基から誘導されるアルキレン基を上げる事ができる。
また、アルキレン基は上述のアルキル基から誘導されるアルキレン基を上げる事ができる。
上記アリール基は炭素原子数6~30のアリール基であり例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセン基、ピレン基等が挙げられる。
アルケニル基としては炭素数2~10のアルケニル基であり、エテニル基、1-プロペニル基、2-プロペニル基、1-メチル-1-エテニル基、1-ブテニル基、2-ブテニル基、3-ブテニル基、2-メチル-1-プロペニル基、2-メチル-2-プロペニル基、1-エチルエテニル基、1-メチル-1-プロペニル基、1-メチル-2-プロペニル基、1-ペンテニル基、2-ペンテニル基、3-ペンテニル基、4-ペンテニル基、1-n-プロピルエテニル基、1-メチル-1-ブテニル基、1-メチル-2-ブテニル基、1-メチル-3-ブテニル基、2-エチル-2-プロペニル基、2-メチル-1-ブテニル基、2-メチル-2-ブテニル基、2-メチル-3-ブテニル基、3-メチル-1-ブテニル基、3-メチル-2-ブテニル基、3-メチル-3-ブテニル基、1,1-ジメチル-2-プロペニル基、1-i-プロピルエテニル基、1,2-ジメチル-1-プロペニル基、1,2-ジメチル-2-プロペニル基、1-シクロペンテニル基、2-シクロペンテニル基、3-シクロペンテニル基、1-ヘキセニル基、2-ヘキセニル基、3-ヘキセニル基、4-ヘキセニル基、5-ヘキセニル基、1-メチル-1-ペンテニル基、1-メチル-2-ペンテニル基、1-メチル-3-ペンテニル基、1-メチル-4-ペンテニル基、1-n-ブチルエテニル基、2-メチル-1-ペンテニル基、2-メチル-2-ペンテニル基等が挙げられるが、これらに限定されない。
アルケニル基としては炭素数2~10のアルケニル基であり、エテニル基、1-プロペニル基、2-プロペニル基、1-メチル-1-エテニル基、1-ブテニル基、2-ブテニル基、3-ブテニル基、2-メチル-1-プロペニル基、2-メチル-2-プロペニル基、1-エチルエテニル基、1-メチル-1-プロペニル基、1-メチル-2-プロペニル基、1-ペンテニル基、2-ペンテニル基、3-ペンテニル基、4-ペンテニル基、1-n-プロピルエテニル基、1-メチル-1-ブテニル基、1-メチル-2-ブテニル基、1-メチル-3-ブテニル基、2-エチル-2-プロペニル基、2-メチル-1-ブテニル基、2-メチル-2-ブテニル基、2-メチル-3-ブテニル基、3-メチル-1-ブテニル基、3-メチル-2-ブテニル基、3-メチル-3-ブテニル基、1,1-ジメチル-2-プロペニル基、1-i-プロピルエテニル基、1,2-ジメチル-1-プロペニル基、1,2-ジメチル-2-プロペニル基、1-シクロペンテニル基、2-シクロペンテニル基、3-シクロペンテニル基、1-ヘキセニル基、2-ヘキセニル基、3-ヘキセニル基、4-ヘキセニル基、5-ヘキセニル基、1-メチル-1-ペンテニル基、1-メチル-2-ペンテニル基、1-メチル-3-ペンテニル基、1-メチル-4-ペンテニル基、1-n-ブチルエテニル基、2-メチル-1-ペンテニル基、2-メチル-2-ペンテニル基等が挙げられるが、これらに限定されない。
上記アルコキシ基は炭素原子数1~10のアルコキシ基が挙げられ、例えばメトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、i-プロポキシ基、n-ブトキシ基、i-ブトキシ基、s-ブトキシ基、t-ブトキシ基、n-ペンチロキシ基、1-メチル-n-ブトキシ基、2-メチル-n-ブトキシ基、3-メチル-n-ブトキシ基、1,1-ジメチル-n-プロポキシ基、1,2-ジメチル-n-プロポキシ基、2,2-ジメチル-n-プロポキシ基、1-エチル-n-プロポキシ基、n-ヘキシロキシ基等が挙げられるが、これらに限定されない。
上記アシルオキシ基は炭素原子数2~10のアシルオキシ基は、例えばメチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、n-プロピルカルボニルオキシ基、i-プロピルカルボニルオキシ基、n-ブチルカルボニルオキシ基、i-ブチルカルボニルオキシ基、s-ブチルカルボニルオキシ基、t-ブチルカルボニルオキシ基、n-ペンチルカルボニルオキシ基、1-メチル-n-ブチルカルボニルオキシ基、2-メチル-n-ブチルカルボニルオキシ基、3-メチル-n-ブチルカルボニルオキシ基、1,1-ジメチル-n-プロピルカルボニルオキシ基、1,2-ジメチル-n-プロピルカルボニルオキシ基、2,2-ジメチル-n-プロピルカルボニルオキシ基、1-エチル-n-プロピルカルボニルオキシ基、n-ヘキシルカルボニルオキシ基、1-メチル-n-ペンチルカルボニルオキシ基、2-メチル-n-ペンチルカルボニルオキシ基等が挙げられるが、これらに限定されない。
上記ハロゲン基としてはフッ素、塩素、臭素、ヨウ素等が挙げられる。
上記ハロゲン基としてはフッ素、塩素、臭素、ヨウ素等が挙げられる。
上記(メタ)アクリロイル基とは、アクリロイル基とメタクリロイル基の双方をあらわす。(メタ)アクリロイル基を有する有機基は例えば、3-メタクリロキシプロピル基、3-アクリロキシプロピル基等が挙げられる。
メルカプト基を有する有機基は例えば、3-メルカプトプロピル基が挙げられる。
アミノ基を有する有機基は例えば、2-アミノエチル基、3-アミノプロピル基、N-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピル基、N-(1,3-ジメチル-ブチリデン)アミノプロピル基、N-フェニル-3-アミノプロピル基、N-(ビニルベンジル)-2-アミノエチル-3-アミノプロピル基等が挙げられる。
メルカプト基を有する有機基は例えば、3-メルカプトプロピル基が挙げられる。
アミノ基を有する有機基は例えば、2-アミノエチル基、3-アミノプロピル基、N-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピル基、N-(1,3-ジメチル-ブチリデン)アミノプロピル基、N-フェニル-3-アミノプロピル基、N-(ビニルベンジル)-2-アミノエチル-3-アミノプロピル基等が挙げられる。
ウレイド基を有する有機基は例えば、3-ウレイドプロピル基が挙げられる。
シアノ基を有する有機基は例えば、3-シアノプロピル基が挙げられる。
上記式(2)及び式(3)はトリメチルシリル基をシリカ粒子の表面に形成できる化合物が好ましい。
それら化合物としては以下に例示することができる。
シアノ基を有する有機基は例えば、3-シアノプロピル基が挙げられる。
上記式(2)及び式(3)はトリメチルシリル基をシリカ粒子の表面に形成できる化合物が好ましい。
それら化合物としては以下に例示することができる。
上記式中、R12はアルコキシ基であり、例えばメトキシ基、エトキシ基が挙げられる。
好ましい官能基としてトリメチルシリル基、モノメチルシリル基、ジメチルシリル基、メタクリロキシプロピルシリル基、フェニル基等であり、それに対応するシラン化合物としてヘキサメチルジシラザン、ヘキサメチルシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン等が挙げられる。
好ましい官能基としてトリメチルシリル基、モノメチルシリル基、ジメチルシリル基、メタクリロキシプロピルシリル基、フェニル基等であり、それに対応するシラン化合物としてヘキサメチルジシラザン、ヘキサメチルシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン等が挙げられる。
また、(メタ)アクリル系ポリマーは(メタ)アクリル酸又は(メタ)アクリル酸エステルの単独又は共重合物であり、エステルのR1COOR2においてR1は炭素原子数1~10のアルキル基であり、R2は水素原子、炭素原子数1~10のアルキル基、炭素原子数6~20の脂肪族環状アルキル基、炭素原子数6~20のアリール基、炭素原子数7~29の酸素原子を有していても良いアリールアルキル基、グリシジル基、炭素原子数3~10の(メタ)アクリル基、炭素原子数2~10のヒドロキシアルキル基等が挙げられる。
また、界面活性剤を用いる事が可能である。界面活性剤としては例えばポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンオクチルフエノールエーテル、ポリオキシエチレンノニルフエノールエーテル等のポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル類、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロツクコポリマー類、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンモノオレエート、ソルビタントリオレエート、ソルビタントリステアレート等のソルビタン脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタントリオレエート、ポリオキシエチレンソルビタントリステアレート等のポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類等のノニオン系界面活性剤、エフトツプEF301、EF303、EF352((株)トーケムプロダクツ製、商品名)、メガファックF171、F173、R-30、R-40(DIC(株)製、商品名)、フロラードFC430、FC431(住友スリーエム(株)製、商品名)、アサヒガードAG710、サーフロンSー382、SC101、SC102、SC103、SC104、SC105、SC106(旭硝子(株)製、商品名)等のフッ素系界面活性剤、オルガノシロキサンポリマーKP341(信越化学工業(株)製)等を挙げることができる。
また、シリコン系界面活性剤を用いる事ができる。シリコン系界面活性剤は主鎖にシロキサン結合を含む繰り返し単位を有する化合物である。シリコン系界面活性剤の重量平均分子量は500~50000の範囲で用いる事ができる。これらは変性シリコン系界面活性剤であってもよく、ポリシロキサンの側鎖及び/又は末端に有機基を導入した構造が挙げられる。有機基としてはアミノ基、エポキシ基、脂環式エポキシ基、カルビノール基、メルカプト基、カルボキシル基、脂肪族エステル基、脂肪族アミド基、ポリエーテル基が挙げられる。シリコーン系界面活性剤としては、トーレシリコーンDC3PA、トーレシリコーンSH7PA、トーレシリコーンDC11PA、トーレシリコーンSH21PA、トーレシリコーンSH28PA、トーレシリコーンSH29PA、トーレシリコーンSH30PA、トーレシリコーンSH8400 (以上、東レ・ダウコーニング(株)製)、Silwet l-77、L-7280、L-7001、L-7002、L-7200、L-7210、L-7220、L-7230、L7500、L-7600、L-7602、L-7604、L-7605、L-7622、L-765 7、L-8500、L-8610 (以上、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製)、KP-341、KF-6001、KF-6002 (以上、信越シリコーン株式会社製)、BYK307、BYK323、BYK330 (以上、ビックケミー社製)等が挙げられる。
〔屈折率測定〕
エリプソメーターを用いて行った。装置はジェー・エー・ウーラム・ジャパン製 多入射角分光エリプソメーターVASEを用いた。
〔動的光散乱法による平均粒子径測定〕
動的光散乱法測定装置:Malvern Instruments Ltd製ゼータ-サイザーで測定した。
エリプソメーターを用いて行った。装置はジェー・エー・ウーラム・ジャパン製 多入射角分光エリプソメーターVASEを用いた。
〔動的光散乱法による平均粒子径測定〕
動的光散乱法測定装置:Malvern Instruments Ltd製ゼータ-サイザーで測定した。
〔平均一次粒子径(窒素ガス吸着法による粒子径)の測定〕
シリカゾルの300℃乾燥粉末の比表面積を比表面積測定装置モノソーブ(登録商標)MS-16(ユアサアイオニクス(株)製)を用いて測定した。
〔HAZE測定〕
日本電色工業株式会社製のヘーズメーターNDH8000を用いて測定した。
〔有機分の測定〕
被膜を剥がし取り、元素分析を用いて炭素含有率を求めた。
〔膜厚の測定〕
装置はジェー・エー・ウーラム・ジャパン製 多入射角分光エリプソメーターVASEを用いた。
シリカゾルの300℃乾燥粉末の比表面積を比表面積測定装置モノソーブ(登録商標)MS-16(ユアサアイオニクス(株)製)を用いて測定した。
〔HAZE測定〕
日本電色工業株式会社製のヘーズメーターNDH8000を用いて測定した。
〔有機分の測定〕
被膜を剥がし取り、元素分析を用いて炭素含有率を求めた。
〔膜厚の測定〕
装置はジェー・エー・ウーラム・ジャパン製 多入射角分光エリプソメーターVASEを用いた。
〔全光線透過率の測定〕
日本電色工業株式会社製のヘーズメーターNDH8000を用いて測定した。
〔炭素含有率〕 シリカゾルの110℃乾燥品の元素分析を行った。
〔密着性の測定〕
硬化膜に1mm間隔で25目クロスカットを施し、このクロスカットした部分に粘着テープ(商品名セロハンテープ、ニチバン(株)製)を強く貼り付けた後、粘着テープを急速に剥がし、粘着テープを剥がした後の硬化膜の剥離の有無を調べた。評価基準は下記の通りである。(〇)が良好であり、(×)は密着性が低下する事を示す。
(〇):全く剥離が無いか、又は25目中5目以内の剥離が確認できる。
(×):25目中6目以上の剥離が確認できる。
日本電色工業株式会社製のヘーズメーターNDH8000を用いて測定した。
〔炭素含有率〕 シリカゾルの110℃乾燥品の元素分析を行った。
〔密着性の測定〕
硬化膜に1mm間隔で25目クロスカットを施し、このクロスカットした部分に粘着テープ(商品名セロハンテープ、ニチバン(株)製)を強く貼り付けた後、粘着テープを急速に剥がし、粘着テープを剥がした後の硬化膜の剥離の有無を調べた。評価基準は下記の通りである。(〇)が良好であり、(×)は密着性が低下する事を示す。
(〇):全く剥離が無いか、又は25目中5目以内の剥離が確認できる。
(×):25目中6目以上の剥離が確認できる。
(粒子分散液1の調整)
水を分散媒とする細長い形状のシリカゾル(日産化学株式会社製、動的光散乱法による測定粒子径(D1)65nm、窒素ガス吸着法による測定粒子径(D2)12nm、(D1)/(D2)=5.4、SiO2濃度15質量%、pH10.3)に純水を加え、室温で完全に均一になるまで撹拌し、粒子分散液1を得た。
水を分散媒とする細長い形状のシリカゾル(日産化学株式会社製、動的光散乱法による測定粒子径(D1)65nm、窒素ガス吸着法による測定粒子径(D2)12nm、(D1)/(D2)=5.4、SiO2濃度15質量%、pH10.3)に純水を加え、室温で完全に均一になるまで撹拌し、粒子分散液1を得た。
(粒子分散液2の調整)
水を分散媒とする細長い形状のシリカゾル(日産化学株式会社製、動的光散乱法による測定粒子径(D1)65nm、窒素ガス吸着法による測定粒子径(D2)12nm、(D1)/(D2)=5.4、SiO2濃度15質量%、pH2.6)に純水を加え、室温で完全に均一になるまで撹拌し、粒子分散液2を得た。
水を分散媒とする細長い形状のシリカゾル(日産化学株式会社製、動的光散乱法による測定粒子径(D1)65nm、窒素ガス吸着法による測定粒子径(D2)12nm、(D1)/(D2)=5.4、SiO2濃度15質量%、pH2.6)に純水を加え、室温で完全に均一になるまで撹拌し、粒子分散液2を得た。
(粒子分散液3の調整)
プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)を分散媒とする細長い形状のシリカゾル(日産化学株式会社製、動的光散乱法による測定粒子径(D1)65nm、窒素ガス吸着法による測定粒子径(D2)12nm、(D1)/(D2)=5.4、SiO2濃度15質量%、PGMEと純水を質量比で1:1に混合した時のpH3.6)にPGMEを加え、室温で完全に均一になるまで撹拌し、粒子分散液3を得た。
プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)を分散媒とする細長い形状のシリカゾル(日産化学株式会社製、動的光散乱法による測定粒子径(D1)65nm、窒素ガス吸着法による測定粒子径(D2)12nm、(D1)/(D2)=5.4、SiO2濃度15質量%、PGMEと純水を質量比で1:1に混合した時のpH3.6)にPGMEを加え、室温で完全に均一になるまで撹拌し、粒子分散液3を得た。
(粒子分散液4の調整)
水を分散媒とする球状のシリカゾル(日産化学株式会社製、窒素ガス吸着法による測定粒子径(D2)10~20nm、pH9.5~10.5、SiO2濃度30質量%)。
(被膜の作製基板)
得られた分散液を塗布する基板は、石英基板及びシリコン基板を使用した。
水を分散媒とする球状のシリカゾル(日産化学株式会社製、窒素ガス吸着法による測定粒子径(D2)10~20nm、pH9.5~10.5、SiO2濃度30質量%)。
(被膜の作製基板)
得られた分散液を塗布する基板は、石英基板及びシリコン基板を使用した。
(被膜の塗布方法)
スピンコーター乃至バーコーターを用いて被膜を作製した。塗布装置にスピンコーターを使用したものを1、バーコーターを利用して湿潤状態の膜厚4μmにて塗布したものを2とした。
(被膜の乾燥方法)
上記により得られた被膜は任意の温度で1分間乾燥を行った。被膜の作製条件を以下表1に示す。
スピンコーター乃至バーコーターを用いて被膜を作製した。塗布装置にスピンコーターを使用したものを1、バーコーターを利用して湿潤状態の膜厚4μmにて塗布したものを2とした。
(被膜の乾燥方法)
上記により得られた被膜は任意の温度で1分間乾燥を行った。被膜の作製条件を以下表1に示す。
〔表1〕
表1
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
粒子分散液 固形分 塗布方法 処理方法 焼成温度
実施例1 分散液1 3質量% 1 1000rpm 100℃
実施例2 分散液2 15質量% 1 600rpm 100℃
実施例3 分散液3 15質量% 1 3000rpm 100℃
実施例4 分散液3 3質量% 1 1000rpm 120℃
実施例5 分散液1 3質量% 2 80mm/秒 60℃
実施例6 分散液1 1質量% 2 80mm/秒 60℃
比較例1 分散液1 20質量% 1 600rpm 60℃
比較例2 分散液1 0.01質量% 2 80mm/秒 60℃
比較例3 分散液4 9質量% 1 2000rpm 60℃
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
表1
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粒子分散液 固形分 塗布方法 処理方法 焼成温度
実施例1 分散液1 3質量% 1 1000rpm 100℃
実施例2 分散液2 15質量% 1 600rpm 100℃
実施例3 分散液3 15質量% 1 3000rpm 100℃
実施例4 分散液3 3質量% 1 1000rpm 120℃
実施例5 分散液1 3質量% 2 80mm/秒 60℃
実施例6 分散液1 1質量% 2 80mm/秒 60℃
比較例1 分散液1 20質量% 1 600rpm 60℃
比較例2 分散液1 0.01質量% 2 80mm/秒 60℃
比較例3 分散液4 9質量% 1 2000rpm 60℃
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表1において、「分散液1」は粒子分散液1を用いた事を示し、「分散液2」は粒子分散液2を用いた事を示し、「分散液3」は粒子分散液3を用いた事を示し、「分散液4」は粒子分散液4を用いた事を示した。
「固形分」は上記粒子分散液1、2、3、及び4をそれぞれ表1に記載の濃度に、水性溶媒の場合は純水で希釈し、PGME溶媒の場合はPGMEで希釈して用いた事を示した。
「固形分」は上記粒子分散液1、2、3、及び4をそれぞれ表1に記載の濃度に、水性溶媒の場合は純水で希釈し、PGME溶媒の場合はPGMEで希釈して用いた事を示した。
「塗布方法」は、塗布方法1がスピンコーターを用いたスピンコート法であり、塗布方法2がバーコーターを用いたバーコート法である事を示した。
「処理方法」は塗布方法1の場合はスピンコーターの回転数を示し、所定の回転数で30秒間スピンコートを行った事を示し、塗布方法2の場合はバーコーターの厚みを示した。
「焼成温度」は塗布後の焼成温度を示し、所定温度で1分間の焼成を行った事を示した。
「処理方法」は塗布方法1の場合はスピンコーターの回転数を示し、所定の回転数で30秒間スピンコートを行った事を示し、塗布方法2の場合はバーコーターの厚みを示した。
「焼成温度」は塗布後の焼成温度を示し、所定温度で1分間の焼成を行った事を示した。
〔表2〕
表2
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
TT HAZE 膜厚 密着性 屈折率 炭素含有率
実施例1 94.3 0.12 106 〇 1.24 0.1%以下
実施例2 94.3 0.47 1475 〇 1.28 0.1%以下
実施例3 94.6 0.12 532 〇 1.28 0.1%以下
実施例4 94.5 0.10 104 〇 1.22 0.1%以下
実施例5 94.5 0.51 198 〇 1.21 0.1%以下
実施例6 94.6 0.12 221 〇 1.23 0.1%以下
比較例1 ――― ――― ――― × ――― ―――
比較例2 96.0 0.06 75 × 1.23 0.1%以下
比較例3 V V 145 〇 1.45 V
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
表2
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
TT HAZE 膜厚 密着性 屈折率 炭素含有率
実施例1 94.3 0.12 106 〇 1.24 0.1%以下
実施例2 94.3 0.47 1475 〇 1.28 0.1%以下
実施例3 94.6 0.12 532 〇 1.28 0.1%以下
実施例4 94.5 0.10 104 〇 1.22 0.1%以下
実施例5 94.5 0.51 198 〇 1.21 0.1%以下
実施例6 94.6 0.12 221 〇 1.23 0.1%以下
比較例1 ――― ――― ――― × ――― ―――
比較例2 96.0 0.06 75 × 1.23 0.1%以下
比較例3 V V 145 〇 1.45 V
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
表2において、「TT」は全光線透過率(%)であり、透過前の光線を100%とした場合に、透過前の光線に対して積層体を通過した時の透過量を示した。
「HAZE」は透明材料の濁り(曇り)度合いを示す数値であり、HAZEメーターで測定した。
「膜厚」は焼成後の塗膜の膜厚(nm)を測定した。
「密着性」は上記測定方法でより測定した。
「屈折率」は上記測定方法で測定した。
「炭素含有率」は炭素含有成分がシリカ粒子のSiO2に対する量(質量%)を示した。
「---」は被膜が形成されず測定不可であった事を示した。
「V」は測定されていないことを示した。
「HAZE」は透明材料の濁り(曇り)度合いを示す数値であり、HAZEメーターで測定した。
「膜厚」は焼成後の塗膜の膜厚(nm)を測定した。
「密着性」は上記測定方法でより測定した。
「屈折率」は上記測定方法で測定した。
「炭素含有率」は炭素含有成分がシリカ粒子のSiO2に対する量(質量%)を示した。
「---」は被膜が形成されず測定不可であった事を示した。
「V」は測定されていないことを示した。
異形形状のシリカ粒子を含有するコーティング組成物を、特定膜厚で塗膜を形成する事により基板上に密着性の高く低屈折率の被膜を形成する事が可能なコーティング組成物と、それらコーティング組成物を塗布し硬化した低屈折率の透明性積層体を提供することができる。
Claims (8)
- シリカゾルに由来するシリカ粒子を含み、該シリカ粒子は動的光散乱法による測定粒子径(D1)と窒素ガス吸着法による測定粒子径(D2)の比(D1)/(D2)が2以上であり、1.20~1.33の屈折率と、100~2000nmの膜厚と、得られた基板上の硬化被膜に1mm×1mmの25マスのクロスカットを入れ粘着テープの貼り付け引き剥がしによる残マス割合が(20~25)/(25)となる密着性を有する基板上の透明性積層体。
- 動的光散乱法による測定粒子径(D1)と窒素ガス吸着法による測定粒子径(D2)の比(D1)/(D2)が5~100である請求項1に記載の透明性積層体。
- 全光線透過率が93%以上である請求項1又は請求項2に記載の透明性積層体。
- HAZEが2.0以下である請求項1乃至請求項3の何れか1項に記載の透明性積層体。
- 炭素含有率がシリカ粒子のSiO2に対して1質量%以下である請求項1乃至請求項4の何れか1項に記載の透明性積層体。
- 請求項1乃至請求項5の何れか1項に記載の透明性積層体を形成するための透明性積層体用コーティング組成物であって、該コーティング組成物はシリカ粒子と溶媒を含み、該コーティング組成物は試験条件としてSiO2濃度として1~15質量%を有する該コーティング組成物を被覆後に50~130℃焼成を経た塗膜厚である事を特徴とする上記透明性積層体用コーティング組成物。
- 溶媒が水、又はエーテル結合を含んでいても良い炭素原子数1~5のアルコールである請求項6に記載の透明性積層体用コーティング組成物。
- 基板に、請求項1乃至請求項7の何れか1項に記載の透明性積層体用コーティング組成物を被覆して50~130℃の温度で硬化する透明性積層体の製造方法。
Priority Applications (1)
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JP2022168714A JP2024061047A (ja) | 2022-10-20 | 2022-10-20 | 低屈折率膜を含む積層体及びその製造方法 |
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